JP2005286089A - Method for manufacturing multilayer printed wiring board - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a highly reliable multilayer printed wiring board wherein the external layer conductor circuit is high in surface smoothness and in adhesion with an insulating resin layer. <P>SOLUTION: In the method for manufacturing a multilayer printed circuit board, an insulating resin layer is formed on the surface of an internal layer circuit board with an internal layer conductor circuit formed thereon, and then an external layer conductor circuit is formed on the outer surface of the insulating resin layer. The method comprises (a) a step wherein a insulating resin layer material, formed of a hardenable resin-containing resin composition and showing a first heat generation peak and a second heat generation peak positioned at a higher temperature than the first in differential scanning calorimetry, is integratedly laminated on the internal layer circuit board for the formation of an insulating resin layer on the internal layer circuit board. The method further comprises (b) a step of producing corrugation on the outer surface of the insulating resin layer, (c) a step of forming an external layer conductor circuit on the corrugated surface, and (d) a step of heat treatment to follow the external layer conductor circuit forming step. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、多層プリント配線板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board.

近年、電子機器の高機能化等の要求に伴い、電子部品の高密度集積化、高密度実装化等が進んでいる。そのため、これらに使用される高密度実装対応のプリント配線板等は、従来にも増して、小型化かつ高密度化されている。このようなプリント配線板等の高密度化への対応として、ビルドアップ方式による多層配線板が多く採用されている。   In recent years, with the demand for higher functionality of electronic devices, etc., high density integration and high density mounting of electronic components are progressing. For this reason, printed wiring boards and the like for high-density mounting used for these are smaller and higher in density than conventional ones. As a measure for increasing the density of such printed wiring boards, a multilayer wiring board by a build-up method is often used.

一般的なビルドアップ多層配線板は、樹脂組成物で構成される100μm厚以下の絶縁樹脂層と、導体層とを交互に積層して、これを加熱加圧成形等行って接合することにより得られている。
ここで、絶縁樹脂層と導体層とを接合する方法としては、例えば、銅箔や有機フィルム等の基材に絶縁樹脂層を塗工した樹脂付き基材を、回路加工を施した内層回路基板上に積層し、これを加熱加圧成形する方法がある(例えば、特許文献1参照。)。
この方法では、樹脂付き基材の絶縁樹脂層と内層回路基板とを接合した後、金属箔基材を使用している場合にはこの金属箔を所定のパターンに従ってエッチング処理することにより外層導体回路を形成するか、あるいは、金属箔や有機フィルムを全面除去した後、導体金属メッキを行うことにより、所定の外層導体回路を形成する方法が一般的である。
A general build-up multilayer wiring board is obtained by alternately laminating insulating resin layers having a thickness of 100 μm or less composed of a resin composition and conductor layers and bonding them by performing heat-pressure molding or the like. It has been.
Here, as a method of joining the insulating resin layer and the conductor layer, for example, an inner layer circuit board obtained by subjecting a base material with resin obtained by applying an insulating resin layer to a base material such as copper foil or an organic film to a circuit. There is a method of laminating on top and heating and press-molding this (see, for example, Patent Document 1).
In this method, after joining the insulating resin layer of the base material with resin and the inner layer circuit board, when using the metal foil base material, the outer layer conductor circuit is etched by etching the metal foil according to a predetermined pattern. Or a method of forming a predetermined outer layer conductor circuit by conducting metal plating after removing the entire surface of the metal foil or organic film.

しかし、金属箔からエッチング処理により外層導体回路を形成する場合は、回路の微細化には限界があった。一方、メッキにより外層導体回路を形成する場合は、回路が形成される絶縁樹脂層表面に予め微細な凹凸を形成しておくことが必要であるが、従来の絶縁樹脂層では、薬液処理時に粗化できなかったり、粗化が表面全体に進行して大きく不均一な凹凸を形成したりすることがあり、微細な凹凸を均一に形成することが困難であった。
また、上記基材として片面粗化銅箔を用い、この粗化面のプロファイルを利用する方法もあるが、粗化面の凹凸が大きいため、特に形成する導体回路が微細である場合は導体回路の平滑性が低下し、導体回路の凹凸により導電損失が増大するという問題を生じていた。
そして、これらの方法では、外層導体回路と絶縁樹脂層との密着性(ピール強度)が不充分であり、その部位によってバラツキも生じやすいという問題があった。
However, when forming an outer layer conductor circuit from a metal foil by etching, there is a limit to miniaturization of the circuit. On the other hand, when an outer layer conductor circuit is formed by plating, it is necessary to form fine irregularities on the surface of the insulating resin layer on which the circuit is to be formed. In some cases, roughening proceeds to the entire surface to form large and uneven unevenness, and it is difficult to form fine unevenness uniformly.
In addition, there is a method using a roughened surface profile using a single-sided roughened copper foil as the base material. However, since the roughened surface has large irregularities, the conductive circuit is formed especially when the conductive circuit to be formed is fine. As a result, the smoothness of the conductor deteriorates, and the conductive loss increases due to the unevenness of the conductor circuit.
In these methods, there is a problem that the adhesion (peel strength) between the outer conductor circuit and the insulating resin layer is insufficient, and variations are likely to occur depending on the portion.

特開平06−260760号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-260760

本発明は、平滑性、及び、絶縁樹脂層への密着性に優れた微細な外層導体回路を形成することができ、信頼性に優れた多層プリント配線板を製造する方法を提供するものである。   The present invention provides a method for producing a multilayer printed wiring board excellent in reliability, capable of forming a fine outer layer conductor circuit excellent in smoothness and adhesion to an insulating resin layer. .

このような目的は、下記の本発明(1)〜(7)により達成される。
(1)予め内層用導体回路が形成された内層回路基板の表面に絶縁樹脂層を形成し、該絶縁樹脂層の外側表面に外層導体回路を形成することにより多層プリント配線板を製造する方法であって、
(a)硬化性樹脂を含有する樹脂組成物から形成され、示差走査熱量分析において、第1の発熱ピークと、これより高い温度に位置する第2の発熱ピークとを有する絶縁樹脂層
材料を、上記内層回路基板上に積層一体化して、上記内層回路基板上に絶縁樹脂層を形成する工程、
(b)上記絶縁樹脂層の外側表面に凹凸形状を形成する工程、
(c)上記形成された凹凸形状面上に、外層導体回路を形成する工程、及び、
(d)上記外層導体回路を形成後に加熱処理を行う工程、
を有することを特徴とする、多層プリント配線板の製造方法。
(2)上記(a)工程において、上記絶縁樹脂層材料は、硬化性樹脂として、上記第1の発熱ピークを発現する第1の硬化性樹脂と、上記第2の発熱ピークを発現する第2の硬化性樹脂とを含有するものである上記(1)に記載の多層プリント配線板の製造方法。
(3)上記(a)工程において、実質的に上記第1の硬化性樹脂の硬化反応を行う上記(1)又は(2)に記載の多層プリント配線板の製造方法。
(4)上記(b)工程において、デスミア処理により、上記絶縁樹脂層の外側表面部位から上記第2の硬化性樹脂成分を硬化反応前に除去することにより、絶縁樹脂層の外側表面に凹凸形状を形成する上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。
(5)上記(d)工程において、実質的に上記第2の硬化性樹脂の硬化反応を行う上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。
(6)上記第1の発熱ピークは、120〜200℃の範囲内にある上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。
(7)上記第2の発熱ピークは、150〜250℃の範囲内にある上記(1)ないし(6)のいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。
Such an object is achieved by the following present inventions (1) to (7).
(1) A method for producing a multilayer printed wiring board by forming an insulating resin layer on the surface of an inner layer circuit board on which an inner layer conductor circuit has been formed in advance, and forming an outer layer conductor circuit on the outer surface of the insulating resin layer. There,
(A) Insulating resin layer material formed from a resin composition containing a curable resin and having a first exothermic peak and a second exothermic peak located at a higher temperature in differential scanning calorimetry, Forming an insulating resin layer on the inner circuit board by stacking and integrating on the inner circuit board;
(B) forming a concavo-convex shape on the outer surface of the insulating resin layer;
(C) a step of forming an outer layer conductor circuit on the formed uneven surface, and
(D) a step of performing a heat treatment after forming the outer layer conductor circuit;
A method for producing a multilayer printed wiring board, comprising:
(2) In the step (a), the insulating resin layer material includes, as a curable resin, a first curable resin that exhibits the first exothermic peak, and a second that exhibits the second exothermic peak. The manufacturing method of the multilayer printed wiring board as described in said (1) which contains the curable resin of.
(3) The method for producing a multilayer printed wiring board according to (1) or (2), wherein in the step (a), the curing reaction of the first curable resin is substantially performed.
(4) In the step (b), the second curable resin component is removed from the outer surface portion of the insulating resin layer by a desmear treatment before the curing reaction, thereby forming an uneven shape on the outer surface of the insulating resin layer. The manufacturing method of the multilayer printed wiring board in any one of said (1) thru | or (3) which forms.
(5) The method for producing a multilayer printed wiring board according to any one of (1) to (4), wherein in the step (d), the curing reaction of the second curable resin is substantially performed.
(6) The method for producing a multilayer printed wiring board according to any one of (1) to (5), wherein the first exothermic peak is in a range of 120 to 200 ° C.
(7) The method for producing a multilayer printed wiring board according to any one of (1) to (6), wherein the second exothermic peak is in a range of 150 to 250 ° C.

本発明により、平滑性、及び、絶縁樹脂層への密着性に優れた微細な外層導体回路を形成することができ、信頼性に優れた多層プリント配線板を製造することができる。   According to the present invention, a fine outer layer conductor circuit excellent in smoothness and adhesion to an insulating resin layer can be formed, and a multilayer printed wiring board excellent in reliability can be manufactured.

以下、本発明の多層プリント配線板の製造方法について説明する。
本発明の多層プリント配線板の製造方法(以下、単に「製造方法」ということがある)は、予め内層用導体回路が形成された内層回路基板の表面に絶縁樹脂層を形成し、この絶縁樹脂層の外側表面に外層導体回路(以下、単に「外層回路」という)を形成することにより多層プリント配線板を製造する方法であって、
(a)硬化性樹脂を含有する樹脂組成物から形成され、示差走査熱量分析において、第1の発熱ピークと、これより高い温度に位置する第2の発熱ピークとを有する絶縁樹脂層材料を、上記内層回路基板上に積層一体化して、上記内層回路基板上に絶縁樹脂層を形成する工程、
(b)上記絶縁樹脂層の外側表面に凹凸形状を形成する工程、
(c)上記形成された凹凸形状面上に、外層導体回路を形成する工程、及び、
(d)上記外層導体回路を形成後に加熱処理を行う工程、
を有することを特徴とする。
Hereinafter, the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention is demonstrated.
The method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as “manufacturing method”) includes forming an insulating resin layer on the surface of an inner layer circuit board on which an inner layer conductor circuit has been formed in advance, A method of manufacturing a multilayer printed wiring board by forming an outer layer conductor circuit (hereinafter simply referred to as “outer layer circuit”) on the outer surface of a layer,
(A) Insulating resin layer material formed from a resin composition containing a curable resin and having a first exothermic peak and a second exothermic peak located at a higher temperature in differential scanning calorimetry, Forming an insulating resin layer on the inner circuit board by stacking and integrating on the inner circuit board;
(B) forming a concavo-convex shape on the outer surface of the insulating resin layer;
(C) a step of forming an outer layer conductor circuit on the formed uneven surface, and
(D) a step of performing a heat treatment after forming the outer layer conductor circuit;
It is characterized by having.

