JP2012019240A - Resin composite, insulation sheet with substrate and multilayer printed wiring board - Google Patents

Resin composite, insulation sheet with substrate and multilayer printed wiring board Download PDF

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JP2012019240A JP2011224459A JP2011224459A JP2012019240A JP 2012019240 A JP2012019240 A JP 2012019240A JP 2011224459 A JP2011224459 A JP 2011224459A JP 2011224459 A JP2011224459 A JP 2011224459A JP 2012019240 A JP2012019240 A JP 2012019240A
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Masataka Arai
政貴 新井
Takeshi Hozumi
猛 八月朔日
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composite enables manufacture of a multilayer printed wiring board in which peeling and a crack do not occur in a thermal shock test such as a cold and heat cycle and which has high thermal resistance, low thermal expansion property and flame retardancy when the resin composite is used for an insulating layer of the multilayer printed wiring board, and to provide an insulation sheet with a substrate using the resin composite and a multilayer printed wiring board.SOLUTION: A resin composite used for forming an insulating layer of a multilayer printed wiring board includes (A) cyanate resin and/or its prepolymer, (B) epoxy resin, (C) phenoxy resin, (D) imidazole compound, and (E) inorganic filler. The (D) imidazole compound has mutual solubility with (A) to (C) components.

Description

本発明は、樹脂組成物、基材付き絶縁シート、および多層プリント配線板に関するものである。   The present invention relates to a resin composition, an insulating sheet with a substrate, and a multilayer printed wiring board.

近年、電子機器の高機能化等の要求に伴い、電子部品の高密度集積化、更には高密度実装化等が進んでおり、これらに使用される高密度実装対応のプリント配線板等は、従来にも増して、小型化かつ高密度化が進んでいる。このプリント配線板等の高密度化への対応として、ビルドアップ方式による多層プリント配線板が多く採用されている(例えば、特許文献1参照。)。   In recent years, with the demand for higher functionality of electronic devices, etc., high-density integration of electronic components, and further high-density mounting, etc. are progressing. Compared to the conventional technology, miniaturization and high density are progressing. As a measure for increasing the density of printed wiring boards and the like, a multilayer printed wiring board using a build-up method is often employed (for example, see Patent Document 1).

ビルドアップ方式による多層プリント配線板は、通常、樹脂組成物で構成される厚さ100μm以下の絶縁層と導体回路層とを積層成形して製造される。また、導体回路層間の接続方法としては、従来のドリル加工に代わって、レーザー法、フォト法等によるビアホールの形成が挙げられる。これらの方法は、小径のビアホールを自由に配置することで高密度化を達成するものであり、各々の方法に対応した各種ビルドアップ用層間絶縁材料が提案されている。   A multilayer printed wiring board by a build-up method is usually manufactured by laminating an insulating layer made of a resin composition and having a thickness of 100 μm or less and a conductor circuit layer. Moreover, as a connection method between conductor circuit layers, the formation of a via hole by a laser method, a photo method, or the like can be cited instead of the conventional drilling process. These methods achieve high density by freely arranging small-diameter via holes, and various build-up interlayer insulating materials corresponding to each method have been proposed.

さらに、高密度化のためには微細回路形成が必要になるが、それを達成する技術としてはセミアディティブ法が広く知られている。セミアディティブ法は、絶縁層表面の粗化処理に続き、下地となる無電解めっき処理を施し、めっきレジストにより被回路形成部を保護した後、電気めっきにより回路形成部の銅厚付けを行い、レジスト除去とソフトエッチングにより絶縁層上に導体回路を形成する方法である。
このとき、絶縁層とめっき金属との密着性は、粗化処理により形成される絶縁層表面の凹凸形状が大きな要因を占め、凹凸が大きすぎると、微細回路形成は難しくなり、めっき金属の密着性も低下する。
また、ビルドアップ多層配線板による方法では、微細なビアにより導体回路層間が接続されるため、接続強度が低下し、場合によっては熱衝撃を受けると絶縁層を形成する樹脂組成物と導体回路を形成する金属との熱膨張差から発生する応力により、導体回路にクラックや断線が発生するという問題点があった。
Furthermore, fine circuit formation is necessary for increasing the density, and a semi-additive method is widely known as a technique for achieving this. In the semi-additive method, following the roughening treatment of the surface of the insulating layer, the substrate is subjected to electroless plating treatment, the circuit formation portion is protected with a plating resist, and then the copper thickness of the circuit formation portion is increased by electroplating, In this method, a conductor circuit is formed on an insulating layer by resist removal and soft etching.
At this time, the adhesion between the insulating layer and the plated metal is largely due to the uneven shape of the surface of the insulating layer formed by the roughening treatment. If the unevenness is too large, it is difficult to form a fine circuit, and the adhesion of the plated metal is difficult. The nature is also reduced.
Also, in the method using the build-up multilayer wiring board, the conductive circuit layers are connected by fine vias, so that the connection strength is lowered, and in some cases, the resin composition and the conductive circuit that form an insulating layer when subjected to thermal shock There was a problem that cracks and disconnections occurred in the conductor circuit due to the stress generated from the difference in thermal expansion from the metal to be formed.

特開平07−106767号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-106767

本発明は、多層プリント配線板の絶縁層に用いた場合に、冷熱サイクル等の熱衝撃試験により、導体回路層の剥離やクラックが発生しない高耐熱性、低熱膨張性とともに、難燃性を有し、高密度な微細回路形成が可能な多層プリント配線板を製造することができる樹脂組成物と、これを用いた基材付き絶縁シート、及び、多層プリント配線板を提供するものである。   The present invention, when used in an insulating layer of a multilayer printed wiring board, has high heat resistance and low thermal expansion properties that cause no peeling or cracking of the conductor circuit layer, and has flame retardancy by a thermal shock test such as a thermal cycle. The present invention provides a resin composition capable of producing a multilayer printed wiring board capable of forming a high-density fine circuit, an insulating sheet with a base material using the resin composition, and a multilayer printed wiring board.

このような目的は、下記の本発明(1)〜(7)により達成される。
(1)多層プリント配線板の絶縁層を形成するために用いられる樹脂組成物であって、
(A)シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマー、
(B)エポキシ樹脂、
(C)フェノキシ樹脂、
(D)イミダゾール化合物、及び、
(E)無機充填材、
を含有し、上記(D)イミダゾール化合物は、上記(A)〜(C)成分との相溶性を有することを特徴とする樹脂組成物。
(2)上記(A)シアネート樹脂は、ノボラック型シアネート樹脂である上記(1)に記載の樹脂組成物。
(3)上記(B)エポキシ樹脂は、アリールアルキレン型エポキシ樹脂である上記(1)又は(2)に記載の樹脂組成物。
(4)上記(D)イミダゾール化合物は、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、及び、2−エチル−4−メチルイミダゾールから選ばれるものである上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の樹脂組成物。
(5)上記(B)エポキシ樹脂、及び、(C)フェノキシ樹脂は、実質的にハロゲン原子を含まないものである上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の樹脂組成物。
(6)上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の樹脂組成物を、基材に担持させてなることを特徴とする基材付き絶縁シート。
(7)上記(6)に記載の基材付き絶縁シートを、内層回路板の片面または両面に重ね合わせて加熱加圧成形してなることを特徴とする多層プリント配線板。
Such an object is achieved by the following present inventions (1) to (7).
(1) A resin composition used for forming an insulating layer of a multilayer printed wiring board,
(A) cyanate resin and / or prepolymer thereof,
(B) epoxy resin,
(C) phenoxy resin,
(D) an imidazole compound, and
(E) inorganic filler,
And the (D) imidazole compound is compatible with the components (A) to (C).
(2) The resin composition according to (1), wherein the (A) cyanate resin is a novolak cyanate resin.
(3) The resin composition according to (1) or (2), wherein the (B) epoxy resin is an arylalkylene type epoxy resin.
(4) The (D) imidazole compound is selected from 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, and 2-ethyl-4-methylimidazole. (3) The resin composition in any one of.
(5) The resin composition according to any one of (1) to (4), wherein the (B) epoxy resin and (C) phenoxy resin do not substantially contain a halogen atom.
(6) An insulating sheet with a base material, wherein the resin composition according to any one of (1) to (5) is carried on a base material.
(7) A multilayer printed wiring board obtained by heating and press-molding the insulating sheet with a base material according to (6) above on one side or both sides of an inner layer circuit board.

本発明は、多層プリント配線板の絶縁層を形成するために用いられる樹脂組成物であって、
(A)シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマー、
(B)エポキシ樹脂、
(C)フェノキシ樹脂、
(D)イミダゾール化合物、及び、
(E)無機充填材、
を含有し、上記(D)イミダゾール化合物は、上記(A)〜(C)成分との相溶性を有することを特徴とする樹脂組成物である。
本発明の樹脂組成物を多層プリント配線板の絶縁層に用いることにより、冷熱サイクル等の熱衝撃試験において導体回路層の剥離やクラックが発生しない高耐熱性、低熱膨張性とともに、難燃性を有し、高密度な微細回路形成が可能な多層プリント配線板を製造することができる。
The present invention is a resin composition used for forming an insulating layer of a multilayer printed wiring board,
(A) cyanate resin and / or prepolymer thereof,
(B) epoxy resin,
(C) phenoxy resin,
(D) an imidazole compound, and
(E) inorganic filler,
The (D) imidazole compound is a resin composition characterized by having compatibility with the components (A) to (C).
By using the resin composition of the present invention for an insulating layer of a multilayer printed wiring board, in addition to high heat resistance and low thermal expansion that do not cause peeling or cracking of the conductor circuit layer in a thermal shock test such as a thermal cycle, it has flame resistance. It is possible to manufacture a multilayer printed wiring board having a high density and fine circuit formation.

