JP2003082291A - Varnish and its application - Google Patents

Varnish and its application

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JP2003082291A
JP2003082291A JP2001290559A JP2001290559A JP2003082291A JP 2003082291 A JP2003082291 A JP 2003082291A JP 2001290559 A JP2001290559 A JP 2001290559A JP 2001290559 A JP2001290559 A JP 2001290559A JP 2003082291 A JP2003082291 A JP 2003082291A
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JP
Japan
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varnish
flame retardant
slurry
organic solvent
film
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Application number
JP2001290559A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Wakizaka
康尋 脇坂
Daisuke Uchida
大輔 内田
Koichi Ikeda
功一 池田
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Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
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Publication date
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Priority to KR1020037005147A priority patent/KR100789685B1/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a varnish capable of forming such an electrical insulating layer that exhibits good flame retardancy, has excellent insulating properties, and is small in a change of dielectric constant, to provide an electrical insulating film obtained by using the varnish, and to provide a laminated material having the film. SOLUTION: This varnish comprises a curable vanish containing an electrical insulating polymer, a curing agent, a flame retardant, and an organic solvent, and satisfies requirements (1) and (2): (1) the flame retardant is obtained by treating surfaces of a flame retarder with a coupling agent; and (2) particles existing in the varnish have a secondary particle diameter of <=30 μm. The varnish is applied to a substrate, dried, cured, and formed into the electrical insulating film, so that a multilayer printed circuit board is obtained. When the varnish is given by preparing a flame retardant slurry composed of the flame retardant obtained by contacting the flame retarder with the coupling agent and an organic solvent, contacting the prepared slurry with a porous material, and mixing the resulted slurry with the electrical insulating polymer together with the curing agent, an increase in viscosity of the vanish is prevented, so that the electrical insulating film having excellent flatness is given even after the varnish is stored for a long period.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電気絶縁膜の製造
に用いるワニスに関し、さらに詳しくは、良好な難燃性
を示し、電気絶縁性に優れ、誘電率変化の少ない電気絶
縁層を形成できるワニス、これを用いて得られる電気絶
縁膜、これを有する積層体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a varnish used for producing an electric insulating film, and more specifically, it can form an electric insulating layer exhibiting good flame retardancy, excellent electric insulating property, and small change in dielectric constant. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a varnish, an electric insulating film obtained by using the varnish, and a laminate having the electric insulating film.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器の小型化、多機能化に伴って、
電子機器に用いられている回路基板にも、より高密度化
が要求されるようになってきている。回路基板を高密度
化するためには、回路基板を多層化するのが一般的であ
る。多層回路基板は、通常、電気絶縁層(1)と、その
表面に形成された導電体回路(1)とからなる内層基板
上に、電気絶縁層(2)を積層し、当該電気絶縁層
(2)の上に導電体回路(2)を形成することによっ
て、さらに必要に応じて電気絶縁層と導電体回路とを数
段積層することによって得られる。
2. Description of the Related Art As electronic equipment becomes smaller and more multifunctional,
Circuit boards used in electronic devices are also required to have higher density. In order to increase the density of the circuit board, it is common to make the circuit board into multiple layers. A multilayer circuit board is usually obtained by stacking an electric insulating layer (2) on an inner layer substrate composed of an electric insulating layer (1) and a conductor circuit (1) formed on the surface of the electric insulating layer (2). It can be obtained by forming a conductor circuit (2) on 2) and further stacking an electric insulating layer and a conductor circuit in several stages, if necessary.

【0003】多層高密度に配線を形成すると、基板自体
や電子素子自体が発熱するようになる。この発熱による
着火を防止するため、電気絶縁層には、通常、難燃剤が
配合されている。
When wiring is formed in a multi-layered high density, the substrate itself and the electronic device itself generate heat. In order to prevent ignition due to this heat generation, a flame retardant is usually added to the electric insulating layer.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明者らが検討した
結果、ある種の難燃剤を用いると、吸湿による電気特性
(誘電率)の変化を起こす場合のあることが判明した。
そこで、本発明の目的は、良好な難燃性を示し、かつ、
電気特性の安定した電気絶縁膜及びこれを有する積層体
を提供することにある。本発明者は、上記目的を達成す
るために鋭意研究をした結果、難燃性付与剤とカップリ
ング剤とを接触させて得られた難燃剤を用いることによ
って、誘電率の変化の少ない電気絶縁層が得られること
を見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに到
った。
As a result of studies by the present inventors, it was found that when a certain flame retardant is used, the electrical characteristics (dielectric constant) may change due to moisture absorption.
Therefore, the object of the present invention is to show good flame retardancy, and
An object of the present invention is to provide an electric insulating film having stable electric characteristics and a laminate having the electric insulating film. The present inventor has conducted extensive studies in order to achieve the above object, and as a result, by using a flame retardant obtained by bringing a flame retardant-imparting agent and a coupling agent into contact with each other, electrical insulation with little change in dielectric constant is obtained. It was found that a layer was obtained, and the present invention was completed based on this finding.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】かくして、本発明によれ
ば、第一の発明として、絶縁性重合体、硬化剤、難燃剤
及び有機溶剤を含有する硬化性のワニスであって、
(1)難燃剤が、難燃性付与剤をカップリング剤で表面
処理して得られたものであり、(2)ワニス中に存在す
る粒子の二次粒子径が30μm以下であるワニスが提供
され、第二の発明として、当該ワニスを乾燥して得られ
る成形物が提供され、第三の発明として、当該成形物を
硬化してなる電気絶縁膜が提供され、第四の発明とし
て、導電体回路層を有する基板上に、第三の発明である
電気絶縁膜からなる電気絶縁層が形成された積層体が提
供され、第五の発明として難燃性付与剤とカップリング
剤とを接触させて得られた難燃剤と、有機溶剤とからな
る難燃剤スラリーが提供され、第六の発明として、当該
スラリーと、絶縁性重合体と、硬化剤とを混合すること
を特徴とする第一の発明であるワニスを調製する方法が
提供される。
Thus, according to the present invention, as a first invention, a curable varnish containing an insulating polymer, a curing agent, a flame retardant and an organic solvent,
(1) A flame retardant is obtained by surface-treating a flame retardant-imparting agent with a coupling agent, and (2) a varnish in which the secondary particle diameter of the particles present in the varnish is 30 μm or less is provided. As a second invention, a molded product obtained by drying the varnish is provided, as a third invention, an electrical insulating film obtained by curing the molded product is provided, and as a fourth invention, conductive Provided is a laminated body in which an electric insulating layer comprising an electric insulating film according to the third invention is formed on a substrate having a body circuit layer, and a flame retarding agent and a coupling agent are brought into contact with each other as a fifth invention. A flame retardant obtained by the above, and a flame retardant slurry comprising an organic solvent is provided, and the sixth invention is characterized by mixing the slurry, an insulating polymer, and a curing agent. A method for preparing a varnish according to the invention is provided.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明のワニスは、絶縁性重合
体、硬化剤、難燃剤及び有機溶剤を含有するものであ
る。本発明のワニスは、二次凝集粒子が小さいという特
徴を有している。即ち、当該ワニス中に存在する粒子の
二次粒子径は30μm以下、好ましくは25μm以下、
より好ましくは20μm以下である。二次粒子径は、J
ISK 5400にて定めるつぶの試験A法により測定
された値である。本発明において二次粒子径は、特に断
りのない限り、この方法により測定された値である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The varnish of the present invention contains an insulating polymer, a curing agent, a flame retardant and an organic solvent. The varnish of the present invention is characterized in that secondary aggregated particles are small. That is, the secondary particle diameter of the particles present in the varnish is 30 μm or less, preferably 25 μm or less,
It is more preferably 20 μm or less. The secondary particle size is J
It is a value measured by the crushing test A method defined by ISK 5400. In the present invention, the secondary particle size is a value measured by this method unless otherwise specified.

【0007】絶縁性重合体としては、エポキシ樹脂、マ
レイミド樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ジアリルフタレ
ート樹脂、トリアジン樹脂、脂環式オレフィン重合体、
芳香族ポリエーテル重合体、ベンゾシクロブテン重合
体、シアネートエステル重合体、液晶ポリマー、ポリイ
ミドなどが挙げられる。これらの中でも、脂環式オレフ
ィン重合体、芳香族ポリエーテル重合体、ベンゾシクロ
ブテン重合体、シアネートエステル重合体又はポリイミ
ドが好ましく、脂環式オレフィン重合体又は芳香族ポリ
エーテル重合体が特に好ましく、脂環式オレフィン重合
体がとりわけ好ましい。これらの重合体の他に、液晶ポ
リマーも好ましい絶縁性重合体として用いることができ
る。液晶ポリマーとしては、芳香族または脂肪族ジヒド
ロキシ化合物の重合体、芳香族または脂肪族ジカルボン
酸の重合体、芳香族ヒドロキシカルボン酸の重合体、芳
香族ジアミン、芳香族ヒドロキシアミンまたは芳香族ア
ミノカルボン酸の重合体などの熱可塑性液晶ポリマーが
好ましい例として挙げられる。
As the insulating polymer, epoxy resin, maleimide resin, (meth) acrylic resin, diallyl phthalate resin, triazine resin, alicyclic olefin polymer,
Examples thereof include aromatic polyether polymers, benzocyclobutene polymers, cyanate ester polymers, liquid crystal polymers and polyimides. Among these, alicyclic olefin polymers, aromatic polyether polymers, benzocyclobutene polymers, cyanate ester polymers or polyimides are preferable, and alicyclic olefin polymers or aromatic polyether polymers are particularly preferable, Alicyclic olefin polymers are especially preferred. In addition to these polymers, liquid crystal polymers can also be used as preferred insulating polymers. As the liquid crystal polymer, a polymer of an aromatic or aliphatic dihydroxy compound, a polymer of an aromatic or aliphatic dicarboxylic acid, a polymer of an aromatic hydroxycarboxylic acid, an aromatic diamine, an aromatic hydroxyamine or an aromatic aminocarboxylic acid. A preferable example is a thermoplastic liquid crystal polymer such as a polymer of

【0008】脂環式オレフィン重合体は、脂環式構造を
有する不飽和炭化水素の重合体である。脂環式構造とし
ては、シクロアルカン構造やシクロアルケン構造などが
挙げられるが、機械的強度、耐熱性などの観点から、シ
クロアルカン構造が好ましい。また、脂環式構造として
は、単環、多環(縮合多環、橋架け環、これらの組み合
わせ多環など)のいずれであっても良い。脂環式構造を
構成する炭素原子数に格別な制限はないが、通常4〜3
0個、好ましくは5〜20個、より好ましくは5〜15
個の範囲であるときに、機械的強度、耐熱性、及び成形
性の諸特性が高度にバランスされ好適である。また、本
発明で使用される脂環式オレフィン重合体は、通常、熱
可塑性のものである。
The alicyclic olefin polymer is a polymer of unsaturated hydrocarbon having an alicyclic structure. Examples of the alicyclic structure include a cycloalkane structure and a cycloalkene structure, and the cycloalkane structure is preferable from the viewpoint of mechanical strength, heat resistance and the like. Further, the alicyclic structure may be either a monocyclic ring or a polycyclic ring (condensed polycyclic ring, bridged ring, polycyclic ring in combination thereof, etc.). The number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is not particularly limited, but usually 4 to 3
0, preferably 5 to 20, more preferably 5 to 15
When it is in the range of individual pieces, various properties such as mechanical strength, heat resistance, and moldability are highly balanced, which is preferable. Further, the alicyclic olefin polymer used in the present invention is usually thermoplastic.

【0009】脂環式オレフィン重合体は、極性基を有す
るものが好ましい。極性基としては、ヒドロキシル基、
カルボキシル基、アルコキシル基、エポキシ基、グリシ
ジル基、オキシカルボニル基、カルボニル基、アミノ
基、エステル基、カルボン酸無水物基などが挙げられ、
特に、カルボキシル基又はカルボン酸無水物基が好適で
ある。
The alicyclic olefin polymer preferably has a polar group. As the polar group, a hydroxyl group,
Carboxyl group, alkoxyl group, epoxy group, glycidyl group, oxycarbonyl group, carbonyl group, amino group, ester group, carboxylic acid anhydride group and the like,
Particularly, a carboxyl group or a carboxylic acid anhydride group is preferable.

【0010】脂環式オレフィン重合体は、通常、脂環式
オレフィンを付加重合又は開環重合し、そして必要に応
じて不飽和結合部分を水素化することによって、或いは
芳香族オレフィンを付加重合又は開環重合し、そして当
該重合体の芳香環部分を水素化することによって得られ
る。また、極性基を有する脂環式オレフィン重合体は、
例えば、1)前記脂環式オレフィン重合体に極性基を変
性反応により導入することによって、2)極性基を含有
する単量体を共重合成分として共重合することによっ
て、あるいは3)エステル基などの極性基を含有する単
量体を共重合成分として共重合した後、エステル基など
を加水分解などにより脱離することによって得られる。
The alicyclic olefin polymer is usually obtained by addition-polymerizing or ring-opening polymerizing an alicyclic olefin, and optionally hydrogenating an unsaturated bond portion, or adding an aromatic olefin to a polymer. It is obtained by ring-opening polymerization and hydrogenating the aromatic ring portion of the polymer. Further, the alicyclic olefin polymer having a polar group,
For example, 1) introducing a polar group into the alicyclic olefin polymer by a modification reaction, 2) copolymerizing a monomer containing a polar group as a copolymerization component, or 3) an ester group, etc. It can be obtained by copolymerizing a monomer containing a polar group of 1 as a copolymerization component, and then removing an ester group or the like by hydrolysis or the like.

【0011】脂環式オレフィン重合体を得るために使用
される脂環式オレフィンとしては、ビシクロ[2.2.
1]−ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、5
−メチル−ビシクロ[2.2.1]−ヘプト−2−エ
ン、5,5−ジメチル−ビシクロ[2.2.1]−ヘプ
ト−2−エン、5−エチル−ビシクロ[2.2.1]−
ヘプト−2−エン、5−ブチル−ビシクロ[2.2.
1]−ヘプト−2−エン、5−ヘキシル−ビシクロ
[2.2.1]−ヘプト−2−エン、5−オクチル−ビ
シクロ[2.2.1]−ヘプト−2−エン、5−オクタ
デシル−ビシクロ[2.2.1]−ヘプト−2−エン、
5−エチリデン−ビシクロ[2.2.1]−ヘプト−2
−エン、5−メチリデン−ビシクロ[2.2.1]−ヘ
プト−2−エン、5−ビニル−ビシクロ[2.2.1]
−ヘプト−2−エン、
Examples of the alicyclic olefin used for obtaining the alicyclic olefin polymer include bicyclo [2.2.
1] -hept-2-ene (conventional name: norbornene), 5
-Methyl-bicyclo [2.2.1] -hept-2-ene, 5,5-dimethyl-bicyclo [2.2.1] -hept-2-ene, 5-ethyl-bicyclo [2.2.1] ]-
Hept-2-ene, 5-butyl-bicyclo [2.2.
1] -Hept-2-ene, 5-hexyl-bicyclo [2.2.1] -hept-2-ene, 5-octyl-bicyclo [2.2.1] -hept-2-ene, 5-octadecyl -Bicyclo [2.2.1] -hept-2-ene,
5-ethylidene-bicyclo [2.2.1] -hept-2
-Ene, 5-methylidene-bicyclo [2.2.1] -hept-2-ene, 5-vinyl-bicyclo [2.2.1]
-Hept-2-ene,

【0012】5−プロペニル−ビシクロ[2.2.1]
−ヘプト−2−エン、5−メトキシ−カルボニル−ビシ
クロ[2.2.1]−ヘプト−2−エン、5−シアノ−
ビシクロ[2.2.1]−ヘプト−2−エン、5−メチ
ル−5−メトキシカルボニル−ビシクロ[2.2.1]
−ヘプト−2−エン、5−エトキシカルボニル−ビシク
ロ[2.2.1]−ヘプト−2−エン、ビシクロ[2.
2.1]−ヘプト−5−エニル−2−メチルプロピオネ
イト、ビシクロ[2.2.1]−ヘプト−5−エニル−
2−メチルオクタネイト、
5-Propenyl-bicyclo [2.2.1]
-Hept-2-ene, 5-methoxy-carbonyl-bicyclo [2.2.1] -hept-2-ene, 5-cyano-
Bicyclo [2.2.1] -hept-2-ene, 5-methyl-5-methoxycarbonyl-bicyclo [2.2.1]
-Hept-2-ene, 5-ethoxycarbonyl-bicyclo [2.2.1] -hept-2-ene, bicyclo [2.
2.1] -hept-5-enyl-2-methylpropionate, bicyclo [2.2.1] -hept-5-enyl-
2-methyl octanate,

【0013】ビシクロ[2.2.1]−ヘプト−2−エ
ン−5,6−ジカルボン酸無水物、5−ヒドロキシメチ
ルビシクロ[2.2.1]−ヘプト−2−エン、5,6
−ジ(ヒドロキシメチル)−ビシクロ[2.2.1]−
ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシ−i−プロピルビシ
クロ[2.2.1]−ヘプト−2−エン、5,6−ジカ
ルボキシ−ビシクロ[2.2.1]−ヘプト−2−エ
ン、ビシクロ[2.2.1]−ヘプト−2−エン−5,
6−ジカルボン酸イミド、5−シクロペンチル−ビシク
ロ[2.2.1]−ヘプト−2−エン、5−シクロヘキ
シル−ビシクロ[2.2.1]−ヘプト−2−エン、5
−シクロヘキセニル−ビシクロ[2.2.1]−ヘプト
−2−エン、5−フェニル−ビシクロ[2.2.1]−
ヘプト−2−エン、
Bicyclo [2.2.1] -hept-2-ene-5,6-dicarboxylic acid anhydride, 5-hydroxymethylbicyclo [2.2.1] -hept-2-ene, 5,6
-Di (hydroxymethyl) -bicyclo [2.2.1]-
Hept-2-ene, 5-hydroxy-i-propylbicyclo [2.2.1] -hept-2-ene, 5,6-dicarboxy-bicyclo [2.2.1] -hept-2-ene, Bicyclo [2.2.1] -hept-2-ene-5,
6-dicarboxylic acid imide, 5-cyclopentyl-bicyclo [2.2.1] -hept-2-ene, 5-cyclohexyl-bicyclo [2.2.1] -hept-2-ene, 5
-Cyclohexenyl-bicyclo [2.2.1] -hept-2-ene, 5-phenyl-bicyclo [2.2.1]-
Hept-2-ene,