本発明の製造方法においては、まず、
(a)硬化性樹脂を含有する樹脂組成物から形成され、示差走査熱量分析において、第1の発熱ピークと、これより高い温度に位置する第2の発熱ピークとを有する絶縁樹脂層材料を、上記内層回路基板上に積層一体化して、上記内層回路基板上に絶縁樹脂層を形成する。
In the production method of the present invention, first,
(A) Insulating resin layer material formed from a resin composition containing a curable resin and having a first exothermic peak and a second exothermic peak located at a higher temperature in differential scanning calorimetry, An insulating resin layer is formed on the inner circuit board by stacking and integrating on the inner circuit board.

上記(a)工程において用いられる絶縁樹脂層材料は、硬化性樹脂を含有する樹脂組成物から構成され、示差走査熱量分析において、第1の発熱ピークと、これより高い温度に位置する第2の発熱ピークとを有する。
具体的には、上記示差走査熱量分析によって得られた、温度上昇と発熱量との関係を図示したDSC曲線上に、異なる温度において発現する2つの発熱ピークを有する。
The insulating resin layer material used in the step (a) is composed of a resin composition containing a curable resin, and in the differential scanning calorimetry, the first exothermic peak and the second temperature located at a higher temperature than this. It has an exothermic peak.
Specifically, there are two exothermic peaks appearing at different temperatures on the DSC curve illustrating the relationship between the temperature rise and the calorific value obtained by the differential scanning calorimetry.

本発明の製造方法で用いられる示差走査熱量分析は、試料を所定の温度条件で昇温した際に、試料から発生した熱エネルギーの変化を定量的に検出する手法であり、例えば市販の示差走査熱量分析装置を用いて行うことができる。
ここで示差走査熱量分析を行う際の昇温条件としては特に限定されないが、5〜10℃/分で実施することが好ましい。これにより、再現性よく評価を行うことができる。
The differential scanning calorimetry used in the production method of the present invention is a technique for quantitatively detecting a change in thermal energy generated from a sample when the sample is heated at a predetermined temperature condition. It can be performed using a calorimetric analyzer.
Although it does not specifically limit as temperature rising conditions at the time of performing differential scanning calorimetry here, It is preferable to implement at 5-10 degreeC / min. Thereby, evaluation can be performed with good reproducibility.

ここで第1の発熱ピークとしては特に限定されないが、120〜200℃の範囲内にあることが好ましい。さらに好ましくは150〜200℃である。
また、第2の発熱ピークとしては特に限定されないが、150〜250℃の範囲内にあることが好ましい。さらに好ましくは180〜250℃である。
そして、上記第1の発熱ピークと第2の発熱ピークとは、特に限定されないが、30〜80℃の差を有することが好ましい。
Although it does not specifically limit as a 1st exothermic peak here, It exists in the range of 120-200 degreeC. More preferably, it is 150-200 degreeC.
The second exothermic peak is not particularly limited, but is preferably in the range of 150 to 250 ° C. More preferably, it is 180-250 degreeC.
The first exothermic peak and the second exothermic peak are not particularly limited, but preferably have a difference of 30 to 80 ° C.

まず、第1の発熱ピークを上記範囲内とすることにより、以下の効果を発現させることができる。絶縁樹脂層材料を内層回路基板に接合する際の温度、すなわち、通常、多層回路基板を加熱加圧成形して製造する際の温度、あるいは、上記第1の発熱ピーク温度より0〜50℃低い温度で、この第1の硬化性樹脂の硬化反応を効率的に進めることができる。また、第2の硬化性樹脂の硬化反応が進行するのを実質的に抑制することができる。   First, by setting the first exothermic peak within the above range, the following effects can be exhibited. The temperature at which the insulating resin layer material is bonded to the inner layer circuit board, that is, the temperature at which the multilayer circuit board is usually manufactured by heating and pressing, or 0 to 50 ° C. lower than the first exothermic peak temperature. The curing reaction of the first curable resin can be efficiently advanced at the temperature. In addition, the progress of the curing reaction of the second curable resin can be substantially suppressed.

また、第2の発熱ピークを上記範囲内とすることにより、以下の効果を発現させることができる。絶縁樹脂層材料を内層回路基板に接合した後、外層回路を形成したものを上記第2の発熱ピーク温度より0〜50℃低い温度範囲内で熱処理することにより、第2の硬化性樹脂の硬化反応を効率的に進め、絶縁樹脂層と外層回路との密着性を確保することができる。また、導体金属のアニーリングを行うことができるので、導体金属メッキにより外層回路を形成した際の応力歪の開放を併せて行うことができる。   Moreover, the following effects can be expressed by making a 2nd exothermic peak into the said range. After the insulating resin layer material is bonded to the inner layer circuit board, the outer layer circuit formed is heat-treated within a temperature range lower by 0 to 50 ° C. than the second exothermic peak temperature, thereby curing the second curable resin. Reaction can be advanced efficiently and the adhesiveness of an insulating resin layer and an outer layer circuit can be ensured. Moreover, since the conductor metal can be annealed, the stress strain when the outer layer circuit is formed by the conductor metal plating can be released together.

上記(a)工程において用いられる絶縁樹脂層材料の形態としては特に限定されないが、例えば、樹脂組成物から形成されるシート状の絶縁樹脂層材料を製造すると、取り扱い性に優れており、好ましく用いることができる。   Although it does not specifically limit as a form of the insulating resin layer material used in the said (a) process, For example, when manufacturing the sheet-like insulating resin layer material formed from a resin composition, it is excellent in handling property, and uses preferably. be able to.

ここでシート状の絶縁樹脂層材料を製造する方法としては特に限定されないが、例えば、樹脂組成物を有機溶剤等に溶解、分散させた樹脂組成物ワニスを調製し、ロールコーター、コンマコーター等の塗工装置を用いて、これをキャリアとなる基材等に塗工し、樹脂組成物ワニス中に含有される有機溶剤等を実質的に除去した後、基材に担持させたシート状の絶縁樹脂層材料を得ることができる。   Here, the method for producing the sheet-like insulating resin layer material is not particularly limited. For example, a resin composition varnish prepared by dissolving and dispersing the resin composition in an organic solvent or the like is prepared, and a roll coater, a comma coater, or the like is prepared. Using a coating device, this is applied to a substrate serving as a carrier, the organic solvent contained in the resin composition varnish is substantially removed, and then the sheet-like insulation carried on the substrate A resin layer material can be obtained.

ここで用いられるシート状の絶縁樹脂層材料の厚さとしては特に限定されないが、15〜100μmとすることが好ましい。これにより、絶縁樹脂層材料の取り扱いに好適な機械的強度を付与することができるとともに、これを用いて多層プリント配線板を製造する際、内層回路基板の凹凸を充填でき、必要かつ充分な絶縁樹脂層の厚みを確保することができる。   Although it does not specifically limit as thickness of the sheet-like insulating resin layer material used here, It is preferable to set it as 15-100 micrometers. As a result, mechanical strength suitable for the handling of the insulating resin layer material can be imparted, and when manufacturing a multilayer printed wiring board using this, the irregularities of the inner circuit board can be filled, and necessary and sufficient insulation is achieved. The thickness of the resin layer can be ensured.

また、ここで用いられるシート状の絶縁樹脂層材料の表面形状としては特に限定されないが、表裏とも、凹凸が極力小さいものであることが好ましい。   Further, the surface shape of the sheet-like insulating resin layer material used here is not particularly limited, but it is preferable that unevenness is as small as possible on both the front and back sides.

上記(a)工程において、絶縁樹脂層材料を内層回路基板上に積層一体化して、内層回路基板上に絶縁樹脂層を形成する方法としては特に限定されないが、例えば、内層回路基
板の表面に絶縁樹脂層材料を重ね合わせた後、これを平板プレス装置やラミネーター装置等により加熱加圧して積層一体化する方法を好ましく採用することができる。
In the step (a), the insulating resin layer material is laminated and integrated on the inner circuit board to form an insulating resin layer on the inner circuit board, but there is no particular limitation. A method of stacking and integrating the resin layer materials by heating and pressing them with a flat plate press device, a laminator device or the like can be preferably employed.

ここで、積層一体化する条件としては特に限定されないが、例えば、平板プレス装置を用いる場合では、内層回路基板にシート状の絶縁樹脂層材料を重ね合わせ、これを好ましくは80〜180℃、0.5〜4MPa、0.5〜1.5時間で加熱加圧することにより行うことができる。
また、ラミネーター装置を用いる場合では、内層回路基板と絶縁樹脂層材料とを重ね合わせ、好ましくは70〜100℃のロールラミネーターで加圧加熱して接着後、80〜180℃で0.5〜1時間熱処理することにより行うことができる。
これにより、内層回路基板の表面の凹凸を絶縁樹脂層材料で充填して成形することができるとともに、第1の硬化性樹脂の硬化反応を効率的に進め、内層回路基板上に強固に接合した絶縁樹脂層を形成することができる。
Here, the conditions for stacking and integration are not particularly limited. For example, in the case of using a flat plate press apparatus, a sheet-like insulating resin layer material is superposed on the inner circuit board, and this is preferably 80 to 180 ° C., 0 It can be carried out by heating and pressing at 5 to 4 MPa for 0.5 to 1.5 hours.
In the case of using a laminator device, the inner layer circuit board and the insulating resin layer material are overlapped, preferably heated and pressurized with a roll laminator at 70 to 100 ° C., and then bonded at 80 to 180 ° C. to 0.5 to 1 This can be done by heat treatment for a time.
As a result, the surface irregularities of the inner layer circuit board can be filled with the insulating resin layer material and molded, and the curing reaction of the first curable resin is efficiently advanced and firmly bonded onto the inner layer circuit board. An insulating resin layer can be formed.

上記(a)工程で形成される絶縁樹脂層の厚さとしては特に限定されないが、15〜100μmとすることが好ましい。
これにより、信頼性の高い多層プリント配線板とすることができるとともに、多層プリント配線板全体の厚みを薄く抑えることができる。
Although it does not specifically limit as thickness of the insulating resin layer formed at the said (a) process, It is preferable to set it as 15-100 micrometers.
Thereby, while being able to set it as a highly reliable multilayer printed wiring board, the thickness of the whole multilayer printed wiring board can be restrained thinly.