以下に、本発明の樹脂組成物、基材付き絶縁シート、及び、多層プリント配線板について詳細に説明する。
本発明の樹脂組成物は、多層プリント配線板の絶縁層を形成するために用いられる樹脂組成物であって、
(A)シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマー、
(B)エポキシ樹脂、
(C)フェノキシ樹脂、
(D)イミダゾール化合物、及び、
(E)無機充填材、
を含有し、上記(D)イミダゾール化合物は、上記(A)〜(C)成分との相溶性を有することを特徴とするものである。
また、本発明の基材付き絶縁シートは、上記本発明の樹脂組成物を、基材に担持させてなることを特徴とするものである。
そして、本発明の多層プリント配線板は、上記本発明の基材付き絶縁シートを、内層回路板の片面または両面に重ね合わせて加熱加圧成形してなることを特徴とするものである。
Below, the resin composition of this invention, the insulating sheet with a base material, and a multilayer printed wiring board are demonstrated in detail.
The resin composition of the present invention is a resin composition used for forming an insulating layer of a multilayer printed wiring board,
(A) cyanate resin and / or prepolymer thereof,
(B) epoxy resin,
(C) phenoxy resin,
(D) an imidazole compound, and
(E) inorganic filler,
And the (D) imidazole compound has a compatibility with the components (A) to (C).
Moreover, the insulating sheet with a base material of the present invention is characterized in that the resin composition of the present invention is supported on a base material.
The multilayer printed wiring board of the present invention is characterized in that the above-mentioned insulating sheet with a substrate of the present invention is formed by heating and press-molding on one or both sides of the inner layer circuit board.

まず、本発明の樹脂組成物について説明する。
本発明の樹脂組成物は、(A)シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマーを含有する。これにより、難燃性を向上させることができる。
シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマーの入手方法としては特に限定されないが、例えば、ハロゲン化シアン化合物とフェノール類とを反応させ、必要に応じて加熱等の方法でプレポリマー化することにより得ることができる。また、このようにして調製された市販品を用いることもできる。
First, the resin composition of the present invention will be described.
The resin composition of the present invention contains (A) a cyanate resin and / or a prepolymer thereof. Thereby, a flame retardance can be improved.
The method for obtaining the cyanate resin and / or its prepolymer is not particularly limited. For example, the cyanate resin can be obtained by reacting a cyanogen halide with a phenol and prepolymerizing it by a method such as heating as necessary. it can. Moreover, the commercial item prepared in this way can also be used.

シアネート樹脂の種類としては特に限定されないが、例えば、ノボラック型シアネート樹脂、ビスフェノールA型シアネート樹脂、ビスフェノールE型シアネート樹脂、テトラメチルビスフェノールF型シアネート樹脂等のビスフェノール型シアネート樹脂等を挙げることができる。
これらの中でも、ノボラック型シアネート樹脂が好ましい。これにより、架橋密度の増加により耐熱性を向上させることができるとともに、難燃性をさらに向上させることができる。ノボラック型シアネート樹脂は、その構造上ベンゼン環の割合が高く、炭化しやすいためと考えられる。
なお、ノボラック型シアネート樹脂は、例えばノボラック型フェノール樹脂と、塩化シアン、臭化シアン等の化合物とを反応させることにより得ることができる。また、このようにして調製された市販品を用いることもできる。
Although it does not specifically limit as a kind of cyanate resin, For example, bisphenol-type cyanate resin, such as a novolak-type cyanate resin, bisphenol A-type cyanate resin, bisphenol E-type cyanate resin, tetramethylbisphenol F-type cyanate resin, etc. can be mentioned.
Among these, a novolak type cyanate resin is preferable. Thereby, while being able to improve heat resistance by the increase in a crosslinking density, a flame retardance can further be improved. The novolak-type cyanate resin is considered to have a high proportion of benzene rings due to its structure and easily carbonize.
The novolak type cyanate resin can be obtained, for example, by reacting a novolak type phenol resin with a compound such as cyanogen chloride or cyanogen bromide. Moreover, the commercial item prepared in this way can also be used.

ここでノボラック型シアネート樹脂としては、例えば、下記一般式(I)で示されるものを用いることができる。   Here, as the novolac type cyanate resin, for example, those represented by the following general formula (I) can be used.

Figure 2012019240
Figure 2012019240

上記一般式(I)で示されるノボラック型シアネート樹脂の重量平均分子量としては特に限定されないが、500〜4,500であることが好ましい。さらに好ましくは600〜3,000である。
重量平均分子量が上記下限値未満であると、機械的強度が低下する場合がある。また、上記上限値を超えると、樹脂組成物の硬化速度が速くなるため、保存性が低下する場合がある。
Although it does not specifically limit as a weight average molecular weight of the novolak-type cyanate resin shown by the said general formula (I), It is preferable that it is 500-4,500. More preferably, it is 600-3,000.
If the weight average molecular weight is less than the lower limit, the mechanical strength may be lowered. Moreover, when the said upper limit is exceeded, since the cure rate of a resin composition will become quick, preservability may fall.

なお、上記シアネート樹脂としては、これをプレポリマー化したものも用いることができる。
ここでプレポリマーとは、通常、上記シアネート樹脂を加熱反応などにより、例えば3量化することで得られるものであり、樹脂組成物の成形性、流動性を調整するために好ましく使用されるものである。
ここでプレポリマーとしては特に限定されないが、例えば、3量化率が20〜50重量%であるものを用いることができる。この3量化率は、例えば赤外分光分析装置を用いて
求めることができる。
In addition, as said cyanate resin, what prepolymerized this can also be used.
Here, the prepolymer is usually obtained by, for example, trimerizing the cyanate resin by a heat reaction or the like, and is preferably used for adjusting the moldability and fluidity of the resin composition. is there.
Although it does not specifically limit as a prepolymer here, For example, what a trimerization rate is 20 to 50 weight% can be used. This trimerization rate can be determined using, for example, an infrared spectroscopic analyzer.

このように、ノボラック型シアネート樹脂としては、1種類を単独で用いることもできるし、異なる重量平均分子量を有する2種類以上を併用したり、1種類または2種類以上と、それらのプレポリマーを併用したりすることもできる。   Thus, as a novolac type cyanate resin, one kind can be used alone, two or more kinds having different weight average molecular weights are used together, or one kind or two kinds or more and those prepolymers are used together. You can also do it.

本発明の組成物において、上記シアネート樹脂の含有量は特に限定されないが、樹脂組成物全体に対して5〜50重量%であることが好ましい。さらに好ましくは10〜40重量%である。これにより、シアネート樹脂が有する耐熱性、難燃性向上作用をより効果的に発現させることができる。
シアネート樹脂の含有量が上記下限値未満であると、高耐熱性化する効果が低下することがある。また、上記上限値を超えると、架橋密度が高くなり自由体積が増えるため、耐湿性が低下する場合がある。
In the composition of the present invention, the content of the cyanate resin is not particularly limited, but is preferably 5 to 50% by weight with respect to the entire resin composition. More preferably, it is 10 to 40% by weight. Thereby, the heat resistance which a cyanate resin has, and the flame retardance improvement effect | action can be expressed more effectively.
If the content of the cyanate resin is less than the lower limit, the effect of increasing the heat resistance may be reduced. On the other hand, when the above upper limit is exceeded, the crosslinking density increases and the free volume increases, so that the moisture resistance may decrease.

本発明の樹脂組成物は、(B)エポキシ樹脂を含有する。これにより、耐熱性、難熱分解性を付与することができるとともに、基材付き絶縁シートを製造する時の製膜性や、多層プリント配線板製造時に内層回路基板への密着性を向上させることができる。   The resin composition of the present invention contains (B) an epoxy resin. As a result, heat resistance and low heat decomposability can be imparted, and film forming properties when manufacturing an insulating sheet with a base material and adhesion to an inner circuit board when manufacturing a multilayer printed wiring board are improved. Can do.

本発明の樹脂組成物で用いられるエポキシ樹脂としては特に限定されないが、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、アリールアルキレン型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、アリールアルキレン型エポキシ樹脂が好ましい。これにより、難燃性、吸湿半田耐熱性を向上させることができる。
ここで、アリールアルキレン型エポキシ樹脂とは、繰り返し単位中に一つ以上のアリールアルキレン基を有するエポキシ樹脂を指し、例えばキシリレン型エポキシ樹脂、ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂が好ましい。これにより、更に難燃性を向上させることができる。
ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂は、例えば下記一般式(II)で示されるものを用いることができる。
Although it does not specifically limit as an epoxy resin used with the resin composition of this invention, For example, a phenol novolak type epoxy resin, a bisphenol type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin, an aryl alkylene type epoxy resin etc. are mentioned. Among these, aryl alkylene type epoxy resins are preferable. Thereby, a flame retardance and moisture absorption solder heat resistance can be improved.
Here, the aryl alkylene type epoxy resin refers to an epoxy resin having one or more aryl alkylene groups in the repeating unit, and examples thereof include a xylylene type epoxy resin and a biphenyl dimethylene type epoxy resin. Among these, a biphenyl dimethylene type epoxy resin is preferable. Thereby, a flame retardance can be improved further.
As the biphenyldimethylene type epoxy resin, for example, those represented by the following general formula (II) can be used.