【0014】トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ
−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、
トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン、
トリシクロ[4.4.0.12,5]ウンデカ−3,7
−ジエン、トリシクロ[4.4.0.12,5]ウンデ
カ−3,8−ジエン、トリシクロ[4.4.0.1
,5]ウンデカ−3−エン、テトラシクロ[7.4.
0.110,13.02, ]−トリデカ−2,4,6
−11−テトラエン(別名:1,4−メタノ−1,4,
4a,9a−テトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ
[8.4.0.1 1,14.03,8]−テトラデカ
−3,5,7,12−11−テトラエン(別名:1,4
−メタノ−1,4,4a,5,10,10a−ヘキサヒ
ドロアントラセン)、
Tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3,7-diene (conventional name: dicyclopentadiene),
Tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3-ene,
Tricyclo [4.4.0.1 2,5 ] undeca-3,7
- diene, tricyclo [4.4.0.1 2, 5] undec-3,8-diene, tricyclo [4.4.0.1 2
, 5 ] Undeca-3-ene, tetracyclo [7.4.
0.1 10, 13 . 0 2, 7 ] -Trideca-2,4,6
-11-Tetraene (alias: 1,4-methano-1,4,4)
4a, 9a-tetrahydrofluorene), tetracyclo [8.4.0.1 1 1,14 . 0 3,8 ] -tetradeca-3,5,7,12-11-tetraene (alias: 1,4
-Methano-1,4,4a, 5,10,10a-hexahydroanthracene),

【0015】テトラシクロ[4.4.0.12,5.1
7,10]−ドデカ−3−エン(慣用名:テトラシクロ
ドデセン)、8−メチル−テトラシクロ[4.4.0.
,5.17,10]−ドデカ−3−エン、8−エチ
ル−テトラシクロ[4.4.0.12,5
7,10]−ドデカ−3−エン、8−メチリデン−テ
トラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−ド
デカ−3−エン、8−エチリデン−テトラシクロ[4.
4.0.12,5.17,10]−ドデカ−3−エン、
8−ビニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.1
7,10]−ドデカ−3−エン、8−プロペニル−テト
ラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−ドデ
カ−3−エン、8−メトキシカルボニル−テトラシクロ
[4.4.0.1 ,5.17,10]−ドデカ−3−
エン、8−メチル−8−メトキシカルボニル−テトラシ
クロ[4.4.0.12,5.17,10]−ドデカ−
3−エン、8−ヒドロキシメチル−テトラシクロ[4.
4.0.12,5.17,10]−ドデカ−3−エン、
8−カルボキシ−テトラシクロ[4.4.0.
2,5.1 ,10]−ドデカ−3−エン、
Tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1
7,10 ] -Dodeca-3-ene (trivial name: tetracyclododecene), 8-methyl-tetracyclo [4.4.0.
1 2 , 5 . 1 7,10 ] -dodec-3-ene, 8-ethyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .
1 7,10 ] -dodec-3-ene, 8-methylidene-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -Dodeca-3-ene, 8-ethylidene-tetracyclo [4.
4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -dodeca-3-ene,
8-Vinyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1
7,10 ] -dodeca-3-ene, 8-propenyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10] - dodeca-3-ene, 8-methoxycarbonyloxy - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10 ] -dodeca-3-
Ene, 8-methyl-8-methoxycarbonyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7, 10 ] -Dodeca-
3-ene, 8-hydroxymethyl-tetracyclo [4.
4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -dodeca-3-ene,
8-carboxy-tetracyclo [4.4.0.
1 2,5 . 1 7, 10] - dodeca-3-ene,

【0016】8−シクロペンチル−テトラシクロ[4.
4.0.12,5.17,10]−ドデカ−3−エン、
8−シクロヘキシル−テトラシクロ[4.4.0.1
2,5.17,10]−ドデカ−3−エン、8−シクロ
ヘキセニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.1
7,10]−ドデカ−3−エン、8−フェニル−テトラ
シクロ[4.4.0.12,5.17,10]−ドデカ
−3−エン、ペンタシクロ[6.5.1.13,6.0
2,7.09,13]ペンタデカ−3,10−ジエン、
ペンタシクロ[7.4.0.13,6.110,13
2,7]−ペンタデカ−4,11−ジエンのごときノ
ルボルネン系単量体;
8-cyclopentyl-tetracyclo [4.
4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -dodeca-3-ene,
8-cyclohexyl-tetracyclo [4.4.0.1
2,5 . 1 7,10 ] -dodec-3-ene, 8-cyclohexenyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1
7,10 ] -dodeca-3-ene, 8-phenyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -Dodeca-3-ene, pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0
2,7 . 0 9,13] pentadeca-3,10-diene,
Pentacyclo [7.4.0.1 3,6 . 1 10, 13 .
Norbornene-based monomers such as 0 2,7 ] -pentadeca-4,11-diene;

【0017】シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘ
キセン、3,4−ジメチルシクロペンテン、3−メチル
シクロヘキセン、2−(2−メチルブチル)−1−シク
ロヘキセン、シクロオクテン、3a,5,6,7a−テ
トラヒドロ−4,7−メタノ−1H−インデン、シクロ
ヘプテンのごとき単環のシクロアルケン;ビニルシクロ
ヘキセンやビニルシクロヘキサンのごときビニル系脂環
式炭化水素系単量体;シクロペンタジエン、シクロヘキ
サジエンのごとき脂環式共役ジエン系モノマー;などが
挙げられる。
Cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene, 3,4-dimethylcyclopentene, 3-methylcyclohexene, 2- (2-methylbutyl) -1-cyclohexene, cyclooctene, 3a, 5,6,7a-tetrahydro-4,7- Monocyclic cycloalkenes such as methano-1H-indene and cycloheptene; vinyl-based alicyclic hydrocarbon-based monomers such as vinylcyclohexene and vinylcyclohexane; alicyclic-conjugated diene-based monomers such as cyclopentadiene and cyclohexadiene; Is mentioned.

【0018】芳香族オレフィンとしては、スチレン、α
−メチルスチレン、ジビニルベンゼンなどが挙げられ
る。
Aromatic olefins include styrene and α
-Methylstyrene, divinylbenzene and the like.

【0019】脂環式オレフィン及び/又は芳香族オレフ
ィンは、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わ
せて用いることができる。
The alicyclic olefin and / or aromatic olefin may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0020】脂環式オレフィン重合体は、前記脂環式オ
レフィン及び/又は芳香族オレフィンと、これら共重合
可能な単量体とを共重合して得られるものであってもよ
い。脂環式オレフィン又は芳香族オレフィンと共重合可
能な単量体としては、エチレン;プロピレン、1−ブテ
ン、1−ペンテン、1−ヘキセン、3−メチル−1−ブ
テン、3−メチル−1−ペンテン、3−エチル−1−ペ
ンテン、4−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−
ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ヘキセン、4,4−
ジメチル−1−ペンテン、4−エチル−1−ヘキセン、
3−エチル−1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセ
ン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセ
ン、1−オクタデセン、1−エイコセンなどの炭素数3
〜20のα−オレフィン;1,4−ヘキサジエン、4−
メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−
ヘキサジエン、1,7−オクタジエンなどの非共役ジエ
ン;等が挙げられる。これらの単量体は、それぞれ単独
で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することがで
きる。
The alicyclic olefin polymer may be obtained by copolymerizing the alicyclic olefin and / or aromatic olefin with a copolymerizable monomer thereof. Monomers copolymerizable with alicyclic olefins or aromatic olefins include ethylene; propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 3-methyl-1-butene, 3-methyl-1-pentene. , 3-ethyl-1-pentene, 4-methyl-1-pentene, 4-methyl-1-
Hexene, 4,4-dimethyl-1-hexene, 4,4-
Dimethyl-1-pentene, 4-ethyl-1-hexene,
Carbon number 3 such as 3-ethyl-1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, 1-eicosene
~ 20 α-olefins; 1,4-hexadiene, 4-
Methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-
Non-conjugated dienes such as hexadiene and 1,7-octadiene; and the like. These monomers may be used alone or in combination of two or more.

【0021】脂環式オレフィンや芳香族オレフィンの重
合方法、及び必要に応じて行われる水素添加の方法は、
格別な制限はなく、公知の方法に従って行うことができ
る。
The method for polymerizing alicyclic olefins and aromatic olefins, and the method for hydrogenation, which is carried out if necessary, are as follows:
There is no particular limitation, and it can be performed according to a known method.

【0022】脂環式オレフィン重合体の具体例として
は、ノルボルネン系単量体の開環重合体及びその水素添
加物、ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネ
ン系単量体とビニル化合物との付加重合体、単環シクロ
アルケン重合体、脂環式共役ジエン重合体、ビニル系脂
環式炭化水素重合体及びその水素添加物、芳香族オレフ
ィン重合体の芳香環水素添加物などが挙げられる。これ
らの中でも、ノルボルネン系単量体の開環重合体及びそ
の水素添加物、ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノ
ルボルネン系単量体とビニル化合物との付加重合体、芳
香族オレフィン重合体の芳香環水素添加物が好ましく、
特にノルボルネン系単量体の開環重合体の水素添加物が
好ましい。前記の脂環式オレフィン重合体は、それぞれ
単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることが
できる。なお、脂環式オレフィン重合体のなかでも、ノ
ルボルネン系単量体の開環重合体及びその水素添加物
は、その構造の違いから、C2nで表されるオレフ
ィンを共重合して得られるポリオレフィン樹脂とは異種
のポリマーに分類されるものである。
Specific examples of the alicyclic olefin polymer include ring-opening polymers of norbornene-based monomers and hydrogenated products thereof, addition polymers of norbornene-based monomers, norbornene-based monomers and vinyl compounds. Addition polymers, monocyclic cycloalkene polymers, alicyclic conjugated diene polymers, vinyl alicyclic hydrocarbon polymers and hydrogenated products thereof, and aromatic ring hydrogenated products of aromatic olefin polymers. . Of these, ring-opening polymers of norbornene-based monomers and hydrogenated products thereof, addition polymers of norbornene-based monomers, addition polymers of norbornene-based monomers and vinyl compounds, aromatic olefin polymers Aromatic ring hydrogenated products are preferred,
A hydrogenated product of a ring-opening polymer of a norbornene-based monomer is particularly preferable. The above alicyclic olefin polymers may be used alone or in combination of two or more. Among alicyclic olefin polymers, ring-opening polymers of norbornene-based monomers and hydrogenated products thereof are obtained by copolymerizing olefins represented by C n H 2n due to the difference in their structures. The obtained polyolefin resin is classified into different polymers.

【0023】脂環式オレフィン重合体は、その分子量に
よって特に制限されない。脂環式オレフィン重合体の分
子量は、シクロヘキサン又はトルエンを有機溶剤とする
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で
測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)
で、通常1,000〜1,000,000、好ましくは
5,000〜500,000、より好ましくは10,0
00〜250,000の範囲である。脂環式オレフィン
重合体の重量平均分子量(Mw)がこの範囲にあるとき
には、耐熱性、成形物表面の平滑性などがバランスされ
好適である。
The alicyclic olefin polymer is not particularly limited by its molecular weight. The molecular weight of the alicyclic olefin polymer is the polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography (GPC) using cyclohexane or toluene as an organic solvent.
, Usually 1,000 to 1,000,000, preferably 5,000 to 500,000, and more preferably 10.0.
It is in the range of 00 to 250,000. When the weight average molecular weight (Mw) of the alicyclic olefin polymer is in this range, heat resistance and smoothness of the surface of the molded product are balanced, which is preferable.

【0024】脂環式オレフィン重合体の分子量分布は、
シクロヘキサン又はトルエンを有機溶剤とするGPCで
測定される重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(M
n)との比(Mw/Mn)で、通常5以下、好ましくは
4以下、より好ましくは3以下である。上記の重量平均
分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)の範囲及
び測定法は、ノルボルネン系重合体に好適に適合する
が、それに限定されるものではない。また、上記方法で
重量平均分子量や分子量分布が測定できない脂環式オレ
フィン重合体の場合には、通常の溶融加工法により樹脂
層を形成し得る程度の溶融粘度や重合度を有するものを
使用することができる。
The molecular weight distribution of the alicyclic olefin polymer is
Weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (M) measured by GPC using cyclohexane or toluene as an organic solvent.
The ratio (Mw / Mn) with respect to n) is usually 5 or less, preferably 4 or less, more preferably 3 or less. The ranges and measuring methods of the weight average molecular weight (Mw) and the molecular weight distribution (Mw / Mn) described above are suitable for the norbornene-based polymer, but are not limited thereto. Further, in the case of an alicyclic olefin polymer whose weight average molecular weight or molecular weight distribution cannot be measured by the above-mentioned method, one having a melt viscosity and a degree of polymerization sufficient to form a resin layer by a usual melt processing method is used. be able to.

【0025】脂環式オレフィン重合体のガラス転移温度
は、使用目的に応じて適宜選択できるが、通常50℃以
上、好ましくは70℃以上、より好ましくは100℃以
上、最も好ましくは125℃以上である。
The glass transition temperature of the alicyclic olefin polymer can be appropriately selected according to the purpose of use, but is usually 50 ° C. or higher, preferably 70 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, most preferably 125 ° C. or higher. is there.

【0026】本発明に用いる硬化剤に格別な限定はな
く、例えば、イオン性硬化剤、ラジカル性硬化剤又はイ
オン性とラジカル性とを兼ね備えた硬化剤等が用いら
れ、絶縁抵抗性、耐熱性、耐薬品性、及び脂環式オレフ
ィン重合体との相溶性の観点でイオン性硬化剤が好まし
い。中でも、窒素原子を含有する窒素系硬化剤が好まし
く、さらに窒素系硬化剤にはハロゲン元素が含まれてい
ないものが好ましい。
There is no particular limitation on the curing agent used in the present invention. For example, an ionic curing agent, a radical curing agent, or a curing agent having both ionic and radical properties is used, and insulation resistance and heat resistance are used. The ionic curing agent is preferable from the viewpoints of chemical resistance, chemical resistance, and compatibility with the alicyclic olefin polymer. Above all, a nitrogen-based curing agent containing a nitrogen atom is preferable, and a nitrogen-based curing agent containing no halogen element is more preferable.

【0027】窒素系硬化剤としては、例えば、ヘキサメ
チレンジアミン、トリエチレンテトラミン、ジエチレン
トリアミン、テトラエチレンペンタミンなどの脂肪族ポ
リアミン;ジアミノシクロヘキサン、3(4),8
(9)−ビス(アミノメチル)トリシクロ[5.2.
1.02,6]デカン;1,3−(ジアミノメチル)シ
クロヘキサン、メンセンジアミン、イソホロンジアミン
N−アミノエチルピペラジン、ビス(4−アミノ−3−
メチルシクロヘキシル)メタン、ビス(4−アミノシク
ロヘキシル)メタンなどの脂環族ポリアミン;4,4’
−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジ
フェニルメタン、α,α’−ビス(4−アミノフェニ
ル)−1,3−ジイソプロピルベンゼン、α,α’−ビ
ス(4−アミノフェニル)−1,4−ジイソプロピルベ
ンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフォン、メ
タフェニレンジアミン、メタキシシリレンジアミンなど
の芳香族ポリアミン;ナイロン−6、ナイロン−66、
ナイロン−610、ナイロン−11、ナイロン−61
2、ナイロン−12、ナイロン−46、メトキシメチル
化ポリアミド、ポリヘキサメチレンジアミンテレフタル
アミド、ポリヘキサメチレンイソフタルアミドなどのポ
リアミド;ヘキサメチレンジイソシアネート、トルイレ
ンジイソシアネートなどのイソシアネート;イソシアヌ
ル酸;
Examples of the nitrogen-based curing agent include aliphatic polyamines such as hexamethylenediamine, triethylenetetramine, diethylenetriamine and tetraethylenepentamine; diaminocyclohexane, 3 (4), 8
(9) -bis (aminomethyl) tricyclo [5.2.
1.0 2,6 ] decane; 1,3- (diaminomethyl) cyclohexane, menthenediamine, isophoronediamine N-aminoethylpiperazine, bis (4-amino-3-)
Alicyclic polyamines such as methylcyclohexyl) methane and bis (4-aminocyclohexyl) methane; 4,4 ′
-Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, α, α'-bis (4-aminophenyl) -1,3-diisopropylbenzene, α, α'-bis (4-aminophenyl) -1,4-diisopropyl Aromatic polyamines such as benzene, 4,4′-diaminodiphenyl sulfone, metaphenylenediamine, metaxylylenediamine; nylon-6, nylon-66,
Nylon-610, Nylon-11, Nylon-61
2, polyamide such as nylon-12, nylon-46, methoxymethylated polyamide, polyhexamethylenediamine terephthalamide, polyhexamethylene isophthalamide; isocyanate such as hexamethylene diisocyanate, toluylene diisocyanate; isocyanuric acid;

【0028】トリアリルシアヌレート;1−アリルイソ
シヌレート、1,3−ジアリルイソシアヌレート、1,
3−ジアリル−5−ベンジルイソシアヌレート、トリア
リルイソシアヌレート、1−アリル−3,5−ジベンジ
ルイソシアヌレート;1−アリル−3,5−ジグリシジ
ルイソシアヌレート、1,3−ジアリル−5−グリシジ
ルイソシアヌレート、トリグリシジルイソシアヌレー
ト、1,3−ジアリル−5−(2−ヒドロキシ−3−ブ
トキシプロピル)−1,3,5−トリアジン−2,4,
6(1H,3H,5H)−トリオン、1,3−ジアリル
−5−(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)−
1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5
H)−トリオンなどのイソシアヌレート構造を有する化
合物;グリシジルアミン型エポキシ化合物;が挙げられ
る。これらのうち、アリル基とエポキシ基とを含有する
窒素系硬化剤が好ましく、特に1−アリル−3,5−ジ
グリシジルイソシアヌレート、1,3−ジアリル−5−
グリシジルイソシアヌレートのごときアリル基とエポキ
シ基とを含有するハロゲン不含のイソシアヌレート系硬
化剤が好ましい。
Triallyl cyanurate; 1-allyl isocyanurate, 1,3-diallyl isocyanurate, 1,
3-diallyl-5-benzyl isocyanurate, triallyl isocyanurate, 1-allyl-3,5-dibenzyl isocyanurate; 1-allyl-3,5-diglycidyl isocyanurate, 1,3-diallyl-5-glycidyl Isocyanurate, triglycidyl isocyanurate, 1,3-diallyl-5- (2-hydroxy-3-butoxypropyl) -1,3,5-triazine-2,4
6 (1H, 3H, 5H) -trione, 1,3-diallyl-5- (2-hydroxy-3-phenoxypropyl)-
1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5
H) -trione and other compounds having an isocyanurate structure; glycidyl amine type epoxy compounds; Of these, a nitrogen-based curing agent containing an allyl group and an epoxy group is preferable, and particularly 1-allyl-3,5-diglycidyl isocyanurate and 1,3-diallyl-5-.
A halogen-free isocyanurate curing agent containing an allyl group and an epoxy group such as glycidyl isocyanurate is preferable.

【0029】これらの窒素系硬化剤は、それぞれ単独
で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることがで
き、その配合割合は、絶縁性重合体100重量部に対し
て、通常5〜150重量部、好ましくは15〜110重
量部、より好ましくは30〜100重量部の範囲であ
る。
These nitrogen-based curing agents can be used alone or in combination of two or more, and the mixing ratio thereof is usually 5 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the insulating polymer, The range is preferably 15 to 110 parts by weight, more preferably 30 to 100 parts by weight.

