JP2005298859A - Electroforming mold for spiral contactor and method for manufacturing spiral contactor using the same - Google Patents

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Shinichi Nagano
真一 長野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electroforming mold for spiral contactors in which holding sheets are surely stuck to the supporting sections of individual spiral contactors and a method for manufacturing the spiral contactors using the same. <P>SOLUTION: A side wall member 14 and a partition member 16 are disposed to project in a Z1 direction from an underlying section 10a of the electroforming mold 10 and therefore, plate thickness dimensions h of a plating layer 41 forming the supporting section 21 are formed between the surface of the partition plate member 16 and the top end of the sidewall member 14, and thereby an adhesive layer 52 of the holding sheet 50 can be put into a state apart from the partition plate member 16 when the holding sheet 50 is stuck to the supporting section 21. Consequently, the holding sheet 50 can surely fix only the supporting section 21 and therefore the peeling of the spiral contactor can be surely performed. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、IC(集積回路)等の電子部品に設けられたLGAやBGAなどの外部接触子に接触して電気的な接続を行うスパイラル接触子の製造方法に係わり、特に製造工程が容易でかつ製造コストを低減できるようにしたスパイラル接触子用の電鋳金型及びこれを用いたスパイラル接触子の製造方法に関する。   The present invention relates to a spiral contactor manufacturing method for making electrical connection by contacting an external contactor such as LGA or BGA provided on an electronic component such as an IC (integrated circuit), and the manufacturing process is particularly easy. In addition, the present invention relates to an electroforming mold for a spiral contact and a method for manufacturing a spiral contact using the same.

スパイラル接触子に関する先行技術としては、例えば以下の特許文献1などが存在しており、この特許文献1の図37ないし図40にはスパイラル接触子の製造方法が開示されている。   For example, the following patent document 1 exists as prior art relating to the spiral contact, and FIGS. 37 to 40 of the patent document 1 disclose a method for manufacturing the spiral contact.

図11は、従来のスパイラル接触子の製造方法の一例として、特許文献1に図37として記載された製造方法を示す工程図である。   FIG. 11 is a process diagram showing a manufacturing method described in FIG. 37 in Patent Document 1 as an example of a manufacturing method of a conventional spiral contactor.

図11に示すように、工程aでは、SUS薄板2に銅メッキ3を施し、その上にレジストフィルム5を貼付する。工程bでは、焼き付けし、現像して、レジストフィルム5にスパイラル接触子1の形状を模った凹状の溝部を成形する。工程cでは、その上にニッケルメッキ6を施す。工程dでは、レジストフィルム5を薬品(溶剤)にて除去する。工程eでは、レジストフィルム5を厚み50μmで塗布する。工程fでは、レジストフィルム5を焼き付けし、現像してガイドフレーム7を成型する。工程gでは、SUS薄板2を剥離し、取り除いた後、エッチングで銅メッキ3を除去する。   As shown in FIG. 11, in step a, copper plating 3 is applied to the SUS thin plate 2, and a resist film 5 is pasted thereon. In step b, baking and development are performed to form a concave groove portion imitating the shape of the spiral contact 1 on the resist film 5. In step c, nickel plating 6 is applied thereon. In step d, the resist film 5 is removed with a chemical (solvent). In step e, the resist film 5 is applied with a thickness of 50 μm. In step f, the resist film 5 is baked and developed to form the guide frame 7. In step g, after the SUS thin plate 2 is peeled off and removed, the copper plating 3 is removed by etching.

上記従来の製造方法では、前記工程aないし工程gを経ることにより、スパイラル接触子が製造されていた。   In the conventional manufacturing method, the spiral contact is manufactured through the steps a to g.

またその他の製造方法として、一般的な金型を用いてスパイラル接触子を製造する方法も考えられる。   As another manufacturing method, a method of manufacturing a spiral contact using a general mold is also conceivable.

図12は、一般的な金型を用いてスパイラル接触子を製造する工程図を示し、Aは金型内にメッキを成長させている状態、Bは保持シートを貼り付ける状態を示している。なお、図12では金型の一部を拡大して示している。   FIG. 12 is a process diagram for manufacturing a spiral contact using a general mold. A shows a state in which plating is grown in the mold, and B shows a state in which a holding sheet is attached. In FIG. 12, a part of the mold is shown enlarged.

図12Aに示すように、この製造方法では、スパイラル接触子の螺旋状の接触片を形成するための溝部8aと、前記接触片を支持する支持部を形成するための溝部8bとを有する金型8が用いられる。なお、前記に溝部8aの形状は螺旋状であり、前記溝部8bの形状は枠状である。また前記金型8内には複数の溝部8aと溝部8bとがマトリック状に規則正しく配列されている。   As shown in FIG. 12A, in this manufacturing method, a mold having a groove 8a for forming a spiral contact piece of a spiral contact and a groove 8b for forming a support part for supporting the contact piece. 8 is used. The groove 8a has a spiral shape, and the groove 8b has a frame shape. In the mold 8, a plurality of grooves 8a and grooves 8b are regularly arranged in a matrix.