Figure 2012019240
Figure 2012019240

上記一般式(II)で示されるビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂のnは、特に限定されないが、1〜10が好ましく、特に2〜5が好ましい。
上記nの数がこれより少ないと、ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂は結晶化しやすくなり、汎用溶媒に対する溶解性が小さくなる傾向があるため、取り扱い性が低下する場合がある。一方、これより多いと、エポキシ樹脂の流動性が低下し、成形性が低下することがある。上記nの数を上記範囲内とすることにより、これらの特性のバランスに優れたものとすることができる。
Although n of the biphenyl dimethylene type epoxy resin represented by the general formula (II) is not particularly limited, 1 to 10 is preferable, and 2 to 5 is particularly preferable.
When the number of n is smaller than this, the biphenyldimethylene type epoxy resin is easily crystallized, and the solubility in a general-purpose solvent tends to be small, so that the handleability may be lowered. On the other hand, when more than this, the fluidity | liquidity of an epoxy resin will fall and a moldability may fall. By setting the number of n in the above range, the balance of these characteristics can be excellent.

上記エポキシ樹脂の重量平均分子量としては特に限定されないが、4,000以下であることが好ましい。さらに好ましくは500〜4,000であり、特に好ましくは800〜3,000である。
重量平均分子量が上記下限値未満であると、基材付き絶縁シートを製造した場合、絶縁樹脂層表面にタック性を生じ、取り扱い性が低下することがある。一方、上記上限値を超えると半田耐熱性が低下する場合がある。重量平均分子量を上記範囲内とすることにより、これらの特性のバランスに優れたものとすることができる。
Although it does not specifically limit as a weight average molecular weight of the said epoxy resin, It is preferable that it is 4,000 or less. More preferably, it is 500-4,000, Most preferably, it is 800-3,000.
When the weight average molecular weight is less than the above lower limit, when an insulating sheet with a substrate is produced, tackiness may be generated on the surface of the insulating resin layer, and the handleability may be reduced. On the other hand, when the above upper limit is exceeded, solder heat resistance may decrease. By setting the weight average molecular weight within the above range, it is possible to achieve an excellent balance of these characteristics.

上記エポキシ樹脂の含有量としては特に限定されないが、樹脂組成物全体に対して5〜50重量%であることが好ましい。さらに好ましくは10〜40重量%である。
エポキシ樹脂の含有量が上記下限値未満であると、吸湿半田耐熱性、密着性を向上させる効果が低下する場合がある。また、上記上限値を超えると、相対的にシアネート樹脂の含有量が少なくなるため、低熱膨張性が低下する場合がある。エポキシ樹脂の含有量を上記範囲内とすることにより、これらの特性のバランスに優れたものとすることができる。
Although it does not specifically limit as content of the said epoxy resin, It is preferable that it is 5 to 50 weight% with respect to the whole resin composition. More preferably, it is 10 to 40% by weight.
If the content of the epoxy resin is less than the lower limit, the effect of improving moisture-absorbing solder heat resistance and adhesion may be reduced. Moreover, since content of cyanate resin will decrease relatively when the said upper limit is exceeded, low thermal expansibility may fall. By setting the content of the epoxy resin within the above range, it is possible to achieve an excellent balance of these characteristics.

本発明の樹脂組成物は、(C)フェノキシ樹脂を含有する。これにより、基材付き絶縁シートを製造する際の製膜性をさらに向上させることができる。   The resin composition of the present invention contains (C) a phenoxy resin. Thereby, the film formability at the time of manufacturing the insulating sheet with a base material can be further improved.

上記フェノキシ樹脂としては特に限定されないが、例えば、ビスフェノール骨格を有するフェノキシ樹脂、ノボラック骨格を有するフェノキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するフェノキシ樹脂、ビフェニル骨格を有するフェノキシ樹脂等が挙げられる。また、これらの骨格を複数種類有した構造のフェノキシ樹脂を用いることもできる。   The phenoxy resin is not particularly limited, and examples thereof include a phenoxy resin having a bisphenol skeleton, a phenoxy resin having a novolak skeleton, a phenoxy resin having a naphthalene skeleton, and a phenoxy resin having a biphenyl skeleton. A phenoxy resin having a structure having a plurality of these skeletons can also be used.

これらの中でも、ビフェニル骨格と、ビスフェノールS骨格とを有するものを用いることができる。これにより、ビフェニル骨格が有する剛直性によりガラス転移温度を高くすることができるとともに、ビスフェノールS骨格により、多層プリント配線板を製造する際のメッキ金属の付着性を向上させることができる。
また、ビスフェノールA骨格とビスフェノールF骨格とを有するものを用いることができる。これにより、多層プリント配線板の製造時に内層回路基板への密着性を向上させることができる。
さらに、上記ビフェニル骨格とビスフェノールS骨格とを有するものと、ビスフェノールA骨格とビスフェノールF骨格とを有するものとを、併用することができる。これにより、これらの特性をバランスよく発現させることができる。
上記ビスフェノールA骨格とビスフェノールF骨格とを有するもの(1)と、上記ビフェニル骨格とビスフェノールS骨格とを有するもの(2)とを併用する場合、その併用比率(重量)としては特に限定されないが、例えば、(1):(2)=2:8〜9:1とすることができる。
Among these, those having a biphenyl skeleton and a bisphenol S skeleton can be used. Thereby, the glass transition temperature can be increased due to the rigidity of the biphenyl skeleton, and the adhesion of the plated metal when the multilayer printed wiring board is manufactured can be improved by the bisphenol S skeleton.
Further, those having a bisphenol A skeleton and a bisphenol F skeleton can be used. Thereby, the adhesiveness to an inner-layer circuit board can be improved at the time of manufacture of a multilayer printed wiring board.
Furthermore, those having the biphenyl skeleton and the bisphenol S skeleton and those having the bisphenol A skeleton and the bisphenol F skeleton can be used in combination. Thereby, these characteristics can be expressed with good balance.
When using the combination (1) having the bisphenol A skeleton and the bisphenol F skeleton and the combination (2) having the biphenyl skeleton and the bisphenol S skeleton, the combination ratio (weight) is not particularly limited. For example, (1) :( 2) = 2: 8 to 9: 1 can be set.

上記フェノキシ樹脂の分子量としては特に限定されないが、重量平均分子量が5000〜70000であることが好ましい。さらに好ましくは10000〜60000である。
フェノキシ樹脂の重量平均分子量が上記下限値未満であると、製膜性を向上させる効果が充分でない場合がある。一方、上記上限値を超えると、フェノキシ樹脂の溶解性が低下する場合がある。フェノキシ樹脂の重量平均分子量を上記範囲内とすることにより、これらの特性のバランスに優れたものとすることができる。
Although it does not specifically limit as molecular weight of the said phenoxy resin, It is preferable that a weight average molecular weight is 5000-70000. More preferably, it is 10,000 to 60000.
If the weight average molecular weight of the phenoxy resin is less than the lower limit, the effect of improving the film forming property may not be sufficient. On the other hand, when the above upper limit is exceeded, the solubility of the phenoxy resin may decrease. By making the weight average molecular weight of the phenoxy resin within the above range, it is possible to achieve an excellent balance of these characteristics.

フェノキシ樹脂の含有量としては特に限定されないが、樹脂組成物全体の1〜40重量%であることが好ましい。さらに好ましくは5〜30重量%である。
フェノキシ樹脂の含有量が上記下限値未満であると、製膜性を向上させる効果が充分でないことがある。一方、上記上限値を超えると、相対的にシアネート樹脂の含有量が少な
くなるため、低熱膨張性を付与する効果が低下することがある。フェノキシ樹脂の含有量を上記範囲内とすることにより、これらの特性のバランスに優れたものとすることができる。
Although it does not specifically limit as content of a phenoxy resin, It is preferable that it is 1 to 40 weight% of the whole resin composition. More preferably, it is 5 to 30% by weight.
If the content of the phenoxy resin is less than the above lower limit, the effect of improving the film forming property may not be sufficient. On the other hand, when the above upper limit is exceeded, the content of the cyanate resin is relatively reduced, and thus the effect of imparting low thermal expansion may be reduced. By making content of a phenoxy resin into the said range, it can be excellent in the balance of these characteristics.

本発明の組成物で用いられる上記(B)エポキシ樹脂、及び、(C)フェノキシ樹脂は、いずれも、実質的にハロゲン原子を含まないものであることが好ましい。これにより、ハロゲン化合物を用いることなく、難燃性を付与することができる。
ここで、実質的にハロゲン原子を含まないとは、例えば、エポキシ樹脂あるいはフェノキシ樹脂中のハロゲン原子の含有量が1重量%以下のものをいう。
The (B) epoxy resin and (C) phenoxy resin used in the composition of the present invention are preferably substantially free of halogen atoms. Thereby, a flame retardance can be provided, without using a halogen compound.
Here, “substantially free of halogen atoms” means, for example, those in which the content of halogen atoms in the epoxy resin or phenoxy resin is 1% by weight or less.