なお、上記(a)工程において内層回路基板表面に形成された絶縁樹脂層の表面形態は、凹凸が極力小さいものであることが好ましい。これにより、平滑性の高い微細な外層回路を形成することができる。   In addition, it is preferable that the surface form of the insulating resin layer formed on the surface of the inner circuit board in the step (a) is as small as possible. Thereby, a fine outer layer circuit with high smoothness can be formed.

次に、本発明の製造方法においては、
(b)絶縁樹脂層の外側表面に凹凸形状を形成する。
Next, in the production method of the present invention,
(B) An uneven shape is formed on the outer surface of the insulating resin layer.

上記(b)工程においては、上記(a)工程で形成された絶縁樹脂層の外側表面に、微小な凹凸形状を形成する。
この方法としては特に限定されないが、例えば、過マンガン酸カリウム等で酸化処理(デスミア処理)して、絶縁樹脂層の外側表面部位から、第2の硬化性樹脂成分を硬化反応前に溶解して除去することにより行うものであることが好ましい。これにより、簡易な方法で微小な凹凸形状を高い均一性で形成することができるとともに、凹凸の大きさ(粗さ)を好適なものとすることができる。
In the step (b), a minute uneven shape is formed on the outer surface of the insulating resin layer formed in the step (a).
Although this method is not particularly limited, for example, it is oxidized (desmeared) with potassium permanganate or the like, and the second curable resin component is dissolved from the outer surface portion of the insulating resin layer before the curing reaction. It is preferable that the removal is performed. Thereby, a minute uneven shape can be formed with high uniformity by a simple method, and the size (roughness) of the unevenness can be made suitable.

上記(b)工程において形成される凹凸形状の粗さとしては特に限定されないが、JIS B 0601に準拠して、接触式表面粗さ計により測定したRmax(最大高さ)が、1〜3μmであることが好ましい。
これにより、この面に形成される外層回路の平滑性を高くすることができるとともに、絶縁樹脂層への密着性とその均一性に優れた微細な外層回路を形成することができる。
The roughness of the concavo-convex shape formed in the step (b) is not particularly limited, but Rmax (maximum height) measured by a contact-type surface roughness meter is 1 to 3 μm in accordance with JIS B 0601. Preferably there is.
Thereby, the smoothness of the outer layer circuit formed on this surface can be increased, and a fine outer layer circuit excellent in adhesion to the insulating resin layer and its uniformity can be formed.

次に、本発明の製造方法においては、
(c)形成された絶縁樹脂層の凹凸形状面上に、外層回路を形成する。
Next, in the production method of the present invention,
(C) An outer layer circuit is formed on the irregular surface of the formed insulating resin layer.

上記(c)工程において、絶縁樹脂層の凹凸形状面上に、外層回路を形成する方法としては特に限定されないが、通常用いられている無電解メッキ法、電解メッキ法によって行うことができる。
なお、ここで外層回路を形成する導体金属としては特に限定されないが、銅、ニッケル、スズなどを用いることができ、通常、銅を好適に用いることができる。
In the step (c), the method of forming the outer layer circuit on the concavo-convex shape surface of the insulating resin layer is not particularly limited, but can be performed by a commonly used electroless plating method or electrolytic plating method.
In addition, although it does not specifically limit as a conductor metal which forms an outer layer circuit here, Copper, nickel, tin, etc. can be used and copper can be used normally normally.

次に、本発明の製造方法においては、
(d)外層回路を形成後に加熱処理する。
Next, in the production method of the present invention,
(D) Heat treatment is performed after forming the outer layer circuit.

上記(d)工程で加熱処理する際の条件としては特に限定されないが、上記第2の発熱ピーク温度より0〜50℃低い温度にて行うことが好ましい。また、時間については特に限定されないが、0.5〜3時間で行うことができる。
これにより、第2の硬化性樹脂の硬化反応を効率的に進め、絶縁樹脂層と外層回路との密着性を高めることができるとともに、外層回路の形成に用いた金属のアニーリングを行うことができ、信頼性に優れた多層プリント配線板を製造することができる。
Although it does not specifically limit as conditions at the time of heat-processing at the said (d) process, It is preferable to carry out at the temperature 0-50 degreeC lower than the said 2nd exothermic peak temperature. Moreover, although it does not specifically limit about time, it can carry out in 0.5 to 3 hours.
Thereby, the curing reaction of the second curable resin can be efficiently advanced, the adhesion between the insulating resin layer and the outer layer circuit can be enhanced, and the metal used for forming the outer layer circuit can be annealed. A multilayer printed wiring board having excellent reliability can be manufactured.

なお、本発明の製造方法においては、このようにして形成された外層回路面に、再度、絶縁樹脂層材料を積層一体化し、同様の処理を繰り返してビルドアップを行うことにより、さらに層を重ねて多層プリント配線板を製造することもできる。   In the manufacturing method of the present invention, the insulating resin layer material is laminated and integrated again on the outer layer circuit surface thus formed, and the same processing is repeated to build up, thereby further stacking layers. A multilayer printed wiring board can also be manufactured.

次に、本発明の製造方法において、絶縁樹脂層の形成に用いられる樹脂組成物について説明する。
この樹脂組成物は、硬化性樹脂を含有するものである。ここで用いられる硬化性樹脂としては特に限定されないが、例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂等のノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂等のフェノール樹脂、ビスフェノールAエポキシ樹脂、ビスフェノールFエポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、ノボラック型シアネート樹脂、ビスフェノールA型シアネート樹脂、ビスフェノールE型シアネート樹脂、ビスフェノールF型シアネート樹脂等のビスフェノール型シアネート樹脂等のシアネート樹脂等が挙げられる。
Next, the resin composition used for forming the insulating resin layer in the production method of the present invention will be described.
This resin composition contains a curable resin. Although it does not specifically limit as curable resin used here, For example, phenol novolak resins, such as a phenol novolak resin, a cresol novolak resin, a bisphenol A novolak resin, a phenol resin, such as a resol type phenol resin, bisphenol A epoxy resin, bisphenol Bisphenol type epoxy resin such as F epoxy resin, novolak type epoxy resin such as novolac epoxy resin and cresol novolak epoxy resin, epoxy resin such as biphenyl type epoxy resin, novolac type cyanate resin, bisphenol A type cyanate resin, bisphenol E type cyanate resin And cyanate resins such as bisphenol type cyanate resins such as bisphenol F type cyanate resins.

本発明の製造方法で用いられる樹脂組成物は、示差走査熱量分析において、第1の発熱ピークと、これより高い温度に位置する第2の発熱ピークとを有する。
そして、この樹脂組成物は、上記第1の発熱ピークを発現する第1の硬化性樹脂と、上記第2の発熱ピークを発現する第2の硬化性樹脂とを含有するものであることが好ましい。
The resin composition used in the production method of the present invention has a first exothermic peak and a second exothermic peak located at a higher temperature in the differential scanning calorimetry.
The resin composition preferably contains a first curable resin that exhibits the first exothermic peak and a second curable resin that exhibits the second exothermic peak. .

まず、第1の硬化性樹脂について説明する。
第1の硬化性樹脂としては、シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマーを含有することが好ましい。
シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマーの入手方法としては特に限定されないが、例えば、ハロゲン化シアン化合物とフェノール類とを反応させ、必要に応じて加熱等の方法でプレポリマー化することにより得ることができる。また、このように調製された市販品を用いることもできる。
First, the first curable resin will be described.
The first curable resin preferably contains a cyanate resin and / or a prepolymer thereof.
The method for obtaining the cyanate resin and / or its prepolymer is not particularly limited. For example, the cyanate resin can be obtained by reacting a cyanogen halide with a phenol and prepolymerizing it by a method such as heating as necessary. it can. Moreover, the commercial item prepared in this way can also be used.

上記第1の硬化性樹脂として、シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマーを用いることにより、絶縁樹脂層の弾性率を向上させることができる。また、シアネート樹脂(特にノボラック型シアネート樹脂)は、剛直な化学構造を有するため、耐熱性に優れており、ガラス転移温度以上でも弾性率の低下が小さく、高温においても高弾性率を維持することができる。さらに、硬化反応によって水酸基などの分極率の大きな官能基が生じないため、誘電特性においても優れたものとすることができる。   By using a cyanate resin and / or a prepolymer thereof as the first curable resin, the elastic modulus of the insulating resin layer can be improved. Cyanate resins (especially novolac-type cyanate resins) have a rigid chemical structure and are therefore excellent in heat resistance, have a small decrease in elastic modulus even above the glass transition temperature, and maintain a high elastic modulus even at high temperatures. Can do. Furthermore, since a functional group having a high polarizability such as a hydroxyl group is not generated by the curing reaction, the dielectric properties can be improved.

上記シアネート樹脂の中でも、下記一般式(I)で表されるノボラック型シアネート樹脂を含有することが好ましい。これにより、上記効果に加えて、絶縁樹脂層のガラス転移温度をさらに高くすることができるとともに、硬化後の絶縁樹脂層の諸特性や難燃性をより向上させることができる。   Among the cyanate resins, it is preferable to contain a novolac-type cyanate resin represented by the following general formula (I). Thereby, in addition to the above effects, the glass transition temperature of the insulating resin layer can be further increased, and various properties and flame retardancy of the insulating resin layer after curing can be further improved.

Figure 2005286089
Figure 2005286089

上記一般式(I)で表されるノボラック型シアネート樹脂の分子量としては特に限定されないが、GPC測定による重量平均分子量が500〜10,000であることが好ましく、さらに好ましくは700〜5,000である。
重量平均分子量が上記下限値未満であると、絶縁樹脂層材料の機械的強度が低下する場合がある。また、上記上限値を超えると、絶縁樹脂層材料の弾性率が高くなって作業性が低下したり、溶融粘度が高くなって成形性が低下したりすることがある。
The molecular weight of the novolak cyanate resin represented by the general formula (I) is not particularly limited, but the weight average molecular weight by GPC measurement is preferably 500 to 10,000, and more preferably 700 to 5,000. is there.
If the weight average molecular weight is less than the lower limit, the mechanical strength of the insulating resin layer material may be lowered. Moreover, when the said upper limit is exceeded, the elasticity modulus of an insulating resin layer material may become high and workability | operativity will fall, or melt viscosity may become high and a moldability may fall.

ノボラック型シアネート樹脂の入手方法としては特に限定されないが、例えば、ノボラック型フェノール樹脂と、ハロゲン化シアン化合物等のシアネート化試薬とを反応させることにより得ることができる。また、このようにして調製された市販品を用いることもできる。   The method for obtaining the novolac-type cyanate resin is not particularly limited. For example, the novolac-type cyanate resin can be obtained by reacting a novolac-type phenol resin with a cyanating reagent such as a halogenated cyanide compound. Moreover, the commercial item prepared in this way can also be used.