図12Aに示すように、前記金型8を電解液の中に浸して電気メッキを施してニッケルメッキを成長させていくと、前記溝部8a内で螺旋形状の接触片1aが形成され、前記溝部8b内で枠状の支持部1bが形成されることにより、スパイラル接触子1が形成される。そして、図12Bに示すように、前記支持部1bの表面に保持シート9の接着層を貼り付けることにより、複数のスパイラル接触子1が保持シート9に固定されたコンタクトシートが形成される。
特開2002−175859号公報
As shown in FIG. 12A, when the mold 8 is dipped in an electrolytic solution and electroplated to grow nickel plating, a spiral contact piece 1a is formed in the groove 8a, and the groove The spiral contact 1 is formed by forming the frame-shaped support portion 1b within 8b. Then, as shown in FIG. 12B, a contact sheet in which the plurality of spiral contacts 1 are fixed to the holding sheet 9 is formed by attaching an adhesive layer of the holding sheet 9 to the surface of the support portion 1b.
JP 2002-175859 A

しかし、従来のスパイラル接触子の製造方法では、スパイラル接触子1をニッケルメッキ6で形成する工程cの前に、SUS薄板2に銅メッキ3を施し、その上にレジストフィルム5を貼付する工程aと、焼き付けと現像により、前記レジストフィルム5にスパイラル接触子1を形成する溝を成形する工程bとを行う必要がある。しかも前記工程cの後には、前記レジストフィルム5を薬品(溶剤)にて除去する工程dやSUS薄板2を剥離した後にエッチングで前記銅メッキ3を除去する工程gなどが必要である。このため、スパイラル接触子1を製造する工程が複雑化するとともに、製造時間を短縮化することが難しいという問題がある。   However, in the conventional method of manufacturing a spiral contact, the step a in which the SUS thin plate 2 is subjected to the copper plating 3 and the resist film 5 is pasted thereon before the step c in which the spiral contact 1 is formed by the nickel plating 6. And the step b of forming a groove for forming the spiral contact 1 in the resist film 5 by baking and development. Moreover, after the step c, a step d for removing the resist film 5 with a chemical (solvent), a step g for removing the copper plating 3 by etching after peeling off the SUS thin plate 2, and the like are necessary. For this reason, the process for manufacturing the spiral contact 1 is complicated, and it is difficult to shorten the manufacturing time.

さらには、スパイラル接触子1を形成する上で、銅メッキ3、レジストフィルム5、溶剤、エッチング剤などその他の材料を必要とするため、製造コストを低減することが難しいという問題もある。   Furthermore, since other materials such as a copper plating 3, a resist film 5, a solvent, and an etching agent are required to form the spiral contact 1, there is a problem that it is difficult to reduce the manufacturing cost.

また上記一般的な金型を用いた製造方法では、保持シート9を支持部1bに張り合わせる際に前記保持シート9の接着層が金型8の表面に付着すると、スパイラル接触子1を金型から剥離させ難くなるため、前記接着層が金型8の表面に付着させないことが必要である。そして、そのためにはメッキの表面を金型8の表面よりも僅かに突出するように形成し、保持シート9を貼り付ける作業の際に前記保持シート9の接着層と金型8の表面との間に隙間が形成させるようにすることが容易な手段とされる。   Further, in the manufacturing method using the above general mold, when the adhesive sheet of the holding sheet 9 adheres to the surface of the mold 8 when the holding sheet 9 is bonded to the support portion 1b, the spiral contact 1 is attached to the mold. Therefore, it is necessary that the adhesive layer does not adhere to the surface of the mold 8. For this purpose, the surface of the plating is formed so as to slightly protrude from the surface of the mold 8, and the adhesive layer of the holding sheet 9 and the surface of the mold 8 are bonded during the operation of attaching the holding sheet 9. It is easy means to form a gap between them.

ここで、図13は図12Bの状態からメッキをさらに成長させた状態を示す工程図である。   Here, FIG. 13 is a process diagram showing a state in which plating is further grown from the state of FIG. 12B.

しかし、図13に示すように、このような手段では金型8の表面から突出したメッキ部分が金型の表面に傘状に広がってしまう。このため、接触片1aのメッキの板厚寸法や、接触片1aそのものの形状にばらつきが生じやすくなるため、スパイラル接触子1の接触片1aとしての物性、特にばね定数などが部分ごとに異なり、精度の高いスパイラル接触子を製造することができないという問題がある。さらには傘状の支持部では前記接着層の接着力が弱くなるため、保持シート9からスパイラル接触子1が剥がれやすくなるという問題もある。   However, as shown in FIG. 13, with such a means, the plated portion protruding from the surface of the mold 8 spreads in an umbrella shape on the surface of the mold. For this reason, since the thickness of the plating of the contact piece 1a and the shape of the contact piece 1a itself are likely to vary, the physical properties of the spiral contact 1 as the contact piece 1a, particularly the spring constant, differ from part to part. There is a problem that a spiral contact with high accuracy cannot be manufactured. Furthermore, since the adhesive force of the adhesive layer becomes weak in the umbrella-shaped support portion, there is a problem that the spiral contact 1 is easily peeled off from the holding sheet 9.

本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、スパイラル接触子を高精度で形成することができるとともに、複数のスパイラル接触子を固定する保持シートを確実に貼り付けることができるようにしたスパイラル接触子用の電鋳金型を提供することを目的としている。   The present invention is for solving the above-described conventional problems, so that spiral contacts can be formed with high accuracy, and a holding sheet for fixing a plurality of spiral contacts can be securely attached. An object of the present invention is to provide an electroformed mold for a spiral contact.

また本発明は簡単な製造工程により短時間で製造することができるとともに、製造コストも低減できるようにした前記電鋳金型を用いたスパイラル接触子の製造方法を提供することを目的としている。   Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a spiral contact using the electroformed mold, which can be manufactured in a short time by a simple manufacturing process and can reduce the manufacturing cost.

本発明は、メッキが電着される下地部と、前記下地部を螺旋形状に仕切る側壁部材と、前記側壁部材の外周を囲むように配置された仕切部材とを有しており、
前記側壁部材と前記仕切部材とが前記下地部から突出して設けられていることを特徴とするものである。
The present invention has a base part on which plating is electrodeposited, a side wall member that partitions the base part in a spiral shape, and a partition member that is arranged so as to surround the outer periphery of the side wall member,
The side wall member and the partition member are provided so as to protrude from the base portion.