本発明の樹脂組成物は、(D)イミダゾール化合物を含有する。
そして、上記イミダゾール化合物は、以上に説明した(A)〜(C)成分との相溶性を有することを特徴とする。
ここで、(A)〜(C)成分との相溶性を有するとは、イミダゾール化合物を(A)〜(C)成分と混合、あるいは、イミダゾール化合物を(A)〜(C)成分と有機溶剤とともに混合した場合に、実質的に分子レベルまで溶解、または、それに近い状態まで分散することができるような性状を指すものである。
The resin composition of the present invention contains (D) an imidazole compound.
And the said imidazole compound has compatibility with the (A)-(C) component demonstrated above, It is characterized by the above-mentioned.
Here, having compatibility with the components (A) to (C) means that the imidazole compound is mixed with the components (A) to (C), or the imidazole compound is mixed with the components (A) to (C) and the organic solvent. When mixed together, it refers to such a property that it can be substantially dissolved or dispersed to a molecular level.

本発明の樹脂組成物は、このようなイミダゾール化合物を用いることにより、シアネート樹脂やエポキシ樹脂の反応を効果的に促進させることができ、また、イミダゾール化合物の配合量を少なくしても同等の特性を付与することができる。
さらに、このようなイミダゾール化合物を用いた樹脂組成物は、樹脂成分との間で微小なマトリックス単位から高い均一性で硬化させることができる。これにより、多層プリント配線板に形成された樹脂層の絶縁性、耐熱性を高めることができる。
By using such an imidazole compound, the resin composition of the present invention can effectively promote the reaction of a cyanate resin or an epoxy resin, and equivalent characteristics even if the amount of the imidazole compound is reduced. Can be granted.
Furthermore, a resin composition using such an imidazole compound can be cured with high uniformity from a minute matrix unit with a resin component. Thereby, the insulation of the resin layer formed in the multilayer printed wiring board, and heat resistance can be improved.

そして、このような本発明の樹脂組成物から形成された絶縁樹脂層は、例えば過マンガン酸塩、重クロム酸塩等の酸化剤を用いて表面の粗化処理を行うと、粗化処理後の絶縁層表面に均一性の高い微小な凹凸形状を多数形成することができる。
このような粗化処理後の絶縁樹脂層表面に金属メッキ処理を行うと、粗化処理面の平滑性が高いため、微細な導体回路を精度よく形成することができる。また、微小な凹凸形状によりアンカー効果を高め、絶縁樹脂層とメッキ金属との間に高い密着性を付与することができる。
And the insulating resin layer formed from such a resin composition of the present invention is subjected to a roughening treatment on the surface using an oxidizing agent such as permanganate or dichromate, after the roughening treatment. A large number of minute uneven shapes with high uniformity can be formed on the surface of the insulating layer.
When a metal plating process is performed on the surface of the insulating resin layer after such a roughening process, the smoothness of the roughened surface is high, so that a fine conductor circuit can be accurately formed. Further, the anchor effect can be enhanced by the minute uneven shape, and high adhesion can be imparted between the insulating resin layer and the plated metal.

本発明の樹脂組成物で用いられる上記イミダゾール化合物としては、例えば、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−〔2'−メチルイミダゾリル−(1')〕−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−(2'−ウンデシルイミダゾリル)−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−〔2'−エチル−4−メチルイミダゾリル−(1')〕−エチル−s−トリアジン、などを挙げることができる。   Examples of the imidazole compound used in the resin composition of the present invention include 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-ethyl-4- Methylimidazole, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- (2'-undecylimidazolyl) -ethyl-s -Triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, and the like.

これらの中でも、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、及び、2−エチル−4−メチルイミダゾールから選ばれるイミダゾール化合物であることが好ましい。これらのイミダゾール化合物は、特に優れた相溶性を有することで、均一性の高い硬化物が得られるとともに、微細かつ均一な粗化面を形成することができるので、微細な導体回路を容易に形成することができるとともに、多層プリント配線板に高い耐熱性を発現させることができる。   Among these, an imidazole compound selected from 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, and 2-ethyl-4-methylimidazole is preferable. These imidazole compounds have particularly excellent compatibility, so that a highly uniform cured product can be obtained and a fine and uniform roughened surface can be formed, so that a fine conductor circuit can be easily formed. In addition, the multilayer printed wiring board can exhibit high heat resistance.

上記イミダゾール化合物の含有量としては特に限定されないが、上記シアネート樹脂とエポキシ樹脂との合計に対して、0.01〜5重量%が好ましく、特に0.05〜3重量
%が好ましい。これにより、特に耐熱性を向上させることができる。
Although it does not specifically limit as content of the said imidazole compound, 0.01 to 5 weight% is preferable with respect to the sum total of the said cyanate resin and an epoxy resin, and 0.05 to 3 weight% is especially preferable. Thereby, especially heat resistance can be improved.

本発明の樹脂組成物は、(E)無機充填材を含有する。これにより、低熱膨張性及び難燃性の向上を図ることができる。また、上記シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマー(特にノボラック型シアネート樹脂)と無機充填材との組合せにより、弾性率を向上させることができる。   The resin composition of the present invention contains (E) an inorganic filler. Thereby, improvement of low thermal expansibility and a flame retardance can be aimed at. Moreover, an elastic modulus can be improved with the combination of the said cyanate resin and / or its prepolymer (especially novolak-type cyanate resin) and an inorganic filler.

上記無機充填材としては特に限定されないが、例えば、タルク、アルミナ、ガラス、シリカ、マイカ等が挙げられる。これらの中でもシリカが好ましく、溶融シリカが低膨張性に優れる点で好ましい。
溶融シリカの形状としては例えば、破砕状、球状などがあるが、球状であるものが好ましい。これにより、樹脂組成物中における含有量を多くすることができ、その場合でも良好な流動性を付与することができる。
Although it does not specifically limit as said inorganic filler, For example, a talc, an alumina, glass, a silica, mica etc. are mentioned. Among these, silica is preferable, and fused silica is preferable in that it has excellent low expansibility.
Examples of the shape of the fused silica include a crushed shape and a spherical shape, but a spherical shape is preferable. Thereby, content in a resin composition can be increased and favorable fluidity | liquidity can be provided even in that case.

上記無機充填材の平均粒径としては特に限定されないが、0.01〜5μmであることが好ましい。さらに好ましくは0.2〜2μmである。
無機充填材の平均粒径が上記下限値未満であると、本発明の樹脂組成物を用いて樹脂ワニスを調製する際に、樹脂ワニスの粘度が高くなるため、基材付き絶縁シートを作製する際の作業性に影響を与える場合がある。一方、上記上限値を超えると、樹脂ワニス中で無機充填材の沈降等の現象が起こる場合がある。無機充填材の平均粒径を上記範囲内とすることにより、これらの特性のバランスに優れたものとすることができる。
Although it does not specifically limit as an average particle diameter of the said inorganic filler, It is preferable that it is 0.01-5 micrometers. More preferably, it is 0.2-2 micrometers.
When the average particle size of the inorganic filler is less than the above lower limit, the viscosity of the resin varnish increases when the resin varnish is prepared using the resin composition of the present invention, so that an insulating sheet with a substrate is produced. May affect the workability. On the other hand, if the upper limit is exceeded, phenomena such as sedimentation of the inorganic filler may occur in the resin varnish. By setting the average particle size of the inorganic filler within the above range, it is possible to achieve an excellent balance of these characteristics.

上記無機充填材の含有量として特に限定されないが、樹脂組成物全体の20〜70重量%であることが好ましい。さらに好ましくは30〜60重量%である。
無機充填材の含有量が上記下限値未満であると、低熱膨脹性、低吸水性を付与する効果が低下する場合がある。また、上記上限値を超えると、樹脂組成物の流動性の低下により成形性が低下することがある。無機充填材の含有量を上記範囲内とすることにより、これらの特性のバランスに優れたものとすることができる。
Although it does not specifically limit as content of the said inorganic filler, It is preferable that it is 20 to 70 weight% of the whole resin composition. More preferably, it is 30 to 60% by weight.
If the content of the inorganic filler is less than the lower limit, the effect of imparting low thermal expansion and low water absorption may be reduced. Moreover, when the said upper limit is exceeded, a moldability may fall by the fall of the fluidity | liquidity of a resin composition. By making content of an inorganic filler into the said range, it can be set as the thing excellent in the balance of these characteristics.

本発明の樹脂組成物では、特に限定されないが、更にカップリング剤を含有することが好ましい。これにより、樹脂成分と無機充填材との界面の濡れ性を向上させることができるので、耐熱性、特に吸湿半田耐熱性を向上させることができる。   Although it does not specifically limit in the resin composition of this invention, It is preferable to contain a coupling agent further. Thereby, since the wettability of the interface of a resin component and an inorganic filler can be improved, heat resistance, especially moisture absorption solder heat resistance can be improved.

上記カップリング剤としては特に限定されないが、エポキシシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アミノシランカップリング剤、及び、シリコーンオイル型カップリング剤の中から選ばれる1種以上のカップリング剤を使用すること好ましい。これにより、樹脂成分と無機充填材との界面の濡れ性を特に高めることができ、耐熱性をより向上させることができる。   Although it does not specifically limit as said coupling agent, 1 or more types of coupling agents chosen from an epoxy silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aminosilane coupling agent, and a silicone oil type coupling agent are used. It is preferable to do. Thereby, especially the wettability of the interface of a resin component and an inorganic filler can be improved, and heat resistance can be improved more.