【0030】もちろん、これらの窒素系硬化剤以外に
も、例えば、ビスアジド化合物、酸無水物、ジカルボン
酸化合物、ジオール化合物、トリオール化合物、多価フ
ェノール化合物、グリシジルエーテル型エポキシ化合
物、脂環式エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポ
キシ化合物などの窒素原子を有さない多価エポキシ化合
物、一般的に用いられる硬化剤を用いても良い。
Of course, other than these nitrogen-based curing agents, for example, bisazide compounds, acid anhydrides, dicarboxylic acid compounds, diol compounds, triol compounds, polyhydric phenol compounds, glycidyl ether type epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds. A polyvalent epoxy compound having no nitrogen atom, such as a glycidyl ester type epoxy compound, or a commonly used curing agent may be used.

【0031】硬化剤は、単独で、あるいは2種以上を組
み合わせて用いることができ、その配合割合は、絶縁性
重合体100重量部に対して、通常5〜150重量部、
好ましくは15〜110重量部、より好ましくは30〜
100重量部の範囲である。
The curing agents can be used alone or in combination of two or more, and the compounding ratio thereof is usually 5 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the insulating polymer,
Preferably 15 to 110 parts by weight, more preferably 30 to
It is in the range of 100 parts by weight.

【0032】絶縁性重合体と硬化剤との硬化反応を促進
させるために、硬化促進剤や硬化助剤を使用することも
できる。硬化促進剤は、特に限定されない。例えば、硬
化剤が、第3級アミン系化合物や三弗化ホウ素錯化合物
などが好適である。なかでも、第3級アミン系化合物を
使用すると、微細配線に対する積層性、絶縁抵抗性、耐
熱性、耐薬品性が向上する。
A curing accelerator or a curing aid may be used to accelerate the curing reaction between the insulating polymer and the curing agent. The curing accelerator is not particularly limited. For example, the curing agent is preferably a tertiary amine compound or a boron trifluoride complex compound. Among them, the use of the tertiary amine compound improves the stacking property for fine wiring, insulation resistance, heat resistance, and chemical resistance.

【0033】第3級アミン系化合物の具体例としては、
ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、トリベンジルアミ
ン、ジメチルホルムアミドなどの鎖状3級アミン化合
物;ピラゾール類、ピリジン類、ピラジン類、ピリミジ
ン類、インダゾール類、キノリン類、イソキノリン類、
イミダゾール類、トリアゾール類などの化合物が挙げら
れる。これらの中でも、イミダゾール類、特に置換基を
有する置換イミダゾール化合物が好ましい。
Specific examples of the tertiary amine compound include:
Chain tertiary amine compounds such as benzyldimethylamine, triethanolamine, triethylamine, tributylamine, tribenzylamine, dimethylformamide; pyrazoles, pyridines, pyrazines, pyrimidines, indazoles, quinolines, isoquinolines,
Examples include compounds such as imidazoles and triazoles. Among these, imidazoles, especially substituted imidazole compounds having a substituent are preferable.

【0034】置換イミダゾール化合物の具体例として
は、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチル
イミダゾール、ビス−2−エチル−4−メチルイミダゾ
ール、1−メチル−2−エチルイミダゾール、2−イソ
プロピルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾー
ル、2−ヘプタデシルイミダゾールなどのアルキル置換
イミダゾール化合物;2−フェニルイミダゾール、2−
フェニル−4−メチルイミダゾール,1−ベンジル−2
−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−エチルイミ
ダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、
ベンズイミダゾール、2−エチル−4−メチル−1−
(2’−シアノエチル)イミダゾール、2−エチル−4
−メチル−1−[2’−(3”,5”−ジアミノトリア
ジニル)エチル]イミダゾールなどのアリール基やアラ
ルキル基などの環構造を含有する炭化水素基で置換され
たイミダゾール化合物などが挙げられる。これらの中で
も、環構造含有の置換基を有するイミダゾールが脂環式
オレフィン重合体との相溶性の観点から好ましく、特
に、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾールが好まし
い。
Specific examples of the substituted imidazole compound include 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, bis-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-methyl-2-ethylimidazole and 2-isopropylimidazole. , 2,4-Dimethylimidazole, 2-heptadecylimidazole and other alkyl-substituted imidazole compounds; 2-phenylimidazole, 2-
Phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2
-Methyl imidazole, 1-benzyl-2-ethyl imidazole, 1-benzyl-2-phenyl imidazole,
Benzimidazole, 2-ethyl-4-methyl-1-
(2'-Cyanoethyl) imidazole, 2-ethyl-4
Examples include aryl group such as -methyl-1- [2 '-(3 ", 5" -diaminotriazinyl) ethyl] imidazole and imidazole compound substituted with hydrocarbon group having ring structure such as aralkyl group. To be Among these, imidazole having a ring structure-containing substituent is preferable from the viewpoint of compatibility with the alicyclic olefin polymer, and 1-benzyl-2-phenylimidazole is particularly preferable.

【0035】硬化促進剤は、単独で、あるいは2種以上
を組み合わせて用いられる。硬化促進剤の配合量は、使
用目的に応じて適宜選択されるが、絶縁性重合体100
重量部に対して、通常0.001〜30重量部、好まし
くは0.01〜10重量部、より好ましくは0.03〜
5重量部である。
The curing accelerator may be used alone or in combination of two or more kinds. The compounding amount of the curing accelerator is appropriately selected according to the purpose of use, but the insulating polymer 100
0.001 to 30 parts by weight, preferably 0.01 to 10 parts by weight, and more preferably 0.03 to 10 parts by weight.
5 parts by weight.

【0036】硬化助剤は、必要に応じて使用される。硬
化助剤としては、例えば、キノンジオキシム、ベンゾキ
ノンジオキシム、p−ニトロソフェノール等のオキシム
・ニトロソ系硬化助剤;N,N−m−フェニレンビスマ
レイミド等のマレイミド系硬化助剤;ジアリルフタレー
ト、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレ
ート等のアリル系硬化助剤;エチレングリコールジメタ
クリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト等のメタクリレート系硬化助剤;ビニルトルエン、エ
チルビニルベンゼン、ジビニルベンゼンなどのビニル系
硬化助剤等が挙げられる。この他、アリル基を有する硬
化剤に対して硬化助剤として機能する過酸化物を用いる
こともできる。
The curing aid is used if necessary. Examples of the curing aid include oxime / nitroso-based curing aids such as quinonedioxime, benzoquinonedioxime and p-nitrosophenol; maleimide-based curing aids such as N, Nm-phenylene bismaleimide; diallyl phthalate, Allyl type curing aids such as triallyl cyanurate and triallyl isocyanurate; methacrylate type curing aids such as ethylene glycol dimethacrylate and trimethylolpropane trimethacrylate; vinyl type curing aids such as vinyltoluene, ethylvinylbenzene and divinylbenzene. Agents and the like. In addition, a peroxide that functions as a curing aid for a curing agent having an allyl group can be used.

【0037】過酸化物としては、例えば、ベンゾイルペ
ルオキシド、ジクロルベンゾイルペルオキシド、ジクミ
ルペルオキシド、ジ−tert−ブチルペルオキシド、
2,5−ジメチル−2,5−(ペルオキシドベンゾエー
ト)−3−ヘキシン、1,4−ビス(tert−ブチル
ペルオキシイソプロピル)ベンゼン、ラウロイルペルオ
キシド、tert−ブチルペルアセテート、2,5−ジ
メチル−2,5−ジ(tert−ブチルペルオキシ)ヘ
キシン−3、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert
−ブチルペルオキシ)ヘキサン、tert−ブチルペル
ベンゾエート、tertブチルベルフェニルアセテー
ト、tert−ブチルペルイソブチレート、tert−
ブチルペル−sec−オクトエート、tert−ブチル
ペルピパレート、クミルペルピパレート及びtert−
ブチルペルジエチルアセテート、メチルエチルケトンペ
ルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、1,1−
ビス(t−ブチルペルオキシ)3,3,5−トリメチル
シクロヘキサン、2,2−ビス(t−ブチルペルオキ
シ)ブタン、t−ブチルハイドロペルオキシド、2,5
−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロペルオキシ
ド、ジクミルペルオキシド、2,5−ジメチル−2,5
−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキシン−3、α,α’
−ビス(t−ブチルペルオキシ−m−イソプロピル)ベ
ンゼン、オクタノイルペルオキシド、イソブチリルペル
オキシド、ペルオキシジカーボネートなどが挙げられ
る。これら過酸化物のうち、ハロゲン元素を含有しない
ものが好ましい。過酸化物の量は、絶縁性重合体100
重量部に対して、通常0.1〜40重量部、好ましくは
1〜20重量部である。過酸化物の量がこの範囲内にあ
るものは、より配線埋め込みなどの積層性に優れる。
Examples of the peroxide include benzoyl peroxide, dichlorobenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, di-tert-butyl peroxide,
2,5-Dimethyl-2,5- (peroxide benzoate) -3-hexyne, 1,4-bis (tert-butylperoxyisopropyl) benzene, lauroyl peroxide, tert-butyl peracetate, 2,5-dimethyl-2, 5-di (tert-butylperoxy) hexyne-3,2,5-dimethyl-2,5-di (tert
-Butylperoxy) hexane, tert-butyl perbenzoate, tert butyl perphenylacetate, tert-butyl perisobutyrate, tert-
Butyl per-sec-octoate, tert-butyl perpiperate, cumyl perpiperate and tert-
Butyl perdiethyl acetate, methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, 1,1-
Bis (t-butylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, 2,2-bis (t-butylperoxy) butane, t-butyl hydroperoxide, 2,5
-Dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5
-Di (t-butylperoxy) hexyne-3, α, α '
Examples include -bis (t-butylperoxy-m-isopropyl) benzene, octanoyl peroxide, isobutyryl peroxide, and peroxydicarbonate. Among these peroxides, those containing no halogen element are preferable. The amount of peroxide is 100% insulating polymer.
It is usually 0.1 to 40 parts by weight, preferably 1 to 20 parts by weight, based on parts by weight. When the amount of the peroxide is within this range, the stacking property such as wiring embedding is more excellent.

【0038】本発明に用いる難燃剤は、難燃性付与剤を
カップリング剤で表面処理して得られたおものであり、
通常、表面処理は、難燃性付与剤とカップリング剤とを
接触させることにより行う。難燃性付与剤は、一般に難
燃剤として用いられる化合物でよい。また、難燃性付与
剤は粒子形状であるのが好ましい。難燃性付与剤の一次
粒子の平均長径は、通常0.01〜5μm、好ましくは
0.05〜3μmであり、平均アスペクト比(=平均長
径/平均短径)は通常5以下、好ましくは3以下であ
る。さらに、長径10μmを超える粒子数が10%以
下、好ましくは5%以下、特に好ましくは1%以下であ
るものを用いると、難燃性が高く、電気絶縁性にも優れ
た多層回路基板を得ることができる。難燃性付与剤は、
環境保護の観点から、焼却時にハロゲン含有有害物質を
発生しないハロゲンを含有しない化合物(以下、非ハロ
ゲン系難燃剤という)が好ましい。非ハロゲン系難燃剤
の具体例としては、三酸化アンチモン、五酸化アンチモ
ン、アンチモン酸ソーダのごときアンチモン化合物;水
酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硼酸亜鉛、ス
ルファミン酸グアニジン、ジルコニウム化合物、モリブ
デン化合物、すず化合物のごときその他の無機難燃剤;
トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェー
ト、トリキシレニルホスフェート、トリメチルホスフェ
ート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェー
ト、トリオクチルホスフェート、トリブトキシエチルホ
スフェート、オクチルジフェニルホスフェート、クレジ
ルジフェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホス
フェート、レゾルシノールビス(ジフェニル)ホスフェ
ート、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、ジ
メチルメチルホスフェート、トリアリルホスフェート、
ジエチルビス(ヒドロキシエチル)アミノメチルホスフ
ェート、トリアリルホスフェート、トリス(3−ヒドロ
キシプロピル)ホスフィンオキシド、グリシジル−α−
メチル−β−ジ(ブトキシ)ホスフィニル・プロピオネ
ート、ジブチルヒドロオキシメチルホスフォネート、ジ
メチルメチルホスフォネート、芳香族縮合りん酸エステ
ル、ジ(エトキシ−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−
アミノメチルホスフェート、ジ(ポリオキシエチレン)
−ヒドロキシメチル・ホスフォネート、ポリりん酸アン
モニウム、ブチルピロホスフェート、ブチルアシッドホ
スフェート、ブトキシエチルアシッドホスフェート、2
−エチルヘキシルアシッドホスフェート、ジエチルフェ
ニルホスフォネート、ジメチルフェニルホスフォネー
ト、ジ(イソプロピル)N,N−ビス(2−ヒドロキシ
エチル)アミノメチルホスフォネート、ジブチルビス
(2−ヒドロキシプロピル)ピロホスフォネート、フェ
ニルホスフィン酸、
The flame retardant used in the present invention is obtained by surface-treating a flame retardant-imparting agent with a coupling agent,
Usually, the surface treatment is performed by bringing the flame retardant-imparting agent and the coupling agent into contact with each other. The flame retardant may be a compound generally used as a flame retardant. Further, the flame retardancy-imparting agent is preferably in the form of particles. The average major axis of the primary particles of the flame retardancy-imparting agent is usually 0.01 to 5 μm, preferably 0.05 to 3 μm, and the average aspect ratio (= average major axis / average minor axis) is usually 5 or less, preferably 3 It is the following. Furthermore, when the number of particles having a major axis of 10 μm or less is 10% or less, preferably 5% or less, particularly preferably 1% or less, a multilayer circuit board having high flame retardancy and excellent electrical insulation is obtained. be able to. The flame retardant agent is
From the viewpoint of environmental protection, a halogen-free compound (hereinafter referred to as a non-halogen flame retardant) that does not generate a halogen-containing harmful substance when incinerated is preferable. Specific examples of non-halogen flame retardants include antimony trioxide, antimony pentoxide, and antimony compounds such as sodium antimonate; aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, zinc borate, guanidine sulfamate, zirconium compound, molybdenum compound, tin compound. Other inorganic flame retardants such as
Triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tributoxyethyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, xylenyl diphenyl phosphate, resorcinol bis ( Diphenyl) phosphate, 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, dimethyl methyl phosphate, triallyl phosphate,
Diethylbis (hydroxyethyl) aminomethyl phosphate, triallyl phosphate, tris (3-hydroxypropyl) phosphine oxide, glycidyl-α-
Methyl-β-di (butoxy) phosphinyl propionate, dibutylhydroxymethylphosphonate, dimethylmethylphosphonate, aromatic condensed phosphoric acid ester, di (ethoxy-bis- (2-hydroxyethyl)-
Aminomethyl phosphate, di (polyoxyethylene)
-Hydroxymethyl phosphate, ammonium polyphosphate, butyl pyrophosphate, butyl acid phosphate, butoxyethyl acid phosphate, 2
-Ethylhexyl acid phosphate, diethylphenylphosphonate, dimethylphenylphosphonate, di (isopropyl) N, N-bis (2-hydroxyethyl) aminomethylphosphonate, dibutylbis (2-hydroxypropyl) pyrophosphonate, Phenylphosphinic acid,

【0039】ポリりん酸メラミン塩、ポリりん酸メラミ
ン・メラム・メレム複塩、赤燐、りん酸グアニジン、り
ん酸グアニル尿素、ポリりん酸硫酸塩、ジフェニルりん
酸エステル−2−プロペニルアミド、ジフェニルりん酸
エステル−2−ヒドロキシエチルアミド、ジフェニルり
ん酸エステル−ジ(2−ヒドロキシエチル)アミド、ジ
フェニルりん酸エステル−ジ−2−シアノエチルアミ
ド、ジフェニルりん酸エステル−p−ヒドロキシフェニ
ルアミド、ジフェニルりん酸エステル−m−ヒドロキシ
フェニルアミド、ジフェニルりん酸エステル−シクロヘ
キシルアミド;フェニルりん酸エステル−ジ−N,N−
フェニルメチルアミド、フェニルりん酸エステル−ジ−
N−シクロヘキシルアミド、ジ(ブトキシ)ホスフィニ
ル・プロピルアミド、りん・イオウ・酸素を含むポリ酸
の1,3,5−トリアジン誘導体塩(特開平10−30
6082号等参照)のごとき含りん化合物;などが挙げ
られる。これらのうち、含りん化合物が好ましく、特
に、塩基性含窒素化合物とりん酸との塩からなるりん系
難燃剤ものが好ましい。
Melamine polyphosphate salt, melamine melam / melem double salt polyphosphate, red phosphorus, guanidine phosphate, guanylurea phosphate, polyphosphoric acid sulfate, diphenylphosphoric acid ester-2-propenylamide, diphenylphosphorus Acid ester-2-hydroxyethylamide, diphenylphosphoric acid ester-di (2-hydroxyethyl) amide, diphenylphosphoric acid ester-di-2-cyanoethylamide, diphenylphosphoric acid ester-p-hydroxyphenylamide, diphenylphosphoric acid ester -M-hydroxyphenylamide, diphenylphosphoric acid ester-cyclohexylamide; phenylphosphoric acid ester-di-N, N-
Phenylmethylamide, phenyl phosphate-di-
N-cyclohexylamide, di (butoxy) phosphinylpropylamide, 1,3,5-triazine derivative salt of polyacid containing phosphorus, sulfur and oxygen (JP-A-10-30
No. 6082, etc.) and the like. Of these, phosphorus-containing compounds are preferable, and phosphorus-based flame retardants composed of a salt of a basic nitrogen-containing compound and phosphoric acid are particularly preferable.

【0040】塩基性含窒素化合物とりん酸との塩は、通
常、りん酸源となるオルトりん酸アンモニウム、オルト
りん酸、縮合りん酸、無水りん酸、りん酸尿素及びこれ
らの混合物と、窒素源となるメラミン、ジシアンシアナ
ミド、グアニジン、グアニル尿素及びこれらの混合物と
を、縮合剤としての尿素、リン酸尿素(これはリン酸源
にもなる)及びこれらの混合物の存在下に、加熱縮合反
応させ、次いで焼成することによって得られる。
The salt of a basic nitrogen-containing compound and phosphoric acid is usually a phosphoric acid source such as ammonium orthophosphate, orthophosphoric acid, condensed phosphoric acid, phosphoric anhydride, urea phosphate and a mixture thereof, and nitrogen. Heat-condensation of melamine, dicyancyanamide, guanidine, guanylurea, and mixtures thereof as a source in the presence of urea, urea phosphate (which also serves as a phosphoric acid source) as a condensing agent, and a mixture thereof. It is obtained by reacting and then firing.