上記において、前記下地部を基準面としたときに、前記基準面からの側壁部材の高さ寸法が、前記基準面から前記仕切部材の表面までの高さ寸法よりも高く設定されているものが好ましい。   In the above, when the base portion is used as a reference plane, the height dimension of the side wall member from the reference plane is set higher than the height dimension from the reference plane to the surface of the partition member. preferable.

本発明の電鋳金型では、前記電鋳金型を用いて形成されるメッキ層、特にスパイラル接触子の支持部として形成されるメッキ層を金型の表面(下地部)に露出させることが可能となる。よって、前記支持部に対する保持シートの貼り付け作業を確実に行うことができ、前記電鋳金型からのスパイラル接触子の剥離作業を容易とすることができる。   In the electroforming mold of the present invention, it is possible to expose a plating layer formed using the electroforming mold, particularly a plating layer formed as a support portion of the spiral contactor, on the surface (underlying part) of the mold. Become. Therefore, the operation of attaching the holding sheet to the support portion can be reliably performed, and the operation of peeling the spiral contact from the electroforming mold can be facilitated.

また前記下地部には凹状の溝部が形成されており、前記仕切部材が前記溝部内に設けられている構成、前記下地部には、前記側壁部材が嵌合する嵌合溝が形成されている構成とすることができる。   In addition, a concave groove portion is formed in the base portion, the partition member is provided in the groove portion, and a fitting groove into which the side wall member is fitted is formed in the base portion. It can be configured.

上記においては、前記側壁部材は、絶縁材料により形成され、または導電材料の表面に撥水性材料がコーティングされているものが好ましく、前記仕切部材は、絶縁材料により形成され、または導電材料の表面に撥水性材料がコーティングされているものが好ましい。   In the above, it is preferable that the side wall member is formed of an insulating material, or a surface of a conductive material is coated with a water repellent material, and the partition member is formed of an insulating material or formed on the surface of the conductive material. Those coated with a water repellent material are preferred.

この場合、前記側壁部材と前記仕切部材とが一体で形成される構成とすることができる。   In this case, the side wall member and the partition member can be formed integrally.

前記絶縁材料としてフッ素を用いることが可能であり、さらには前記撥水性材料としてフッ素を用いることができる。   Fluorine can be used as the insulating material, and further fluorine can be used as the water repellent material.

さらに上記においては、前記下地部の表面に、剥離層が形成されているものが好ましく、前記剥離層として、クロム酸または過マンガン酸カリウムを用いることができる。   Furthermore, in the above, what has the peeling layer formed in the surface of the said base part is preferable, and chromic acid or potassium permanganate can be used as said peeling layer.

また本発明は、上記いずれかに記載された電鋳金型を用いたスパイラル接触子の製造方法であって、少なくとも、
(a)電鋳金型の表面である下地部に剥離層を形成する工程と、
(b)電気メッキを施すことにより、前記電鋳金型上に接触片と支持部とを備えたスパイラル接触子を電着させる工程と、
(c)前記支持部の表面に保持シートを貼り付ける工程、
(d)前記電鋳金型からスパイラル接触子を剥離させる工程と、
を有することを特徴とするものである。
Further, the present invention is a method of manufacturing a spiral contact using the electroforming mold described in any of the above, at least,
(A) a step of forming a release layer on the base portion which is the surface of the electroforming mold;
(B) Electroplating a spiral contactor provided with a contact piece and a support on the electroforming mold; and
(C) a step of attaching a holding sheet to the surface of the support part;
(D) peeling the spiral contact from the electroformed mold;
It is characterized by having.

本発明の製造方法では、電鋳金型を用いることにより、高い寸法精度のスパイラル接触子を製造することができる。また電鋳金型を繰り返し使用することができるため、製造コストを低減することができる。   In the manufacturing method of the present invention, a spiral contact with high dimensional accuracy can be manufactured by using an electroforming mold. Moreover, since an electroforming mold can be used repeatedly, manufacturing cost can be reduced.

さらに、製造の工程数を少なくして容易化することができるとともに、製造に要する時間を短縮することが可能である。   Furthermore, the number of manufacturing steps can be reduced and facilitated, and the time required for manufacturing can be shortened.

前記工程(a)と工程(b)の間に、前記嵌合溝内に前記側壁部材を嵌合させる工程を有するようにすることもできる。   Between the step (a) and the step (b), a step of fitting the side wall member into the fitting groove may be included.

前記手段は、前記側壁部材と前記仕切部材とが別体で形成されている場合に必要な工程であり、嵌合溝内に剥離層を形成した後に本工程を行うことにより、嵌合溝と前記側壁部材との間の隙間への電解液の滲入を効果的に防止することが可能となる。   The means is a step necessary when the side wall member and the partition member are formed separately, and by performing this step after forming a release layer in the fitting groove, the fitting groove and It is possible to effectively prevent the electrolyte from penetrating into the gap between the side wall member.

前記工程(b)で形成される前記支持部の板厚寸法h、前記下地部から前記仕切部材の表面までの高さ寸法H1、前記下地部からの側壁部材の高さ寸法をH2としたときに、板厚寸法hがH1<h<H2の範囲で形成されるものが好ましい。   When the plate thickness dimension h of the support part formed in the step (b), the height dimension H1 from the base part to the surface of the partition member, and the height dimension of the side wall member from the base part are H2. Further, it is preferable that the plate thickness dimension h is formed in the range of H1 <h <H2.

上記においては、スパイラル接触子の支持部として形成されるメッキ層を仕切部材の表面よりも高く形成することができるため、保持シートを前記支持部に貼り付けたときに、保持シートの接着層が仕切部材から離れた状態とすることができ、前記支持部のみを確実に固定することができる。よって、スパイラル接触子の剥離を確実に行うことができる。   In the above, since the plating layer formed as the support portion of the spiral contact can be formed higher than the surface of the partition member, when the holding sheet is attached to the support portion, the adhesive layer of the holding sheet is It can be set as the state separated from the partition member, and only the said support part can be fixed reliably. Therefore, the spiral contact can be reliably peeled off.