なお、上記シアネート樹脂としては、これをプレポリマー化したものも用いることができる。すなわち、シアネート樹脂を単独で用いてもよいし、重量平均分子量の異なるシアネート樹脂を併用したり、シアネート樹脂とそのプレポリマーとを併用したりすることもできる。
ここでプレポリマーとは、通常、上記シアネート樹脂を通常加熱反応などにより、例えば3量化することで得られるものであり、樹脂組成物の成形性、流動性を調整するために好ましく使用されるものである。
ここでプレポリマーとしては特に限定されないが、例えば、3量化率が20〜50重量%であるものを用いることができる。この3量化率は、例えば赤外分光分析装置を用いて求めることができる。
In addition, as said cyanate resin, what prepolymerized this can also be used. That is, a cyanate resin may be used alone, a cyanate resin having a different weight average molecular weight may be used in combination, or a cyanate resin and a prepolymer thereof may be used in combination.
Here, the prepolymer is usually obtained by, for example, trimerizing the cyanate resin by, for example, heating reaction, and is preferably used for adjusting the moldability and fluidity of the resin composition. It is.
Although it does not specifically limit as a prepolymer here, For example, what a trimerization rate is 20 to 50 weight% can be used. This trimerization rate can be determined using, for example, an infrared spectroscopic analyzer.

上記樹脂組成物中、第1の硬化性樹脂の含有量としては特に限定されないが、樹脂組成物全体に対して10〜50重量%であることが好ましく、さらに好ましくは10〜40重量%である。
これにより、内層回路基板と絶縁樹脂層とを強固に接合することができる。
Although it does not specifically limit as content of 1st curable resin in the said resin composition, It is preferable that it is 10 to 50 weight% with respect to the whole resin composition, More preferably, it is 10 to 40 weight% .
Thereby, the inner layer circuit board and the insulating resin layer can be firmly bonded.

また、上記樹脂組成物中、第1の硬化性樹脂としてシアネート樹脂を用いる場合、その含有量としては特に限定されないが、樹脂組成物全体に対して10〜40重量%であることが好ましく、さらに好ましくは15〜35重量%である。
シアネート樹脂の含有量が上記下限値未満であると、絶縁樹脂層に耐熱性や低熱膨張性
を付与する場合には、その効果が充分でないことがある。また、上記上限値を超えると、シアネート樹脂による架橋密度が高くなり、自由体積が増加するため、絶縁樹脂層としての耐湿性が低下することがある。
Moreover, when using cyanate resin as 1st curable resin in the said resin composition, it is although it does not specifically limit as the content, It is preferable that it is 10 to 40 weight% with respect to the whole resin composition, Furthermore, Preferably it is 15 to 35% by weight.
When the content of the cyanate resin is less than the above lower limit, the effect may not be sufficient when the insulating resin layer is given heat resistance or low thermal expansion. Moreover, since the crosslinking density by cyanate resin will become high and the free volume will increase when the said upper limit is exceeded, the moisture resistance as an insulating resin layer may fall.

次に、第2の硬化性樹脂について説明する。
第2の硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂を含有することが好ましい。これにより、シート状の絶縁樹脂層材料を製造する時の製膜性や、内層回路基板への密着性を向上させることができる。
また、エポキシ樹脂としては、実質的にハロゲン原子を含まないエポキシ樹脂を含有することが好ましい。
Next, the second curable resin will be described.
The second curable resin preferably contains an epoxy resin. Thereby, the film-forming property at the time of manufacturing a sheet-like insulating resin layer material and the adhesiveness to the inner layer circuit board can be improved.
Moreover, as an epoxy resin, it is preferable to contain the epoxy resin which does not contain a halogen atom substantially.

このようなエポキシ樹脂としては特に限定されないが、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、アリールアルキレン型エポキシ樹脂等が挙げられる。
これらの中でも、アリールアルキレン型エポキシ樹脂が好ましい。これにより、多層プリント配線板の吸湿半田耐熱性をさらに向上させることができる。また、上記効果に加えて、ハロゲン化合物を用いることなく絶縁樹脂層や多層プリント配線板に難燃性を付与することができる。
Such an epoxy resin is not particularly limited, and examples thereof include a phenol novolac type epoxy resin, a bisphenol type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin, and an arylalkylene type epoxy resin.
Among these, aryl alkylene type epoxy resins are preferable. Thereby, the moisture absorption solder heat resistance of a multilayer printed wiring board can further be improved. In addition to the above effects, flame resistance can be imparted to the insulating resin layer and the multilayer printed wiring board without using a halogen compound.

ここで、アリールアルキレン型エポキシ樹脂とは、繰り返し単位中に一つ以上のアリールアルキレン基を有するエポキシ樹脂を指し、例えば、キシリレン型エポキシ樹脂、ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、下記一般式(II)で表されるビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂が好ましい。これにより、ハロゲン化合物を用いることなく絶縁樹脂層に高い難燃性を付与することができる。   Here, the aryl alkylene type epoxy resin refers to an epoxy resin having one or more aryl alkylene groups in the repeating unit, and examples thereof include a xylylene type epoxy resin and a biphenyl dimethylene type epoxy resin. Among these, a biphenyl dimethylene type epoxy resin represented by the following general formula (II) is preferable. Thereby, high flame retardance can be imparted to the insulating resin layer without using a halogen compound.

Figure 2005286089
Figure 2005286089

上記一般式(II)で表されるビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂のnは、特に限定されないが、n=1〜10であることが好ましく、さらに好ましくはn=2〜5である。これにより、示差走査熱量分析において、好適な温度範囲内で第2の発熱ピークを発現させることができる。
nの数が上記下限値より少ないとビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂は結晶化しやすくなり、汎用溶媒に対する溶解性が比較的低下するため、取り扱いが困難となる場合がある。また、上記上限値より多いと、樹脂の流動性が低下するため、シート状の絶縁樹脂層材料を製造する際の製膜性に影響を与えることがある。
Although n of the biphenyl dimethylene type | mold epoxy resin represented by the said general formula (II) is not specifically limited, It is preferable that it is n = 1-10, More preferably, it is n = 2-5. Thereby, in the differential scanning calorimetry, the second exothermic peak can be expressed within a suitable temperature range.
When the number of n is less than the lower limit, the biphenyldimethylene type epoxy resin is easily crystallized, and the solubility in a general-purpose solvent is relatively lowered, which may make handling difficult. On the other hand, when the amount is larger than the above upper limit value, the fluidity of the resin is lowered, which may affect the film forming property when the sheet-like insulating resin layer material is produced.

なお、ここで実質的にハロゲン原子を含まないエポキシ樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂中のハロゲン原子の含有量が1重量%以下であるものを用いることができる。   In addition, as an epoxy resin which does not contain a halogen atom substantially here, the content of the halogen atom in an epoxy resin can be 1 weight% or less, for example.

上記樹脂組成物中、第2の硬化性樹脂の含有量としては特に限定されないが、樹脂組成
物全体に対して10〜50重量%であることが好ましく、さらに好ましくは15〜45重量%である。
これにより、絶縁樹脂層と外層回路との密着性を高めることができる。
Although it does not specifically limit as content of 2nd curable resin in the said resin composition, It is preferable that it is 10 to 50 weight% with respect to the whole resin composition, More preferably, it is 15 to 45 weight% .
Thereby, the adhesiveness of an insulating resin layer and an outer layer circuit can be improved.

また、上記樹脂組成物中、第2の硬化性樹脂として上記エポキシ樹脂を用いる場合の含有量としては特に限定されないが、樹脂組成物全体に対して10〜50重量%であることが好ましく、さらに好ましくは15〜35重量%である。
エポキシ樹脂の含有量が上記下限値未満であると、内層回路基板と絶縁樹脂層との密着性、シート状の絶縁樹脂層材料を製造する際の製膜性に影響することがある。また、上記上限値を超えると、第1の硬化性樹脂の硬化後、内層回路基板と絶縁樹脂層との密着性が不十分となったり、耐薬品性が低下したりする場合がある。
Further, the content in the case where the epoxy resin is used as the second curable resin in the resin composition is not particularly limited, but is preferably 10 to 50% by weight with respect to the entire resin composition. Preferably it is 15 to 35% by weight.
When the content of the epoxy resin is less than the above lower limit value, the adhesion between the inner circuit board and the insulating resin layer and the film forming property when producing a sheet-like insulating resin layer material may be affected. On the other hand, when the above upper limit is exceeded, the adhesion between the inner circuit board and the insulating resin layer may be insufficient or the chemical resistance may be lowered after the first curable resin is cured.

本発明の製造方法において用いられる樹脂組成物には、樹脂成分として、好ましくは上記シアネート樹脂と上記エポキシ樹脂のほか、実質的にハロゲン原子を含まないフェノキシ樹脂を用いることが好ましい。これにより、シート状の絶縁樹脂層材料を製造する際の製膜性をさらに向上させることができる。   In the resin composition used in the production method of the present invention, it is preferable to use, as a resin component, a phenoxy resin substantially free of halogen atoms in addition to the cyanate resin and the epoxy resin. Thereby, the film formability at the time of manufacturing a sheet-like insulating resin layer material can be further improved.

このようなフェノキシ樹脂としては特に限定されないが、例えば、ビスフェノール骨格を有するフェノキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するフェノキシ樹脂、ビフェニル骨格を有するフェノキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型、ビフェニル型が好ましい。これにより、多層プリント配線板の難燃性をより向上させることができる。   Such a phenoxy resin is not particularly limited, and examples thereof include a phenoxy resin having a bisphenol skeleton, a phenoxy resin having a naphthalene skeleton, and a phenoxy resin having a biphenyl skeleton. Among these, bisphenol F type, bisphenol S type, and biphenyl type are preferable. Thereby, the flame retardance of a multilayer printed wiring board can be improved more.

なお、ここで実質的にハロゲン原子を含まないフェノキシ樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂中のハロゲン原子の含有量が1重量%以下であるものを用いることができる。   In addition, as a phenoxy resin which does not contain a halogen atom substantially here, what has the content of the halogen atom in a phenoxy resin is 1 weight% or less can be used, for example.

上記フェノキシ樹脂の分子量としては特に限定されないが、GPC測定による数平均分子量が1,000〜100,000であるものを用いることが好ましい。さらに好ましくは3,000〜30,000である。
数平均分子量が上記下限値未満であると、シート状の絶縁樹脂層材料を製造する際の製膜性を向上する効果が充分でないことがあり、上記上限値を超えると、樹脂組成物ワニスを調製する際のフェノキシ樹脂の溶解性が低下することがある。
Although it does not specifically limit as molecular weight of the said phenoxy resin, It is preferable to use what the number average molecular weights by GPC measurement are 1,000-100,000. More preferably, it is 3,000-30,000.
If the number average molecular weight is less than the above lower limit, the effect of improving the film-forming property when producing a sheet-like insulating resin layer material may not be sufficient. If the number average molecular weight exceeds the above upper limit, the resin composition varnish may be used. The solubility of the phenoxy resin during preparation may decrease.