【0041】こうして得られた粒子のメディアン径は1
0μm以下ではあるが、その形状は針状あるいはひげ状
である。また、これらの粒子は、長径10μmを超える
粒子が20%以上存在するものが多く、平均長径が10
〜20μm程度となる。このような場合は、針状あるい
はひげ状の塩基性含窒素化合物とりん酸との塩を、後述
と同様の極性有機溶剤及び非極性有機溶剤からなる混合
有機溶剤中で湿式粉砕することにより、前述したアスペ
クト比に調整することができる。非極性有機溶剤の重量
比が多すぎると粉砕時に含窒素化合物とりん酸との塩が
凝集して所望の粒子形状にすることが困難になることが
ある。逆に非極性有機溶剤の重量比が少なすぎると二次
凝集を起こしやすくなり絶縁性重合体への分散が悪くな
ることがある。
The median diameter of the particles thus obtained is 1
Although it is 0 μm or less, its shape is needle-like or whisker-like. Many of these particles have 20% or more of particles having a major axis of more than 10 μm, and have an average major axis of 10%.
It becomes about 20 μm. In such a case, a salt of a needle-shaped or whisker-shaped basic nitrogen-containing compound and phosphoric acid, by wet pulverizing in a mixed organic solvent consisting of a polar organic solvent and a nonpolar organic solvent similar to the following, The aspect ratio can be adjusted as described above. If the weight ratio of the non-polar organic solvent is too large, the salt of the nitrogen-containing compound and phosphoric acid may aggregate during pulverization, making it difficult to obtain the desired particle shape. On the other hand, if the weight ratio of the non-polar organic solvent is too small, secondary agglomeration is likely to occur and the dispersion in the insulating polymer may be deteriorated.

【0042】カップリング剤と難燃性付与剤とを接触さ
せることにより、難燃性付与剤の表面にカップリング剤
を物理的又は化学的に結合(吸着を含む)して、難燃性
付与剤の凝集を低下させ分散を向上させるもので、シラ
ン化合物、金属エステル化合物、金属錯体化合物、金属
キレート化合物などがある。中でも、有機溶剤の中で安
定という理由から、金属キレート化合物が好ましい。金
属キレート化合物は、金属と有機化合物残基とがキレー
トを形成したものであれば良く、好ましくは、アルミニ
ウム、チタン、錫、亜鉛などの金属アルコキシド中の、
一部のアルコキシ基がエステル残基やカルボン酸残基や
他のアルコキシ基(アルコール残基)などの有機化合物
残基と置換されたものである。分散溶液中にて安定であ
ることから特にアルミニウム、チタンを有する金属キレ
ート化合物であるアルミニウムキレート化合物、チタン
キレート化合物が好ましい。これらの金属キレート化合
物の構造は特に限定されず、モノマー型、ポリマー型い
ずれのものでも差し支えない。具体的なアルミニウムキ
レート化合物として、例えばジイソプロポキシアルミニ
ウムモノオレイルアセトアセテート、モノイソプロポキ
シアルミニウムピスオレイルアセトアセテート、モノイ
ソプロポキシアルミニウムモノメタアクリレートモノオ
レイルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニ
ウムモノオレエートモノエチルアセトアセテート、モノ
イソプロポキシアルミニウムモノエチルアセトアセテー
トモノオレイルアセトアセテート、ジイソプポキシアル
ミニウムモノラウリルアセトアセテート、ジイソプロポ
キシアルミニウムモノステアリルアセトアセテート、ジ
イソプロポキシアルミニウムモノイソステアリルアセト
アセテート、モノイソプロポキシアルミニウムビスオレ
イルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニウ
ムモノメタアクリレートモノオレイルアセトアセテー
ト、モノイソプロポキシアルミニウムモノオレエートモ
ノエチルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミ
ニウムモノオレイルアルコキシドモノエチルアセトアセ
テート、モノイソプロポキシアルミニウムモノロジネ一
トモノラウリルアセトアセテート、ジイソプロポキシア
ルミニウムモノアビエチルアセトアセテ一ト、及びモノ
イソプロポキシアルミニウムモノ−N−ラウロイル−β
−アラネートモノラウリルアセトアセテートなどの脂肪
酸系アルミニウムキレート化合物が挙げられる。チタン
を有する金属キレート化合物(チタンキレート化合物)
としては、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、
イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネー
ト、イソプロピルトリスステアロイルチタネート、イソ
プロピルトリスイソステアロイルチタネート、イソプロ
ピルジアクリルチタネート、ジクミルフェニルオキシア
セテートチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタ
ネートならびの脂肪酸系チタンキレート化合物、イソプ
ロピルトリ(ジオクチルフォスフェート)チタネート、
イソプロピルトリス(ジオクチルバイフォスフェート)
チタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルフォ
スファイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジドデ
シルフォスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジ
アリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジオクチルバ
イフォスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス
(ジオクチルバイフォスフェート)エチレンチタネート
ならびのフォスフェート系チタンキレート化合物、イソ
プロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、
イソプロピルビス(N−アミドエチル・アミノエチル)
チタネートならびに他のチタンキレート化合物が挙げら
れる。
By bringing the coupling agent into contact with the flame-retardant imparting agent, the coupling agent is physically or chemically bonded (including adsorption) to the surface of the flame-retardant imparting agent to impart flame retardancy. It improves the dispersion by reducing the aggregation of the agent, and includes silane compounds, metal ester compounds, metal complex compounds and metal chelate compounds. Among them, a metal chelate compound is preferable because it is stable in an organic solvent. The metal chelate compound may be one in which a metal and an organic compound residue form a chelate, and preferably in a metal alkoxide such as aluminum, titanium, tin or zinc.
A part of the alkoxy groups is replaced with an organic compound residue such as an ester residue, a carboxylic acid residue, or another alkoxy group (alcohol residue). Aluminum chelate compounds and titanium chelate compounds, which are metal chelate compounds containing aluminum and titanium, are particularly preferable because they are stable in the dispersion solution. The structures of these metal chelate compounds are not particularly limited and may be either monomer type or polymer type. As a specific aluminum chelate compound, for example, diisopropoxyaluminum monooleyl acetoacetate, monoisopropoxy aluminum pisoleyl acetoacetate, monoisopropoxy aluminum monomethacrylate monooleyl acetoacetate, monoisopropoxy aluminum monooleate monoethyl acetoacetate. , Monoisopropoxy aluminum monoethyl acetoacetate monooleyl acetoacetate, diisopropoxy aluminum monolauryl acetoacetate, diisopropoxy aluminum monostearyl acetoacetate, diisopropoxy aluminum monoisostearyl acetoacetate, monoisopropoxy aluminum bisoleyl acetoacetate , Monoisopropoxyl Aluminum monomethacrylate Monooleyl acetoacetate, Monoisopropoxy aluminum monooleate monoethyl acetoacetate, Monoisopropoxy aluminum monooleyl alkoxide monoethyl acetoacetate, Monoisopropoxy aluminum monologinate monolauryl acetoacetate, Diisopropoxy aluminum Monoabietyl acetoacetate, and monoisopropoxy aluminum mono-N-lauroyl-β
And fatty acid-based aluminum chelate compounds such as alanate monolauryl acetoacetate. Metal chelate compound containing titanium (titanium chelate compound)
As isopropyl trioctanoyl titanate,
Isopropyldimethacrylisostearoyl titanate, isopropyltrisstearoyl titanate, isopropyltrisisostearoyl titanate, isopropyldiacrylic titanate, dicumylphenyloxyacetate titanate, diisostearoylethylene titanate and fatty acid titanium chelate compounds, isopropyltri (dioctylphosphate) Titanate,
Isopropyl tris (dioctyl biphosphate)
Titanate, tetraisopropylbis (dioctylphosphite) titanate, tetraoctylbis (didodecylphosphite) titanate, tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis (dioctylbiphosphate) oxyacetate titanate, bis ( Dioctyl biphosphate) ethylene titanate and phosphate-based titanium chelate compounds, isopropyl tridecylbenzene sulfonyl titanate,
Isopropyl bis (N-amidoethyl / aminoethyl)
Titanate as well as other titanium chelate compounds.

【0043】難燃性付与剤をカップリング剤で表面処理
する方法は特に限定されない。例えば、難燃性付与剤を
有機溶剤中で分散させながらカップリング剤を添加し、
これらを接触させる方法、難燃性付与剤を有機溶剤に分
散した後にカップリング剤を添加し、これらを接触させ
る方法、又はあらかじめカップリング剤を含有する有機
溶剤中に難燃性付与剤を分散させ、これらを接触させる
方法などが挙げられる。カップリング剤の使用割合は、
難燃性付与剤100重量部に対して、0.1〜40重量
部、好ましくは0.5〜30重量部である。カップリン
グ剤と難燃性付与剤との接触(表面処理)は難燃性付与
剤を湿式にて粉砕しながら行っても構わないが、難燃性
付与剤の凝集を少なくする目的で攪拌中にて行うのが好
ましい。処理の温度は特に限定されないが、作業上及び
安全性の点から有機溶剤の沸点以下で行われるのが好ま
しい。処理は、通常、難燃性付与剤の凝集が少なくなる
まで行い、二次粒子径が20μm以下となるまで続ける
のが好ましい。これらの表面処理は、極性有機溶剤及び
非極性有機溶剤からなる混合有機溶剤で行うのが好まし
い。
The method of surface-treating the flame retardancy-imparting agent with a coupling agent is not particularly limited. For example, adding a coupling agent while dispersing the flame retardant in an organic solvent,
Method of contacting these, adding a coupling agent after dispersing the flame retardant in an organic solvent, a method of contacting them, or disperse the flame retardant in an organic solvent containing a coupling agent in advance And a method of bringing them into contact with each other. The ratio of the coupling agent used is
It is 0.1 to 40 parts by weight, preferably 0.5 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the flame retardancy-imparting agent. The contact (surface treatment) between the coupling agent and the flame retardancy-imparting agent may be carried out while pulverizing the flame-retardancy-imparting agent by a wet method, but stirring is carried out for the purpose of reducing the aggregation of the flame-retardancy imparting agent. It is preferable to carry out. The treatment temperature is not particularly limited, but it is preferably performed at a temperature not higher than the boiling point of the organic solvent from the viewpoint of workability and safety. The treatment is usually performed until the aggregation of the flame retardancy-imparting agent is reduced, and it is preferable to continue the treatment until the secondary particle diameter becomes 20 μm or less. These surface treatments are preferably performed with a mixed organic solvent composed of a polar organic solvent and a nonpolar organic solvent.

【0044】極性有機溶剤としては、ハロゲン基、カル
ボニル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、エステル
基、アミノ基、アミド基などの極性基を有する有機溶剤
である。例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ト
リクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系有機溶
剤;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン系有機
溶剤などが挙げられる。これらのうちケトン系有機溶剤
が好ましい。
The polar organic solvent is an organic solvent having a polar group such as a halogen group, a carbonyl group, a carboxyl group, a hydroxyl group, an ester group, an amino group and an amide group. Examples thereof include halogenated hydrocarbon organic solvents such as chlorobenzene, dichlorobenzene, and trichlorobenzene; ketone organic solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone. Of these, ketone organic solvents are preferable.

【0045】非極性有機溶剤としては、極性基を有しな
い炭化水素化合物である。例えば、トルエン、キシレ
ン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼンなどの芳香族
炭化水素;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン
などの脂肪族炭化水素;シクロペンタン、シクロヘキサ
ンなどの脂環式炭化水素などが挙げられる。これらのう
ち芳香族炭化水素が好ましい。これらの非極性有機溶剤
と極性有機溶剤の混合比は適宜選択できるが、重量比
で、通常5:95〜95:5、好ましくは10:90〜
90:10、より好ましくは20:80〜80:20の
範囲である。
The non-polar organic solvent is a hydrocarbon compound having no polar group. Examples thereof include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, ethylbenzene and trimethylbenzene; aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-hexane and n-heptane; alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane and cyclohexane. . Of these, aromatic hydrocarbons are preferred. The mixing ratio of the non-polar organic solvent and the polar organic solvent can be appropriately selected, but the weight ratio is usually 5:95 to 95: 5, preferably 10:90 to.
90:10, more preferably 20:80 to 80:20.

【0046】このようにして得られた難燃剤のスラリー
は、二次凝集粒子が少ないという特徴を有している。必
要に応じて難燃剤のスラリーから有機溶剤を除去、乾燥
することができる。その方法は特に限定されず、スラリ
ーをあらかじめ濾布などにより難燃性付与剤と有機溶剤
とに分離した後、乾燥する方法などが挙げられる。乾燥
の温度は、難燃性付与剤が分解しない温度で、有機溶剤
が揮発する温度であれば特に限定されない。また、乾燥
装置は、有機溶剤に引火したり、難燃性付与剤が粉塵爆
発を起こす恐れを防止してある装置であれば特に限定さ
れず、ワンパスオーブンやイナートオーブンなどが用い
られる。難燃剤の量は、使用目的に応じて適宜選択され
るが、絶縁性重合体100重量部に対して、通常0.1
〜50重量部、好ましくは1〜20重量部である。
The slurry of the flame retardant thus obtained is characterized in that secondary aggregated particles are small. If necessary, the organic solvent can be removed from the flame retardant slurry and dried. The method is not particularly limited, and examples thereof include a method of previously separating the slurry into a flame retardant-imparting agent and an organic solvent with a filter cloth and then drying. The drying temperature is not particularly limited as long as it is a temperature at which the flame retardant-providing agent does not decompose and the organic solvent volatilizes. The drying device is not particularly limited as long as it is a device that prevents the organic solvent from catching fire and the flame retardant agent from causing a dust explosion, and a one-pass oven, an inert oven or the like is used. The amount of the flame retardant is appropriately selected according to the purpose of use, but is usually 0.1 with respect to 100 parts by weight of the insulating polymer.
-50 parts by weight, preferably 1-20 parts by weight.

【0047】得られた硬化性組成物の保存安定性を高め
る目的で多孔質物質とスラリーとを接触させることが好
ましい。多孔質物質としては、例えばシリカゲル、けい
藻土、活性アルミナ、マグネシア、チタニア、シリカ−
アルミナ、ゼオライト、モレキュラーシーブ、多孔質シ
リコン、多孔質ガラスビーズ、活性白土、雲母、カオリ
ン、マグネタイト、フェライト、酸化ニッケル等の無機
多孔質物質、活性炭、モレキュラーシービングカーボ
ン、イオン交換樹脂等の有機系多孔質物質が挙げられ、
無機多孔質体が好ましく中でも、スラリーとの分離のし
やすさなどの観点からシリカゲルが好ましい。シリカゲ
ルとしては、好ましくは3〜500nm、より好ましく
は5〜100nm、最も好ましくは7〜50nmの細孔
径を有するものである。多孔質物質は1種類を、又は2
種類以上を混合して用いることも可能である。多孔質物
質とスラリーとを接触させる方法は、特に制限されず、
例えば1)スラリーに多孔質物質を添加し、攪拌、混合
するの方法、2)多孔質物質からなるフィルタにスラリ
ーを通過させる方法などが挙げられる。より具体的に
は、例えば1)の方法による場合、多孔質物質を加えた
スラリーは静置しても攪拌しても良い。攪拌方法は特に
制限はなく、例えばガラス棒を用いた攪拌、攪拌子とマ
グネティックスターラーを用いた攪拌、攪拌機、浸透機
などを使用した方法で行うことができる。攪拌子の形
状、攪拌機にて用いるの羽根の形状は特に制限されな
い。処理温度は好ましくは5℃〜70℃、より好ましく
は15℃〜50℃であり、この温度範囲を外れるとスラ
リーの性能が低下してしまう。また処理時間は5時間以
上が好ましく、5時間以下であると本発明の効果が十分
発揮されない。このような方法で接触させた後、多孔質
物質を分離する。多孔質物質とスラリーとを分離する方
法は常法に従えばよく、例えば、ろ紙、ろ布、ガラス繊
維、石英、ガラスろ過器、ろ過皿、シリカ繊維等をろ過
層として用いたろ過、デカンテーション等が挙げられ
る。ろ過の方法は特に制限はなく、ろ過効率を上げるた
めに加圧、吸引などの処理を施しても良い。多孔質物質
の添加量はスラリー中の難燃剤100重量部に対し0.
1〜50重量部、好ましくは0.5〜40重量部であ
る。
For the purpose of enhancing the storage stability of the obtained curable composition, it is preferable to bring the porous material into contact with the slurry. Examples of the porous material include silica gel, diatomaceous earth, activated alumina, magnesia, titania, silica-
Alumina, zeolite, molecular sieve, porous silicon, porous glass beads, activated clay, mica, inorganic porous materials such as kaolin, magnetite, ferrite, nickel oxide, etc., organic carbon such as activated carbon, molecular sieving carbon, ion exchange resin, etc. Porous materials,
Among the inorganic porous materials, silica gel is preferred from the viewpoint of ease of separation from the slurry. The silica gel preferably has a pore size of 3 to 500 nm, more preferably 5 to 100 nm, and most preferably 7 to 50 nm. One type of porous material, or two
It is also possible to mix and use more than one kind. The method of contacting the porous material and the slurry is not particularly limited,
For example, 1) a method of adding a porous substance to the slurry, stirring and mixing, and 2) a method of passing the slurry through a filter made of a porous substance. More specifically, for example, in the case of the method 1), the slurry containing the porous substance may be left standing or stirred. The stirring method is not particularly limited, and for example, stirring using a glass rod, stirring using a stirrer and a magnetic stirrer, a stirrer, a penetrator, etc. can be used. The shape of the stirrer and the shape of the blade used in the stirrer are not particularly limited. The treatment temperature is preferably 5 ° C. to 70 ° C., more preferably 15 ° C. to 50 ° C. If the temperature is out of this range, the performance of the slurry will deteriorate. Further, the treatment time is preferably 5 hours or longer, and when the treatment time is 5 hours or shorter, the effect of the present invention is not sufficiently exhibited. After contacting in such a manner, the porous material is separated. The method for separating the porous substance and the slurry may be according to a conventional method, for example, filtration using a filter paper, filter cloth, glass fiber, quartz, glass filter, filter dish, silica fiber, etc. as a filter layer, decantation. Etc. The method of filtration is not particularly limited, and pressure treatment, suction treatment or the like may be performed to increase the filtration efficiency. The amount of the porous material added was 100 parts by weight of the flame retardant in the slurry.
It is 1 to 50 parts by weight, preferably 0.5 to 40 parts by weight.