本発明では、精度の高いスパイラル接触子の製造が可能な電鋳金型を提供することができる。   In the present invention, an electroforming mold capable of manufacturing a highly accurate spiral contact can be provided.

またメッキ生成後のスパイラル接触子を電鋳金型から容易に剥離させることができる。
また電鋳金型は繰り返し使用することができるため、製造コストを低減することができる。
Further, the spiral contact after the plating is generated can be easily peeled from the electroforming mold.
Further, since the electroforming mold can be used repeatedly, the manufacturing cost can be reduced.

しかも、製造工程を容易化することができるとともに、製造に要する時間を短縮することが可能である。   In addition, the manufacturing process can be simplified and the time required for manufacturing can be shortened.

図1は本発明の電鋳金型を部分的に示す平面図、図2は図1の電鋳金型の一部を拡大して示す平面図、図3は電鋳金型の第1の実施の形態として図2を3−3線で切断した場合の断面図、図4は電鋳金型の第2の実施の形態として図3同様の断面図である。   FIG. 1 is a plan view partially showing an electroforming mold of the present invention, FIG. 2 is an enlarged plan view showing a part of the electroforming mold of FIG. 1, and FIG. 3 is a first embodiment of the electroforming mold. Fig. 2 is a cross-sectional view taken along line 3-3, and Fig. 4 is a cross-sectional view similar to Fig. 3 as the second embodiment of the electroforming mold.

図1に示す電鋳金型10は導電性の材料で形成されており、その表面には複数のパターン部13,13,・・・が縦横方向(XY方向)に規則正しくマトリックス状に形成されている。   The electroformed mold 10 shown in FIG. 1 is formed of a conductive material, and a plurality of pattern portions 13, 13,... Are regularly formed in a matrix in the vertical and horizontal directions (XY directions) on the surface. .

図2ないし図4に示すように、前記パターン部13内には、電鋳金型10の表面である下地部10aから図示Z1方向に突出する螺旋状の側壁部材14が形成されている。   As shown in FIGS. 2 to 4, a spiral side wall member 14 is formed in the pattern portion 13 so as to protrude from the base portion 10 a which is the surface of the electroforming mold 10 in the Z1 direction.

図3は、電鋳金型10と側壁部材14とが一体に形成された第1の実施の形態を示している。第1の実施の形態では、金属などの導電材料で形成された側壁部材14の表面にはメッキが付着しにくい絶縁材料がコーティングされている。なお、この場合の絶縁材料としては、例えばフッ素樹脂を用いることができる。   FIG. 3 shows a first embodiment in which the electroforming mold 10 and the side wall member 14 are integrally formed. In the first embodiment, the surface of the side wall member 14 formed of a conductive material such as metal is coated with an insulating material that is difficult to be plated. In this case, as the insulating material, for example, a fluororesin can be used.

また図4は、電鋳金型10と側壁部材14とが別体で形成された第2の実施の形態を示している。前記第2の実施の形態では、前記下地部10aの前記パターン部13内に予め螺旋状の嵌合溝10bを形成し、この嵌合溝10b内に前記螺旋状の側壁部材14のZ2側の下端部14aが位置決めされた状態で嵌合される。なお、前記側壁部材14の下端部14aと前記嵌合溝10bとの間の隙間は微小である。   FIG. 4 shows a second embodiment in which the electroforming mold 10 and the side wall member 14 are formed separately. In the second embodiment, a spiral fitting groove 10b is formed in the pattern portion 13 of the base portion 10a in advance, and the Z2 side of the spiral side wall member 14 is formed in the fitting groove 10b. The lower end 14a is fitted in a positioned state. The gap between the lower end portion 14a of the side wall member 14 and the fitting groove 10b is very small.

前記第2の実施の形態では、前記側壁部材14はメッキが電着することのない合成樹脂などの絶縁材料で形成されている。あるいは耐久性、耐化学性等の問題から合成樹脂を用いることができないような場合には、螺旋形状に形成した金属などの導電材料の表面にフッ素などの撥水性の材料をコーティングしたものであってもよい。   In the second embodiment, the side wall member 14 is formed of an insulating material such as a synthetic resin that is not electrodeposited by plating. Alternatively, when synthetic resins cannot be used due to problems such as durability and chemical resistance, the surface of a conductive material such as a metal formed in a spiral shape is coated with a water repellent material such as fluorine. May be.

図1ないし図4に示すように、隣り合うパターン部13とパターン部13との間には、前記下地部10aからZ2側に凹状に陥没する溝部10cが設けられている。なお、図1に示すように前記溝部10cは格子状をしている。   As shown in FIGS. 1 to 4, a groove portion 10 c that is recessed from the base portion 10 a to the Z <b> 2 side is provided between the adjacent pattern portions 13. As shown in FIG. 1, the groove 10c has a lattice shape.

図2ないし図4に示すように、前記溝部10cには平面的に格子状に形成された仕切部材16が設けられている。よって、隣り合うパターン部13とパターン部13とは、前記溝部10cおよび前記仕切部材16によって区切られている。前記仕切部材16としては、合成樹脂などの絶縁材料または金属などの導電材料の表面にフッ素などの撥水性の材料をコーティングしたものである。なお、図1では前記仕切部材16を省略している。   As shown in FIGS. 2 to 4, the groove portion 10 c is provided with a partition member 16 formed in a planar lattice shape. Therefore, the adjacent pattern portion 13 and the pattern portion 13 are separated by the groove portion 10 c and the partition member 16. The partition member 16 is formed by coating a surface of an insulating material such as synthetic resin or a conductive material such as metal with a water repellent material such as fluorine. In FIG. 1, the partition member 16 is omitted.