上記カップリング剤の含有量としては特に限定されないが、無機充填材100重量部に対して0.05〜3重量部であることが好ましい。
カップリング剤の含有量が上記下限値未満であると、無機充填材を被覆して耐熱性を向上させる効果が充分でないことがある。一方、上記上限値を超えると、基材付き絶縁シートの曲げ強度が低下することがある。カップリング剤の含有量を上記範囲内とすることにより、これらの特性のバランスに優れたものとすることができる。
Although it does not specifically limit as content of the said coupling agent, It is preferable that it is 0.05-3 weight part with respect to 100 weight part of inorganic fillers.
When the content of the coupling agent is less than the lower limit, the effect of improving the heat resistance by covering the inorganic filler may not be sufficient. On the other hand, when the above upper limit is exceeded, the bending strength of the insulating sheet with a substrate may be lowered. By setting the content of the coupling agent within the above range, it is possible to achieve an excellent balance of these characteristics.

本発明の樹脂組成物は、以上に説明した成分のほか、必要に応じて、消泡剤、レベリング剤などの添加剤を含有することができる。   In addition to the components described above, the resin composition of the present invention can contain additives such as an antifoaming agent and a leveling agent as necessary.

次に、本発明の基材付き絶縁シートについて説明する。
本発明の基材付き絶縁シートは、上記本発明の樹脂組成物を基材に担持させてなるものであり、樹脂組成物から形成される絶縁シートと、これを担持する基材とから構成されているものである。
Next, the insulating sheet with a substrate of the present invention will be described.
The insulating sheet with a base material of the present invention is formed by supporting the resin composition of the present invention on a base material, and is composed of an insulating sheet formed from the resin composition and a base material supporting the insulating sheet. It is what.

ここで、樹脂組成物を基材に担持させる方法としては特に限定されないが、例えば、樹脂組成物を溶剤などに溶解・分散させて樹脂ワニスを調製して、各種コーター装置を用いて樹脂ワニスを基材に塗工した後、これを乾燥する方法、樹脂ワニスをスプレー装置を用いて基材に噴霧塗工した後、これを乾燥する方法、などが挙げられる。
これらの中でも、コンマコーター、ダイコーターなどの各種コーター装置を用いて、樹脂ワニスを基材に塗工した後、これを乾燥する方法が好ましい。これにより、ボイドがなく、均一な絶縁シート層の厚みを有する基材付き絶縁シートを効率よく製造することができる。
Here, the method of supporting the resin composition on the substrate is not particularly limited. For example, the resin varnish is prepared by dissolving and dispersing the resin composition in a solvent or the like, and using various coater devices. The method of drying this after apply | coating to a base material, the method of spraying the resin varnish to a base material using a spray apparatus, and drying this are mentioned.
Among these, it is preferable to apply a resin varnish to a substrate using various coaters such as a comma coater and a die coater and then dry the resin varnish. Thereby, the insulating sheet with a base material which has no void and has a uniform thickness of the insulating sheet layer can be efficiently produced.

上記樹脂ワニスの調製に用いられる溶剤としては特に限定されないが、例えば、アルコール類、エーテル類、アセタール類、ケトン類、エステル類、アルコールエステル類、ケトンアルコール類、エーテルアルコール類、ケトンエーテル類、ケトンエステル類、及び、エステルエーテル類などを用いることができる。
上記樹脂ワニス中の固形分含有量としては特に限定されないが、30〜80重量%が好ましく、特に40〜70重量%が好ましい。
The solvent used for the preparation of the resin varnish is not particularly limited. For example, alcohols, ethers, acetals, ketones, esters, alcohol esters, ketone alcohols, ether alcohols, ketone ethers, ketones Esters and ester ethers can be used.
Although it does not specifically limit as solid content in the said resin varnish, 30 to 80 weight% is preferable and especially 40 to 70 weight% is preferable.

本発明の基材付き絶縁シートにおいて、樹脂組成物から構成される絶縁シート層の厚さとしては特に限定されないが、10〜100μmであることが好ましい。さらに好ましくは20〜80μmである。これにより、この基材付き絶縁シートを用いて多層プリント配線板を製造する際に、内層回路の凹凸を充填して成形することができるとともに、好適な絶縁層厚みを確保することができる。また、基材付き絶縁シートにおいては、絶縁シート層の割れ発生を抑え、裁断時の粉落ちを少なくすることができる。   In the insulating sheet with a substrate of the present invention, the thickness of the insulating sheet layer composed of the resin composition is not particularly limited, but is preferably 10 to 100 μm. More preferably, it is 20-80 micrometers. Thereby, when manufacturing a multilayer printed wiring board using this insulating sheet with a base material, while being able to fill and shape the unevenness | corrugation of an inner-layer circuit, suitable insulating layer thickness can be ensured. Moreover, in an insulating sheet with a base material, generation | occurrence | production of the crack of an insulating sheet layer can be suppressed and powder fall at the time of cutting can be decreased.

本発明の基材付き絶縁シートに用いられる基材としては特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド樹脂などの耐熱性を有した熱可塑性樹脂フィルム、あるいは、銅及び/又は銅系合金、アルミ及び/又はアルミ系合金、鉄及び/又は鉄系合金、銀及び/又は銀系合金等の金属箔などを用いることができる。
上記基材の厚みとしては特に限定されないが、10〜70μmのものを用いると、基材付き絶縁シートを製造する際の取り扱い性が良好であり好ましい。
なお、本発明の基材付き絶縁シートを製造するにあたっては、絶縁シートと接合される側の絶縁基材表面の凹凸は極力小さいものであることが好ましい。これにより、本発明の作用を効果的に発現させることができる。
Although it does not specifically limit as a base material used for the insulating sheet with a base material of this invention, For example, polyester resin, such as a polyethylene terephthalate and a polybutylene terephthalate, a fluororesin, a thermoplastic resin film with heat resistance, such as a polyimide resin Alternatively, copper and / or a copper-based alloy, aluminum and / or an aluminum-based alloy, iron and / or an iron-based alloy, silver and / or a metal foil of a silver-based alloy, or the like can be used.
Although it does not specifically limit as thickness of the said base material, When the thing of 10-70 micrometers is used, the handleability at the time of manufacturing an insulating sheet with a base material is favorable, and it is preferable.
In manufacturing the insulating sheet with a base material of the present invention, it is preferable that the unevenness on the surface of the insulating base material to be joined to the insulating sheet is as small as possible. Thereby, the effect | action of this invention can be expressed effectively.

次に、本発明の基材付き絶縁シートを用いた多層プリント配線板について説明する。
上記多層プリント回路板は、上記基材付き絶縁シートを内層回路板の片面又は両面に重ね合わせて加熱加圧成形してなるものである。
具体的には、上記本発明の基材付き絶縁シートの絶縁シート層側と内層回路板とを合わせて、真空加圧式ラミネーター装置などを用いて真空加熱加圧成形させ、その後、熱風乾燥装置等で加熱硬化させることにより得ることができる。
ここで加熱加圧成形する条件としては特に限定されないが、一例を挙げると、温度60〜160℃、圧力0.2〜3MPaで実施することができる。また、加熱硬化させる条件としては特に限定されないが、温度140〜240℃、時間30〜120分間で実施することができる。
あるいは、上記本発明の基材付き絶縁シートの絶縁シート層側を内層回路板に重ね合わせ、これを平板プレス装置などを用いて加熱加圧成形することにより得ることができる。
ここで加熱加圧成形する条件としては特に限定されないが、一例を挙げると、温度140〜240℃、圧力1〜4MPaで実施することができる。
なお、上記多層プリント配線板を得る際に用いられる内層回路板は、例えば、銅張積層版の両面に、エッチング等により所定の導体回路を形成し、導体回路部分を黒化処理したものを好適に用いることができる。
Next, the multilayer printed wiring board using the insulating sheet with a base material of the present invention will be described.
The multilayer printed circuit board is formed by heating and press-molding the insulating sheet with a base material on one side or both sides of the inner layer circuit board.
Specifically, the insulating sheet layer side of the insulating sheet with a base material according to the present invention and the inner circuit board are combined and vacuum-heated and pressure-molded using a vacuum-pressure laminator device or the like, and then a hot-air drying device or the like It can be obtained by heating and curing.
Although it does not specifically limit as conditions to heat-press form here, if an example is given, it can implement at the temperature of 60-160 degreeC, and the pressure of 0.2-3 MPa. Moreover, it is although it does not specifically limit as conditions to heat-harden, It can implement in temperature 140-240 degreeC and time 30-120 minutes.
Alternatively, the insulating sheet layer side of the insulating sheet with a base material of the present invention can be obtained by superimposing the inner layer circuit board on the inner layer circuit board, and heating and pressing it using a flat plate press apparatus or the like.
Although it does not specifically limit as conditions to heat-press form here, For example, it can implement at the temperature of 140-240 degreeC, and the pressure of 1-4 MPa.
The inner layer circuit board used for obtaining the multilayer printed wiring board is preferably, for example, one in which a predetermined conductor circuit is formed by etching or the like on both sides of a copper clad laminate and the conductor circuit portion is blackened. Can be used.

上記で得られた多層プリント配線板は、さらに、基材を剥離除去して、絶縁樹脂層表面を過マンガン酸塩、重クロム酸塩等の酸化剤などにより粗化処理した後、金属メッキにより新たな導電配線回路を形成することができる。本発明の樹脂組成物から形成された絶縁樹脂層は、上記粗化処理工程において、微細な凹凸形状を高い均一性で多数形成することができ、また、絶縁樹脂層表面の平滑性が高いため、微細な配線回路を精度よく形成することができるものである。   The multilayer printed wiring board obtained above further peels and removes the base material, and after roughening the surface of the insulating resin layer with an oxidizing agent such as permanganate or dichromate, metal plating is performed. A new conductive wiring circuit can be formed. In the insulating resin layer formed from the resin composition of the present invention, a large number of fine irregularities can be formed with high uniformity in the roughening treatment step, and the smoothness of the surface of the insulating resin layer is high. A fine wiring circuit can be formed with high accuracy.

