JP2005294819A - 基板洗浄用2流体ノズル及び基板洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
本発明は,ガスと液体とを内部で混合し,液滴をガスと共に噴射して基板を洗浄する基板洗浄用2流体ノズルにおいて,液滴の粒径と速度を均一化させることを目的としている。
【解決手段】
基板洗浄用2流体ノズル5において,ガスを供給するガス供給路21と,液体を供給する液体供給路22と,内部で形成した液滴を導出する導出路23を備え,導出路23の先端に,液滴を外部に噴射するための噴射口24を形成し,噴射口24の断面積Sbを,導出路23の断面積Saより小さく形成し,かつ,ガス供給路21の出口の断面積Scを,導出路23の断面積Saより小さく形成した。
【選択図】 図3
Description
W ウェハ
1 洗浄装置
2 スピンチャック
5 2流体ノズル
18 駆動機構
21 ガス供給路
22 液体供給路
23 導出路
24 噴射口
31 絞り部
32 液体導入路
37 テーパ部
38 絞り部
Claims (12)
- ガスと液体とを内部で混合し,液滴をガスと共に噴射して基板を洗浄する基板洗浄用2流体ノズルであって,
ガスを供給するガス供給路と,液体を供給する液体供給路と,内部で形成した液滴を導出する導出路を備え,
前記導出路の先端に,液滴を外部に噴射するための噴射口を形成し,
前記噴射口の断面積Sbを,前記導出路の断面積Saより小さく形成し,かつ,前記ガス供給路の出口の断面積Scを,前記導出路の断面積Saより小さく形成したことを特徴とする,基板洗浄用2流体ノズル。 - 前記導出路の断面積Saと前記噴射口の断面積Sbとの比Sa:Sbを,1:0.25〜0.81としたことを特徴とする,請求項1に記載の基板洗浄用2流体ノズル。
- さらに,前記ガス供給路の出口の断面積Scを,前記噴射口の断面積Sbと同じか,もしくは,前記噴射口の断面積Sbより小さく形成したことを特徴とする,請求項1または2に記載の基板洗浄用2流体ノズル。
- 前記噴射口の断面積Sbと前記ガス供給路の出口の断面積Scとの比Sb:Scを,1:0.16〜0.87としたことを特徴とする,請求項3に記載の基板洗浄用2流体ノズル。
- 前記ガス供給路の出口の断面積Scを,1.13〜6.16mm2としたことを特徴とする,請求項4に記載の基板洗浄用2流体ノズル。
- 前記ガス供給路の出口の断面積Scを,1.77〜4.91mm2としたことを特徴とする,請求項4に記載の基板洗浄用2流体ノズル。
- 前記導出路を直線状に形成し,かつ,前記導出路の断面積Saを一定としたことを特徴とする,請求項1〜6のいずれかに記載の基板洗浄用2流体ノズル。
- 前記導出路の長さL1を,10〜90mmとしたことを特徴とする,請求項1〜7のいずれかに記載の基板洗浄用2流体ノズル。
- 前記噴射口の長さL2を,30mm以下としたことを特徴とする,請求項1〜8のいずれかに記載の基板洗浄用2流体ノズル。
- 前記ガス供給路を囲む環状の液体導入路を備え,
前記ガス供給路を前記導出路と同軸上に配置し,
前記液体供給路を前記液体導入路の外周面に開口させ,
前記液体導入路に,先端側に向かうに従い径が小さくなるテーパ部を形成し,
前記テーパ部を前記ガス供給路と前記導出路の間に開口させ,
前記ガス供給路から供給されたガスと前記液体導入路から導入された液体を混合させて液滴を形成し,前記液滴を前記導出路を経て導出する構成としたことを特徴とする,請求項1〜9のいずれかに記載の基板洗浄用2流体ノズル。 - 前記噴射口を,出口側周縁の縦断面形状が直角又は鋭角になるように形成したことを特徴とする,請求項1〜10のいずれかに記載の基板洗浄用2流体ノズル。
- 請求項1〜11のいずれかに記載の基板洗浄用2流体ノズルと,
基板を略水平に保持するスピンチャックと,
前記基板の上方において前記洗浄用2流体ノズルを移動させる駆動機構を備えたことを特徴とする,基板洗浄装置。
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