ここで、前記側壁部材14と前記仕切部材16とは同じ材料で形成することが可能である。よって、図4に示す第2の実施形態では、前記側壁部材14と前記仕切部材16とが連結部15を介して一体で形成することが可能であり、この場合の前記仕切部材16は前記側壁部材14を保持するガイドフレームとして記載している。なお、図2にも連結部15を示している。   Here, the side wall member 14 and the partition member 16 can be formed of the same material. Therefore, in the second embodiment shown in FIG. 4, the side wall member 14 and the partition member 16 can be integrally formed via the connecting portion 15, and the partition member 16 in this case is the side wall. It is described as a guide frame that holds the member 14. In addition, the connection part 15 is also shown in FIG.

図3および図4に示すように、前記電鋳金型10では前記下地部10aを基準面としたときに、前記基準面からの側壁部材14の前記Z1方向の高さ寸法H1が、前記前記基準面から仕切部材16の表面までの高さ寸法H2よりもZ1方向に高くなるように形成されている(H1>H2)。   As shown in FIGS. 3 and 4, in the electroforming mold 10, when the base portion 10a is used as a reference plane, the height dimension H1 of the side wall member 14 from the reference plane in the Z1 direction is the reference standard. It is formed to be higher in the Z1 direction than the height dimension H2 from the surface to the surface of the partition member 16 (H1> H2).

以下には、上記電鋳金型を用いたスパイラル接触子の製造方法について説明する。
図5はスパイラル接触子を示す平面図、図6ないし図10はスパイラル接触子の製造方法を示す工程図であり、図6は電鋳金型にコーティングを行って剥離層を形成する工程、図7は電鋳金型に側壁部材と仕切部材とを取り付ける工程、図8は電鋳金型にメッキを施す工程、図9はスパイラル接触子の支持部に保持シートを貼り付ける工程、図10は電鋳金型からスパイラル接触子を剥離させる工程を示している。なお、図6以下では主として上記第2の実施の形態に示す電鋳金型(図4参照)を用いた場合について説明する。
Below, the manufacturing method of the spiral contactor using the said electroforming metal mold | die is demonstrated.
FIG. 5 is a plan view showing a spiral contact, FIGS. 6 to 10 are process diagrams showing a manufacturing method of the spiral contact, and FIG. 6 is a process of forming a release layer by coating an electroforming mold. Is a process of attaching the side wall member and the partition member to the electroforming mold, FIG. 8 is a process of plating the electroforming mold, FIG. 9 is a process of attaching a holding sheet to the support portion of the spiral contact, and FIG. 10 is an electroforming mold. The process of peeling a spiral contactor from is shown. In FIG. 6 and subsequent figures, the case where the electroforming mold (see FIG. 4) shown in the second embodiment is mainly used will be described.

図5は、図6ないし図10の製造方法によって製造される複数のスパイラル接触子20のうちの一つを示している。前記スパイラル接触子20は外周側に設けられた枠状の支持部21と、その内部に設けられた接触片22とを有する構造である。前記接触片22は前記支持部21と一体で形成されており、外周側の巻き始端22aから内周中心側の巻き終端22bに向かって螺旋状または渦巻き状に延びている。前記接触片22は前記巻き始端22a側において前記支持部21に対し片持ち状態で支持されており、紙面に対し垂直となる法線方向に弾性変形できるようになっている。なお、以下の図6ないし図10はスパイラル接触子の製造方法では、多数のスパイラル接触子20が保持シート上にマトリックス状に配置された状態で形成される。   FIG. 5 shows one of a plurality of spiral contacts 20 manufactured by the manufacturing method of FIGS. The spiral contact 20 has a structure having a frame-like support portion 21 provided on the outer peripheral side and a contact piece 22 provided therein. The contact piece 22 is formed integrally with the support portion 21 and extends spirally or spirally from the winding start end 22a on the outer peripheral side toward the winding end 22b on the inner peripheral center side. The contact piece 22 is supported in a cantilevered manner with respect to the support portion 21 on the winding start end 22a side, and can be elastically deformed in a normal direction perpendicular to the paper surface. 6 to 10 below, in the spiral contactor manufacturing method, a large number of spiral contactors 20 are formed in a matrix on the holding sheet.

図6に示す第1の工程では、上記電鋳金型10の前記下地部10aの表面に薄い剥離層31がコーティングされる。前記剥離層31を形成するコーティング材料としては、例えばクロム酸や過マンガン酸カリウムなどを用いることができ、剥離層31の膜厚としては20Å(オングストローム)程度が好ましい。   In the first step shown in FIG. 6, a thin release layer 31 is coated on the surface of the base portion 10 a of the electroforming mold 10. As the coating material for forming the release layer 31, for example, chromic acid or potassium permanganate can be used, and the thickness of the release layer 31 is preferably about 20 Å.

なお、前記コーティングにおいては、前記嵌合溝10bと溝部10cの内部にも剥離層が必然的に形成される。   In the coating, a release layer is inevitably formed inside the fitting groove 10b and the groove portion 10c.

図7に示す第2の工程では、前記嵌合溝10b内に側壁部材14を位置決めされた状態で嵌合させられるとともに、前記溝部10c内に前記仕切部材16が嵌め込まれる。なお、前記側壁部材14と仕切部材16とが一体成形されている場合には両者が一緒に取り付けられる。また第1の実施の形態に示す電鋳金型10(図3参照)のように、前記側壁部材14が電鋳金型10に一体に形成されている場合には、この第2の工程では前記仕切部材16のみが前記溝部10c内に嵌合させられる。   In the second step shown in FIG. 7, the side wall member 14 is fitted in the fitting groove 10b while being positioned, and the partition member 16 is fitted in the groove 10c. In addition, when the said side wall member 14 and the partition member 16 are integrally molded, both are attached together. When the side wall member 14 is formed integrally with the electroforming mold 10 as in the electroforming mold 10 (see FIG. 3) shown in the first embodiment, the partitioning is performed in the second step. Only the member 16 is fitted into the groove 10c.