以下、本発明を実施例および比較例により詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples.

実施例及び比較例において用いた原材料は以下の通りである。
(1)シアネート樹脂A/ノボラック型シアネート樹脂:ロンザ社製・「プリマセットPT−30」、重量平均分子量700
(2)シアネート樹脂B/ノボラック型シアネート樹脂:ロンザ社製・「プリマセットPT−60」、重量平均分子量2600
(3)エポキシ樹脂/ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂:日本化薬社製・「NC−3000」、エポキシ当量275、重量平均分子量2000
(4)フェノキシ樹脂A/ビフェニルエポキシ樹脂とビスフェノールSエポキシ樹脂との共重合体であり、末端部はエポキシ基を有している:ジャパンエポキシレジン社製・「YX−8100H30」、重量平均分子量30000)
(5)フェノキシ樹脂B/ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との共重合体であり、末端部はエポキシ基を有している:ジャパンエポキシレジン社製・「エピコート4275」、重量平均分子量60000)
(6)硬化触媒A/イミダゾール化合物:四国化成工業社製・「キュアゾール1B2PZ(1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール)」
(7)硬化触媒B/イミダゾール化合物:四国化成工業社製・「キュアゾールC17Z(2−ヘプタデシルイミダゾール)」
(8)無機充填材/球状溶融シリカ:アドマテックス社製・「SO−25H」、平均粒径0.5μm
(9)カップリング剤/エポキシシランカップリング剤:日本ユニカー社製・「A−187」
The raw materials used in Examples and Comparative Examples are as follows.
(1) Cyanate resin A / Novolac type cyanate resin: “Primaset PT-30” manufactured by Lonza Corporation, weight average molecular weight 700
(2) Cyanate resin B / Novolac type cyanate resin: “Lima set PT-60” manufactured by Lonza Corporation, weight average molecular weight 2600
(3) Epoxy resin / biphenyl dimethylene type epoxy resin: “NC-3000” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent 275, weight average molecular weight 2000
(4) Copolymer of phenoxy resin A / biphenyl epoxy resin and bisphenol S epoxy resin, and terminal portion has an epoxy group: “YX-8100H30” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., weight average molecular weight 30000 )
(5) Phenoxy resin B / A copolymer of bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin, having terminal epoxy groups: “Epicoat 4275” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., weight average (Molecular weight 60000)
(6) Curing Catalyst A / Imidazole Compound: “Cureazole 1B2PZ (1-benzyl-2-phenylimidazole)” manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.
(7) Curing catalyst B / Imidazole compound: “Cureazole C17Z (2-heptadecylimidazole)” manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.
(8) Inorganic filler / spherical fused silica: manufactured by Admatechs Co., Ltd. “SO-25H”, average particle size 0.5 μm
(9) Coupling agent / epoxysilane coupling agent: Nippon Unicar Co., Ltd. “A-187”

<実施例1>
(1)樹脂ワニスの調製
シアネート樹脂A25重量部、エポキシ樹脂25重量部、フェノキシ樹脂A10重量部、硬化触媒A0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
<Example 1>
(1) Preparation of resin varnish 25 parts by weight of cyanate resin A, 25 parts by weight of epoxy resin, 10 parts by weight of phenoxy resin A, and 0.1 part by weight of curing catalyst A were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.

(2)基材付き絶縁シートの製造
上記で得られた樹脂ワニスを、厚さ25μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムの片面に、コンマコーター装置を用いて乾燥後の絶縁フィルムの厚さが60μmとなるように塗工し、これを160℃の乾燥装置で10分間乾燥して、基材付き絶縁シートを製造した。
(2) Production of Insulating Sheet with Substrate The resin varnish obtained above is applied to one side of a PET (polyethylene terephthalate) film having a thickness of 25 μm, and the thickness of the insulating film after drying using a comma coater device is 60 μm. It coated so that it might become, and this was dried for 10 minutes with a 160 degreeC drying apparatus, and the insulating sheet with a base material was manufactured.

(3)多層プリント配線板1の製造
所定の内層回路が両面に形成された内層回路基板の表裏に、上記で得られた基材付き絶縁シートの絶縁シート面を内側にして重ね合わせ、これを、真空加圧式ラミネーター装置を用いて、温度100℃、圧力1MPaにて真空加熱加圧成形させ、その後、熱風乾燥装置にて170℃で60分間加熱硬化行った。
なお、内層回路基板としては、下記のものを使用した。
・絶縁層:ハロゲンフリー FR−4材、厚さ0.4mm
・導体層:銅箔厚み18μm、L/S=120/180μm、クリアランスホール1mmφ、3mmφ、スリット2mm
(3) Manufacture of multilayer printed wiring board 1 On the front and back of the inner layer circuit board on which the predetermined inner layer circuit is formed on both sides, the insulating sheet surface of the insulating sheet with the base material obtained above is overlapped, and this is laminated. Then, using a vacuum pressurizing laminator apparatus, vacuum heating and pressing were performed at a temperature of 100 ° C. and a pressure of 1 MPa, and then heat curing was performed at 170 ° C. for 60 minutes in a hot air drying apparatus.
In addition, the following were used as the inner layer circuit board.
-Insulating layer: Halogen-free FR-4 material, thickness 0.4mm
Conductor layer: copper foil thickness 18 μm, L / S = 120/180 μm, clearance holes 1 mmφ, 3 mmφ, slit 2 mm

(4)多層プリント配線板2の製造
上記で得られた多層プリント配線板1から基材を剥離し、70℃の膨潤液(アトテックジャパン社製・「スウェリングディップ セキュリガント P500」)に10分間浸漬し、さらに80℃の過マンガン酸カリウム水溶液(アトテックジャパン社製・「コンセントレート コンパクト CP」)に20分浸漬後、中和して粗化処理を行った。
これを脱脂、触媒付与、活性化の工程を経た後、無電解銅メッキ皮膜を約1μm、電気メッキ銅30μm形成させ、熱風乾燥装置にて200℃で60分間アニール処理を行い、多層プリント配線板を得た。
(4) Manufacture of multilayer printed wiring board 2 A base material is peeled from the multilayer printed wiring board 1 obtained above, and it is 10 minutes in 70 degreeC swelling liquid (Atotech Japan company make "Swelling dip securigant P500"). It was immersed and further immersed in an aqueous potassium permanganate solution (manufactured by Atotech Japan, “Concentrate Compact CP”) at 80 ° C. for 20 minutes, followed by neutralization and roughening treatment.
After passing through the steps of degreasing, applying a catalyst, and activating this, an electroless copper plating film is formed to about 1 μm and electroplated copper is formed to 30 μm, and annealed at 200 ° C. for 60 minutes in a hot air drying device, and a multilayer printed wiring board Got.