【0048】二次凝集粒子の少ないワニスや電気絶縁膜
を得るためには、難燃剤として、上述してきた本発明の
難燃剤のスラリーを用いるのが好適である。本発明の難
燃剤のスラリーは、上述してきた表面処理された難燃剤
と有機溶剤とからなるものである。スラリーは、a)上
述の方法により得られた表面処理後、有機溶剤除去前の
難燃剤のスラリーであっても、b)a)のスラリーに更
に有機溶剤を添加したスラリーであっても、c)a)の
スラリーから有機溶剤を一部除去したスラリーであって
も、d)表面処理後、有機溶剤を除去、乾燥した難燃剤
と有機溶剤とを混合し、新たに調製された難燃剤のスラ
リーであってもよい。スラリーを構成する有機溶剤は、
上述と同様の極性有機溶剤や非極性有機溶剤が挙げられ
る。スラリーを混合する方法に格別な制限はなく、例え
ば、攪拌翼を有する攪拌機や、湿式分散機などを用いる
方法が挙げられる。本発明のスラリーは、有機溶剤中で
の難燃剤の濃度は、特に制限されないが、ワニス調製時
の操作性の良さから、通常5〜80重量%、好ましくは
10〜60重量%である。本発明のスラリーは、スラリ
ー中に存在する粒子の二次粒子径が30μm以下、好ま
しくは25μm以下、より好ましくは20μm以下のも
のである。このようなスラリーを用いることにより、二
次凝集粒子の少ないワニスを、容易に得ることができ
る。難燃剤のスラリーの固形分濃度は、処望の組成を配
合可能な範囲で、5重量%以上、90重量%以下であ
り、粘度は作業性の点から100Pa・s以下である。
In order to obtain a varnish or an electric insulating film having a small amount of secondary agglomerated particles, it is preferable to use the above-mentioned slurry of the flame retardant of the present invention as the flame retardant. The flame retardant slurry of the present invention comprises the surface-treated flame retardant described above and an organic solvent. The slurry may be a) a slurry of the flame retardant after the surface treatment obtained by the above method and before the removal of the organic solvent, or b) a slurry obtained by further adding an organic solvent to the slurry of a), or c ) Even in a slurry in which the organic solvent is partially removed from the slurry in a), d) after the surface treatment, the organic solvent is removed, and the dried flame retardant and the organic solvent are mixed to prepare a newly prepared flame retardant. It may be a slurry. The organic solvent that makes up the slurry is
The same polar organic solvent and non-polar organic solvent as described above can be used. The method of mixing the slurry is not particularly limited, and examples thereof include a method using a stirrer having a stirring blade, a wet disperser, and the like. In the slurry of the present invention, the concentration of the flame retardant in the organic solvent is not particularly limited, but is usually 5 to 80% by weight, preferably 10 to 60% by weight from the viewpoint of operability during varnish preparation. The slurry of the present invention has a secondary particle diameter of particles present in the slurry of 30 μm or less, preferably 25 μm or less, more preferably 20 μm or less. By using such a slurry, a varnish containing few secondary aggregated particles can be easily obtained. The solid content concentration of the slurry of the flame retardant is 5% by weight or more and 90% by weight or less, and the viscosity is 100 Pa · s or less from the viewpoint of workability within a range in which the desired composition can be blended.

【0049】本発明のワニスには、所望に応じて、その
他の成分を配合することができる。例えば、ビアホール
やスルホールなどの孔を形成するときに使用されるレー
ザ光線の波長領域に吸収を持つ化合物を配合するのが良
い。例えば、炭酸ガスレーザを用いる場合シリカなどが
用いられ、紫外線レーザ(例えばUV−YAGレーザな
ど)を用いる場合、紫外線吸収剤が用いられる。レーザ
光線の波長領域に吸収を持つ化合物を含有する組成物を
用いた場合にはレーザによる孔形成が容易で、スミアの
発生なども少なくなる。紫外線吸収剤の具体例として
は、フェニルサリシレート、p−tert−ブチルフェ
ニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート
などのサリチル酸系化合物;2,4−ジヒドロキシベン
ゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェ
ノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノ
ン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシベンゾフェノ
ン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェ
ノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ
ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−
スルホベンゾフェノン、ビス(2−ヒドロキシ−4−メ
トキシベンゾイルフェニル)メタンなどのベンゾフェノ
ン系化合物;
Other components may be added to the varnish of the present invention as desired. For example, it is preferable to mix a compound having absorption in the wavelength region of the laser beam used when forming holes such as via holes and through holes. For example, when a carbon dioxide laser is used, silica or the like is used, and when an ultraviolet laser (for example, UV-YAG laser or the like) is used, an ultraviolet absorber is used. When a composition containing a compound having an absorption in the wavelength region of the laser beam is used, it is easy to form holes with a laser and smear is reduced. Specific examples of the ultraviolet absorber include salicylic acid compounds such as phenyl salicylate, p-tert-butylphenyl salicylate and p-octylphenyl salicylate; 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy. -4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4- Methoxy-5
Benzophenone compounds such as sulfobenzophenone and bis (2-hydroxy-4-methoxybenzoylphenyl) methane;

【0050】2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフ
ェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ
−5’−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−ter
t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾー
ル、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−ter
t−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2’
−ヒドロキシ−3’−(3”,4”,5”,6”−テト
ラヒドロフタルイミドメチル)−5’−メチルフェニ
ル]ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス[4−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H
−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、2−
[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベ
ンジル)フェニル]ベンゾトリアゾールなどのベンゾト
リアゾール系化合物;2,4−ジ−tert−ブチルフ
ェニル−3’,5’−ジ−tert−ブチル−4’−ヒ
ドロキシベンゾエートなどのベンゾエート系化合物;2
−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3’−ジフェニル
アクリレート、エチル−2−シアノ−3,3’−ジフェ
ニルアクリレートなどのシアノアクリレート系化合物;
ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジニル4)
セバケートなどのヒンダードアミン系化合物;ニッケル
ビス(オクチルフェニル)サルファイド、[2,2’−
チオビス(4−tert−オクチルフェノラート)]−
n−ブチルアミンニッケルなどの有機金属化合物、酸化
亜鉛、酸化すず、酸化チタン、炭酸カルシウム、シリ
カ、クレーなどの無機化合物などが挙げられる。これら
の中でも、ベンゾトリアゾール系化合物が環構造含有重
合体との相溶性や加熱硬化時の安定性に優れる点から好
ましい。紫外線吸収剤の量は、絶縁性重合体100重量
部に対して、通常0.1〜30重量部、好ましくは1〜
10重量部である。
2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-ter
t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-ter
t-amylphenyl) benzotriazole, 2- [2 ′
-Hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl] benzotriazole, 2,2-methylenebis [4-
(1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H
-Benzotriazol-2-yl) phenol], 2-
A benzotriazole-based compound such as [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] benzotriazole; 2,4-di-tert-butylphenyl-3 ′, 5′-di-tert- Benzoate-based compounds such as butyl-4'-hydroxybenzoate; 2
-Cyanoacrylate compounds such as ethylhexyl-2-cyano-3,3'-diphenylacrylate and ethyl-2-cyano-3,3'-diphenylacrylate;
Bis (2,2,6,6-tetramethylpiperidinyl 4)
Hindered amine compounds such as sebacate; nickel bis (octylphenyl) sulfide, [2,2'-
Thiobis (4-tert-octylphenolate)]-
Examples thereof include organic metal compounds such as n-butylamine nickel, and inorganic compounds such as zinc oxide, tin oxide, titanium oxide, calcium carbonate, silica and clay. Among these, benzotriazole compounds are preferable from the viewpoint of compatibility with the ring structure-containing polymer and excellent stability during heat curing. The amount of the ultraviolet absorbent is usually 0.1 to 30 parts by weight, preferably 1 to 100 parts by weight of the insulating polymer.
10 parts by weight.

【0051】このほか、軟質重合体(特に水素化ビスフ
ェノールA型液状エポキシ化合物などの常温で液状のエ
ポキシ樹脂が好ましい)、耐熱安定剤、耐候安定剤、老
化防止剤、レベリング剤、帯電防止剤、スリップ剤、ア
ンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料、顔料、天然
油、合成油、ワックス、乳剤、充填剤などをその他の成
分として用いることができる。その配合割合は、本発明
の目的を損ねない範囲で適宜選択される。
In addition, a soft polymer (particularly preferably an epoxy resin which is liquid at room temperature such as hydrogenated bisphenol A type liquid epoxy compound), a heat stabilizer, a weather stabilizer, an antiaging agent, a leveling agent, an antistatic agent, Slip agents, antiblocking agents, antifogging agents, lubricants, dyes, pigments, natural oils, synthetic oils, waxes, emulsions, fillers and the like can be used as other components. The blending ratio is appropriately selected within a range that does not impair the object of the present invention.

【0052】上述してきた絶縁性重合体、硬化剤、難燃
剤(難燃剤のスラリーを含む)、必要に応じて配合され
るその他の成分、及び有機溶剤を混合して、本発明のワ
ニスを得る。ワニスを得る方法に格別な制限はない。こ
れらを混合する際の温度は、硬化剤による反応が作業性
に影響を及ぼさない範囲であり、さらには安全性の点か
ら混合時に使用する有機溶剤の沸点以下が好ましい。有
機溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、エチル
ベンゼン、トリメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系
有機溶剤;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン
などの脂肪族炭化水素系有機溶剤;シクロペンタン、シ
クロヘキサンなどの脂環式炭化水素系有機溶剤;クロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼンなど
のハロゲン化炭化水素系有機溶剤;メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シク
ロヘキサノンなどのケトン系有機溶剤などを挙げること
ができる。これらの有機溶剤は、それぞれ単独で、ある
いは2種以上を組み合わせて用いることができる。
The above-mentioned insulating polymer, curing agent, flame retardant (including slurry of flame retardant), other components optionally blended, and organic solvent are mixed to obtain the varnish of the present invention. . There are no particular restrictions on how to obtain varnish. The temperature at the time of mixing these is within the range where the reaction with the curing agent does not affect workability, and from the viewpoint of safety, it is preferably not higher than the boiling point of the organic solvent used at the time of mixing. Examples of the organic solvent include aromatic hydrocarbon organic solvents such as toluene, xylene, ethylbenzene and trimethylbenzene; aliphatic hydrocarbon organic solvents such as n-pentane, n-hexane and n-heptane; cyclopentane and cyclohexane. Alicyclic hydrocarbon organic solvents such as; halogenated hydrocarbon organic solvents such as chlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene; ketone organic solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, etc. it can. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more kinds.

【0053】これら有機溶剤のなかでも、微細配線への
埋め込み性に優れ、気泡等を生じさせないものとして、
芳香族炭化水素系有機溶剤や脂環式炭化水素系有機溶剤
のような非極性有機溶剤と、ケトン系有機溶剤のような
極性有機溶剤とを混合した混合有機溶剤が好ましい。こ
れらの非極性有機溶剤と極性有機溶剤の混合比は適宜選
択できるが、重量比で、通常5:95〜95:5、好ま
しくは10:90〜90:10、より好ましくは20:
80〜80:20の範囲である。
Among these organic solvents, the ones that are excellent in embedding in fine wiring and do not generate bubbles etc.
A mixed organic solvent in which a nonpolar organic solvent such as an aromatic hydrocarbon organic solvent or an alicyclic hydrocarbon organic solvent and a polar organic solvent such as a ketone organic solvent are mixed is preferable. The mixing ratio of the non-polar organic solvent and the polar organic solvent can be appropriately selected, but the weight ratio is usually 5:95 to 95: 5, preferably 10:90 to 90:10, and more preferably 20 :.
The range is 80 to 80:20.

【0054】有機溶剤の使用量は、厚みの制御や平坦性
向上などの目的に応じて適宜選択されるが、ワニスの固
形分濃度が、通常5〜70重量%、好ましくは10〜6
5重量%、より好ましくは20〜60重量%になる範囲
である。
The amount of the organic solvent used is appropriately selected depending on the purpose of controlling the thickness and improving the flatness, but the solid content concentration of the varnish is usually 5 to 70% by weight, preferably 10 to 6%.
It is in the range of 5% by weight, more preferably 20 to 60% by weight.

【0055】各成分の混合方法は、常法に従えばよく、
例えば、攪拌子とマグネチックスターラーを使用した攪
拌、高速ホモジナイザー、ディスパージョン、遊星攪拌
機、二軸攪拌機、ボールミル、三本ロールなどを使用し
た方法などで行うことができる。
The mixing method of each component may be a conventional method,
For example, stirring can be performed using a stirrer and a magnetic stirrer, a method using a high speed homogenizer, a dispersion, a planetary stirrer, a twin-screw stirrer, a ball mill, a triple roll, or the like.

【0056】本発明のワニスを、乾燥して本発明の成形
物を得る。成形物は通常、任意の支持体上に塗布、乾燥
され、シート又はフィルムの形状となる。このような成
形物を得るための支持体としては、樹脂フィルム(キャ
リアフィルム)、金属箔などが挙げられる。本発明の成
形物として、シート又はフィルムであるものを得る場
合、その成形法は特に限定されないが、本発明において
は溶液キャスト法や溶融キャスト法で成形するのが好ま
しい。溶液キャスト法では、ワニスを支持体に塗布した
後に、有機溶剤を乾燥除去する。溶液キャスト法に使用
する支持体として、樹脂フィルム(キャリアフィルム)
や金属箔などが挙げられる。樹脂フィルムとしては、通
常、熱可塑性樹脂フィルムが用いられ、具体的には、ポ
リエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフ
ィルム、ポリエチレンフィルム、ポリカーボネイトフィ
ルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアリレ
ートフィルム、ナイロンフィルムなどが挙げられる。こ
れら樹脂フィルムの中、耐熱性や耐薬品性、積層後の剥
離性などの観点からポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリエチレンナフタレートフィルムが好ましい。金
属箔としては、例えば、銅箔、アルミ箔、ニッケル箔、
クロム箔、金箔、銀箔などが挙げられる。導電性が良好
で安価である点から、銅箔、特に電解銅箔や圧延銅箔が
好適である。支持体の厚さは特に制限されないが、作業
性等の観点から、通常1μm〜150μm、好ましくは
2μm〜100μm、より好ましくは3〜50μmであ
る。
The varnish of the present invention is dried to obtain the molded product of the present invention. The molded product is usually coated on an arbitrary support and dried to form a sheet or film. Examples of the support for obtaining such a molded product include a resin film (carrier film) and a metal foil. When a sheet or film is obtained as the molded product of the present invention, the molding method is not particularly limited, but in the present invention, it is preferably molded by the solution casting method or the melt casting method. In the solution casting method, the organic solvent is dried and removed after the varnish is applied to the support. Resin film (carrier film) as a support used in the solution casting method
And metal foil. As the resin film, a thermoplastic resin film is usually used, and specific examples thereof include a polyethylene terephthalate film, a polypropylene film, a polyethylene film, a polycarbonate film, a polyethylene naphthalate film, a polyarylate film and a nylon film. Among these resin films, a polyethylene terephthalate film and a polyethylene naphthalate film are preferable from the viewpoint of heat resistance, chemical resistance, peelability after lamination and the like. As the metal foil, for example, copper foil, aluminum foil, nickel foil,
Examples include chrome foil, gold foil, and silver foil. A copper foil, particularly an electrolytic copper foil or a rolled copper foil, is preferable because it has good conductivity and is inexpensive. The thickness of the support is not particularly limited, but is usually 1 μm to 150 μm, preferably 2 μm to 100 μm, more preferably 3 to 50 μm from the viewpoint of workability and the like.

【0057】塗布方法として、デイップコート、ロール
コート、カーテンコート、ダイコート、スリットコート
などの方法が挙げられる。また有機溶剤の除去乾燥の条
件は、有機溶剤の種類により適宜選択され、乾燥温度
は、通常20〜300℃、好ましくは30〜200℃で
あり、乾燥時間は、通常30秒〜1時間、好ましくは1
分〜30分である。
Examples of the coating method include dip coating, roll coating, curtain coating, die coating and slit coating. The conditions for removing and drying the organic solvent are appropriately selected depending on the type of the organic solvent, the drying temperature is usually 20 to 300 ° C, preferably 30 to 200 ° C, and the drying time is usually 30 seconds to 1 hour, preferably Is 1
Minutes to 30 minutes.

【0058】フィルム又はシートの厚みは、通常0.1
〜150μm、好ましくは0.5〜100μm、より好
ましくは1.0〜80μmである。なお、フィルム又は
シートを単独で得たい場合には、支持体上にフィルム又
はシートを形成した後、支持体から剥離する。このほ
か、本発明のワニスを有機合成背にやガラス繊維などの
繊維基材に含浸させてプリプレグを形成することもでき
る。
The thickness of the film or sheet is usually 0.1.
˜150 μm, preferably 0.5 to 100 μm, more preferably 1.0 to 80 μm. When a film or sheet is desired to be obtained alone, it is peeled from the support after forming the film or sheet on the support. In addition, the varnish of the present invention can be impregnated on an organic synthetic back and a fiber base material such as glass fiber to form a prepreg.

【0059】本発明の電気絶縁膜は、任意の基板上に、
本発明のワニスを、塗布、乾燥した後、硬化して得られ
る硬化物である。基板が導電体回路層を有する基板であ
るものは、本発明の積層体である。導電体回路層を有す
る基板の具体例として、プリント配線基板、シリコンウ
ェハー基板などの、電気絶縁層(1)と、その表面に形
成された導電体回路層(a)とからなる内層基板が挙げ
られる。内層基板の厚みは、通常50μm〜2mm、好
ましくは60μm〜1.6mm、より好ましくは100
μm〜1mmである。
The electric insulating film of the present invention is formed on an arbitrary substrate,
It is a cured product obtained by applying and drying the varnish of the present invention and then curing. A substrate having a conductor circuit layer is a laminate of the present invention. Specific examples of the substrate having the conductor circuit layer include an inner layer substrate such as a printed wiring board and a silicon wafer substrate, which is composed of the electric insulating layer (1) and the conductor circuit layer (a) formed on the surface thereof. Be done. The thickness of the inner layer substrate is usually 50 μm to 2 mm, preferably 60 μm to 1.6 mm, and more preferably 100.
μm to 1 mm.

【0060】内層基板を構成する電気絶縁層(1)の材
料は電気絶縁性のものであれば特に限定されない。電気
絶縁層(1)の材料として、例えば、脂環式オレフィン
重合体、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂、(メタ)アク
リル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、トリアジン樹脂、
芳香族ポリエーテル重合体、シアネートエステル重合
体、ポリイミドなどを含有する硬化性組成物を、硬化し
てなるものが挙げられる。また、内層基板は、ガラス繊
維、樹脂繊維などを強度向上のために含有させたもので
あってもよい。 内層基板を構成する導電体回路層
(a)の材料は、通常、導電性金属である。
The material of the electric insulation layer (1) constituting the inner layer substrate is not particularly limited as long as it is electrically insulating. Examples of the material of the electric insulating layer (1) include alicyclic olefin polymer, epoxy resin, maleimide resin, (meth) acrylic resin, diallyl phthalate resin, triazine resin,
Examples thereof include those obtained by curing a curable composition containing an aromatic polyether polymer, a cyanate ester polymer, a polyimide or the like. Further, the inner layer substrate may contain glass fibers, resin fibers or the like for improving strength. The material of the conductor circuit layer (a) forming the inner layer substrate is usually a conductive metal.