図8に示す第3の工程では、電気メッキ法により、前記電鋳金型10の下地部10a上にニッケルメッキ層41が電着される。前記電気メッキ法としては、カソード側を電鋳金型10とし、アノード側にニッケル電極を用いて電気を流す方法、またはニッケル電解液中に電鋳金型10をカソード側としてアノード電極側から電気を流す方法のいずれかを用いることができる。   In the third step shown in FIG. 8, a nickel plating layer 41 is electrodeposited on the base portion 10a of the electroforming mold 10 by electroplating. As the electroplating method, the cathode side is an electroformed mold 10 and electricity is supplied using a nickel electrode on the anode side, or the electroformed mold 10 is used as a cathode side in nickel electrolyte and electricity is supplied from the anode electrode side. Any of the methods can be used.

このとき、前記側壁部材14内に形成されるニッケルメッキ層41が前記スパイラル接触子20の接触片22となり、前記側壁部材14の外面と前記仕切部材16との間に形成されるニッケルメッキ層41が前記スパイラル接触子20の支持部21となる。また前記メッキ層41の積層方向の板厚寸法hは、前記基準面(下地部10a)からの側壁部材14の高さ寸法H1よりも高く、かつ前記基準面から仕切部材16の表面までの高さ寸法H2未満の範囲で形成される(H1<h<H2)。   At this time, the nickel plating layer 41 formed in the side wall member 14 becomes the contact piece 22 of the spiral contact 20, and the nickel plating layer 41 formed between the outer surface of the side wall member 14 and the partition member 16. Becomes the support portion 21 of the spiral contact 20. The plate thickness dimension h in the stacking direction of the plating layer 41 is higher than the height dimension H1 of the side wall member 14 from the reference surface (base portion 10a), and the height from the reference surface to the surface of the partition member 16 is high. It is formed in a range less than the dimension H2 (H1 <h <H2).

前記第3の工程では、電流の大きさや電着時間などを管理することにより、メッキの成長速度を変えてメッキ層41の板厚寸法hを均一に形成することが可能である。よって、ばね定数など物性が均一で精度の高いスパイラル接触子20を提供することが可能となる。   In the third step, the plate thickness dimension h of the plating layer 41 can be formed uniformly by changing the growth rate of plating by managing the magnitude of the current, the electrodeposition time, and the like. Therefore, it is possible to provide the spiral contactor 20 having uniform physical properties such as a spring constant and high accuracy.

ここで、少なくとも前記仕切部材16の表面は絶縁材料により形成されているため、メッキ層41が前記仕切部材16の表面に形成されるのを防止できる。または図8に示すように、例えメッキ層41が形成されたとしても、支持部21の縁部が部分的に重なる程度であり、仕切部材16の全面にメッキ層41が形成されるようなことがない。このため、隣り合うパターン部13間においてスパイラル接触子20の支持部21どうしが連結された状態で形成されることを防止することができる。すなわち、個々のスパイラル接触子20を電気的に絶縁させた状態で形成することができる。   Here, since at least the surface of the partition member 16 is formed of an insulating material, the plating layer 41 can be prevented from being formed on the surface of the partition member 16. Alternatively, as shown in FIG. 8, even if the plating layer 41 is formed, the edge of the support portion 21 partially overlaps, and the plating layer 41 is formed on the entire surface of the partition member 16. There is no. For this reason, it can prevent that the support parts 21 of the spiral contactor 20 are connected between the adjacent pattern parts 13. That is, the individual spiral contacts 20 can be formed in an electrically insulated state.

また前記第2の実施の形態に示す側壁部材14の場合においては、メッキの電解液が、毛細管現象により前記側壁部材14の下端部14aと前記嵌合溝10bとの間の微小な隙間に滲入するのが一般的であるが、本願発明のように側壁部材14を絶縁材料で形成し又は導電材料の表面に撥水性の材料をコーティングしておくことにより、前記のような電解液の滲入を防止することが可能である。なお、この点は前記溝部10cと前記仕切部材16との関係においても同じであり、溝部10cと仕切部材16との隙間における電解液の滲入をも防止することができる。   In the case of the side wall member 14 shown in the second embodiment, the electrolytic solution of plating permeates into a minute gap between the lower end portion 14a of the side wall member 14 and the fitting groove 10b by a capillary phenomenon. In general, the side wall member 14 is formed of an insulating material as in the present invention, or the surface of the conductive material is coated with a water-repellent material, so that the electrolyte can be infiltrated as described above. It is possible to prevent. Note that this point is the same in the relationship between the groove 10c and the partition member 16, and it is possible to prevent infiltration of the electrolyte in the gap between the groove 10c and the partition member 16.

このため、隣り合う接触片22どうしや支持部21どうしがメッキで連結された状態で形成されることを防止することができる。   For this reason, it can prevent that the adjacent contact pieces 22 and the support parts 21 are formed in the state connected with plating.

図9に示す第4の工程では、スパイラル接触子20の支持部21となるメッキ層41の表面に保持シート50を貼り付ける作業が行われる。前記保持シート50には、複数の開口部51がマトリックス状に形成されている。前記保持シート50は前記側壁部材14が前記開口部51の内部に位置し、しかも開口部51内の内縁に前記側壁部材14が接触しないように位置決めされた状態で貼り付けられる。そして、前記開口部51の内縁近傍に設けられた接着層52が、前記スパイラル接触子20の支持部21の表面に貼り付けられる。この工程により、前記保持シート50に複数のスパイラル接触子20が固定される。   In the fourth step shown in FIG. 9, an operation of attaching the holding sheet 50 to the surface of the plating layer 41 that becomes the support portion 21 of the spiral contact 20 is performed. In the holding sheet 50, a plurality of openings 51 are formed in a matrix. The holding sheet 50 is attached in a state where the side wall member 14 is positioned inside the opening 51 and positioned so that the side wall member 14 does not contact the inner edge of the opening 51. Then, an adhesive layer 52 provided near the inner edge of the opening 51 is attached to the surface of the support portion 21 of the spiral contactor 20. Through this step, the plurality of spiral contacts 20 are fixed to the holding sheet 50.