<実施例2>
シアネート樹脂A15重量部、シアネート樹脂B10重量部、エポキシ樹脂25重量部、フェノキシ樹脂A10重量部、硬化触媒A0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Example 2>
15 parts by weight of cyanate resin A, 10 parts by weight of cyanate resin B, 25 parts by weight of epoxy resin, 10 parts by weight of phenoxy resin A, and 0.1 part by weight of curing catalyst A were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例3>
シアネート樹脂A40重量部、エポキシ樹脂10重量部、フェノキシ樹脂A10重量部、硬化触媒A0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Example 3>
Cyanate resin A 40 parts by weight, epoxy resin 10 parts by weight, phenoxy resin A 10 parts by weight, and curing catalyst A 0.1 part by weight were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例4>
シアネート樹脂A20重量部、エポキシ樹脂30重量部、フェノキシ樹脂A10重量部、硬化触媒A0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Example 4>
20 parts by weight of cyanate resin A, 30 parts by weight of epoxy resin, 10 parts by weight of phenoxy resin A, and 0.1 parts by weight of curing catalyst A were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例5>
シアネート樹脂A30重量部、エポキシ樹脂15重量部、フェノキシ樹脂A15重量部、硬化触媒A0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント
配線板1、2を得た。
<Example 5>
30 parts by weight of cyanate resin A, 15 parts by weight of epoxy resin, 15 parts by weight of phenoxy resin A, and 0.1 parts by weight of curing catalyst A were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例6>
シアネート樹脂A17重量部、エポキシ樹脂17重量部、フェノキシ樹脂A6重量部、硬化触媒A0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材60重量部とカップリング剤0.3重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Example 6>
17 parts by weight of cyanate resin A, 17 parts by weight of epoxy resin, 6 parts by weight of phenoxy resin A, and 0.1 part by weight of curing catalyst A were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 60 parts by weight of an inorganic filler and 0.3 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例7>
シアネート樹脂A30重量部、シアネート樹脂B10重量部、エポキシ樹脂20重量部、フェノキシ樹脂A10重量部、硬化触媒A0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材30重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Example 7>
30 parts by weight of cyanate resin A, 10 parts by weight of cyanate resin B, 20 parts by weight of epoxy resin, 10 parts by weight of phenoxy resin A, and 0.1 part by weight of curing catalyst A were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 30 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例1>
シアネート樹脂A25重量部、エポキシ樹脂25重量部、フェノキシ樹脂A10重量部、硬化触媒B0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Comparative Example 1>
Cyanate resin A 25 parts by weight, epoxy resin 25 parts by weight, phenoxy resin A 10 parts by weight, and curing catalyst B 0.1 part by weight were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例2>
シアネート樹脂A15重量部、シアネート樹脂B10重量部、エポキシ樹脂25重量部、フェノキシ樹脂A10重量部、硬化触媒B0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Comparative example 2>
15 parts by weight of cyanate resin A, 10 parts by weight of cyanate resin B, 25 parts by weight of epoxy resin, 10 parts by weight of phenoxy resin A, and 0.1 part by weight of curing catalyst B were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例3>
シアネート樹脂A50重量部、フェノキシ樹脂A10重量部、硬化触媒B0.1重量部をメチルエチルケトンに分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Comparative Example 3>
50 parts by weight of cyanate resin A, 10 parts by weight of phenoxy resin A, and 0.1 parts by weight of curing catalyst B were dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例4>
エポキシ樹脂50重量部、フェノキシ樹脂A10重量部、硬化触媒B0.1重量部をメチルエチルケトンに分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Comparative example 4>
50 parts by weight of epoxy resin, 10 parts by weight of phenoxy resin A, and 0.1 parts by weight of curing catalyst B were dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例5>
シアネート樹脂A30重量部、シアネート樹脂B10重量部、エポキシ樹脂50重量部、フェノキシ樹脂A10重量部、硬化触媒B0.1重量部をメチルエチルケトンに分散させて、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Comparative Example 5>
30 parts by weight of cyanate resin A, 10 parts by weight of cyanate resin B, 50 parts by weight of epoxy resin, 10 parts by weight of phenoxy resin A, and 0.1 part by weight of curing catalyst B were dispersed in methyl ethyl ketone to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例11>
シアネート樹脂A25重量部、エポキシ樹脂25重量部、フェノキシ樹脂A5重量部、フェノキシ樹脂B5重量部、硬化触媒A0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Example 11>
Cyanate resin A 25 parts by weight, epoxy resin 25 parts by weight, phenoxy resin A 5 parts by weight, phenoxy resin B 5 parts by weight, and curing catalyst A 0.1 part by weight were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例12>
シアネート樹脂A15重量部、シアネート樹脂B10重量部、エポキシ樹脂25重量部、フェノキシ樹脂A5重量部、フェノキシ樹脂B5重量部、硬化触媒A0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Example 12>
15 parts by weight of cyanate resin A, 10 parts by weight of cyanate resin B, 25 parts by weight of epoxy resin, 5 parts by weight of phenoxy resin A, 5 parts by weight of phenoxy resin B, and 0.1 part by weight of curing catalyst A were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例13>
シアネート樹脂A40重量部、エポキシ樹脂10重量部、フェノキシ樹脂A5重量部、フェノキシ樹脂B5重量部、硬化触媒A0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Example 13>
Cyanate resin A 40 parts by weight, epoxy resin 10 parts by weight, phenoxy resin A 5 parts by weight, phenoxy resin B 5 parts by weight, and curing catalyst A 0.1 part by weight were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例14>
シアネート樹脂A20重量部、エポキシ樹脂30重量部、フェノキシ樹脂A5重量部、フェノキシ樹脂B5重量部、硬化触媒A0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Example 14>
20 parts by weight of cyanate resin A, 30 parts by weight of epoxy resin, 5 parts by weight of phenoxy resin A, 5 parts by weight of phenoxy resin B, and 0.1 part by weight of curing catalyst A were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例15>
シアネート樹脂A30重量部、エポキシ樹脂15重量部、フェノキシ樹脂A10重量部、フェノキシ樹脂B5重量部、硬化触媒A0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Example 15>
30 parts by weight of cyanate resin A, 15 parts by weight of epoxy resin, 10 parts by weight of phenoxy resin A, 5 parts by weight of phenoxy resin B, and 0.1 part by weight of curing catalyst A were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例16>
シアネート樹脂A17重量部、エポキシ樹脂17重量部、フェノキシ樹脂A3重量部、
フェノキシ樹脂B3重量部、硬化触媒A0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材60重量部とカップリング剤0.3重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Example 16>
17 parts by weight of cyanate resin A, 17 parts by weight of epoxy resin, 3 parts by weight of phenoxy resin A,
3 parts by weight of phenoxy resin B and 0.1 part by weight of curing catalyst A were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 60 parts by weight of an inorganic filler and 0.3 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例17>
シアネート樹脂A30重量部、シアネート樹脂B10重量部、エポキシ樹脂20重量部、フェノキシ樹脂A5重量部、フェノキシ樹脂B5重量部、硬化触媒A0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材30重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Example 17>
30 parts by weight of cyanate resin A, 10 parts by weight of cyanate resin B, 20 parts by weight of epoxy resin, 5 parts by weight of phenoxy resin A, 5 parts by weight of phenoxy resin B, and 0.1 part by weight of curing catalyst A were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 30 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例11>
シアネート樹脂A25重量部、エポキシ樹脂25重量部、フェノキシ樹脂A5重量部、フェノキシ樹脂B5重量部、硬化触媒B0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Comparative Example 11>
Cyanate resin A 25 parts by weight, epoxy resin 25 parts by weight, phenoxy resin A 5 parts by weight, phenoxy resin B 5 parts by weight, and curing catalyst B 0.1 part by weight were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例12>
シアネート樹脂A15重量部、シアネート樹脂B10重量部、エポキシ樹脂25重量部、フェノキシ樹脂B5重量部、フェノキシ樹脂B5重量部、硬化触媒A0.1重量部をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Comparative Example 12>
15 parts by weight of cyanate resin A, 10 parts by weight of cyanate resin B, 25 parts by weight of epoxy resin, 5 parts by weight of phenoxy resin B, 5 parts by weight of phenoxy resin B, and 0.1 part by weight of curing catalyst A were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例13>
シアネート樹脂A50重量部、フェノキシ樹脂A5重量部、フェノキシ樹脂B5重量部、硬化触媒B0.1重量部をメチルエチルケトンに分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Comparative Example 13>
50 parts by weight of cyanate resin A, 5 parts by weight of phenoxy resin A, 5 parts by weight of phenoxy resin B, and 0.1 part by weight of curing catalyst B were dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例14>
エポキシ樹脂50重量部、フェノキシ樹脂A7重量部、フェノキシ樹脂B3重量部、硬化触媒B0.1重量部をメチルエチルケトンに分散させた。さらに、無機充填材40重量部とカップリング剤0.2重量部を添加して、高速攪拌装置を用いて10分間攪拌して、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Comparative example 14>
50 parts by weight of epoxy resin, 7 parts by weight of phenoxy resin A, 3 parts by weight of phenoxy resin B, and 0.1 part by weight of curing catalyst B were dispersed in methyl ethyl ketone. Furthermore, 40 parts by weight of an inorganic filler and 0.2 part by weight of a coupling agent were added, and the mixture was stirred for 10 minutes using a high-speed stirrer to prepare a resin varnish having a solid content of 50% by weight.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例15>
シアネート樹脂A30重量部、シアネート樹脂B10重量部、エポキシ樹脂50重量部
、フェノキシ樹脂A3重量部、フェノキシ樹脂B7重量部、硬化触媒B0.1重量部をメチルエチルケトンに分散させて、固形分50重量%の樹脂ワニスを調製した。
この樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、基材付き絶縁シート及び多層プリント配線板1、2を得た。
<Comparative Example 15>
30 parts by weight of cyanate resin A, 10 parts by weight of cyanate resin B, 50 parts by weight of epoxy resin, 3 parts by weight of phenoxy resin A, 7 parts by weight of phenoxy resin B and 0.1 part by weight of curing catalyst B were dispersed in methyl ethyl ketone to give a solid content of 50% by weight. A resin varnish was prepared.
Using this resin varnish, an insulating sheet with a base material and multilayer printed wiring boards 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1.

実施例および比較例で得られた基材付き絶縁シート、及び、多層プリント配線板について、特性の評価を行った。結果を表1及び表2に示す。   The characteristics of the insulating sheets with base materials and multilayer printed wiring boards obtained in the examples and comparative examples were evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.

Figure 2012019240
Figure 2012019240

Figure 2012019240
Figure 2012019240

評価方法は下記のとおりである。
1.基材付き絶縁シートの評価
(1)ガラス転移温度
基材付き絶縁シート2枚の絶縁シート側どうしを内側にして重ね合わせ、これを、真空プレス装置を用いて圧力2MPa、温度200℃で2時間加熱加圧成形を行った後、基材を剥離除去して、樹脂硬化物を得た。得られた絶縁シート硬化物から、10mm×30m
mの評価用試料を切り出し、DMA(TAインスツルメント社製)を用いて、5℃/分で昇温し、tanδのピーク位置をガラス転移温度とした。
The evaluation method is as follows.
1. Evaluation of Insulating Sheet with Base Material (1) Glass Transition Temperature Two insulating sheets with a base material are laminated with the insulating sheet sides inside, and this is overlapped for 2 hours at a pressure of 2 MPa and a temperature of 200 ° C. using a vacuum press apparatus. After performing heat and pressure molding, the substrate was peeled and removed to obtain a cured resin. From the obtained insulating sheet cured product, 10 mm × 30 m
A sample for evaluation of m was cut out and heated at 5 ° C./min using DMA (TA Instruments), and the peak position of tan δ was defined as the glass transition temperature.