【0061】本発明の電気絶縁膜及び積層体を得る方法
としては、(A)本発明のワニスを、導電体回路層を有
する基板に塗布した後、有機溶剤を除去乾燥して得られ
る本発明の成形物を硬化させる方法、又は(B)フィル
ム又はシート上に成形した本発明の成形体を、加熱圧着
等により導電体回路層を有する基板上に重ね合わせた後
に、硬化させる方法が挙げられる。電気絶縁層の平滑性
が確保でき、多層形成が容易な点から、(B)の方法に
より積層体を得るのが好ましい。また、本発明の電気絶
縁膜中、走査型電子顕微鏡により確認される500μm
四方の範囲に、通常30μm超過、好ましくは25μm
超過、より好ましくは20μm超過の大きい粒子が存在
しない。本発明の電気絶縁膜の厚みは、通常0.1〜2
00μm、好ましくは1〜150μm、より好ましくは
10〜100μmである。
As a method for obtaining the electric insulating film and the laminate of the present invention, (A) the present invention obtained by applying the varnish of the present invention to a substrate having a conductor circuit layer, removing the organic solvent and drying. The method of curing the molded article of (1) or (B) the method of curing the molded article of the present invention molded on a film or sheet, after superposing it on a substrate having a conductor circuit layer by thermocompression bonding or the like. .. It is preferable to obtain the laminate by the method (B) from the viewpoints that the smoothness of the electric insulating layer can be secured and the formation of multiple layers is easy. Further, in the electric insulating film of the present invention, 500 μm confirmed by a scanning electron microscope.
In all directions, usually over 30 μm, preferably 25 μm
There are no large particles above, more preferably above 20 μm. The thickness of the electrically insulating film of the present invention is usually 0.1 to 2
The thickness is 00 μm, preferably 1 to 150 μm, more preferably 10 to 100 μm.

【0062】(A)の方法において、本発明のワニスを
内層基板に塗布する方法は、特に制限されず、例えば、
本発明のワニスをダイコーター、ロールコーター又はカ
ーテンコーターにより基板に塗布する方法が挙げられ
る。基板にワニスを塗布した後、70〜140℃、1〜
30分乾燥し、更に通常30〜400℃、好ましくは7
0〜300℃、より好ましくは100〜200℃、通常
0.1〜5時間、好ましくは0.5〜3時間、硬化させ
て、本発明の電気絶縁膜(電気絶縁層(2))が形成さ
れた本発明の積層体を得る。
In the method (A), the method of applying the varnish of the present invention to the inner layer substrate is not particularly limited.
Examples thereof include a method of coating the substrate with the varnish of the present invention using a die coater, a roll coater, or a curtain coater. After applying the varnish to the substrate, 70 ~ 140 ℃, 1 ~
Dry for 30 minutes, usually 30 to 400 ° C., preferably 7
The electrical insulating film (electrical insulating layer (2)) of the present invention is formed by curing at 0 to 300 ° C, more preferably 100 to 200 ° C, usually 0.1 to 5 hours, preferably 0.5 to 3 hours. The obtained laminated body of the present invention is obtained.

【0063】(B)の方法において、本発明の成形物で
あるフィルム又はシートを基板上に積層するには、通
常、支持体付きのフィルム又はシートを、当該フィルム
又はシートが内層基板面に接するように重ね合わせ、加
圧ラミネータ、プレス、真空ラミネータ、真空プレス、
ロールラミネータなどの加圧機を使用して加熱圧着す
る。加熱圧着は、配線への埋め込み性を向上させ、気泡
等の発生を抑えるために真空下で行うのが好ましい。加
熱圧着時の温度は、通常30〜250℃、好ましくは7
0〜200℃、圧着力は、通常10kPa〜20MP
a、好ましくは100kPa〜10MPa、圧着時間
は、通常30秒〜5時間、好ましくは1分〜3時間であ
り、通常100kPa〜1Pa、好ましくは40kPa
〜10Paに雰囲気を減圧する。圧着後、上述と同様に
して本発明の電気絶縁膜(電気絶縁層(2))が形成さ
れた本発明の積層体を得る。前記支持体付きフィルム又
はシートを基板上に積層させた場合には、前記支持体が
付いたまま硬化させてもよいが、通常は、前記支持体を
剥がした後に硬化させる。
In the method (B), in order to laminate the film or sheet which is the molded product of the present invention on the substrate, the film or sheet with a support is usually brought into contact with the inner layer substrate surface. Stacking, press laminator, press, vacuum laminator, vacuum press,
Heat press bonding using a pressure machine such as a roll laminator. The thermocompression bonding is preferably performed under vacuum in order to improve the embedding property in the wiring and suppress the generation of bubbles and the like. The temperature during thermocompression bonding is usually 30 to 250 ° C., preferably 7
0 ~ 200 ℃, the pressure is usually 10kPa ~ 20MP
a, preferably 100 kPa to 10 MPa, the pressure bonding time is usually 30 seconds to 5 hours, preferably 1 minute to 3 hours, usually 100 kPa to 1 Pa, preferably 40 kPa.
The atmosphere is depressurized to 10 Pa. After pressure bonding, the laminated body of the present invention on which the electric insulating film of the present invention (electrical insulating layer (2)) is formed is obtained in the same manner as described above. When the film or sheet with a support is laminated on a substrate, it may be cured with the support still attached, but it is usually cured after the support is peeled off.

【0064】内層基板と電気絶縁層(2)との密着力を
向上させるために内層基板を前処理することが好まし
い。前処理としては、アルカリ性亜塩素酸ナトリウム水
溶液や過マンガン酸等を内層基板表面に接触させて表面
を粗化する方法、アルカリ性過硫酸カリウム水溶液、硫
化カリウム−塩化アンモニウム水溶液等により表面を酸
化した後に還元する方法、及び内層基板の導電体回路部
分にメッキを析出させ、粗化する方法、トリアジンチオ
ール化合物やシラン化合物などによりプライマー層を形
成する方法等が挙げられる。なかでも2−ジ−n−ブチ
ルアミノ−4,6−ジメルカプト−s−トリアジンなど
のトリアジンチオール化合物を用いたプライマー層を形
成する方法は、導電体回路が銅である場合に、銅の腐食
がなく、高い密着性が得られる点で好適である。
In order to improve the adhesion between the inner layer substrate and the electric insulating layer (2), it is preferable to pretreat the inner layer substrate. As the pretreatment, a method of roughening the surface by contacting an alkaline sodium chlorite aqueous solution or permanganic acid with the inner layer substrate surface, after oxidizing the surface with an alkaline potassium persulfate aqueous solution, potassium sulfide-ammonium chloride aqueous solution, etc. Examples thereof include a reducing method, a method of depositing and roughening plating on the conductor circuit portion of the inner layer substrate, and a method of forming a primer layer with a triazine thiol compound or a silane compound. Among them, the method of forming a primer layer using a triazine thiol compound such as 2-di-n-butylamino-4,6-dimercapto-s-triazine is effective in preventing corrosion of copper when the conductor circuit is copper. It is preferable in that high adhesion can be obtained.

【0065】このようにして内層基板に、本発明の電気
絶縁膜(電気絶縁層(2))を形成させ、電気絶縁層
(2)が最表面となった本発明の積層体が得られる。こ
の積層体を最終的な回路基板として得た場合、当該基板
において、本発明の電気絶縁膜(電気絶縁層(2))は
ソルダーレジスト層として機能する。
In this way, the electric insulating film (electric insulating layer (2)) of the present invention is formed on the inner layer substrate, and the laminate of the present invention having the electric insulating layer (2) as the outermost surface is obtained. When this laminate is obtained as a final circuit board, the electrical insulating film (electrical insulating layer (2)) of the present invention functions as a solder resist layer in the board.

【0066】本発明の積層体を更に内層基板として、電
気絶縁層(2)上に新たな導電体回路を形成し、多層回
路基板を得ることができる。この多層回路基板は導電体
回路層を有する基板上に、本発明の電気絶縁膜からなる
層が形成された積層体構造を有する。従ってこの多層回
路基板も、本発明の積層体である。多層回路基板を製造
する方法に格別な制限はないが、例えば、次の方法が挙
げられる。電気絶縁層(2)にビアホール形成用の開口
を形成し、次いで、この電気絶縁層(2)表面とビアホ
ール形成用開口の内壁面にスパッタリング等のドライプ
ロセス(乾式めっき法)により金属薄膜を形成した後、
金属薄膜上にめっきレジストを形成させ、更にその上に
電解めっき等の湿式めっきによりめっき膜を形成する。
このめっきレジストを除去した後、エッチングにより金
属薄膜と電解めっき膜からなる導電体回路(b)を形成
する。電気絶縁層(2)と導電体回路(b)との密着力
を高めるために、電気絶縁層(2)の表面を過マンガン
酸やクロム酸等の液と接触させ、あるいはプラズマ処理
等を施すことができる。導電体回路(a)と導電体回路
(b)との間を接続するビアホール形成用の開口を電気
絶縁層(2)に形成させる方法は、ドリル、レーザ、プ
ラズマエッチング等の物理的処理等によってもよいし、
本発明の成形物である硬化により電気絶縁層を形成する
前の膜をマスキングして光硬化させ、未硬化部分を取り
除いた後、硬化する、いわゆるフォトリソグラフィーに
よってもよい。これらの方法のうち、絶縁層の特性を低
下させず、より微細なビアホールを形成することができ
るという観点から、炭酸ガスレーザ、エキシマレーザ、
UV−YAGレーザ等のレーザによる方法が好ましい。
また、上記回路基板において、導電体回路の一部は、金
属電源層や金属グラウンド層、金属シールド層になって
いてもよい。
Using the laminate of the present invention as an inner layer substrate, a new conductor circuit can be formed on the electric insulating layer (2) to obtain a multilayer circuit substrate. This multilayer circuit board has a laminated structure in which a layer made of the electrically insulating film of the present invention is formed on a board having a conductor circuit layer. Therefore, this multilayer circuit board is also the laminate of the present invention. There is no particular limitation on the method for manufacturing the multilayer circuit board, but the following method can be given as an example. An opening for forming a via hole is formed in the electric insulating layer (2), and then a metal thin film is formed on the surface of the electric insulating layer (2) and the inner wall surface of the opening for forming the via hole by a dry process (dry plating method) such as sputtering. After doing
A plating resist is formed on the metal thin film, and a plating film is further formed thereon by wet plating such as electrolytic plating.
After removing the plating resist, a conductor circuit (b) including a metal thin film and an electrolytic plated film is formed by etching. In order to enhance the adhesion between the electric insulation layer (2) and the conductor circuit (b), the surface of the electric insulation layer (2) is brought into contact with a liquid such as permanganate or chromic acid, or plasma treatment or the like is performed. be able to. A method for forming an opening for forming a via hole for connecting between the conductor circuit (a) and the conductor circuit (b) in the electrical insulating layer (2) is by a physical treatment such as drilling, laser or plasma etching. Good
It is also possible to use so-called photolithography, in which the film before forming the electric insulating layer by curing, which is the molded product of the present invention, is masked and photocured, and the uncured portion is removed, followed by curing. Among these methods, from the viewpoint that a finer via hole can be formed without deteriorating the characteristics of the insulating layer, a carbon dioxide gas laser, an excimer laser,
A laser method such as a UV-YAG laser is preferable.
Further, in the circuit board, part of the conductor circuit may be a metal power supply layer, a metal ground layer, or a metal shield layer.

【0067】多層回路基板は、コンピューターや携帯電
話等の電子機器において、CPUやメモリなどの半導体
素子、その他の実装部品を実装するためのプリント配線
板として使用できる。特に、微細配線を有するものは高
密度プリント配線基板として、高速コンピューターや、
高周波領域で使用する携帯端末の配線基板として好適で
ある。
The multilayer circuit board can be used as a printed wiring board for mounting a semiconductor element such as a CPU and a memory and other mounting parts in electronic equipment such as a computer and a mobile phone. In particular, those with fine wiring can be used as high-density printed wiring boards for high-speed computers,
It is suitable as a wiring board for mobile terminals used in a high frequency range.

【0068】[0068]

【実施例】以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明を
具体的に説明する。なお、実施例中、部及び%は、特に
断りのない限り重量基準である。本実施例において行っ
た評価方法は以下のとおりである。 (1)分子量 トルエンを有機溶剤とするゲル・パーミエーション・ク
ロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算値
として測定した。 (2)水素化率及びカルボキシル基含有率 水素添加前の重合体中の不飽和結合のモル数に対する水
素添加率(水素添加添加率)及び重合体中の総モノマー
単位数に対する(無水)マレイン酸残基のモル数の割合
(カルボキシル基含有率)はH−NMRスペクトルに
より測定した。 (3)ガラス移転温度(Tg) 示差走査熱量法(DSC法)により測定した。 (4)フィラーの一次粒子径の平均値 走査型電子顕微鏡にて、フィラー1000個の長径を計
測して、得られた値の平均を、フィラーの一次粒子径の
平均値とした。 (5)フィラーのアスペクト比 走査型電子顕微鏡にて、フィラー1000個の長径と短
径をそれぞれ計測して、得られた値の平均を、次式に当
てはめてアスペクト比を求めた。 アスペクト比=(長径の平均)/(短径の平均)
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Examples and Comparative Examples. In the examples, parts and% are based on weight unless otherwise specified. The evaluation method used in this example is as follows. (1) The molecular weight was measured as a polystyrene conversion value by gel permeation chromatography (GPC) using toluene as an organic solvent. (2) Hydrogenation Rate and Carboxyl Group Content Hydrogenation rate relative to the number of moles of unsaturated bonds in the polymer before hydrogenation (hydrogenation rate) and (anhydrous) maleic acid relative to the total number of monomer units in the polymer The molar ratio of the residue (carboxyl group content) was measured by 1 H-NMR spectrum. (3) Glass transition temperature (Tg) It was measured by a differential scanning calorimetry (DSC method). (4) Average value of primary particle diameter of filler The major axis of 1000 fillers was measured with a scanning electron microscope, and the average of the obtained values was defined as the average value of the primary particle diameter of the filler. (5) Aspect Ratio of Filler Using a scanning electron microscope, the major axis and the minor axis of 1000 fillers were measured, and the average of the obtained values was applied to the following formula to determine the aspect ratio. Aspect ratio = (average of major axis) / (average of minor axis)

【0069】(6)二次粒子径の評価 スラリー及びワニス中に存在する難燃性成分の二次粒子
径の評価はJISK5400にて定めるつぶの試験A法
にて評価した。粒の大きさが20μm以下の場合を○、
20μmを超え、30μm以下の場合を△、30μmを
超えるものを×とした。電気絶縁膜(基板上の電気絶縁
層)中に存在する難燃性付与剤の二次粒子径の評価は、
絶縁層をイオン集束ビームにて切断した後、断面を走査
型電子顕微鏡にて500μm四方の範囲を観察し、凝集
体の大きさが20μmを超えるものが無い場合を○、凝
集体の大きさが20μmを超えるが30μm以下の場合
を△、30μmを超えるものが存在する場合を×とし
た。
(6) Evaluation of secondary particle size The secondary particle size of the flame-retardant component present in the slurry and varnish was evaluated by the crushing test A method defined in JIS K5400. ○ when the grain size is 20 μm or less,
When the thickness was more than 20 μm and less than 30 μm, it was evaluated as Δ, and when it exceeded 30 μm, it was evaluated as x. For the evaluation of the secondary particle size of the flame retardant-imparting agent present in the electric insulating film (electric insulating layer on the substrate),
After cutting the insulating layer with an ion focusing beam, the cross section was observed with a scanning electron microscope in a range of 500 μm square, and when there was no aggregate size exceeding 20 μm, the aggregate size was The case where it exceeds 20 μm but does not exceed 30 μm is indicated by Δ, and the case where there is more than 30 μm is indicated by x.

【0070】(7)絶縁性 コア材の両面に電気絶縁層がそれぞれ3層積層された両
面合計6層の多層回路基板の2層目と3層目の電気絶縁
層間で、JPCA−BU01に定めるベタ導体−ライン
間評価用パターンを形成した後、直流電圧5.5Vを印
加した状態で、120℃、飽和水蒸気条件下に放置し、
100時間後に、電気抵抗値を測定した。電気抵抗が1
オーム以上のものは◎、10オーム以上で10
オーム未満のものは○、10オーム未満で短絡してな
いものは△、短絡しているものは×と評価した。
(7) JPCA-BU01 is defined between the second and third electric insulating layers of a multilayer circuit board having a total of six layers on both sides, each having three electric insulating layers laminated on both surfaces of the insulating core material. After forming a pattern for evaluation between a solid conductor and a line, the sample was allowed to stand at 120 ° C. under saturated steam conditions while applying a DC voltage of 5.5V,
After 100 hours, the electric resistance value was measured. Electric resistance is 1
◎ 10 9 ohms or more is ◎ 10 8 ohms or more is 10 9
Those having a resistance of less than 10 ohms were evaluated as ◯, those having a resistance of less than 10 8 ohms without being short-circuited were evaluated as Δ, and those having a short circuit were evaluated as x.

【0071】(8)誘電率の吸湿変化 JPCA−BU01に定める誘電率測定方法に従い、常
態中と吸湿時の誘電率を測定した。常態中の誘電率は、
JPCA−BU01に定める40μmの寸法例に合わせ
て作製した基材を21℃、50%湿度中24時間放置し
た後、測定された値である。吸湿時の誘電率は、JPC
A−BU01に定める40μmの寸法例に合わせて作製
した基材を21℃の水中に24時間浸漬した後、測定さ
れた値である。(吸湿時の誘電率)/(常態中の誘電
率)で表される値が1.05以下の場合を◎、値が1.
05を超え、1.1以下の場合を○、値が1.1を超
え、1.5以下の場合を△、値が1.5を超えている場
合を×として評価した。尚、本評価に用いた基材の作製
は、以下の通り行った。多層回路基板を製造するのに用
いたワニスを表面が平滑なポリエチレンナフタレートフ
ィルムにドクターブレードを用いて塗布し、120℃で
10分間加熱乾燥した後150℃の窒素オーブン中に1
20分間放置して、電気絶縁膜を得た。この電気絶縁膜
の両面にアルミを蒸着して導電体を形成した後、JPC
A−BU01に定める40μmの寸法例の測定用基材を
作製した。
(8) Hygroscopic change of permittivity According to the method of measuring permittivity defined in JPCA-BU01, the permittivity was measured under normal conditions and during moisture absorption. The dielectric constant in the normal state is
It is the value measured after leaving the base material produced according to the example of a size of 40 μm defined in JPCA-BU01 for 24 hours at 21 ° C. and 50% humidity. Dielectric constant when absorbing moisture is JPC
It is the value measured after immersing the base material produced according to the dimension example of 40 μm defined in A-BU01 in water at 21 ° C. for 24 hours. When the value expressed by (dielectric constant when absorbing moisture) / (dielectric constant in normal state) is 1.05 or less, ⊚, and the value is 1.
When the value exceeds 05 and is 1.1 or less, it is evaluated as ◯, when the value exceeds 1.1 and is 1.5 or less, it is evaluated as Δ, and when the value exceeds 1.5, it is evaluated as x. The base material used for this evaluation was manufactured as follows. The varnish used to manufacture the multilayer circuit board was applied to a polyethylene naphthalate film having a smooth surface by using a doctor blade, dried by heating at 120 ° C. for 10 minutes, and then placed in a nitrogen oven at 150 ° C. for 1 minute.
After leaving for 20 minutes, an electric insulating film was obtained. After aluminum is vapor-deposited on both sides of this electric insulation film to form a conductor, JPC
A base material for measurement having a size example of 40 μm specified in A-BU01 was manufactured.