樹脂成分として上記フェノキシ樹脂を用いる場合の含有量としては特に限定されないが、樹脂組成物全体に対して3〜20重量%であることが好ましく、さらに好ましくは5〜15重量%である。
フェノキシ樹脂の含有量が上記下限値未満であると、シート状の絶縁樹脂層材料を製造する際の製膜性を向上させる効果が低下することがある。また、上記上限値を超えると、絶縁樹脂層の低熱膨張性が低下することがある。
The content when the phenoxy resin is used as the resin component is not particularly limited, but is preferably 3 to 20% by weight, more preferably 5 to 15% by weight, based on the entire resin composition.
If the content of the phenoxy resin is less than the above lower limit, the effect of improving the film forming property when producing a sheet-like insulating resin layer material may be lowered. Moreover, when the said upper limit is exceeded, the low thermal expansibility of an insulating resin layer may fall.

また、本発明の製造方法において用いられる樹脂組成物には、以上に説明した硬化性樹脂等の樹脂成分のほか、無機充填材を含有することができる。
無機充填材としては特に限定されないが、例えば、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素等の窒化物、タルク、焼成クレー、未焼成クレー、マイカ、ガラス等のケイ酸塩、酸化チタン、アルミナ、シリカ、溶融シリカ等の酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ハイドロタルサイト等の炭酸塩、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の水酸化物、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、亜硫酸カルシウム等の硫酸塩または亜硫酸塩、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、ホウ酸アルミニウム、ホウ酸カルシウム、ホウ酸ナトリウム等のホウ酸塩等を挙げることができる。
これらの中でもシリカが好ましい。さらには球状シリカが好ましく、球状溶融シリカが
特に好ましい。これにより、樹脂組成物中における無機充填材の配合量を多くでき、絶縁樹脂層を特に低膨張化させることができる。また、球状シリカを用いることにより樹脂組成物の溶融粘度を低く維持することができるので、絶縁樹脂層材料を製造する際の作業性に優れるとともに、多層プリント配線板を製造する際の成形性を向上させることができる。
Moreover, the resin composition used in the production method of the present invention can contain an inorganic filler in addition to the resin component such as the curable resin described above.
The inorganic filler is not particularly limited, for example, nitrides such as aluminum nitride, boron nitride, silicon nitride, talc, fired clay, unfired clay, mica, silicates such as glass, titanium oxide, alumina, silica, Oxides such as fused silica, carbonates such as calcium carbonate, magnesium carbonate and hydrotalcite, hydroxides such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide and calcium hydroxide, sulfates such as barium sulfate, calcium sulfate and calcium sulfite Alternatively, borates such as sulfite, zinc borate, barium metaborate, aluminum borate, calcium borate, sodium borate, and the like can be given.
Among these, silica is preferable. Furthermore, spherical silica is preferable, and spherical fused silica is particularly preferable. Thereby, the compounding quantity of the inorganic filler in a resin composition can be increased, and an insulating resin layer can be made especially low expansion. In addition, since the melt viscosity of the resin composition can be kept low by using spherical silica, the workability when producing the insulating resin layer material is excellent, and the moldability when producing the multilayer printed wiring board is improved. Can be improved.

上記無機充填材の粒度としては特に限定されないが、平均粒径が0.01〜5μmであることが好ましく、さらに好ましくは0.2〜2μmである。平均粒径が上記下限値未満であると、樹脂組成物ワニスの粘度が高くなり、また、上記上限値を超えると、樹脂組成物ワニス中で無機充填材の沈降等が起こりやすく、いずれの場合も作業性が低下する場合がある。   Although it does not specifically limit as a particle size of the said inorganic filler, It is preferable that an average particle diameter is 0.01-5 micrometers, More preferably, it is 0.2-2 micrometers. When the average particle size is less than the above lower limit, the viscosity of the resin composition varnish increases. When the average particle size exceeds the upper limit, sedimentation of the inorganic filler easily occurs in the resin composition varnish. However, workability may be reduced.

無機充填材を配合する場合、樹脂組成物中の無機充填材の含有量としては特に限定されないが、樹脂組成物全体の20〜70重量%であることが好ましく、さらに好ましくは35〜60重量%である。含有量が上記下限値未満であると、絶縁樹脂層を高弾性率化、低熱膨脹率化する場合、その効果が充分でない場合がある。また、上記上限値を超えると、流動性の低下により、絶縁樹脂層材料を用いて多層プリント配線板を製造する際の成形性が低下することがある。   When the inorganic filler is blended, the content of the inorganic filler in the resin composition is not particularly limited, but is preferably 20 to 70% by weight, more preferably 35 to 60% by weight of the entire resin composition. It is. When the content is less than the above lower limit, the effect may not be sufficient when the insulating resin layer has a high elastic modulus and a low thermal expansion coefficient. Moreover, when the said upper limit is exceeded, the moldability at the time of manufacturing a multilayer printed wiring board using an insulating resin layer material may fall by fluid fall.

本発明で用いられる樹脂組成物では、特に限定されないが、無機充填材を配合する場合には、さらにカップリング剤を含有することが好ましい。
カップリング剤は、硬化性樹脂と無機充填剤との界面の濡れ性を向上させ、絶縁樹脂層を用いた多層プリント配線板の耐熱性、特に吸湿後の半田耐熱性を向上させることができる。
Although it does not specifically limit in the resin composition used by this invention, When mix | blending an inorganic filler, it is preferable to contain a coupling agent further.
The coupling agent can improve the wettability of the interface between the curable resin and the inorganic filler, and can improve the heat resistance of the multilayer printed wiring board using the insulating resin layer, particularly the solder heat resistance after moisture absorption.

ここで用いられるカップリング剤としては、通常用いられるものであれば特に限定されないが、エポキシシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アミノシランカップリング剤及びシリコーンオイル型カップリング剤の中から選ばれる1種以上のカップリング剤を使用することが好ましい。これにより、無機充填剤の界面との濡れ性が良くなり、耐熱性をより向上させることができる。   The coupling agent used here is not particularly limited as long as it is usually used, but is selected from an epoxy silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aminosilane coupling agent, and a silicone oil type coupling agent. It is preferred to use one or more coupling agents. Thereby, the wettability with the interface of the inorganic filler is improved, and the heat resistance can be further improved.

カップリング剤の含有量は特に限定されないが、無機充填材100重量部に対して0.05〜3重量部であることが好ましく、さらに好ましくは0.1〜2重量部である。含有量が上記下限値未満であると、無機充填材を充分に被覆できず、多層プリント配線板の耐熱性を向上させる効果が低下する場合がある。一方、上記上限値を超えると、絶縁樹脂層材料や多層プリント配線板の曲げ強度が低下する場合がある。   Although content of a coupling agent is not specifically limited, It is preferable that it is 0.05-3 weight part with respect to 100 weight part of inorganic fillers, More preferably, it is 0.1-2 weight part. If the content is less than the above lower limit, the inorganic filler cannot be sufficiently covered, and the effect of improving the heat resistance of the multilayer printed wiring board may be reduced. On the other hand, when the above upper limit is exceeded, the bending strength of the insulating resin layer material or the multilayer printed wiring board may decrease.

本発明の製造方法で用いられる樹脂組成物には、硬化性樹脂の硬化反応を促進させるため、硬化触媒を用いることができる。
硬化性樹脂としてシアネート樹脂を用いる場合の硬化触媒としては、例えばトリエチルアミン、トリブチルアミン、キノリン、イソキノリン等の三級アミン類、塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム等の四級アンモニウム塩、フェノール、ノニルフェノール、カテコール、ピロガール、ジヒドロキシナフタレンに代表される芳香族ヒドロキシ化合物、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、ビス(2−エチル−4−メチル−イミダゾール)、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−アミノエチル−2−メチルイミダゾール、1−(シアノエチルアミノエチル)−2−メチルイ
ミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニル−4,5−ビス(シアノエトキシメチルイミダゾール)あるいはトリアジン付加型イミダゾール等に代表されるイミダゾール類等がある。また、シアネート樹脂の硬化触媒としては、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルトオクチル酸錫、オクチル酸コバルト等に代表される有機金属塩、銅アセチルアセトナート、アルミニウムアセチルアセトナート、コバルトアセチルアセトナート等に代表される有機金属錯体等がある。これらは単独で使用しても2種以上を併用してもよい。
In the resin composition used in the production method of the present invention, a curing catalyst can be used to accelerate the curing reaction of the curable resin.
Curing catalysts in the case of using a cyanate resin as the curable resin include, for example, tertiary amines such as triethylamine, tributylamine, quinoline, and isoquinoline, quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium chloride and tetrabutylammonium bromide, phenol, and nonylphenol. , Catechol, pyrogal, aromatic hydroxy compounds represented by dihydroxynaphthalene, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, bis (2-ethyl-4-methyl-imidazole), 2- Phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl 2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-aminoethyl-2-methylimidazole, 1- (cyanoethylaminoethyl) -2-methylimidazole, Examples include imidazoles represented by 1-cyanoethyl-2-phenyl-4,5-bis (cyanoethoxymethylimidazole) or triazine addition type imidazole. Also, as a curing catalyst for cyanate resin, organic metal salts typified by zinc naphthenate, cobalt naphthenate, tin octylate, cobalt octylate, etc., copper acetylacetonate, aluminum acetylacetonate, cobalt acetylacetonate, etc. Organometallic complexes and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

また、硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いる場合の硬化触媒としては、例えば、3級アミン化合物、イミダゾール化合物、ルイス酸などが挙げられる。これらは単独で使用しても2種以上を併用してもよい。   Moreover, as a curing catalyst when using an epoxy resin as curable resin, a tertiary amine compound, an imidazole compound, a Lewis acid, etc. are mentioned, for example. These may be used alone or in combination of two or more.

また、樹脂組成物にはこのほか、シート状絶縁樹脂層材料を製造する時に気泡の発生を防止するための消泡剤、多層プリント配線板の難燃性を向上させるための液状又は粉末の難燃剤、絶縁樹脂層材料の靭性、密着性を向上させ、取り扱い性をよくするための熱可塑性樹脂等を添加することもできる。
ここで用いられる熱可塑性樹脂としては特に限定されないが、例えば、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。
In addition to this, the resin composition also includes a defoaming agent for preventing the generation of bubbles when manufacturing the sheet-like insulating resin layer material, and a liquid or powder difficulty for improving the flame retardancy of the multilayer printed wiring board. A thermoplastic resin or the like for improving the toughness and adhesion of the flame retardant and the insulating resin layer material and improving the handleability can also be added.
The thermoplastic resin used here is not particularly limited, and examples thereof include polyamide resins, polyester resins, polyimide resins, polyurethane resins, polystyrene resins, acrylic resins, and silicone resins.

