JP2009158703A - 二流体ノズル、基板洗浄装置および基板洗浄方法 - Google Patents
二流体ノズル、基板洗浄装置および基板洗浄方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009158703A JP2009158703A JP2007334492A JP2007334492A JP2009158703A JP 2009158703 A JP2009158703 A JP 2009158703A JP 2007334492 A JP2007334492 A JP 2007334492A JP 2007334492 A JP2007334492 A JP 2007334492A JP 2009158703 A JP2009158703 A JP 2009158703A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning liquid
- flow path
- fluid nozzle
- droplets
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Nozzles (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
【解決手段】二流体ノズル20は、洗浄液および液滴生成用ガスが混合することにより生成される洗浄液の液滴が流れる流路20hと、流路20hから送られる洗浄液の液滴が外部に噴霧される吐出口20jと、を備えている。流路20hの少なくとも一部分は湾曲しており、流路20hの湾曲した部分における径方向外側には排出口20iが設けられている。排出口20iは、流路20hの湾曲した部分における径方向外側を流れる洗浄液の液滴を当該流路20hから排出するようになっている。
【選択図】図3
Description
このうち、図1は、本発明の一の実施の形態における基板洗浄装置の構成を示す概略構成図であり、図2は、図1に示す基板洗浄装置における二流体ノズルの構成の詳細を示す縦断面図であり、図3は、図2に示す二流体ノズルのA−A矢視による横断面図である。また、図4は、図2および図3に示す二流体ノズル内における洗浄液の液滴の流れを概略的に示す説明図である。
10 チャンバー
12 スピンチャック
16 外筒
20 二流体ノズル
20a ノズル上部本体
20b 洗浄液流路
20c 窒素ガス流路
20d 合流部
20e ノズル下部本体
20f ノズル内部本体
20g 排出用流路
20h 螺旋形状の流路
20i 貫通孔
20j 吐出口
20k 貫通孔
21 二流体ノズル
21a ノズル下部本体
21b ノズル内部本体
21c 排出用流路
21d 流路
21e 貫通孔
21f 貫通孔
21g 吐出口
22 アーム
24 回転軸部
26 洗浄液供給管
28 窒素ガス供給管
30 洗浄液タンク
32 窒素ガス供給機構
34 バルブ
36 バルブ
38 フィルタ
40 吸引器
42 吸引管
50 洗浄液排出管
80 二流体ノズル
80a ノズル本体
80b 洗浄液流路
80c 窒素ガス流路
80d 合流部
80e 吐出口
86 洗浄液供給管
88 窒素ガス供給管
Claims (6)
- 外部から洗浄液および液滴生成用ガスがそれぞれ供給され、これらの洗浄液および液滴生成用ガスが内部で混合して洗浄液の液滴が内部で生成される本体部と、
前記本体部の内部に設けられ、洗浄液および液滴生成用ガスが混合することにより生成される洗浄液の液滴が流れる流路であって、少なくとも一部分が湾曲した流路と、
前記本体部における前記流路の下流端に設けられ、前記流路から送られる洗浄液の液滴が外部に噴霧される吐出口と、
前記流路の湾曲した部分における径方向外側に設けられ、当該流路の湾曲した部分における径方向外側を流れる洗浄液の液滴を当該流路から排出する排出口と、
を備えたことを特徴とする二流体ノズル。 - 前記流路の湾曲した部分は螺旋形状となっていることを特徴とする請求項1記載の二流体ノズル。
- 前記排出口には吸引機構が設けられており、当該吸引機構が前記流路の湾曲した部分における径方向外側を流れる洗浄液の液滴を吸引することにより、この洗浄液の液滴が前記排出口を介して前記流路から排出されることを特徴とする請求項1または2に記載の二流体ノズル。
- 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の二流体ノズルを備え、
当該二流体ノズルの吐出口から噴霧される洗浄液の液滴により被処理基板の洗浄を行うことを特徴とする基板洗浄装置。 - 二流体ノズルの内部で洗浄液と液滴生成用ガスとを混合して洗浄液の液滴を生成し、被処理基板に対してこの二流体ノズルから洗浄液の液滴を噴霧することにより被処理基板の洗浄を行うような基板洗浄方法であって、
二流体ノズルに洗浄液および液滴生成用ガスをそれぞれ供給し、これらの洗浄液および液滴生成用ガスを二流体ノズルの内部で混合させて洗浄液の液滴を生成する工程と、
少なくとも一部分が湾曲した流路に洗浄液の液滴を流し、この際に前記流路の湾曲した部分における径方向外側を流れる洗浄液の液滴を、排出口を介して前記流路から排出する工程と、
前記流路において排出されなかった洗浄液の液滴を二流体ノズルの吐出口より被処理基板に噴霧する工程と、
を備えたことを特徴とする基板洗浄方法。 - 前記流路の湾曲した部分における径方向外側を流れる洗浄液の液滴を外部から吸引することにより、この洗浄液の液滴を前記流路から排出することを特徴とする請求項5記載の基板洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007334492A JP5031542B2 (ja) | 2007-12-26 | 2007-12-26 | 二流体ノズル、基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007334492A JP5031542B2 (ja) | 2007-12-26 | 2007-12-26 | 二流体ノズル、基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009158703A true JP2009158703A (ja) | 2009-07-16 |
JP5031542B2 JP5031542B2 (ja) | 2012-09-19 |
Family
ID=40962408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007334492A Active JP5031542B2 (ja) | 2007-12-26 | 2007-12-26 | 二流体ノズル、基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5031542B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200029247A (ko) * | 2018-09-10 | 2020-03-18 | (주)신우에이엔티 | 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조 |