【0072】(9)難燃性の評価 コア材の両面に電気絶縁層がそれぞれ3層積層された両
面合計6層の多層回路基板の導体が無い部分を、幅13
mm、長さ100mmの短冊状に切断し、試験片を作製
した。メタンガスを管の口径9.5mm、管の長さ10
0mmのブンゼンバーナーにて燃焼させて高さ19mm
の炎に調整して、得られた試験片に着火するまで接炎し
た。着火後直ちに炎を外し、試験片が燃焼している時間
を計測した。試験片が消炎後、直ちに再度試験片に着火
するまで接炎した。二度目の着火後も直ちに炎を外し、
試験片が燃焼している時間を計測した。一度目の試験片
の燃焼時間と二度目の試験片の燃焼時間の合計が5秒以
内のものを「○」、5秒を超え10秒以内のものを
「△」、10秒を超えるものを「×」として評価した。
(9) Evaluation of Flame Retardancy A conductor-free portion of a multilayer circuit board having a total of 6 layers on both sides of which three layers of electric insulating layers are laminated on both sides of the core material is 13
A test piece was prepared by cutting it into a strip having a length of 100 mm and a length of 100 mm. Methane gas is used with a pipe diameter of 9.5 mm and a pipe length of 10
Burned with a 0 mm Bunsen burner to a height of 19 mm
The flame was adjusted to, and the obtained test piece was exposed to flame until it ignited. The flame was removed immediately after ignition and the time during which the test piece was burning was measured. Immediately after the test piece was extinguished, it was contacted with flame until the test piece was ignited again. Remove the flame immediately after the second ignition,
The time during which the test piece was burning was measured. If the sum of the burning time of the first test piece and the burning time of the second test piece is within 5 seconds, it is "○", and if it exceeds 5 seconds and within 10 seconds, it is "△", and if it exceeds 10 seconds. It was evaluated as "x".

【0073】(10)ワニスの保存安定性評価 E型粘度計を用いて、ワニス作製直後の粘度a、および
25℃、72時間放置後の粘度bをそれぞれ測定した。
粘度aと粘度bから粘度上昇率を算出し、粘度上昇率が
10%以下のものを「○」、10%を超え30%以下の
ものを「△」、30%を超えるものを「×」とした。 (11)硬化物の平坦性評価 硬化物の平面平滑性は、配線厚18ミクロンの配線板を
切断し、走査型顕微鏡にて硬化物層の厚みを測定した。
評価は最薄部と最厚部の差が6ミクロン以下のものは
「○」、6ミクロンを超え8ミクロン以下のものは
「△」、8ミクロンを超えるものを「×」とした
(10) Evaluation of storage stability of varnish Using an E-type viscometer, the viscosity a immediately after preparation of the varnish and the viscosity b after leaving at 25 ° C. for 72 hours were measured.
The viscosity increase rate is calculated from the viscosity a and the viscosity b, and the viscosity increase rate is 10% or less, "○", 10% to 30% or less, "△", 30% or more, "x". And (11) Evaluation of flatness of cured product The flatness of the cured product was measured by cutting a wiring board having a wiring thickness of 18 microns and measuring the thickness of the cured product layer with a scanning microscope.
In the evaluation, the difference between the thinnest part and the thickest part is 6 µm or less, "○", those exceeding 6 µm and 8 µm are "△", and those exceeding 8 µm are "x".

【0074】実施例1微粉化ポリ燐酸メラミン塩スラリーA製造 一次粒子の長径が10μmを超えるものが55%、長径
平均17μm、アスペクト比13のポリリン酸メラミン
塩300部をキシレン1020部、シクロペンタノン6
80部の混合有機溶剤にて、セパラブルフラスコ中で3
枚羽根攪拌翼にて攪拌して、15重量%のポリリン酸メ
ラミン塩のスラリーを得た。得られたポリリン酸メラミ
ン塩スラリーを乾燥させ走査型顕微鏡にて観察したとこ
ろ、一次粒子は原料と同様に長径が10μmを超えるも
のが55%、長径平均17μm、アスペクト比13であ
った。得られたスラリー2000部を0.4mmのジル
コニアビーズを83容量%充填させた横型湿式分散機を
用いて、滞留時間18分で循環させながら120分間粉
砕処理を行い、微粉化ポリリン酸メラミン塩スラリーA
を得た。得られたポリリン酸メラミン塩スラリーAを乾
燥させ走査型顕微鏡にて観察したところ一次粒子の長径
が10μmを超えるものが0.5%、長径平均1.3μ
m、アスペクト比1.6であった。得られたスラリーA
の二次粒子径を評価したところ×であった。
Example 1 Preparation of Micronized Polymelic Acid Melamine Salt Slurry A 55% of primary particles having a major axis of more than 10 μm, average major axis of 17 μm, 300 parts of polyphosphoric acid melamine salt having an aspect ratio of 13 were treated with xylene, 1020 parts, and cyclopentanone. 6
3 parts in a separable flask with 80 parts of mixed organic solvent
The mixture was stirred with a single-blade stirring blade to obtain a slurry of 15 wt% melamine polyphosphate salt. When the resulting melamine polyphosphate salt slurry was dried and observed with a scanning microscope, the primary particles had 55% particles having a major axis of more than 10 μm, an average major axis of 17 μm, and an aspect ratio of 13, similar to the raw material. 2000 parts of the obtained slurry was pulverized for 120 minutes by using a horizontal wet disperser filled with 0.4% of zirconia beads at 83% by volume while circulating for a residence time of 18 minutes to obtain a finely divided melamine polyphosphate polysulfate slurry. A
Got When the obtained melamine polyphosphate salt slurry A was dried and observed with a scanning microscope, 0.5% of the primary particles had a major axis of more than 10 μm, and an average major axis of 1.3 μ.
m and the aspect ratio was 1.6. The obtained slurry A
The secondary particle diameter of was evaluated to be x.

【0075】微粉化ポリ燐酸メラミン塩スラリーBの製
セパラブルフラスコ中で微粉化ポリリン酸メラミン塩ス
ラリーA 2000部にジイソプロポキシアルミニウム
モノオレイイルアセトアセテートを12部加え、3枚羽
根攪拌翼にて25℃で、15分攪拌して表面処理ポリリ
ン酸メラミン塩スラリーBを得た。得られたスラリーB
の二次粒子径を評価したところ○であった。
Preparation of Micronized Melamine Polyphosphate Slurry B
In a separable flask, 12 parts of diisopropoxyaluminum monooleyl acetoacetate was added to 2000 parts of pulverized melamine salt of polyphosphoric acid salt A, and the mixture was stirred for 15 minutes at 25 ° C. with a 3-blade stirring blade for surface treatment of polyphosphoric acid. An acid melamine salt slurry B was obtained. The obtained slurry B
The secondary particle size was evaluated to be ◯.

【0076】8−エチル−テトラシクロ[4.4.0.
2,5.17,10]−ドデカ−3−エンを開環重合
し、次いで水素添加反応を行い、数平均分子量(Mn)
=31,200、重量平均分子量(Mw)=55,80
0、Tg=約140℃の水素化重合体を得た。得られた
ポリマーの水素化率は99%以上であった。得られた重
合体100部、無水マレイン酸40部及びジクミルパー
オキシド5部をt−ブチルベンゼン250部に溶解し、
140℃で6時間反応を行った。得られた反応生成物溶
液を1000部のイソプロピルアルコール中に注ぎ、反
応生成物を凝固させマレイン酸変性水素化重合体を得
た。この変性水素化重合体を100℃で20時間真空乾
燥した。この変性水素化重合体の分子量はMn=33,
200、Mw=68,300でTgは170℃であっ
た。マレイン酸基含有率は25モル%であった。
8-ethyl-tetracyclo [4.4.0.
1 2,5 . 1 7,10 ] -dodeca-3-ene was subjected to ring-opening polymerization, followed by hydrogenation reaction to obtain a number average molecular weight (Mn).
= 31,200, weight average molecular weight (Mw) = 55,80
A hydrogenated polymer having 0 and Tg of about 140 ° C. was obtained. The hydrogenation rate of the obtained polymer was 99% or more. 100 parts of the obtained polymer, 40 parts of maleic anhydride and 5 parts of dicumyl peroxide were dissolved in 250 parts of t-butylbenzene,
The reaction was carried out at 140 ° C for 6 hours. The obtained reaction product solution was poured into 1000 parts of isopropyl alcohol to coagulate the reaction product to obtain a maleic acid-modified hydrogenated polymer. The modified hydrogenated polymer was vacuum dried at 100 ° C. for 20 hours. The molecular weight of this modified hydrogenated polymer was Mn = 33,
200, Mw = 68,300 and Tg was 170 degreeC. The maleic acid group content was 25 mol%.

【0077】前記変性水素化重合体100部、1,3−
ジアリル−5−グリシジルイソシアヌレート50部、ジ
クミルペルオキシド5部、前記記載の表面処理微粉化ポ
リリン酸メラミン塩スラリーB200部、2−[2−ヒ
ドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)
フェニル]ベンゾトリアゾール5部及び水素化ビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂(商品名:EPICLON E
XA−7015、大日本インキ株式会社製、エポキシ当
量=210g)20部、1−ベンジル−2−フェニルイ
ミダゾール0.1部をキシレン40部及びシクロペンタ
ノン25部からなる混合有機溶剤に溶解させてワニスA
を得た。
100 parts of the modified hydrogenated polymer, 1,3-
50 parts of diallyl-5-glycidyl isocyanurate, 5 parts of dicumyl peroxide, 200 parts of the surface-treated micronized melamine polyphosphate salt slurry B, 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl). )
Phenyl] benzotriazole 5 parts and hydrogenated bisphenol A type epoxy resin (trade name: EPICLONE E
XA-7015, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., epoxy equivalent = 210 g) 20 parts, 0.1 part of 1-benzyl-2-phenylimidazole was dissolved in a mixed organic solvent consisting of 40 parts of xylene and 25 parts of cyclopentanone. Varnish A
Got

【0078】当該ワニスを、ダイコーターを用いて、3
00mm角の厚さ40μmのポリエチレンナフタレート
フィルム(キャリアフィルム)に塗工し、その後、窒素
オーブン中で120℃で10分間乾燥させ樹脂厚み45
μmのキャリアフィルム付きドライフィルムを得た。
Using a die coater, the varnish was 3
It is applied to a polyethylene naphthalate film (carrier film) having a thickness of 00 mm and a thickness of 40 μm, and then dried in a nitrogen oven at 120 ° C. for 10 minutes to give a resin thickness of 45.
A dry film with a carrier film of μm was obtained.

【0079】一方、2−ジ−n−ブチルアミノ−4,6
−ジメルカプト−s−トリアジンの0.1重量%イソプ
ロピルアルコール溶液を調製し、この溶液に配線幅及び
配線間距離が50μm、導体厚みが18μmで表面がマ
イクロエッチング処理された内層回路を形成された厚さ
0.8mmの両面銅張り基板(ガラスフィラー及びハロ
ゲン不含エポキシ樹脂を含有するワニスをガラスクロス
に含浸させて得られたコア材)を25℃で1分間浸漬し
た後、90℃で15分間、窒素置換されたオーブン中で
乾燥させてプライマー層を形成させて、内層基板を得
た。
On the other hand, 2-di-n-butylamino-4,6
A 0.1 wt% isopropyl alcohol solution of dimercapto-s-triazine was prepared, and the thickness of the solution in which an inner layer circuit having a wiring width and a wiring distance of 50 μm, a conductor thickness of 18 μm and a surface microetched was formed. A 0.8 mm double-sided copper-clad substrate (core material obtained by impregnating glass cloth with a varnish containing a glass filler and a halogen-free epoxy resin) was immersed at 25 ° C. for 1 minute, and then at 90 ° C. for 15 minutes. A primer layer was formed by drying in a nitrogen-substituted oven to obtain an inner layer substrate.

【0080】前述の内層基板上に、前述のキャリアフィ
ルム付きドライフィルムを、樹脂面が内側となるように
して両面銅張り基板両面に重ね合わせた。これを、一次
プレスとして耐熱ゴム製プレス板を上下に備えた真空ラ
ミネーターを用いて、200Paに減圧して、温度11
0℃、圧力0.5MPaで60秒間加熱圧着した。次い
で、二次プレスとして耐熱ゴム製プレス板による工程の
プレス時間と、金属製プレス板で覆われた耐熱ゴム製プ
レス板を上下に備えた真空ラミネーターを用いて、20
0Paに減圧して、温度140℃、圧力1.0MPaで
60秒間加熱圧着した。そして、ポリエチレンナフタレ
ートフィルムのみを剥がし、150℃の窒素オーブン中
に120分間放置し、内層基板上に電気絶縁層を形成し
た。
On the above-mentioned inner layer substrate, the above-mentioned dry film with a carrier film was laminated on both sides of the double-sided copper-clad substrate with the resin side facing inward. This was depressurized to 200 Pa using a vacuum laminator equipped with heat-resistant rubber press plates at the top and bottom as a primary press, and the temperature was reduced to 11
Thermocompression bonding was performed for 60 seconds at 0 ° C. and a pressure of 0.5 MPa. Then, using a heat proof rubber press plate as a secondary press, a vacuum laminator equipped with a heat proof rubber press plate covered with a metal press plate at the top and bottom was used for 20 minutes.
The pressure was reduced to 0 Pa, and thermocompression bonding was performed at a temperature of 140 ° C. and a pressure of 1.0 MPa for 60 seconds. Then, only the polyethylene naphthalate film was peeled off and left in a nitrogen oven at 150 ° C. for 120 minutes to form an electric insulating layer on the inner layer substrate.

【0081】得られた積層板の、絶縁層部分に、UV−
YAGレーザ第3高調波を用いて直径30μmの層間接
続のビアホールを形成した。ビアホールを形成した基板
を、周波数13.56MHz、出力100W、ガス圧0.
8Paのアルゴンプラズマに、基板表面温度を約130
℃に保持して、10分間さらした。次にプラズマ処理さ
れた回路基板を出力500W、ガス圧0.8Paでニッ
ケルスパッタ処理し、厚さ0.1μmのニッケル膜を形
成させ、次いで出力500W、ガス圧0.8Paで銅ス
パッタ処理し、厚さ0.3μmの銅薄膜を形成させて、
金属薄膜を有する積層板を得た。この積層板表面に市販
の感光性ドライフィルムを熱圧着して貼り付け、さら
に、このドライフィルム上に所定のパターンのマスクを
密着させ露光した後、現像してレジストパターンを得
た。次にレジスト非形成部分に電解銅メッキを施し厚さ
18μmの電解銅メッキ膜を形成させた。次いで、レジ
ストパターンを剥離液にて剥離除去し、塩化第二銅と塩
酸混合溶液によりエッチング処理を行うことにより、前
記金属薄膜及び電解銅メッキ膜からなる配線パターンを
形成した。そして最後に、170℃で30分間アニール
処理をして両面2層の配線パターン付き多層回路基板を
得た。
On the insulating layer portion of the obtained laminated plate, UV-
A via hole for interlayer connection having a diameter of 30 μm was formed using a YAG laser third harmonic. The substrate on which the via holes are formed has a frequency of 13.56 MHz, an output of 100 W, and a gas pressure of 0.5.
Substrate surface temperature of approx. 130 with argon plasma of 8Pa
Hold at 0 ° C and expose for 10 minutes. Next, the plasma-treated circuit board was subjected to nickel sputter processing at an output of 500 W and a gas pressure of 0.8 Pa to form a nickel film having a thickness of 0.1 μm, and then subjected to copper sputter processing at an output of 500 W and a gas pressure of 0.8 Pa, Form a copper thin film with a thickness of 0.3 μm,
A laminated plate having a metal thin film was obtained. A commercially available photosensitive dry film was thermocompression-bonded to the surface of the laminate, and a mask having a predetermined pattern was brought into close contact with the dry film, exposed, and developed to obtain a resist pattern. Next, electrolytic copper plating was applied to the non-resist forming portion to form an electrolytic copper plating film having a thickness of 18 μm. Next, the resist pattern was stripped off with a stripping solution, and an etching treatment was performed with a mixed solution of cupric chloride and hydrochloric acid to form a wiring pattern composed of the metal thin film and the electrolytic copper plated film. Finally, an annealing treatment was carried out at 170 ° C. for 30 minutes to obtain a multilayer circuit board with wiring patterns on both surfaces of two layers.

【0082】前述で得られた両面2層の配線パターン付
き多層回路基板の外層を1層目とし、前述の内層回路基
板として使用し、前述同様にして絶縁層、導電体層を繰
り返し形成し両面合計6層の多層回路基板を得た。評価
結果を表1に示す。
The outer layer of the multilayer circuit board with wiring patterns having two layers on both sides obtained as described above was used as the first layer, and was used as the inner layer circuit board described above. A multilayer circuit board having a total of 6 layers was obtained. The evaluation results are shown in Table 1.

【0083】実施例2微粉化ポリ燐酸メラミン塩スラリーCの製造 一次粒子の長径が10μmを超えるものが55%、長径
平均17μm、アスペクト比13のポリリン酸メラミン
塩300部、キシレン1020部、シクロペンタノン6
80部、ジイソプロポキシアルミニウムモノオレイイル
アセトアセテート12部を0.4mmのジルコニアビー
ズを83容量%充填させた横型湿式分散機を用いて滞留
時間18分で循環させながら60分間粉砕処理を行い、
微粉化ポリリン酸メラミン塩スラリーCを得た。得られ
たポリリン酸メラミン塩スラリーを乾燥させ走査型顕微
鏡にて観察したところ一次粒子の長径が10μmを超え
るものが0.3%、長径平均1.1μm、アスペクト比
1.4であった。得られたスラリーCの二次粒子径を評
価したところ○であった。
Example 2 Production of Micronized Polymelic Acid Melamine Salt Slurry C 55% of primary particles having a major axis of more than 10 μm, average major axis of 17 μm, 300 parts of polyphosphoric acid melamine salt having an aspect ratio of 13, 300 parts of xylene, cyclopenta Non 6
80 parts, 12 parts of diisopropoxy aluminum monooleyl acetoacetate was crushed for 60 minutes while circulating with a horizontal wet disperser filled with 83% by volume of 0.4 mm zirconia beads with a residence time of 18 minutes,
Micronized melamine polyphosphate salt slurry C was obtained. When the obtained melamine polyphosphate salt slurry was dried and observed with a scanning microscope, primary particles had a major axis of more than 10 μm of 0.3%, an average major axis of 1.1 μm, and an aspect ratio of 1.4. When the secondary particle diameter of the obtained slurry C was evaluated, it was ◯.

【0084】表面処理微粉化ポリリン酸メラミン塩スラ
リーBにかえて、ポリリン酸メラミン塩スラリーCを用
いる以外は実施例1と同様にして多層回路基板を得た。
評価結果を表1に示す。
A multi-layer circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the melamine polyphosphate salt slurry C was used in place of the surface-treated micronized melamine polyphosphate salt slurry B.
The evaluation results are shown in Table 1.

【0085】実施例3 変性水素化重合体100部にかえて、エポキシ樹脂YD
−7011(東都化成社製)30部とポリアミド樹脂マ
クロメトル6217(ヘンケル白水社製)30部の配合
物を用いる以外は実施例1と同様にして多層回路基板を
得た。評価結果を表1に示す。
Example 3 Instead of 100 parts of the modified hydrogenated polymer, an epoxy resin YD was used.
A multilayer circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that a mixture of 30 parts of -7011 (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) and 30 parts of polyamide resin Macrometol 6217 (manufactured by Henkel Hakusui Co., Ltd.) was used. The evaluation results are shown in Table 1.