本発明の製造方法により多層プリント配線板を製造することにより、信頼性の高い多層プリント配線板を製造することができる理由は、以下のように考えられる。   The reason why a highly reliable multilayer printed wiring board can be manufactured by manufacturing a multilayer printed wiring board by the manufacturing method of the present invention is considered as follows.

本発明の製造方法で用いられる絶縁樹脂層材料は、硬化性樹脂を含有する樹脂組成物で構成され、示差走査熱量分析において、第1の発熱ピークと、これより高い温度に位置する第2の発熱ピークとを有する。
この絶縁樹脂層材料を、予め内層用導体回路が形成された内層回路基板上に積層一体化することにより、上記第1の硬化性樹脂の硬化反応を行い、内層回路基板に強固に接合した絶縁樹脂層を形成することができる。
次に、形成された絶縁樹脂層の外側表面に存在し、この段階では実質的に未硬化である第2の硬化性樹脂成分を、好ましくはデスミア処理等により除去することにより、絶縁樹脂層の表面側に微小な凹凸を高い均一性で形成することができる。
このようにして形成された凹凸形状は微小であり、大きな凹凸が実質的に存在しないため、この面にメッキ等により導体金属を付着させることにより、平滑性の高い外層回路を形成することができる。また、この外層回路の裏面側には、絶縁樹脂層表面の微小な凹凸形状と同じプロファイルが形成されるため、アンカー効果により絶縁樹脂層と外層回路との密着性を確保することができるとともに、外層回路を形成する部位によらず、この密着強度を実質的に一定にすることができる。
そして、外層回路を形成後に好ましくは所定の条件で熱処理を行うことにより、第2の硬化性樹脂の硬化反応を行うとともに、外層回路のアニーリング処理を行うことができる。これにより、外層回路と絶縁樹脂層との密着性を向上させることができるとともに、その後の熱履歴によってもこれを安定なものとすることができる。
このようにして、信頼性の高い多層プリント配線板を製造することができる。
The insulating resin layer material used in the production method of the present invention is composed of a resin composition containing a curable resin, and in the differential scanning calorimetry, the first exothermic peak and the second temperature located at a higher temperature than this. It has an exothermic peak.
The insulating resin layer material is laminated and integrated on the inner layer circuit board on which the inner layer conductor circuit is formed in advance, thereby performing the curing reaction of the first curable resin and firmly bonding to the inner layer circuit board. A resin layer can be formed.
Next, the second curable resin component that is present on the outer surface of the formed insulating resin layer and is substantially uncured at this stage is preferably removed by desmearing or the like to thereby remove the insulating resin layer. Fine irregularities can be formed on the surface side with high uniformity.
Since the concavo-convex shape formed in this way is minute and there is substantially no large concavo-convex shape, a highly smooth outer layer circuit can be formed by attaching a conductive metal to the surface by plating or the like. . In addition, since the same profile as the minute uneven shape on the surface of the insulating resin layer is formed on the back surface side of the outer layer circuit, the adhesion between the insulating resin layer and the outer circuit can be ensured by the anchor effect, This adhesion strength can be made substantially constant regardless of the site where the outer layer circuit is formed.
Then, after the outer layer circuit is formed, the second curable resin can be cured and the outer layer circuit can be annealed by performing heat treatment preferably under a predetermined condition. As a result, the adhesion between the outer layer circuit and the insulating resin layer can be improved, and this can be stabilized by the subsequent thermal history.
In this way, a highly reliable multilayer printed wiring board can be manufactured.

以下、本発明を実施例および比較例により詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples.

実施例及び比較例において用いた原材料は以下の通りである。
(1)シアネート樹脂A/ノボラック型シアネート樹脂:ロンザ社製・「プリマセットPT−30」、重量平均分子量700
(2)シアネート樹脂B/ノボラック型シアネート樹脂B:ロンザ社製・「プリマセット
PT−60」、重量平均分子量2600
(3)エポキシ樹脂A/ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂:日本化薬社製・「NC−3000P」、エポキシ当量275
(4)エポキシ樹脂B/ビスフェノールF型エポキシ樹脂:日本化薬社製・「RE−404S」、エポキシ当量165
(5)フェノキシ樹脂/ビスフェノールF型フェノキシ樹脂:ジャパンエポキシレジン社製・「エピコート4010P」、数平均分子量6000
(6)硬化触媒/イミダゾール化合物:四国化成工業社製・「2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール」
(7)無機充填材/球状溶融シリカ:アドマテックス社製・「SO−25H」、平均粒径0.5μm
(8)カップリング剤/エポキシシランカップリング剤:日本ユニカー社製・「A−187」
The raw materials used in Examples and Comparative Examples are as follows.
(1) Cyanate resin A / Novolac type cyanate resin: “Primaset PT-30” manufactured by Lonza Corporation, weight average molecular weight 700
(2) Cyanate Resin B / Novolac Cyanate Resin B: “Primaset PT-60” manufactured by Lonza Corporation, weight average molecular weight 2600
(3) Epoxy resin A / biphenyl dimethylene type epoxy resin: Nippon Kayaku Co., Ltd. “NC-3000P”, epoxy equivalent 275
(4) Epoxy resin B / bisphenol F type epoxy resin: “RE-404S” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent 165
(5) Phenoxy resin / bisphenol F type phenoxy resin: “Epicoat 4010P” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., number average molecular weight 6000
(6) Curing catalyst / imidazole compound: “2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole” manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.
(7) Inorganic filler / spherical fused silica: manufactured by Admatechs Co., Ltd. “SO-25H”, average particle size 0.5 μm
(8) Coupling agent / epoxysilane coupling agent: Nippon Unicar Co., Ltd. “A-187”

<実施例1>
1.樹脂組成物ワニスの調製
第1の硬化性樹脂として、シアネート樹脂A14.5重量部と、シアネート樹脂B10重量部とを用いた。第2の硬化性樹脂として、エポキシ樹脂A35重量部を用いた。これに、硬化触媒0.5重量部を配合し、メチルエチルケトンに溶解、分散させた。
さらに、無機充填材39.8重量部、カップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分60重量%の樹脂組成物ワニスを得た。
<Example 1>
1. Preparation of Resin Composition Varnish As the first curable resin, 14.5 parts by weight of cyanate resin A and 10 parts by weight of cyanate resin B were used. As the second curable resin, 35 parts by weight of epoxy resin A was used. This was mixed with 0.5 part by weight of a curing catalyst and dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone.
Furthermore, 39.8 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 parts by weight of a coupling agent were added and stirred for 10 minutes using a high-speed stirring device to obtain a resin composition varnish having a solid content of 60% by weight.

2.絶縁樹脂層材料の製造
基材として、厚さ25μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、コンマコーター装置にて、乾燥後の絶縁樹脂層材料厚さが50μmとなるように上記樹脂組成物ワニスを塗工し、150℃で5分間乾燥して基材付き絶縁樹脂層材料を得た。
2. Production of Insulating Resin Layer Material Using a 25 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film as a base material, the above-mentioned resin composition varnish is used in a comma coater device so that the insulating resin layer material thickness after drying is 50 μm. It was coated and dried at 150 ° C. for 5 minutes to obtain an insulating resin layer material with a substrate.

3.多層プリント配線板の製造
下記(1)〜(5)の工程により、内層回路基板の両面側に上記で得られた絶縁樹脂層材料を積層し、4層の多層プリント配線板を得た。
(1)所定の内層回路が両面に形成された内層回路基板(銅箔厚み18μm、L/S=100/100μm、クリアランスホール1mmφ、3mmφ、スリット2mm)の表裏に、上記で得られた絶縁樹脂層材料を1枚ずつ重ね合わせ、これを真空ラミネーター装置(日立化成社製 HLM−V570)を用いて80℃でロールラミネートした後、150℃に設定した乾燥機中で30分間加熱して、絶縁樹脂層を形成した。
(2)炭酸ガスレーザを用いて、100μmのビアホールを形成し、内外層の接続部を設けた後、基材付き絶縁樹脂層から基材を剥離した。
(3)内層回路基板上に形成された絶縁樹脂層の表面を、下記の工程でデスミア処理して、絶縁樹脂層の表面に微小な凹凸を形成した。
(ア)膨潤:80℃/10分間(シプレイ社製・「MLB−211」)
(イ)粗化:80℃/10分間(シプレイ社製・「プロモーター213A、213B」)
(ウ)中和:50℃/10分間(シプレイ社製・「ニュートライザー216」)
(4)上記(3)で形成した凹凸面に、銅メッキを行い、所定の外層回路(回路厚み20μm、L/S=50/50μm)を形成した。
(5)温度200℃で60分間熱処理し、所定の導体パターンを有する4層多層プリント配線板を作製した。
3. Production of Multilayer Printed Wiring Board By the following steps (1) to (5), the insulating resin layer material obtained above was laminated on both sides of the inner circuit board to obtain a four-layer multilayer printed wiring board.
(1) Insulating resin obtained above on the front and back of an inner layer circuit board (copper foil thickness 18 μm, L / S = 100/100 μm, clearance holes 1 mmφ, 3 mmφ, slit 2 mm) on which both predetermined inner layer circuits are formed Layer materials are stacked one by one, and this is roll laminated at 80 ° C. using a vacuum laminator (HLM-V570, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), and then heated for 30 minutes in a drier set at 150 ° C. for insulation. A resin layer was formed.
(2) Using a carbon dioxide gas laser, a via hole of 100 μm was formed, and after connecting the inner and outer layers, the substrate was peeled from the insulating resin layer with the substrate.
(3) The surface of the insulating resin layer formed on the inner layer circuit board was desmeared in the following steps to form minute irregularities on the surface of the insulating resin layer.
(A) Swelling: 80 ° C./10 minutes (manufactured by Shipley, “MLB-211”)
(I) Roughening: 80 ° C./10 minutes (manufactured by Shipley, “Promoter 213A, 213B”)
(C) Neutralization: 50 ° C./10 minutes (manufactured by Shipley Co., Ltd., “New Trizer 216”)
(4) Copper plating was performed on the concavo-convex surface formed in (3) above to form a predetermined outer layer circuit (circuit thickness 20 μm, L / S = 50/50 μm).
(5) A heat treatment was performed at a temperature of 200 ° C. for 60 minutes to prepare a four-layer multilayer printed wiring board having a predetermined conductor pattern.