(2)線膨張係数
基材付き絶縁シート2枚の絶縁シート側どうしを内側にして重ね合わせ、これを、真空プレス装置を用いて圧力2MPa、温度200℃で2時間加熱加圧成形を行った後、基材を剥離除去して、樹脂硬化物を得た。得られた樹脂硬化物から4mm×20mmの評価用試料を採取し、TMA装置(TAインスツルメント社製)を用いて、10℃/分で昇温して測定した。
(2) Linear expansion coefficient Two insulating sheets with a base material were laminated with the insulating sheet sides facing each other, and this was heat-pressed for 2 hours at a pressure of 2 MPa and a temperature of 200 ° C. using a vacuum press apparatus. Thereafter, the substrate was peeled and removed to obtain a cured resin. A sample for evaluation of 4 mm × 20 mm was collected from the obtained cured resin, and measured by raising the temperature at 10 ° C./min using a TMA apparatus (manufactured by TA Instruments).

2.多層プリント配線板1の評価
(1)難燃性
多層プリント配線板1の基材を剥離除去し、UL−94規格、垂直法により測定した。
2. Evaluation of multilayer printed wiring board 1 (1) Flame retardance The substrate of the multilayer printed wiring board 1 was peeled off and measured according to the UL-94 standard and the vertical method.

(2)成形性
多層プリント配線板1の基材を剥離除去し、目視にて成形ボイドの有無を観察した。成形ボイドのないものを○とした。
(2) Formability The base material of the multilayer printed wiring board 1 was peeled and removed, and the presence or absence of molding voids was visually observed. The thing without a molding void was set as (circle).

2.多層プリント配線板2の評価
(1)吸湿半田耐熱性
多層プリント配線板2より、50mm×50mmの試料を採取し、片面全面と、もう片面の1/2の銅箔をエッチングして除去した。これを、125℃のプレッシャークッカーで2時間処理した後、260℃の半田槽に銅箔面を下にして180秒間浮かべ、ふくれ・はがれの有無を確認した。ふくれ、はがれのないものを○、ふくれ、はがれの発生したものを×とした。
2. Evaluation of Multilayer Printed Wiring Board 2 (1) Moisture Absorbing Solder Heat Resistance A 50 mm × 50 mm sample was taken from the multilayer printed wiring board 2 and the entire surface of one side and 1/2 copper foil on the other side were removed by etching. This was treated with a 125 ° C. pressure cooker for 2 hours and then floated in a solder bath at 260 ° C. for 180 seconds with the copper foil face down to check for blistering and peeling. Those without blistering and peeling were marked with ◯, and those with blistering and peeling were marked with x.

(2)メッキピール強度
多層プリント配線板2より、めっき銅の引き剥がし強度をJIS C−6481にもとづいて測定した。
(3)表面粗さ(Ra)
多層プリント配線板2の粗化処理後基板において、レーザー顕微鏡により表面粗さ(Ra)を測定した。
(2) Plating peel strength From the multilayer printed wiring board 2, the peel strength of the plated copper was measured based on JIS C-6481.
(3) Surface roughness (Ra)
The surface roughness (Ra) of the substrate after the roughening treatment of the multilayer printed wiring board 2 was measured with a laser microscope.

実施例1〜7、11〜17は、シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマー、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、上記樹脂成分と相溶性を有するイミダゾール化合物、及び、無機充填材を含有する本発明の樹脂組成物と、これを用いた樹脂付き金属箔及び多層プリント配線板である。
実施例1〜7、11〜17はいずれも、ガラス転移温度が高く、低線膨張性を有し、難燃性、成形性、耐熱性においても良好なものであった。そして、粗化処理により微細な凹凸を多数形成することができたため、メッキ金属のピール強度も良好なものであった。
比較例1〜4、比較例11〜14はいずれも、(A)〜(C)成分との相溶性が低いイミダゾール化合物を用いたので、硬化の不均一性から粗化処理後の表面粗さが大きくなるが、メッキ金属のピール強度は向上せず、耐熱性に劣るものとなった。
さらに、比較例3、13はシアネート樹脂を用いたのでガラス転移温度は高いものとなったが、エポキシ樹脂を用いなかったので、耐熱性が低下した。比較例4、14はシアネート樹脂を用いなかったので、ガラス転移温度が低下し、難燃性も劣るものとなった。
比較例5、15は無機充填材を用いなかったので、粗化処理により充分な凹凸を形成することができず、メッキ金属のピール強度が低下した。また、線膨張係数が大きくなり、難燃性も劣るものとなった。
Examples 1-7, 11-17 are the resin composition of this invention containing cyanate resin and / or its prepolymer, an epoxy resin, a phenoxy resin, an imidazole compound having compatibility with the above resin components, and an inorganic filler. And a metal foil with resin and a multilayer printed wiring board using the same.
Examples 1 to 7 and 11 to 17 all had high glass transition temperatures, low linear expansion, and good flame retardancy, moldability, and heat resistance. And since many fine unevenness | corrugations were able to be formed by the roughening process, the peeling strength of the plating metal was also favorable.
Since each of Comparative Examples 1-4 and Comparative Examples 11-14 used an imidazole compound having low compatibility with the components (A) to (C), the surface roughness after the roughening treatment due to non-uniformity of curing. However, the peel strength of the plated metal was not improved and the heat resistance was poor.
Furthermore, since the comparative examples 3 and 13 used cyanate resin, the glass transition temperature became high, but since epoxy resin was not used, heat resistance fell. Since Comparative Examples 4 and 14 did not use cyanate resin, the glass transition temperature was lowered and the flame retardancy was inferior.
Since Comparative Examples 5 and 15 did not use an inorganic filler, sufficient unevenness could not be formed by the roughening treatment, and the peel strength of the plated metal was lowered. Moreover, the linear expansion coefficient became large and the flame retardance became inferior.

本発明は、多層プリント配線板の絶縁層を形成するために用いられる樹脂組成物であって、
(A)シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマー、
(B)エポキシ樹脂、
(C)フェノキシ樹脂、
(D)イミダゾール化合物、及び、
(E)無機充填材、
を含有し、上記(D)イミダゾール化合物は、上記(A)〜(C)成分との相溶性を有することを特徴とする樹脂組成物と、これを用いた基材付き絶縁シート、及び、多層プリント配線板である。
本発明の樹脂組成物を多層プリント配線板の絶縁層に用いることにより、冷熱サイクル等の熱衝撃試験において導体回路層の剥離やクラックが発生しない高耐熱性、低熱膨張性とともに、難燃性を有し、高密度な微細回路形成が可能な多層プリント配線板を製造することができる。
The present invention is a resin composition used for forming an insulating layer of a multilayer printed wiring board,
(A) cyanate resin and / or prepolymer thereof,
(B) epoxy resin,
(C) phenoxy resin,
(D) an imidazole compound, and
(E) inorganic filler,
And the (D) imidazole compound has compatibility with the components (A) to (C), an insulating sheet with a substrate using the resin composition, and a multilayer It is a printed wiring board.
By using the resin composition of the present invention for an insulating layer of a multilayer printed wiring board, in addition to high heat resistance and low thermal expansion that do not cause peeling or cracking of the conductor circuit layer in a thermal shock test such as a thermal cycle, it has flame resistance. It is possible to manufacture a multilayer printed wiring board having a high density and fine circuit formation.

Claims (7)

多層プリント配線板の絶縁層を形成するために用いられる樹脂組成物であって、
(A)シアネート樹脂及び/又はそのプレポリマー、
(B)エポキシ樹脂、
(C)フェノキシ樹脂、
(D)イミダゾール化合物、及び、
(E)無機充填材、
を含有し、前記(D)イミダゾール化合物は、前記(A)〜(C)成分との相溶性を有することを特徴とする樹脂組成物。
A resin composition used for forming an insulating layer of a multilayer printed wiring board,
(A) cyanate resin and / or prepolymer thereof,
(B) epoxy resin,
(C) phenoxy resin,
(D) an imidazole compound, and
(E) inorganic filler,
And the (D) imidazole compound is compatible with the components (A) to (C).
前記(A)シアネート樹脂は、ノボラック型シアネート樹脂である請求項1に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1, wherein the (A) cyanate resin is a novolac-type cyanate resin. 前記(B)エポキシ樹脂は、アリールアルキレン型エポキシ樹脂である請求項1又は2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1, wherein the (B) epoxy resin is an aryl alkylene type epoxy resin. 前記(D)イミダゾール化合物は、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、及び、2−エチル−4−メチルイミダゾールから選ばれるものである請求項1ないし3のいずれかに記載の樹脂組成物。 The (D) imidazole compound is selected from 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, and 2-ethyl-4-methylimidazole. The resin composition described in 1. 前記(B)エポキシ樹脂、及び、(C)フェノキシ樹脂は、実質的にハロゲン原子を含まないものである請求項1ないし4のいずれかに記載の樹脂組成物。 5. The resin composition according to claim 1, wherein the (B) epoxy resin and the (C) phenoxy resin are substantially free of halogen atoms. 請求項1ないし5のいずれかに記載の樹脂組成物を、基材に担持させてなることを特徴とする基材付き絶縁シート。 An insulating sheet with a base material, wherein the resin composition according to any one of claims 1 to 5 is supported on the base material. 請求項6に記載の基材付き絶縁シートを、内層回路板の片面または両面に重ね合わせて加熱加圧成形してなることを特徴とする多層プリント配線板。
A multilayer printed wiring board, wherein the insulating sheet with a base material according to claim 6 is overlaid on one or both sides of an inner layer circuit board and heated and pressed.
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