ここで、上記のようにメッキ層41の板厚寸法h、前記基準面(下地部10a)からの側壁部材14の高さ寸法H1、前記基準面から仕切部材16の表面までの高さ寸法H2の関係はH1<h<H2である。このため、保持シート50の接着層52は、前記電鋳金型10や仕切部材16の表面に張り付くことがなく、支持部21のみを保持することができる。しかも前記支持部21や接触片22は均一な平面で形成することができるため、支持部21に対する接着層52の接着力が低下を招くようなこともない。   Here, as described above, the plate thickness dimension h of the plating layer 41, the height dimension H1 of the side wall member 14 from the reference surface (base portion 10a), and the height dimension H2 from the reference surface to the surface of the partition member 16 are as follows. The relationship of H1 <h <H2. For this reason, the adhesive layer 52 of the holding sheet 50 can hold only the support portion 21 without sticking to the surfaces of the electroforming mold 10 and the partition member 16. Moreover, since the support portion 21 and the contact piece 22 can be formed on a uniform plane, the adhesive force of the adhesive layer 52 to the support portion 21 does not decrease.

図10に示す第5の工程では、複数のスパイラル接触子20を有する保持シート50が前記電鋳金型10から取り外す剥離作業が行われる。第5の工程では、保持シート50の接着層52が仕切部材16の表面から離れているため、剥離作業をスムーズに行うことができる。   In the fifth step shown in FIG. 10, a peeling operation for removing the holding sheet 50 having the plurality of spiral contacts 20 from the electroforming mold 10 is performed. In the fifth step, since the adhesive layer 52 of the holding sheet 50 is separated from the surface of the partition member 16, the peeling operation can be performed smoothly.

以上のように本願発明では、電鋳金型10を用いることにより、精度の高いスパイラル接触子20を形成することができる。   As described above, in the present invention, by using the electroformed mold 10, the highly accurate spiral contact 20 can be formed.

また電鋳金型10は繰り返し使用することができ、従来のように銅メッキ、レジストフィルム等、スパイラル接触子を直接製造するニッケル以外の材料の使用を少なくすることが可能となるため、製造コストを低減することができる。   In addition, the electroforming mold 10 can be used repeatedly, and it becomes possible to reduce the use of materials other than nickel for directly producing spiral contacts such as copper plating and resist film as in the prior art. Can be reduced.

しかも、製造工程数を少なくすることができるため、製造工程を容易化することができるとともに、製造に要する時間を短縮化することが可能である。   In addition, since the number of manufacturing steps can be reduced, the manufacturing steps can be facilitated and the time required for manufacturing can be shortened.

本発明の電鋳金型を部分的に示す平面図、The top view which shows partially the electroforming metal mold | die of this invention, 図1の電鋳金型の一部を拡大して示す平面図、FIG. 1 is an enlarged plan view showing a part of the electroforming mold of FIG. 電鋳金型の第1の実施の形態として図2を3−3線で切断した場合の断面図、FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line 3-3 as the first embodiment of the electroforming mold; 電鋳金型の第2の実施の形態として図3同様の断面図、Sectional view similar to FIG. 3 as the second embodiment of the electroforming mold, スパイラル接触子を示す平面図、A plan view showing a spiral contact, スパイラル接触子の製造方法を示す工程図であり、電鋳金型にコーティングを行って剥離層を形成する工程、It is a process diagram showing a manufacturing method of a spiral contact, a process of forming a release layer by coating an electroforming mold, スパイラル接触子の製造方法を示す工程図であり、電鋳金型に側壁部材と仕切部材とを取り付ける工程、It is process drawing which shows the manufacturing method of a spiral contactor, and the process of attaching a side wall member and a partition member to an electroforming mold, スパイラル接触子の製造方法を示す工程図であり、電鋳金型にメッキを施す工程、It is process drawing which shows the manufacturing method of a spiral contactor, the process of plating an electroforming mold, スパイラル接触子の製造方法を示す工程図であり、スパイラル接触子の支持部に保持シートを貼り付ける工程、It is a process diagram showing a manufacturing method of a spiral contact, a process of attaching a holding sheet to the support portion of the spiral contact, スパイラル接触子の製造方法を示す工程図であり、電鋳金型からスパイラル接触子を剥離させる工程、It is a process diagram showing a manufacturing method of the spiral contact, the process of peeling the spiral contact from the electroforming mold, 従来のスパイラル接触子の製造方法の一例として、特許文献1に図37として記載された製造方法を示す工程図、As an example of a conventional spiral contactor manufacturing method, a process diagram showing the manufacturing method described in FIG. 一般的な金型を用いてスパイラル接触子の製造方法を示す工程図、Process diagram showing a spiral contactor manufacturing method using a general mold, 図12Bの状態からメッキをさらに成長させた状態を示す工程図、FIG. 12B is a process diagram showing a state where the plating is further grown from the state of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10 電鋳金型
10a 下地部
10b 嵌合溝
10c 溝部
13 パターン部
14 側壁部材
15 連結部
16 仕切部材
20 スパイラル接触子
21 支持部
22 接触片
31 剥離層
41 メッキ層(ニッケルメッキ層)
50 保持シート
52 接着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Electroforming metal mold | die 10a Base part 10b Fitting groove 10c Groove part 13 Pattern part 14 Side wall member 15 Connection part 16 Partition member 20 Spiral contactor 21 Support part 22 Contact piece 31 Peeling layer 41 Plating layer (nickel plating layer)
50 Holding sheet 52 Adhesive layer