<実施例2>
第1の硬化性樹脂として、シアネート樹脂A15.5重量部を用いた。第2の硬化性樹
脂として、エポキシ樹脂A24重量部を用いた。これに、硬化触媒0.5重量部を配合し、メチルエチルケトンに溶解、分散させた。
さらに、無機充填材59.7重量部、カップリング剤0.3重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分60重量%の樹脂組成物ワニスを得た。
この樹脂組成物ワニスを用いて、実施例1と同様にして絶縁樹脂層材料及び多層プリント配線板を得た。
<Example 2>
As the first curable resin, 15.5 parts by weight of cyanate resin A was used. As the second curable resin, 24 parts by weight of epoxy resin A was used. This was mixed with 0.5 part by weight of a curing catalyst and dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone.
Furthermore, 59.7 parts by weight of an inorganic filler and 0.3 part by weight of a coupling agent were added and stirred for 10 minutes using a high-speed stirring device to obtain a resin composition varnish having a solid content of 60% by weight.
Using this resin composition varnish, an insulating resin layer material and a multilayer printed wiring board were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例3>
第1の硬化性樹脂として、シアネート樹脂A24.5重量部を用いた。第2の硬化性樹脂として、エポキシ樹脂A25重量部を用いた。このほか、硬化性樹脂としてフェノキシ樹脂10重量部を用いた。これに、硬化触媒0.5重量部を配合し、メチルエチルケトンに溶解、分散させた。
さらに、無機充填材39.8重量部、カップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分60重量%の樹脂組成物ワニスを得た。
この樹脂組成物ワニスを用いて、実施例1と同様にして絶縁樹脂層材料及び多層プリント配線板を得た。
<Example 3>
As the first curable resin, 24.5 parts by weight of cyanate resin A was used. As the second curable resin, 25 parts by weight of epoxy resin A was used. In addition, 10 parts by weight of phenoxy resin was used as the curable resin. This was mixed with 0.5 part by weight of a curing catalyst and dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone.
Furthermore, 39.8 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 parts by weight of a coupling agent were added and stirred for 10 minutes using a high-speed stirring device to obtain a resin composition varnish having a solid content of 60% by weight.
Using this resin composition varnish, an insulating resin layer material and a multilayer printed wiring board were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例4>
第1の硬化性樹脂として、シアネート樹脂A10重量部を用いた。第2の硬化性樹脂として、エポキシ樹脂A34.5重量部を用いた。これに、硬化触媒0.5重量部を配合し、メチルエチルケトンに溶解、分散させた。
さらに、無機充填材54.7重量部、カップリング剤0.3重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分60重量%の樹脂組成物ワニスを得た。
この樹脂組成物ワニスを用いて、実施例1と同様にして絶縁樹脂層材料及び多層プリント配線板を得た。
<Example 4>
As the first curable resin, 10 parts by weight of cyanate resin A was used. As the second curable resin, 34.5 parts by weight of epoxy resin A was used. This was mixed with 0.5 part by weight of a curing catalyst and dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone.
Furthermore, 54.7 parts by weight of an inorganic filler and 0.3 part by weight of a coupling agent were added and stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to obtain a resin composition varnish having a solid content of 60% by weight.
Using this resin composition varnish, an insulating resin layer material and a multilayer printed wiring board were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例5>
第1の硬化性樹脂として、シアネート樹脂A19.5重量部と、シアネート樹脂B20重量部とを用いた。第2の硬化性樹脂として、エポキシ樹脂A20重量部を用いた。これに、硬化触媒0.5重量部を配合し、メチルエチルケトンに溶解、分散させた。
さらに、無機充填材39.8重量部、カップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分60重量%の樹脂組成物ワニスを得た。
この樹脂組成物ワニスを用いて、実施例1と同様にして絶縁樹脂層材料及び多層プリント配線板を得た。
<Example 5>
As the first curable resin, 19.5 parts by weight of cyanate resin A and 20 parts by weight of cyanate resin B were used. As the second curable resin, 20 parts by weight of epoxy resin A was used. This was mixed with 0.5 part by weight of a curing catalyst and dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone.
Furthermore, 39.8 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 parts by weight of a coupling agent were added and stirred for 10 minutes using a high-speed stirring device to obtain a resin composition varnish having a solid content of 60% by weight.
Using this resin composition varnish, an insulating resin layer material and a multilayer printed wiring board were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例6>
第1の硬化性樹脂として、シアネート樹脂A24.5重量部を用いた。第2の硬化性樹脂として、エポキシ樹脂A20重量部を用いた。これに、硬化触媒0.5重量部を配合し、メチルエチルケトンに溶解、分散させた。
さらに、無機充填材54.7重量部、カップリング剤0.3重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分60重量%の樹脂組成物ワニスを得た。
この樹脂組成物ワニスを用いて、実施例1と同様にして絶縁樹脂層材料及び多層プリント配線板を得た。
<Example 6>
As the first curable resin, 24.5 parts by weight of cyanate resin A was used. As the second curable resin, 20 parts by weight of epoxy resin A was used. This was mixed with 0.5 part by weight of a curing catalyst and dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone.
Furthermore, 54.7 parts by weight of an inorganic filler and 0.3 part by weight of a coupling agent were added and stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to obtain a resin composition varnish having a solid content of 60% by weight.
Using this resin composition varnish, an insulating resin layer material and a multilayer printed wiring board were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例7>
第1の硬化性樹脂として、シアネート樹脂A19.5重量部を用いた。第2の硬化性樹脂として、エポキシ樹脂A45重量部を用いた。これに、硬化触媒0.5重量部を配合し、メチルエチルケトンに溶解、分散させた。
さらに、無機充填材34.8重量部、カップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分60重量%の樹脂組成物ワニスを得た。
この樹脂組成物ワニスを用いて、実施例1と同様にして絶縁樹脂層材料及び多層プリント配線板を得た。
<Example 7>
As the first curable resin, 19.5 parts by weight of cyanate resin A was used. As the second curable resin, 45 parts by weight of epoxy resin A was used. This was mixed with 0.5 part by weight of a curing catalyst and dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone.
Furthermore, 34.8 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added and stirred for 10 minutes using a high speed stirring device to obtain a resin composition varnish having a solid content of 60% by weight.
Using this resin composition varnish, an insulating resin layer material and a multilayer printed wiring board were obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例1>
エポキシ樹脂B20重量部、フェノキシ樹脂48重量部、硬化触媒2重量部を配合し、メチルエチルケトンに溶解、分散させた。
さらに、無機充填材29.8重量部、カップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、樹脂組成物ワニスを得た。
この樹脂組成物ワニスを用いて、実施例1と同様にして絶縁樹脂層材料及び多層プリント配線板を得た。
<Comparative Example 1>
20 parts by weight of epoxy resin B, 48 parts by weight of phenoxy resin, and 2 parts by weight of curing catalyst were blended and dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone.
Furthermore, 29.8 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added and stirred for 10 minutes using a high speed stirring device to obtain a resin composition varnish.
Using this resin composition varnish, an insulating resin layer material and a multilayer printed wiring board were obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例2>
エポキシ樹脂A25重量部、エポキシ樹脂B20重量部、フェノキシ樹脂23重量部、硬化触媒2重量部を配合し、メチルエチルケトンに溶解、分散させた。
さらに、無機充填材29.8重量部、カップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、樹脂組成物ワニスを得た。
この樹脂組成物ワニスを用いて、実施例1と同様にして絶縁樹脂層材料及び多層プリント配線板を得た。
<Comparative example 2>
25 parts by weight of epoxy resin A, 20 parts by weight of epoxy resin B, 23 parts by weight of phenoxy resin, and 2 parts by weight of a curing catalyst were blended and dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone.
Furthermore, 29.8 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added and stirred for 10 minutes using a high speed stirring device to obtain a resin composition varnish.
Using this resin composition varnish, an insulating resin layer material and a multilayer printed wiring board were obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例3>
シアネート樹脂A24.5重量部、シアネート樹脂B25重量部、フェノキシ樹脂10重量部、硬化触媒0.5重量部を配合し、メチルエチルケトンに溶解、分散させた。
さらに、無機充填材39.8重量部、カップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、樹脂組成物ワニスを得た。
この樹脂組成物ワニスを用いて、実施例1と同様にして絶縁樹脂層材料及び多層プリント配線板を得た。
<Comparative Example 3>
24.5 parts by weight of cyanate resin A, 25 parts by weight of cyanate resin B, 10 parts by weight of phenoxy resin, and 0.5 parts by weight of a curing catalyst were blended and dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone.
Furthermore, 39.8 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added and stirred for 10 minutes using a high speed stirring device to obtain a resin composition varnish.
Using this resin composition varnish, an insulating resin layer material and a multilayer printed wiring board were obtained in the same manner as in Example 1.

実施例及び、比較例で得られた絶縁樹脂層材料と多層プリント配線板について、下記の評価を以下の方法で行った。得られた結果を表1に示す。   The following evaluation was performed by the following methods for the insulating resin layer materials and multilayer printed wiring boards obtained in the examples and comparative examples. The obtained results are shown in Table 1.

Figure 2005286089
Figure 2005286089

1.絶縁樹脂層材料の評価方法
(1)示差走査熱量分析
示差走査熱量分析装置(TAインスツルメント社製)を用いて、昇温速度10℃/分で実施した。実施例1で得られた絶縁樹脂層材料を分析した際のDSC曲線を図1に、比較例1で得られた絶縁樹脂層材料を分析した際のDSC曲線を図2に示す。
DSC曲線から、実施例については第1及び第2の発熱ピークを示す温度を読み取った。比較例については発熱ピークが一つであったので、そのピークを示す温度を読み取った。
1. Evaluation Method for Insulating Resin Layer Material (1) Differential Scanning Calorimetry Analysis Using a differential scanning calorimeter (TA Instruments), the temperature rising rate was 10 ° C./min. The DSC curve when analyzing the insulating resin layer material obtained in Example 1 is shown in FIG. 1, and the DSC curve when analyzing the insulating resin layer material obtained in Comparative Example 1 is shown in FIG.
From the DSC curve, the temperature showing the first and second exothermic peaks was read for the examples. Since the comparative example had one exothermic peak, the temperature indicating the peak was read.

(2)熱時弾性率、ガラス転移温度
絶縁樹脂層材料1枚の両面側に、18μm厚みの銅箔を積層して、真空プレス装置により、圧力2.5MPa、温度200℃で90分間加熱加圧成形を行った後、銅箔を両面全面エッチング除去して、絶縁樹脂層材料の硬化物を得た。
得られた絶縁樹脂層材料の硬化物から、5×25mmの試料を作成した。これをDMA装置(TAインスツルメンツ社製)により、5℃/分で昇温して、200℃及び250℃での貯蔵弾性率をそれぞれ測定し、tanδのピーク位置をガラス転移温度とした。
(2) Thermal elastic modulus, glass transition temperature 18 μm thick copper foil was laminated on both sides of one insulating resin layer material, and heated for 90 minutes at a pressure of 2.5 MPa and a temperature of 200 ° C. with a vacuum press. After performing the pressure molding, the copper foil was entirely etched away on both sides to obtain a cured product of the insulating resin layer material.
A 5 × 25 mm sample was prepared from the cured product of the obtained insulating resin layer material. This was heated at 5 ° C./min by a DMA apparatus (manufactured by TA Instruments), the storage elastic moduli at 200 ° C. and 250 ° C. were measured, and the peak position of tan δ was defined as the glass transition temperature.