【0086】比較例1 表面処理微粉化ポリリン酸メラミン塩スラリーBにかえ
て、ポリリン酸メラミン塩スラリーAを用いる以外は実
施例3と同様にして多層回路基板を得た。評価結果を表
1に示す。
Comparative Example 1 A multilayer circuit board was obtained in the same manner as in Example 3, except that the melamine polyphosphate salt slurry A was used in place of the surface-treated micronized melamine polyphosphate salt slurry B. The evaluation results are shown in Table 1.

【0087】[0087]

【表1】 [Table 1]

【0088】実施例4微粉化ポリ燐酸メラミン塩スラリーDの製造 先に得られたスラリーB 1000gに多孔質物質とし
てシリカゲル(商品名:Wakogel C−300H
G、和光純薬社製、粒径:40〜60μm、細孔径:7
nm)30gを加え25℃で24時間放置した後、カプ
セルフィルター(フィラー入りファイナルフィルター:
10μm、株式会社ロキテクノ社製)を用いて多孔質物
質をろ別し、微紛化ポリリン酸メラミン塩スラリーDを
得た。
Example 4 Production of Micronized Melamine Polyphosphate Phosphate Slurry D 1000 g of the slurry B obtained above was mixed with silica gel (trade name: Wakogel C-300H as a porous substance).
G, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., particle size: 40-60 μm, pore size: 7
(30 nm), and after standing at 25 ° C. for 24 hours, a capsule filter (final filter containing filler:
The porous substance was separated by filtration using 10 μm, manufactured by Roki Techno Co., Ltd. to obtain a finely divided melamine salt of polyphosphoric acid salt D.

【0089】実施例1で得た変性水素化重合体100
部、ビスフェノールAビス(プロピレングリコールグリ
シジルエーテル)エーテル37.5部、1,3−ジアリ
ル−5−(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)
−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,
5H)−トリオン12.5部、ジクミルペルオキシド6
部、前記記載の表面処理微粉化ポリリン酸メラミン塩ス
ラリーD 200部、2−[2−ヒドロキシ−3,5−
ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾト
リアゾール5部及び1−ベンジル−2−フェニルイミダ
ゾール0.1部をキシレン120部及びシクロペンタノ
ン80部からなる混合有機溶剤に溶解させてワニスDを
得た。得られたワニスDの保存安定性を評価した。評価
結果を表2に示す。
Modified hydrogenated polymer 100 obtained in Example 1
Part, bisphenol A bis (propylene glycol glycidyl ether) ether 37.5 parts, 1,3-diallyl-5- (2-hydroxy-3-phenoxypropyl)
-1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H,
5H) -trione 12.5 parts, dicumyl peroxide 6
Parts, the surface-treated micronized melamine polyphosphate salt slurry D described above 200 parts, 2- [2-hydroxy-3,5-
Varnish D was prepared by dissolving 5 parts of bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] benzotriazole and 0.1 part of 1-benzyl-2-phenylimidazole in a mixed organic solvent consisting of 120 parts of xylene and 80 parts of cyclopentanone. Obtained. The storage stability of the obtained varnish D was evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.

【0090】得られたワニスDを25℃で72時間放置
した後、ダイコーターを用いて、300mm角の厚さ4
0μmのポリエチレンナフタレートフィルム(キャリア
フィルム)に塗工し、その後、窒素オーブン中で120
℃で10分間乾燥させ樹脂厚み45μmのキャリアフィ
ルム付きドライフィルムを得た。
The varnish D thus obtained was allowed to stand at 25 ° C. for 72 hours, and then a die coater was used to obtain a thickness of 4 mm × 300 mm.
It is applied to a polyethylene naphthalate film (carrier film) of 0 μm, and then 120 in a nitrogen oven.
It was dried at 0 ° C. for 10 minutes to obtain a dry film with a carrier film having a resin thickness of 45 μm.

【0091】一方、2−ジ−n−ブチルアミノ−4,6
−ジメルカプト−s−トリアジンの0.1重量%イソプ
ロピルアルコール溶液を調製し、この溶液に配線幅及び
配線間距離が50μm、導体厚みが18μmで表面がマ
イクロエッチング処理された内層回路を形成された厚さ
0.8mmの両面銅張り基板(ガラスフィラー及びハロ
ゲン不含エポキシ樹脂を含有するワニスをガラスクロス
に含浸させて得られたコア材)を25℃で1分間浸漬し
た後、90℃で15分間、窒素置換されたオーブン中で
乾燥させてプライマー層を形成させて、内層基板を得
た。
On the other hand, 2-di-n-butylamino-4,6
A 0.1 wt% isopropyl alcohol solution of dimercapto-s-triazine was prepared, and the thickness of the solution in which an inner layer circuit having a wiring width and a wiring distance of 50 μm, a conductor thickness of 18 μm and a surface microetched was formed. A 0.8 mm double-sided copper-clad substrate (core material obtained by impregnating glass cloth with a varnish containing a glass filler and a halogen-free epoxy resin) was immersed at 25 ° C. for 1 minute, and then at 90 ° C. for 15 minutes. A primer layer was formed by drying in a nitrogen-substituted oven to obtain an inner layer substrate.

【0092】前述の内層基板上に、前述のキャリアフィ
ルム付きドライフィルムを、樹脂面が内側となるように
して両面銅張り基板両面に重ね合わせた。これを、一次
プレスとして耐熱ゴム製プレス板を上下に備えた真空ラ
ミネーターを用いて、200Paに減圧して、温度11
0℃、圧力0.5MPaで60秒間加熱圧着した。次い
で、二次プレスとして金属製プレス板で覆われた耐熱ゴ
ム製プレス板を上下に備えた真空ラミネーターを用い
て、200Paに減圧して、温度140℃、圧力1.0
MPaで60秒間加熱圧着した。そして、ポリエチレン
ナフタレートフィルムのみを剥がし、窒素オーブン中に
140℃、30分、170℃、60分間放置し、内層基
板上に電気絶縁層を形成した。
On the above-mentioned inner layer substrate, the above-mentioned dry film with a carrier film was laminated on both sides of the double-sided copper-clad substrate with the resin side facing inward. This was depressurized to 200 Pa using a vacuum laminator equipped with heat-resistant rubber press plates at the top and bottom as a primary press, and the temperature was reduced to 11
Thermocompression bonding was performed for 60 seconds at 0 ° C. and a pressure of 0.5 MPa. Then, using a vacuum laminator having a heat-resistant rubber press plate covered with a metal press plate as a secondary press, the pressure was reduced to 200 Pa, the temperature was 140 ° C., and the pressure was 1.0.
It thermocompression-bonded by MPa for 60 seconds. Then, only the polyethylene naphthalate film was peeled off and left in a nitrogen oven at 140 ° C. for 30 minutes, 170 ° C. for 60 minutes to form an electrical insulating layer on the inner layer substrate.

【0093】得られた積層板の所定位置に、38μmの
アパーチャを用いたUV−YAGレーザー加工機(MO
DEL 5310:Electoro Scientf
icIndustries,Inc.製)にて、加工条
件、周波数40kHz、出力0.6W、ショット数40
で直径40μmの層間接続、端子露出用のビアホールを
形成した。ビアホールを形成した基板を、周波数13.
56MHz、出力100W、ガス圧0.8Paのアルゴ
ンプラズマに、基板表面温度を約130℃に保持して、
10分間さらした。
A UV-YAG laser beam machine using a 38 μm aperture (MO
DEL 5310: Electro Scientf
icIndustries, Inc. Manufactured), processing conditions, frequency 40 kHz, output 0.6 W, shot number 40
Then, a via hole for exposing a terminal and an interlayer connection having a diameter of 40 μm was formed. The substrate on which the via hole is formed has a frequency of 13.
The substrate surface temperature is maintained at about 130 ° C. in argon plasma of 56 MHz, output of 100 W and gas pressure of 0.8 Pa,
Exposed for 10 minutes.

【0094】次にプラズマ処理された回路基板を出力5
00W、ガス圧0.8Paでニッケルスパッタ処理し、
厚さ0.1μmのニッケル膜を形成させ、次いで出力5
00W、ガス圧0.8Paで銅スパッタ処理し、厚さ0.
3μmの銅薄膜を形成させて、金属薄膜を有する積層板
を得た。この積層板表面に市販の感光性ドライフィルム
を熱圧着して貼り付け、さらに、このドライフィルム上
に所定のパターンのマスクを密着させ露光した後、現像
してレジストパターンを得た。次にレジスト非形成部分
に電解銅メッキを施し厚さ18μmの電解銅メッキ膜を
形成させた。次いで、レジストパターンを剥離液にて剥
離除去し、塩化第二銅と塩酸混合溶液によりエッチング
処理を行うことにより、前記金属薄膜及び電解銅メッキ
膜からなる配線パターンを形成した。そして最後に、1
70℃で30分間アニール処理をして両面2層の配線パ
ターン付き多層回路基板Aを得た。得られた両面2層の
配線パターン付き多層回路基板の平坦性を評価した。評
価結果を表2に示す。
Next, the plasma-treated circuit board is output 5
Nickel sputter process at 00W, gas pressure 0.8Pa,
Form a nickel film with a thickness of 0.1 μm, and then output 5
Copper spattering was performed at 00 W and gas pressure of 0.8 Pa, and the thickness was 0.8.
A 3 μm copper thin film was formed to obtain a laminated plate having a metal thin film. A commercially available photosensitive dry film was thermocompression-bonded to the surface of the laminate, and a mask having a predetermined pattern was brought into close contact with the dry film, exposed, and developed to obtain a resist pattern. Next, electrolytic copper plating was applied to the non-resist forming portion to form an electrolytic copper plating film having a thickness of 18 μm. Next, the resist pattern was stripped off with a stripping solution, and an etching treatment was performed with a mixed solution of cupric chloride and hydrochloric acid to form a wiring pattern composed of the metal thin film and the electrolytic copper plated film. And finally, 1
Annealing treatment was performed at 70 ° C. for 30 minutes to obtain a multilayer circuit board A with a wiring pattern having two layers on both sides. The flatness of the obtained multilayer circuit board with a two-layer double-sided wiring pattern was evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.

【0095】実施例5 変性水素化重合体100部にかえて、エポキシ樹脂YD
−7011(東都化成社製)30部とポリアミド樹脂マ
クロメトル6217(ヘンケル白水社製)30部の配合
物を用いる以外は実施例4と同様にしてワニスを得、多
層回路基板を得た。評価結果を表2に示す。
Example 5 Instead of 100 parts of modified hydrogenated polymer, epoxy resin YD was used.
A varnish was obtained in the same manner as in Example 4 except that a mixture of 30 parts of -7011 (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) and 30 parts of polyamide resin Macrometol 6217 (manufactured by Henkel Hakusui Co., Ltd.) was used to obtain a multilayer circuit board. The evaluation results are shown in Table 2.

【0096】[0096]

【表2】 [Table 2]

【0097】これらのことから、ワニスを多孔質物質と
接触させるとワニスの粘度上昇が生じないため、長期保
存後でも安定して平坦性に優れた膜を得ることができる
ことが判る。
From these facts, it can be seen that when the varnish is brought into contact with the porous substance, the viscosity of the varnish does not increase, so that a film having excellent flatness can be stably obtained even after long-term storage.

【0098】[0098]

【発明の効果】本発明のワニスを用いれば、環境変化に
よっても電気的な影響を受けにくく、絶縁性に優れた多
層回路基板を容易に得られる。難燃性にも優れているの
で、このワニスを用いて得られる多層回路基板は、コン
ピューターや携帯電話等の電子機器において、CPUや
メモリなどの半導体素子、その他の実装部品を実装する
ためのプリント配線板として使用できる。更に、ワニス
を多孔質物質と接触させることで保存安定性に優れたワ
ニスを得ることができる。
EFFECTS OF THE INVENTION By using the varnish of the present invention, it is possible to easily obtain a multilayer circuit board which is not easily electrically affected by environmental changes and has excellent insulating properties. Since it is also highly flame-retardant, a multilayer circuit board obtained using this varnish is a printed material for mounting semiconductor devices such as CPUs and memories, and other mounting components in electronic devices such as computers and mobile phones. Can be used as a wiring board. Further, by bringing the varnish into contact with the porous substance, a varnish having excellent storage stability can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08J 5/18 CER C08J 5/18 CER 5E346 CEZ CEZ 5G305 C08K 5/16 C08K 5/16 9/00 9/00 C08L 45/00 C08L 45/00 65/00 65/00 C09D 5/25 C09D 5/25 7/12 7/12 145/00 145/00 C09K 21/00 C09K 21/00 H01B 3/30 H01B 3/30 M N H05K 3/46 H05K 3/46 T Fターム(参考) 4F071 AA03 AA21 AA39 AC12 AE02 AE07 AE19 AF39 BA02 BA03 BB02 BC01 4F100 AA20B AH03B AH03H AH08B AH08H AK01B AK02B AK42 AL05B AL07 AT00A BA02 CA02B CA08B DE01B EJ67B GB43 JB09B JB12B JG04B JG05 JJ07 JM02B JM10B 4H028 AA40 AA42 BA05 4J002 BF051 BG041 BG051 BH021 BK001 CD001 CE001 CH061 CL012 CM021 CM041 DE077 DE127 DE147 DK007 EN036 EN046 EN076 EN126 ER006 ER027 EU186 EW047 EW137 FB087 FB167 FD137 FD142 FD146 FD150 HA06 4J038 CM001 KA03 KA06 KA14 NA15 5E346 AA05 AA06 AA12 AA26 AA32 BB01 CC08 DD02 GG28 HH16 5G305 AA06 AA11 AB25 AB27 BA07 CA01 CA07 CA13 CA15 CA21 CA60 CB15 CD06 CD13 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C08J 5/18 CER C08J 5/18 CER 5E346 CEZ CEZ 5G305 C08K 5/16 C08K 5/16 9/00 9 / 00 C08L 45/00 C08L 45/00 65/00 65/00 C09D 5/25 C09D 5/25 7/12 7/12 145/00 145/00 C09K 21/00 C09K 21/00 H01B 3/30 H01B 3 / 30 M N H05K 3/46 H05K 3/46 T F term (reference) 4F071 AA03 AA21 AA39 AC12 AE02 AE07 AE19 AF39 BA02 BA03 BB02 BC01 4F100 AA20B AH03B AH03H AH08B AH08H AK01B AK02B AK42 AL05B AL07 AT00A BA02 CA02B CA08B DE01B EJ67B GB43 JB09B JB12B JG04B JG05 JJ07 JM02B JM10B 4H028 AA40 AA42 BA05 4J002 BF051 BG041 BG051 BH021 BK001 CD001 CE001 CH061 CL012 CM021 CM041 DE077 DE127 DE147 DK007 EN036 EN 046 EN076 EN126 ER006 ER027 EU186 EW047 EW137 FB087 FB167 FD137 FD142 FD146 FD150 HA06 4J038 CM001 KA03 KA06 KA14 NA15 5E346 AA05 AA06 AA12 AA26 AA CA25 CA13 CA11 CA11 CA11 CA21 CA11 CA25 CA11 CA11 CA11 CA11 CA11 CA11 CA11 CA11 CA11 CA11

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁性重合体、硬化剤、難燃剤及び有機
溶剤を含有する硬化性のワニスであって、(1)難燃剤
が、難燃性付与剤をカップリング剤で表面処理して得ら
れたものであり、(2)ワニス中に存在する粒子の二次
粒子径が30μm以下であるワニス。
1. A curable varnish containing an insulating polymer, a curing agent, a flame retardant and an organic solvent, wherein (1) the flame retardant is obtained by surface-treating a flame retardant imparting agent with a coupling agent. (2) A varnish obtained by (2) having a secondary particle size of 30 μm or less.
【請求項2】 カップリング剤が金属キレート化合物で
ある請求項1記載のワニス。
2. The varnish according to claim 1, wherein the coupling agent is a metal chelate compound.
【請求項3】 難燃性付与剤がハロゲンを含有しない化
合物である請求項1又は2記載のワニス。
3. The varnish according to claim 1, wherein the flame retardancy-imparting agent is a halogen-free compound.
【請求項4】 絶縁性重合体が脂環式オレフィン重合体
である請求項1〜3のいずれかに記載のワニス。
4. The varnish according to claim 1, wherein the insulating polymer is an alicyclic olefin polymer.
【請求項5】 硬化剤が含窒素化合物である請求項1〜
4のいずれかに記載のワニス。
5. The curing agent is a nitrogen-containing compound.
The varnish according to any one of 4 above.
【請求項6】 請求項1記載のワニスを乾燥して得られ
る成形物。
6. A molded product obtained by drying the varnish according to claim 1.
【請求項7】 フィルム又はシートである請求項6記載
の成形物。
7. The molded product according to claim 6, which is a film or a sheet.
【請求項8】 請求項6記載の成形物を硬化してなる電
気絶縁膜。
8. An electric insulating film obtained by curing the molded product according to claim 6.
【請求項9】 導電体回路層を有する基板上に、請求項
8記載の電気絶縁膜からなる電気絶縁層が形成された積
層体。
9. A laminate in which an electrically insulating layer made of the electrically insulating film according to claim 8 is formed on a substrate having a conductor circuit layer.
【請求項10】 電気絶縁膜からなる電気絶縁層が、請
求項7記載の成形物を加熱圧着してなるものである請求
項9記載の積層体。
10. The laminate according to claim 9, wherein the electrically insulating layer made of an electrically insulating film is obtained by thermocompression bonding the molded article according to claim 7.
【請求項11】 難燃性付与剤とカップリング剤とを接
触させて得られた難燃剤と、有機溶剤とからなる難燃剤
スラリー。
11. A flame retardant slurry comprising a flame retardant obtained by bringing a flame retardant-imparting agent into contact with a coupling agent, and an organic solvent.
【請求項12】 スラリー中に存在する粒子の二次粒子
径が30μm以下である請求項11記載の難燃剤スラリ
ー。
12. The flame retardant slurry according to claim 11, wherein the secondary particle diameter of the particles present in the slurry is 30 μm or less.
【請求項13】 請求項11又は12記載のスラリー
と、絶縁性重合体と、硬化剤とを混合することを特徴と
する請求項1記載のワニスを調製する方法。
13. A method for preparing a varnish according to claim 1, wherein the slurry according to claim 11 or 12 is mixed with an insulating polymer and a curing agent.
【請求項14】 スラリーと多孔質物質とを接触させた
後、多孔質物質を除去し、次いでスラリーと絶縁性重合
体と、硬化剤と混合する請求項13記載のワニスの調整
方法。
14. The method for preparing a varnish according to claim 13, wherein after the slurry and the porous substance are brought into contact with each other, the porous substance is removed, and then the slurry, the insulating polymer and the curing agent are mixed.
【請求項15】 多孔質物質が、シリカゲルである請求
項14記載のワニスの調整方法。
15. The method for preparing a varnish according to claim 14, wherein the porous substance is silica gel.
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