Claims (14)

メッキを螺旋形状に成形するための電鋳金型において、
メッキが電着される下地部と、前記下地部を螺旋形状に仕切る側壁部材と、前記側壁部材の外周を囲むように配置された仕切部材とを有しており、
前記側壁部材と前記仕切部材とが前記下地部から突出して設けられていることを特徴とするスパイラル接触子用の電鋳金型。
In electroforming molds for forming plating into a spiral shape,
A base portion on which plating is electrodeposited, a side wall member that partitions the base portion into a spiral shape, and a partition member that is disposed so as to surround an outer periphery of the side wall member,
An electroforming mold for a spiral contact, wherein the side wall member and the partition member are provided so as to protrude from the base portion.
前記下地部を基準面としたときに、前記基準面からの側壁部材の高さ寸法が、前記基準面から前記仕切部材の表面までの高さ寸法よりも高く設定されている請求項1記載のスパイラル接触子用の電鋳金型。   The height dimension of the side wall member from the said reference surface is set higher than the height dimension from the said reference surface to the surface of the said partition member when the said base part is made into a reference surface. Electroforming mold for spiral contacts. 前記下地部には凹状の溝部が形成されており、前記仕切部材が前記溝部内に設けられている請求項1または2記載のスパイラル接触子用の電鋳金型。   The electroforming mold for a spiral contact according to claim 1 or 2, wherein a concave groove is formed in the base portion, and the partition member is provided in the groove. 前記下地部には、前記側壁部材が嵌合する嵌合溝が形成されている請求項1ないし3のいずれか記載のスパイラル接触子用の電鋳金型。   The electroforming mold for spiral contacts according to any one of claims 1 to 3, wherein a fitting groove into which the side wall member is fitted is formed in the base portion. 前記側壁部材は、絶縁材料により形成され、または導電材料の表面に撥水性材料がコーティングされている請求項1ないし4のいずれか記載のスパイラル接触子用の電鋳金型。   5. The electroforming mold for a spiral contact according to claim 1, wherein the side wall member is formed of an insulating material, or a surface of a conductive material is coated with a water repellent material. 前記仕切部材は、絶縁材料により形成され、または導電材料の表面に撥水性材料がコーティングされている請求項1ないし4のいずれか記載のスパイラル接触子用の電鋳金型。   The electroforming mold for spiral contacts according to any one of claims 1 to 4, wherein the partition member is formed of an insulating material, or a surface of a conductive material is coated with a water repellent material. 前記側壁部材と前記仕切部材とが一体で形成されている請求項1ないし6のいずれか記載のスパイラル接触子用の電鋳金型。   The electroforming mold for spiral contacts according to any one of claims 1 to 6, wherein the side wall member and the partition member are integrally formed. 前記絶縁材料として、フッ素を用いる請求項5または6記載のスパイラル接触子用の電鋳金型。   The electroforming mold for spiral contacts according to claim 5 or 6, wherein fluorine is used as the insulating material. 前記撥水性材料として、フッ素を用いる請求項5または6記載のスパイラル接触子用の電鋳金型。   The electroforming mold for spiral contacts according to claim 5 or 6, wherein fluorine is used as the water repellent material. 前記下地部の表面に、剥離層が形成されている請求項1ないし4のいずれか記載のスパイラル接触子用の電鋳金型。   The electroforming mold for spiral contacts according to any one of claims 1 to 4, wherein a release layer is formed on a surface of the base portion. 前記剥離層として、クロム酸または過マンガン酸カリウムを用いる請求項10記載のスパイラル接触子用の電鋳金型。   The electroforming mold for spiral contacts according to claim 10, wherein chromic acid or potassium permanganate is used as the release layer. 請求項1ないし11のいずれかに記載された電鋳金型を用いたスパイラル接触子の製造方法であって、少なくとも、
(a)電鋳金型の表面である下地部に剥離層を形成する工程と、
(b)電気メッキを施すことにより、前記電鋳金型上に接触片と支持部とを備えたスパイラル接触子を電着させる工程と、
(c)前記支持部の表面に保持シートを貼り付ける工程、
(d)前記電鋳金型からスパイラル接触子を剥離させる工程と、
を有することを特徴とするスパイラル接触子の製造方法。
A method of manufacturing a spiral contact using the electroformed mold according to any one of claims 1 to 11, comprising at least:
(A) a step of forming a release layer on the base portion which is the surface of the electroforming mold;
(B) Electroplating a spiral contactor provided with a contact piece and a support on the electroforming mold; and
(C) a step of attaching a holding sheet to the surface of the support part;
(D) peeling the spiral contact from the electroformed mold;
A process for producing a spiral contact, comprising:
前記工程(a)と工程(b)の間に、前記嵌合溝内に前記側壁部材を嵌合させる工程を有する請求項12記載のスパイラル接触子の製造方法。   The manufacturing method of the spiral contactor of Claim 12 which has the process of fitting the said side wall member in the said fitting groove between the said process (a) and a process (b). 前記工程(b)で形成される前記支持部の板厚寸法h、前記下地部から前記仕切部材の表面までの高さ寸法H1、前記下地部からの側壁部材の高さ寸法をH2としたときに、板厚寸法hがH1<h<H2の範囲で形成される請求項12または13記載のスパイラル接触子の製造方法。   When the plate thickness dimension h of the support part formed in the step (b), the height dimension H1 from the base part to the surface of the partition member, and the height dimension of the side wall member from the base part are H2. The method for manufacturing a spiral contact according to claim 12 or 13, wherein the thickness h is in the range of H1 <h <H2.
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