(3)線膨張係数
上記(2)で得られた絶縁樹脂層材料の硬化物から、4×20mmの試料を作成した。これを用いて、TMA装置(TAインスツルメンツ社製)により、10℃/分で昇温して、50〜150℃の熱膨張率を測定した。
(3) Linear expansion coefficient A 4 x 20 mm sample was prepared from the cured product of the insulating resin layer material obtained in (2) above. Using this, it heated up at 10 degree-C / min with the TMA apparatus (made by TA Instruments), and measured the thermal expansion coefficient of 50-150 degreeC.

(4)引張り強度
上記(2)で得られた絶縁樹脂層材料の硬化物から、12.5×190mmの試料を作成した。これを用いて、JIS K 7161 に準拠して試験速度50mm/minで行った。
(4) Tensile strength A sample of 12.5 × 190 mm was prepared from the cured product of the insulating resin layer material obtained in (2) above. Using this, it was carried out at a test speed of 50 mm / min according to JIS K 7161.

(5)誘電率、誘電正接
絶縁樹脂層材料を、加熱加圧成形後の厚みが1mmとなるように積層し、その両面側に、18μm厚みの銅箔を積層して、真空プレス装置により、圧力2.5MPa、温度200℃で90分間加熱加圧成形を行った後、銅箔を両面全面エッチング除去して、絶縁樹脂層材料の硬化物を得た。
得られた絶縁樹脂層材料の硬化物から、97×25mm、53×25mm、37×25mmの試料を作成した。これを用いてトリプレート線路共振法により測定した。
(5) Dielectric constant, dielectric loss tangent Insulating resin layer material is laminated so that the thickness after heat and pressure molding is 1 mm, 18 μm thick copper foil is laminated on both sides thereof, and a vacuum press apparatus is used. After performing heat and pressure molding at a pressure of 2.5 MPa and a temperature of 200 ° C. for 90 minutes, the copper foil was entirely etched away on both sides to obtain a cured product of an insulating resin layer material.
Samples of 97 × 25 mm, 53 × 25 mm, and 37 × 25 mm were prepared from the obtained cured product of the insulating resin layer material. Using this, measurement was performed by the triplate line resonance method.

2.多層プリント配線板の評価
(1)表面粗さ(外層回路作製時)
内層回路基板上に形成された絶縁樹脂層の表面に微小な凹凸を形成した後、この面の表面粗さを、JIS B 0601に準拠して、接触式表面粗さ計により測定し、基準長さ8mmにおけるRmax(最大高さ)と、Ra(平均粗さ)で表示した。
2. Evaluation of multilayer printed wiring board (1) Surface roughness (when manufacturing outer layer circuit)
After forming minute irregularities on the surface of the insulating resin layer formed on the inner circuit board, the surface roughness of this surface is measured with a contact surface roughness meter in accordance with JIS B 0601, and the reference length Rmax (maximum height) at 8 mm and Ra (average roughness) are displayed.

(2)成形性
多層プリント配線板を目視で観察し、成形ボイドの有無を確認した。
(2) Formability The multilayer printed wiring board was visually observed to check for the presence of molding voids.

(3)外層回路の形状
多層プリント配線板に形成した外層回路を観察した。符号は下記の通りである。
○:50μm幅回路の剥離などがなく、良好。
×:50μm幅回路の一部剥離が発生。
(3) Shape of outer layer circuit The outer layer circuit formed on the multilayer printed wiring board was observed. The symbols are as follows.
◯: Good with no peeling of the 50 μm width circuit.
×: Partial peeling of the 50 μm wide circuit occurred.

(4)外層回路の引き剥がし強さ
多層プリント配線板の外層回路(10mm幅)の引き剥がし強さを、5箇所において、JIS K 6911 に準拠して測定し、平均値を算出した。
(4) Peeling strength of outer layer circuit The peeling strength of the outer layer circuit (10 mm width) of the multilayer printed wiring board was measured in accordance with JIS K 6911 at five locations, and the average value was calculated.

(5)吸湿半田耐熱性
多層プリント配線板より、50×50mmの試料を作成した。これを、125℃のプレッシャークッカーで2時間処理した後、260℃の半田層に180秒間浸漬して、ふくれ、はがれの有無を観察した。
(5) Hygroscopic solder heat resistance A 50 × 50 mm sample was prepared from a multilayer printed wiring board. This was treated with a pressure cooker at 125 ° C. for 2 hours and then immersed in a solder layer at 260 ° C. for 180 seconds to observe the presence or absence of blistering or peeling.

実施例1〜7は、示差走査熱量分析において、第1の発熱ピークと、これより高い温度に位置する第2の発熱ピークとを有する絶縁樹脂層材料を用いて、本発明の製造方法により得られた多層プリント配線板であり、外層回路形成面の表面平滑性に優れ、外層回路の引き剥がし強さも充分な水準を有し、安定したものであった。
一方、比較例はいずれも、示差走査熱量分析において1つの発熱ピークしか有さない絶縁樹脂層材料を用いたが、比較例1〜2は、絶縁樹脂層のTgが低く、熱時弾性率は測定できなかった。そして、外層回路形成面を粗化処理した際に、粗化が表面全体に進行して不均一で大きな凹凸しか形成できず、表面粗さが増大した。そして、形成した外層回路の引き剥がし強さが低下し、回路の一部には剥離が発生した。また、比較例3は、外層回路形成時に絶縁樹脂層が実質的に完全に硬化していたため、粗化処理を行うことができず、外層回路を形成することもできなかった。
Examples 1 to 7 are obtained by the manufacturing method of the present invention using an insulating resin layer material having a first exothermic peak and a second exothermic peak located at a higher temperature in the differential scanning calorimetry. The multilayer printed wiring board thus obtained was excellent in surface smoothness on the outer layer circuit formation surface and had a sufficient level of peeling strength of the outer layer circuit, and was stable.
On the other hand, all the comparative examples used the insulating resin layer material having only one exothermic peak in the differential scanning calorimetry, but in Comparative Examples 1 and 2, the insulating resin layer had a low Tg and the thermal elastic modulus was It was not possible to measure. Then, when the outer layer circuit formation surface was roughened, the roughening progressed to the entire surface, so that only uneven and large irregularities could be formed, and the surface roughness increased. And the peeling strength of the formed outer layer circuit was lowered, and peeling occurred in a part of the circuit. In Comparative Example 3, since the insulating resin layer was substantially completely cured when the outer layer circuit was formed, the roughening treatment could not be performed and the outer layer circuit could not be formed.

本発明の製造方法は、特に、ファインピッチ化、高密度配線化に対応できる多層プリント配線板の製造に好適に用いることができるものである。
そして、本発明の製造方法により得られた多層プリント配線板は、このような高密度集積化、高密度実装化に対応できる多層プリント配線配線板として好適に用いることができるものである。
The manufacturing method of the present invention can be suitably used for manufacturing a multilayer printed wiring board that can cope with fine pitch and high density wiring.
And the multilayer printed wiring board obtained by the manufacturing method of this invention can be used suitably as a multilayer printed wiring wiring board which can respond to such high-density integration and high-density mounting.

実施例1で得られた絶縁樹脂層材料を分析した際のDSC曲線DSC curve when the insulating resin layer material obtained in Example 1 was analyzed 比較例1で得られた絶縁樹脂層材料を分析した際のDSC曲線DSC curve when the insulating resin layer material obtained in Comparative Example 1 was analyzed

Claims (7)

予め内層用導体回路が形成された内層回路基板の表面に絶縁樹脂層を形成し、該絶縁樹脂層の外側表面に外層導体回路を形成することにより多層プリント配線板を製造する方法であって、
(a)硬化性樹脂を含有する樹脂組成物から形成され、示差走査熱量分析において、第1の発熱ピークと、これより高い温度に位置する第2の発熱ピークとを有する絶縁樹脂層材料を、前記内層回路基板上に積層一体化して、前記内層回路基板上に絶縁樹脂層を形成する工程、
(b)前記絶縁樹脂層の外側表面に凹凸形状を形成する工程、
(c)前記形成された凹凸形状面上に、外層導体回路を形成する工程、及び、
(d)前記外層導体回路を形成後に加熱処理を行う工程、
を有することを特徴とする、多層プリント配線板の製造方法。
A method of manufacturing a multilayer printed wiring board by forming an insulating resin layer on the surface of an inner layer circuit board on which an inner layer conductor circuit has been formed in advance, and forming an outer layer conductor circuit on the outer surface of the insulating resin layer,
(A) Insulating resin layer material formed from a resin composition containing a curable resin and having a first exothermic peak and a second exothermic peak located at a higher temperature in differential scanning calorimetry, A step of stacking and integrating on the inner layer circuit board to form an insulating resin layer on the inner layer circuit board;
(B) forming an uneven shape on the outer surface of the insulating resin layer;
(C) forming an outer layer conductor circuit on the formed concavo-convex shape surface; and
(D) a step of performing a heat treatment after forming the outer layer conductor circuit;
A method for producing a multilayer printed wiring board, comprising:
前記(a)工程において、前記絶縁樹脂層材料は、硬化性樹脂として、前記第1の発熱ピークを発現する第1の硬化性樹脂と、前記第2の発熱ピークを発現する第2の硬化性樹脂とを含有するものである請求項1に記載の多層プリント配線板の製造方法。 In the step (a), the insulating resin layer material includes a first curable resin that exhibits the first exothermic peak and a second curable resin that exhibits the second exothermic peak as a curable resin. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, comprising a resin. 前記(a)工程において、実質的に前記第1の硬化性樹脂の硬化反応を行う請求項1又は2に記載の多層プリント配線板の製造方法。 The manufacturing method of the multilayer printed wiring board of Claim 1 or 2 which substantially performs hardening reaction of the said 1st curable resin in the said (a) process. 前記(b)工程において、デスミア処理により、前記絶縁樹脂層の外側表面部位から前記第2の硬化性樹脂成分を硬化反応前に除去することにより、絶縁樹脂層の外側表面に凹凸形状を形成する請求項1ないし3のいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。 In the step (b), a concavo-convex shape is formed on the outer surface of the insulating resin layer by removing the second curable resin component from the outer surface portion of the insulating resin layer by a desmear treatment before the curing reaction. The manufacturing method of the multilayer printed wiring board in any one of Claim 1 thru | or 3. 前記(d)工程において、実質的に前記第2の硬化性樹脂の硬化反応を行う請求項1ないし4のいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。 The manufacturing method of the multilayer printed wiring board in any one of Claim 1 thru | or 4 which substantially performs hardening reaction of said 2nd curable resin in said (d) process. 前記第1の発熱ピークは、120〜200℃の範囲内にある請求項1ないし5のいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。 The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the first exothermic peak is in a range of 120 to 200 ° C. 6. 前記第2の発熱ピークは、150〜250℃の範囲内にある請求項1ないし6のいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。 The method for producing a multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 6, wherein the second exothermic peak is in a range of 150 to 250 ° C.
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