WO2022155044A1 (en) * | 2021-01-15 | 2022-07-21 | Elemental Scientific, Inc. | Shaped-channel scanning nozzle for scanning of a material surface |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103365119B (zh) * | 2013-08-08 | 2015-04-01 | 中国科学院光电研究院 | 一种螺旋气流动态气体锁 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08187470A (ja) * | 1995-01-06 | 1996-07-23 | Rohm Co Ltd | 薄膜抵抗器の洗浄装置 |
JP2000246153A (ja) * | 1999-03-03 | 2000-09-12 | Kuroda Precision Ind Ltd | 液体微粒化装置 |
JP2005294819A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-10-20 | Renesas Technology Corp | 基板洗浄用2流体ノズル及び基板洗浄装置 |
-
2007
- 2007-12-26 JP JP2007334492A patent/JP5031542B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08187470A (ja) * | 1995-01-06 | 1996-07-23 | Rohm Co Ltd | 薄膜抵抗器の洗浄装置 |
JP2000246153A (ja) * | 1999-03-03 | 2000-09-12 | Kuroda Precision Ind Ltd | 液体微粒化装置 |
JP2005294819A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-10-20 | Renesas Technology Corp | 基板洗浄用2流体ノズル及び基板洗浄装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200029247A (ko) * | 2018-09-10 | 2020-03-18 | (주)신우에이엔티 | 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조 |
KR102114088B1 (ko) | 2018-09-10 | 2020-06-17 | (주)신우에이엔티 | 웨이퍼 세정용 나노 버블 분사 구조 |
WO2022155044A1 (en) * | 2021-01-15 | 2022-07-21 | Elemental Scientific, Inc. | Shaped-channel scanning nozzle for scanning of a material surface |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5031542B2 (ja) | 2012-09-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10304705B2 (en) | Cleaning device for atomizing and spraying liquid in two-phase flow | |
KR101244903B1 (ko) | 유체 배출 장치 | |
TWI574338B (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
US7428907B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
JP2008270402A (ja) | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | |
JP4763575B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
KR101790449B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JP4005326B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
US20040206452A1 (en) | Substrate processing apparatus | |
JP5536009B2 (ja) | 基板加工装置 | |
US9022045B2 (en) | Substrate liquid cleaning apparatus with controlled liquid port ejection angle | |
TW201342452A (zh) | 基板處理裝置、基板處理方法及記憶媒體 | |
TW201340197A (zh) | 基板處理裝置、基板處理方法及記憶媒體 | |
JP2012015180A (ja) | 二流体ノズル、基板処理装置、液体の液滴の生成方法、および基板処理方法 | |
JP5512424B2 (ja) | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | |
TW201535490A (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
KR20070092106A (ko) | 노즐장치 및 그 노즐장치를 구비한 세정장치 | |
JP2005353739A (ja) | 基板洗浄装置 | |
JP5031542B2 (ja) | 二流体ノズル、基板洗浄装置および基板洗浄方法 | |
JP2008130643A (ja) | ノズル、基板処理装置および基板処理方法 | |
JP4429231B2 (ja) | 基板洗浄方法および基板洗浄装置 | |
JP4222876B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR20110077705A (ko) | 매엽식 웨이퍼 세정 장치 및 방법 | |
TWI567847B (zh) | 晶圓清洗裝置及晶圓清洗方式 | |
JP4279008B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100208 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110812 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110909 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111102 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120601 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120627 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5031542 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150706 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |