JP2005280003A - 金型装置、成形品、その成形方法及び成形機 - Google Patents

金型装置、成形品、その成形方法及び成形機 Download PDF

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Yasuyoshi Sakamoto
泰良 坂本
Katsuyuki Hiki
克之 比企
Yuichi Inada
雄一 稲田
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Abstract

【課題】ガスを円滑に排出することができ、成形品の品質を向上させることができ、キャビリングの動きが悪くなるのを防止することができるようにする。
【解決手段】第1の支持部材と、第1の鏡面盤16と、第2の支持部材と、第2の鏡面盤36と、キャビリング37と、第1の外周リング19と、第1の外周リング19と対向させて配設された第2の外周リング38とを有する。そして、キャビリング37の円周方向における複数箇所に、径方向に延在させ、かつ、キャビリング37を貫通させてガス抜流路が形成される。キャビリング37の円周方向における複数箇所に、径方向に延在させ、かつ、キャビリング37を貫通させてガス抜流路が形成されるので、キャビティ空間Cからガスを排出するためのガス排出路を短くすることができるだけでなく、ガス排出路の構造を極めて簡素化することができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、金型装置、成形品、その成形方法及び成形機に関するものである。
従来、成形品としてのディスク基板を成形するための成形機、例えば、射出成形機においては、加熱シリンダ内において溶融させられた樹脂を金型装置内のキャビティ空間に充填(てん)し、該キャビティ空間内において樹脂を冷却し、固化させることによってディスク基板を得るようにしている。
そのために、前記射出成形機は、固定側の金型組立体及び可動側の金型組立体から成る前記金型装置、前記樹脂をキャビティ空間に充填するための射出装置、並びに前記可動側の金型組立体を固定側の金型組立体に対して接離させるための型締装置を備える。そして、該型締装置によって前記可動側の金型組立体を進退させ、金型装置の型閉じ、型締め及び型開きを行い、型締め時に、固定側の金型組立体の鏡面盤と可動側の金型組立体の鏡面盤との間にキャビティ空間を形成する。なお、前記可動側の金型組立体の鏡面盤より径方向外方には、キャビティ空間の外周縁を規定するキャビリングが配設される。
また、前記射出装置は、加熱シリンダ、該加熱シリンダの前端に取り付けられた射出ノズル、及び前記加熱シリンダ内において回転自在に、かつ、進退自在に配設されたスクリューを備える。
そして、計量工程において、前記スクリューが回転させられ、樹脂が溶融させられてスクリューの前方に蓄えられ、それに伴って、スクリューが後退させられ、この間に、金型装置の型閉じ及び型締めが行われる。続いて、射出工程において、前記スクリューが前進させられ、前記スクリューの前方に蓄えられた樹脂が射出ノズルから射出され、キャビティ空間に充填される。そして、冷却工程において、前記キャビティ空間内の樹脂が冷却され、穴開加工が行われ、ディスク基板が成形される。続いて、型開きが行われ、前記ディスク基板が取り出される。
ところで、前記キャビティ空間に樹脂が充填されるのに伴って、樹脂からガスが発生するが、該ガスがキャビティ空間に存在したまま成形が行われると、樹脂に焼け、すなわち、樹脂焼けが発生したり、ディスク基板にひけが発生したりする。そこで、前記キャビリングの前端面にガス排出路となる溝を形成し、該溝を介してガスを排出するようにしている(例えば、特許文献1参照。)。
特開2002−127189号公報
しかしながら、前記従来の金型装置においては、前記溝がキャビリングの前端面に形成されるので、樹脂が溝内に進入することがないように、溝の断面を十分に小さくする必要がある。したがって、ガスを円滑に排出することができなくなってしまう。
また、前記溝は、一端をキャビティ空間の外周縁に臨ませて形成されるので、樹脂がわずかでも溝内に進入すると、ディスク基板の外周縁に凹凸、すなわち、横バリが形成され、ディスク基板の品質が低下してしまうだけでなく、ディスク基板を貼(は)り合わせる際に支障が生じてしまう。
さらに、前記溝の断面が小さくされる分だけ、前記溝内を流れるガスの速度が低くなり、ガスが液化し、固化して、キャビリングの前端面にヤニ状に付着するので、キャビリングの動きが悪くなってしまう。
そこで、前記キャビリングの後端面と鏡面盤の前端面との間にガスを排出するための溝を形成することが考えられるが、この場合も、キャビティ空間から前記溝を介して金型装置外に通ずるガスの流路が極めて複雑になり、該流路を流れるガスの速度が低くなり、同様に、ガスが液化し、固化して、キャビリングの後端面及び鏡面盤の前端面にヤニ状に付着するので、キャビリングの動きが悪くなってしまう。
本発明は、前記従来の金型装置の問題点を解決して、ガスを円滑に排出することができ、成形品の品質を向上させることができ、キャビリングの動きが悪くなるのを防止することができる金型装置、成形品、その成形方法及び成形機を提供することを目的とする。
そのために、本発明の金型装置においては、第1の支持部材と、該第1の支持部材に取り付けられた第1の鏡面盤と、前記第1の支持部材と対向させて、進退自在に配設された第2の支持部材と、該第2の支持部材に取り付けられた第2の鏡面盤と、前記第1、第2の鏡面盤のうちの一方に、前記鏡面盤に対して進退自在に配設され、キャビティ空間の外周縁を規定するキャビリングと、前記第1、第2の鏡面盤の他方より径方向外方に配設された第1の外周リングと、前記キャビリングより径方向外方に、前記第1の外周リングと対向させて配設された第2の外周リングとを有する。
そして、前記キャビリングの円周方向における複数箇所に、径方向に延在させて、かつ、キャビリングを貫通させてガス抜流路が形成される。
本発明の他の金型装置においては、さらに、前記ガス抜流路の径方向内方の端部は、前記一方の鏡面盤の外周面に向けて開口させられる。
本発明の更に他の金型装置においては、さらに、前記第1、第2の外周リングのうちの少なくとも一方に、前記ガス抜流路と連通させて他のガス抜流路が形成される。
本発明の更に他の金型装置においては、さらに、前記キャビリングは第2の支持部材に配設される。そして、前記他のガス抜流路は、第1の外周リングに形成される。
本発明の更に他の金型装置においては、さらに、前記ガス抜流路と他のガス抜流路とは円周方向における同じ位置に形成される。
本発明の更に他の金型装置においては、さらに、前記ガス抜流路と他のガス抜流路とは軸方向における同じ位置に形成される。
本発明の成形品においては、第1の支持部材、該第1の支持部材に取り付けられた第1の鏡面盤、前記第1の支持部材と対向させて、進退自在に配設された第2の支持部材、該第2の支持部材に取り付けられた第2の鏡面盤、前記第1、第2の鏡面盤のうちの一方に、前記鏡面盤に対して進退自在に配設され、キャビティ空間の外周縁を規定するキャビリング、前記第1、第2の鏡面盤の他方より径方向外方に配設された第1の外周リング、及び前記キャビリングより径方向外方に、前記第1の外周リングと対向させて配設された第2の外周リングとを有するとともに、前記キャビリングの円周方向における複数箇所に、径方向に延在させて、かつ、キャビリングを貫通させてガス抜流路が形成される金型装置によって成形されるようになっている。
そして、前記キャビティ空間に成形材料を充填し、該成形材料を冷却することによって成形される。
本発明の成形品の成形方法においては、第1の支持部材、該第1の支持部材に取り付けられた第1の鏡面盤、前記第1の支持部材と対向させて、進退自在に配設された第2の支持部材、該第2の支持部材に取り付けられた第2の鏡面盤、前記第1、第2の鏡面盤のうちの一方に、前記鏡面盤に対して進退自在に配設され、キャビティ空間の外周縁を規定するキャビリング、前記第1、第2の鏡面盤の他方より径方向外方に配設された第1の外周リング、及び前記キャビリングより径方向外方に、前記第1の外周リングと対向させて配設された第2の外周リングとを有するとともに、前記キャビリングの円周方向における複数箇所に、径方向に延在させて、かつ、キャビリングを貫通させてガス抜流路が形成される金型装置によって成形品を成形する成形品に適用されるようになっている。
そして、前記キャビティ空間に成形材料を充填し、前記ガス抜流路を介してガスを排出させ、前記成形材料を冷却することによって成形品を成形する。
本発明の成形機においては、請求項1〜6のいずれか1項に記載の金型装置を備える。
本発明によれば、金型装置においては、第1の支持部材と、該第1の支持部材に取り付けられた第1の鏡面盤と、前記第1の支持部材と対向させて、進退自在に配設された第2の支持部材と、該第2の支持部材に取り付けられた第2の鏡面盤と、前記第1、第2の鏡面盤のうちの一方に、前記鏡面盤に対して進退自在に配設され、キャビティ空間の外周縁を規定するキャビリングと、前記第1、第2の鏡面盤の他方より径方向外方に配設された第1の外周リングと、前記キャビリングより径方向外方に、前記第1の外周リングと対向させて配設された第2の外周リングとを有する。
そして、前記キャビリングの円周方向における複数箇所に、径方向に延在させて、かつ、キャビリングを貫通させてガス抜流路が形成される。
この場合、前記キャビリングの円周方向における複数箇所に、径方向に延在させ、かつ、キャビリングを貫通させてガス抜流路が形成されるので、キャビティ空間からガスを排出するためのガス排出路を短くすることができるだけでなく、ガス排出路の構造を極めて簡素化することができる。その結果、ガスを円滑に排出することができる。また、ガス排出路が短く、かつ、構造が簡素化されているので、ガス排出路内を流れるガスの速度を高くすることができ、ガス排出路内においてガスが液化し、固化することがない。
仮に、わずかな量のガスが液化し、固化しても、キャビリングにおいてガスはガス抜流路を流れ、キャビリングの前端面又は後端面を流れないので、液化し、固化したガスがキャビリングの前端面又は後端面にヤニ状に付着することがない。その結果、キャビリングの動きが悪くなるのを防止することができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は本発明の実施の形態における金型装置の要部を示す拡大図、図2は本発明の実施の形態における金型装置の要部を示す断面図、図3は本発明の実施の形態における可動側の金型組立体の要部を示す正面図である。
図において、12は図示されない固定プラテンに、図示されないボルトによって、図示されない取付板を介して取り付けられた固定側の金型組立体であり、該金型組立体12は、第1の支持部材としてのベースプレート15、該ベースプレート15にボルトb1によって取り付けられた第1の盤状部材としての第1の鏡面盤16、前記ベースプレート15内において、ベースプレート15に対して位置決めされ、ボルトb2によって取り付けられたスプルーブッシュ24を備える。前記ベースプレート15及び第1の鏡面盤16によって第1の型ユニットが構成される。
前記スプルーブッシュ24の前端(図2において下端)に、キャビティ空間Cに臨ませて凹部から成るダイ28が、スプルーブッシュ24の後端(図2において上端)に、図示されない射出装置の射出ノズルを当接させるための凹部から成るノズルタッチ部29が形成される。そして、前記スプルーブッシュ24の前端から後端にかけて、かつ、前記ダイ28及びノズルタッチ部29と連通させて、前記射出ノズルから射出された成形材料としての樹脂を通すためのスプルー26が形成される。該スプルー26の前端は、キャビティ空間Cに充填される樹脂の入口となるゲートを構成する。
また、前記スプルーブッシュ24の前端の近傍に、水、油、空気、ガス等の第1の温調用の媒体、本実施の形態においては、水を流すための環状の流路27が形成され、該流路27に、図示されない媒体供給源からの水が供給路30を介して供給されることによって、スプルーブッシュ24の特に前端部(図2において下端部)が所定の温度に冷却されるとともに、前記スプルーブッシュ24の前半部(図2において下半部)の径方向外方に配設され、図示されないスタンパの内周縁を押さえて保持するためのインナスタンパホルダ14が冷却される。該インナスタンパホルダ14は、後端に臨ませて回転自在に配設されたロッド25を回転させることによって、ベースプレート15に対して係脱させられ、外周縁にスタンパの内周縁を押さえるための爪が形成される。
なお、前記射出装置は、加熱シリンダ、該加熱シリンダの前端に取り付けられた前記射出ノズル、前記加熱シリンダ内において回転自在に、かつ、進退自在に配設されたスクリュー等を備える。
そして、前記第1の鏡面盤16には、前記スタンパが着脱自在に取り付けられ、前記キャビティ空間Cへの樹脂の充填に伴って、スタンパに形成されたピットの微細なパターンが樹脂に転写され、成形品としてのディスク基板の情報面を構成する凹凸を形成する。
また、前記第1の鏡面盤16の外周縁に環状の突当リング18がボルトb3によって第1の鏡面盤16に取り付けられ、前記第1の鏡面盤16及び突当リング18より径方向外方に環状の第1の外周リング19がボルトb4によってベースプレート15に取り付けられる。
一方、32は図示されない可動プラテンに図示されないボルトによって取り付けられた可動側の金型組立体であり、該金型組立体32は、前記可動プラテンが進退するのに伴って進退(図2において上下方向に移動)させられ、金型組立体12と接離させられる。
前記金型組立体32は、ベースプレート35、該ベースプレート35にボルトb5によって取り付けられた中間プレート40、該中間プレート40にボルトb6によって取り付けられた第2の盤状部材としての第2の鏡面盤36、前記中間プレート40内に配設され、中間プレート40にボルトb7によって取り付けられた筒状のブシュ47、該ブシュ47内にベアリング49によって進退自在に支持された筒状の加工部材としてのカットパンチ48、該カットパンチ48内に進退自在に配設されたロッド状の突出しピン50、前記ベースプレート35内に配設されたカットパンチブロック52、前記ベースプレート35内に配設され、前記カットパンチブロック52を貫通し、かつ、カットパンチブロック52に対して摺(しゅう)動自在に配設された突出し用ロッド53等を備える。なお、前記ベースプレート35及び中間プレート40によって第2の支持部材が、前記ベースプレート35、中間プレート40及び第2の鏡面盤36によって第2の型ユニットが構成される。
また、本実施の形態においては、第1の鏡面盤16にスタンパが取り付けられるようになっているが、第2の鏡面盤36にスタンパを取り付けることもできる。さらに、本実施の形態においては、金型組立体12にインナスタンパホルダ14、第1の鏡面盤16、スプルーブッシュ24等を配設し、金型組立体32にベースプレート35、第2の鏡面盤36、中間プレート40、ブシュ47、カットパンチ48等を配設するようになっているが、金型組立体12にベースプレート、第2の鏡面盤、中間プレート、ブシュ、カットパンチ等を配設し、金型組立体32にインナスタンパホルダ、第1の鏡面盤、スプルーブッシュ等を配設することもできる。
前記ブシュ47は、カットパンチ48を包囲して、かつ、前端(図2において上端)をキャビティ空間Cに臨ませて配設され、第2の鏡面盤36を貫通して後方(図2において下方)に延び、後端(図2において下端)のフランジ部f1において、中間プレート40に前記ボルトb7によって取り付けられる。前記ブシュ47の外周面と第2の鏡面盤36及び中間プレート40の内周面との間にわずかなクリアランスが形成され、該クリアランスに圧縮された空気が供給され、該空気は、金型組立体32の前端において、ブシュ47の内周面と第2の鏡面盤36の内周面との間に形成されたエアブロー用のスリットからキャビティ空間C内に噴射される。
また、前記カットパンチ48は、前端をキャビティ空間Cに臨ませて配設され、第2の鏡面盤36及び中間プレート40を貫通して後方に延び、後端のフランジ部f2において前記カットパンチブロック52と当接させられる。したがって、図示されないカットパンチ用の駆動部としてのカットパンチ用シリンダを駆動することによって、カットパンチブロック52を進退させ、カットパンチ48を進退させることができる。なお、該カットパンチ48の前端は、前記ダイ28の形状に対応する形状を有し、前記カットパンチ48を前進(図2において上方向に移動)させることによって、前端をダイ28内に進入させることができる。
また、前記ブシュ47の前端の近傍に、空気、ガス等の第2の温調用の媒体、本実施の形態においては、空気を流すための環状の流路55がカットパンチ48を包囲して形成され、該流路55に、図示されない媒体供給源から空気が供給されることによって、カットパンチ48の特に前端部(図2において上端部)が所定の温度に冷却されるとともに、ブシュ47が冷却される。なお、第2の温調用の媒体として水、油等を使用することもできる。
そして、前記突出しピン50は、前端をキャビティ空間Cに臨ませて配設され、第2の鏡面盤36及び中間プレート40を貫通して後方に延び、後端において前記突出し用ロッド53と当接させられる。したがって、図示されない突出し用の駆動部としての突出し用シリンダを駆動することによって、突出し用ロッド53を進退させ、突出しピン50を進退させることができる。なお、前記カットパンチ48と突出しピン50との間には、付勢部材としてのスプリング54が軸方向に延在させて配設され、所定の付勢力で突出しピン50を後方に向けて付勢する。
また、前記第2の鏡面盤36の外周縁部において、第2の鏡面盤36に対して進退自在に、かつ、突当リング18と対向させて環状のキャビリング37が配設され、該キャビリング37によって、キャビティ空間Cの外周縁が規定されるとともに、ディスク基板の厚さが規定される。
そのために、前記第2の鏡面盤36は、前端側の第1の円形部101、該第1の円形部101より後方に隣接させて形成され、第1の円形部101より外径が大きい第2の円形部102、及び該第2の円形部102より後方に隣接させて形成され、第2の円形部102より外径が大きい第3の円形部103を備え、前記第1、第2の円形部101、102によって第1の段部が、前記第2、第3の円形部102、103によって第2の段部が形成される。前記キャビリング37は、環状の本体部105、該本体部105の前端側において径方向内方に向けて突出させて形成された環状の内側突部106、及び前記本体部105の後端側において径方向外方に向けて突出させて形成された環状の外側突部107を備え、前記本体部105及び内側突部106によって第1の段部が、前記本体部105及び外側突部107によって第2の段部が形成される。
また、前記第2の鏡面盤36及びキャビリング37より径方向外方において、前記第1の外周リング19と対向させて環状の第2の外周リング38がボルトb9によって中間プレート40に取り付けられる。前記第2の外周リング38は、キャビリング押えとしても機能し、前記キャビリング37の外周縁に係止させられる。そのために、前記第2の外周リング38は、環状の本体部112、及び該本体部112の前端側において径方向内方に向けて突出させて形成された環状の内側突部113を備え、前記本体部112及び内側突部113によって段部が形成される。
そして、前記キャビリング37は、前記第1の円形部101の外周面に内側突部106の内周面を摺動自在に当接させ、前記第2の円形部102の外周面に本体部105の内周面を摺動自在に当接させ、前記内側突部113の内周面に本体部105の外周面を摺動自在に当接させて配設される。
前記キャビリング37には後方に向けて案内ロッド41が取り付けられ、該案内ロッド41を前記中間プレート40に形成された案内穴に沿って進退させることにより、キャビリング37を進退させることができる。そして、キャビリング37は、第2の鏡面盤36の前端面(図2において上端面)より突出させられ、前記内側突部106の内周面によって、キャビティ空間Cの外周縁が規定される。
なお、前記外側突部107の外径は、内側突部113の内径より大きくされ、前記キャビリング37は、外側突部107が内側突部113に当接する前進限位置で停止させられ、このとき、前述されたように、前記第2の外周リング38は、前記キャビリング押えとして機能し、前記キャビリング37の外周縁と係止させられる。
ところで、前記キャビティ空間Cに樹脂が充填されるのに伴って、樹脂からガスが発生するが、該ガスがキャビティ空間Cに存在したまま成形が行われると、樹脂焼けが発生したり、ディスク基板にひけが発生したりする。そこで、前記キャビリング37における前端面の近傍の内周縁側に、ガス抜き用の環状の溝60が内側突部106の内周面及び後端面に形成され、前記溝60に連通させて、複数のガス抜き用の細孔64が、放射状に、かつ、等ピッチ角度でキャビリング37を貫通させて形成される。
そして、キャビリング37が突当リング18に当接させられた状態で、前記溝60は、内側突部106の内周面、及び後端面(図2において下端面)の内周縁において、第1の円形部101の外周面及び第2の円形部102の前端面に向けて開口し、細孔64の径方向内方の端部は、本体部105の内周縁において、第1の円形部101の外周面に向けて開口し、前記細孔64の径方向外方の端部は、本体部105の外周面において、内側突部113の内周面に向けて開口する。
また、前記第1の外周リング19における前端面(図3においては便宜上、第2の外周リング38における前端面に示される。)に、複数のガス抜き用の溝65が、放射状に、かつ、等ピッチ角度で、前記各細孔64と連通させて形成される。前記キャビリング37が突当リング18に当接させられた状態で、前記溝65の径方向内方の端部は、本体部105の外周面に向けて開口し、前記溝65の径方向外方の端部は、金型装置外に向けて開口する。なお、前記細孔64によって第1のガス抜流路が、溝65によって第2のガス抜流路が構成される。本実施の形態においては、第1の外周リング19に溝65が形成されるようになっているが、該溝65を第1、第2の外周リング19、38のうちの少なくとも一方に形成することができる。
したがって、キャビティ空間C内で発生したガスは、径方向外方に向けて流れた後、キャビリング37の内周面に突き当たり、第2の鏡面盤36とキャビリング37との隙(すき)間である第1の円形部101の外周面と内側突部106の内周面との間隙(げき)CL1を通って溝60に供給され、該溝60から細孔64に進入し、細孔64を通った後、溝65に進入し、該溝65を通って金型装置外に排出される。なお、前記間隙CL1、溝60、65及び細孔64によってガス排出路が形成される。
この場合、前記間隙CL1は、径方向において極めてわずかな値に設定されるので、樹脂が間隙CL1を介して漏れるのを十分に抑制することができ、かつ、円周方向に連続して形成されるので、十分な量のガスを通過させることができる。
また、前記間隙CL1に隣接させて溝60が形成され、該溝60と細孔64とが連通させれるとともに、溝65は、細孔64と対応させて形成され、細孔64及び溝65は円周方向において同じ位置に形成され、同じピッチ角度で径方向に延在させられる。そして、第1の外周リング19が厚く、第2の外周リング38が薄くされ、細孔64及び溝65が軸方向において一致させられ、同じ位置に形成される。したがって、前記ガス排出路を短くすることができるだけでなく、構造を極めて簡素化することができる。その結果、ガスを円滑に排出することができる。また、ガス排出路が短く、かつ、構造が簡素化されているので、ガス排出路内を流れるガスの速度を高くすることができ、ガス排出路内においてガスが液化し、固化することがない。
仮に、わずかな量のガスが液化し、固化しても、キャビリング37においてガスは細孔64を流れ、キャビリング37の前端面又は後端面を流れないので、液化し、固化したガスがキャビリング37の前端面又は後端面にヤニ状に付着することがない。その結果、キャビリング37の動きが悪くなるのを防止することができる。
また、キャビティ空間Cの外周縁に内側突部106の内周面が対向させられるので、ディスク基板の外周縁に横バリが形成されることがなく、ディスク基板の品質を向上させることができ、ディスク基板を貼り合わせる際に支障が生じることがない。
なお、前記第2の外周リング38においては、内側突部113における前端面及び内周面には、案内面としてのテーパ面Stが形成される。したがって、細孔64から排出されたガスはテーパ面Stによって案内されて溝65に供給されるので、ガスの流れを一層円滑にすることができ、ガスの速度を一層高くすることができる。
また、前記テーパ面Stは、第2の外周リング38の内周縁に沿って一定の角度で形成されるが、前記テーパ面Stに代えて湾曲面を形成することができる。
本実施の形態においては、ベースプレート15に突当リング18が、中間プレート40にキャビリング37が配設されるようになっているが、ベースプレート15にキャビリングを、中間プレート40に突当リングを配設することもできる。
ところで、前記金型組立体12、32によってディスク成形用金型である金型装置が構成され、金型組立体32を金型組立体12に対して接離させるために図示されない型締装置が配設される。該型締装置の型締め用の駆動部としての型締シリンダを駆動し、前記金型組立体32を進退させることによって、金型装置の型閉じ、型締め及び型開きを行うことができ、型締め時に、第1、第2の鏡面盤16、36間に前記キャビティ空間Cが形成される。この場合、型閉じ及び型開きを円滑に行うことができるように、ベースプレート15の所定の箇所に図示されないガイドロッドが金型組立体32に向けて突出させて取り付けられ、中間プレート40及びベースプレート35における前記ガイドロッドと対応する箇所にガイドブッシュ81が配設され、金型組立体32の進退に伴って、ガイドロッドがガイドブッシュ81に対して挿脱される。なお、図3において、82はガイドブッシュ81を取り付けるためのガイドブッシュ穴である。
また、冷却工程において、カットパンチ用シリンダを駆動することによってカットパンチ48を前進させると、カットパンチ48の前端がダイ28内に進入し、前記キャビティ空間C内の樹脂に加工、本実施の形態においては、穴開加工を行うことができる。なお、前記キャビティ空間C内の樹脂によってディスク基板の原型、すなわち、基板原型が構成される。
そこで、前記第1、第2の鏡面盤16、36とベースプレート15及び中間プレート40とによって、水、油、空気、ガス等の第3の温調用の媒体、本実施の形態においては、水を流すための第1、第2の流路61、62が形成され、該第1、第2の流路61、62に前記媒体供給源から水が供給され、第1、第2の鏡面盤16、36を所定の温度に冷却するようにしている。
前記第1の流路61は、ベースプレート15の所定の箇所、例えば、金型装置を射出成形機に取り付けたときに下方に位置する側面S1に開口させられた図示されない媒体入口、前記側面S1に、前記媒体入口に隣接させて開口させられた図示されない媒体出口、主としてベースプレート15を冷却するためにベースプレート15内に形成され、前記媒体入口及び媒体出口に接続された図示されない入口側及び出口側の補助冷却部、主として第1の鏡面盤16を冷却するために第1の鏡面盤16とベースプレート15との間に所定のパターンで形成された主冷却部67、並びに前記各補助冷却部と主冷却部67とを接続する入口側及び出口側の接続部を備える。前記主冷却部67は、第1の鏡面盤16におけるベースプレート15と当接する側の面において開口する溝をベースプレート15によって覆うことにより形成され、連続する1本の閉鎖された流路を構成する。
同様に、前記第2の流路62は、中間プレート40の所定の箇所、例えば、金型装置を射出成形機に取り付けたときに下方に位置する側面S11に開口させられた媒体入口72、前記側面S11に、前記媒体入口72に隣接させて開口させられた媒体出口73、主として中間プレート40を冷却するために中間プレート40内に形成され、前記媒体入口72及び媒体出口73に接続された入口側及び出口側の補助冷却部74、75、主として第2の鏡面盤36を冷却するために第2の鏡面盤36と中間プレート40との間に所定のパターンで形成された主冷却部77、並びに前記各補助冷却部74、75と主冷却部77とを接続する入口側及び出口側の接続部78、79を備える。前記主冷却部77は、第2の鏡面盤36における中間プレート40と当接する側の面において開口する溝を中間プレート40によって覆うことにより形成され、連続する1本の閉鎖された流路を構成する。
前記補助冷却部74、75は、主冷却部77の径方向外方において主冷却部77を包囲するように形成され、媒体入口72及び媒体出口73から中間プレート40の内方に向けて、互いに平行に直線状に延びる流路部h1、h2、該流路部h1、h2の先端から直角に、背面側(非操作側)の側面S12及び前面側(操作側)の側面S13に向けて直線状に延びる流路部h3、h4、該流路部h3、h4の先端から直角に、中間プレート40の側縁に沿って、上側の側面S14に向けて互いに平行に直線状に延びる流路部h5、h6、該流路部h5、h6の先端から直角に、互いに近づく方向に直線状に延びる流路部h7、h8、並びに該流路部h7、h8の先端から直角に、接続部78、79に向けて、互いに平行に直線状に延びる流路部h9、h10を備える。なお、ベースプレート15内に形成された補助冷却部も、補助冷却部74、75と同様な構造を有する。
また、前記主冷却部77は、第2の鏡面盤36の中心から径方向外方にかけて、所定の角度θにわたり、同心的に形成された複数の部分、すなわち、円弧部k1〜k4、円弧部k1、k2間を結ぶ直線部k5、円弧部k2、k3間を結ぶ直線部k6、及び円弧部k3、k4間を結ぶ直線部k7を備え、前記円弧部k1に接続部78が、円弧部k4に接続部79が接続される。なお、第1の鏡面盤16内に形成された主冷却部67も、主冷却部77と同様の部分、すなわち、円弧部及び直線部から成るが、円弧部の数は3個であり、直線部の数は2個である。
したがって、媒体入口72を介して中間プレート40内に供給された水は、補助冷却部74を流れた後、第2の鏡面盤36内に移動して第2の流路62を流れ、続いて、再び中間プレート40内に移動して補助冷却部75を流れ、媒体出口73から排出される。
そして、計量工程で前記射出装置において、スクリューが回転させられ、樹脂が溶融させられてスクリューの前方に蓄えられ、それに伴って、スクリューが後退させられ、この間に、金型装置の型閉じ及び型締めが行われる。続いて、射出工程において、前記スクリューが前進させられ、前記スクリューの前方に蓄えられた樹脂が射出ノズルから射出され、キャビティ空間Cに充填される。そして、冷却工程において、前記キャビティ空間C内の樹脂が冷却され、穴開加工が行われ、ディスク基板が成形される。続いて、型開きが行われ、前記ディスク基板が取り出される。
ところで、射出工程で、樹脂は、前記スプルー26を通り、ゲートを通ってキャビティ空間C内に進入し、キャビティ空間C内を径方向外方に向けて流れるようになっているので、キャビティ空間C内において温度勾(こう)配が形成され、樹脂の温度が、ゲートに近いほど高く、外周縁に近いほど低くなると、スタンパのパターンの転写性が、ゲートに近いほど高く、外周縁に近いほど低くなってしまう。
そこで、前記スタンパ側の第1の鏡面盤16において、外周縁の近傍において樹脂が冷えすぎないように、スタンパの外周縁の線上に環状の断熱部としての閉鎖室63が形成され、該閉鎖室63に空気が満たされる。前記閉鎖室63は、主冷却部67と同様に、第1の鏡面盤16におけるベースプレート15と当接する側の面において開口する溝をベースプレート15によって覆うことにより形成される。
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々変形させることが可能であり、それらを本発明の範囲から排除するものではない。
本発明の実施の形態における金型装置の要部を示す拡大図である。 本発明の実施の形態における金型装置の要部を示す断面図である。 本発明の実施の形態における可動側の金型組立体の要部を示す正面図である。
符号の説明
15、35 ベースプレート
16、36 第1、第2の鏡面盤
19、38 第1、第2の外周リング
37 キャビリング
40 中間プレート
64 細孔
65 溝
C キャビティ空間

Claims (9)

  1. (a)第1の支持部材と、
    (b)該第1の支持部材に取り付けられた第1の鏡面盤と、
    (c)前記第1の支持部材と対向させて、進退自在に配設された第2の支持部材と、
    (d)該第2の支持部材に取り付けられた第2の鏡面盤と、
    (e)前記第1、第2の鏡面盤のうちの一方に、前記鏡面盤に対して進退自在に配設され、キャビティ空間の外周縁を規定するキャビリングと、
    (f)前記第1、第2の鏡面盤の他方より径方向外方に配設された第1の外周リングと、
    (g)前記キャビリングより径方向外方に、前記第1の外周リングと対向させて配設された第2の外周リングとを有するとともに、
    (h)前記キャビリングの円周方向における複数箇所に、径方向に延在させて、かつ、キャビリングを貫通させてガス抜流路が形成されることを特徴とする金型装置。
  2. 前記ガス抜流路の径方向内方の端部は、前記一方の鏡面盤の外周面に向けて開口させられる請求項1に記載の金型装置。
  3. 前記第1、第2の外周リングのうちの少なくとも一方に、前記ガス抜流路と連通させて他のガス抜流路が形成される請求項1に記載の金型装置。
  4. (a)前記キャビリングは第2の支持部材に配設され、
    (b)前記他のガス抜流路は、第1の外周リングに形成される請求項3に記載の金型装置。
  5. 前記ガス抜流路と他のガス抜流路とは円周方向における同じ位置に形成される請求項3に記載の金型装置。
  6. 前記ガス抜流路と他のガス抜流路とは軸方向における同じ位置に形成される請求項3に記載の金型装置。
  7. 第1の支持部材、該第1の支持部材に取り付けられた第1の鏡面盤、前記第1の支持部材と対向させて、進退自在に配設された第2の支持部材、該第2の支持部材に取り付けられた第2の鏡面盤、前記第1、第2の鏡面盤のうちの一方に、前記鏡面盤に対して進退自在に配設され、キャビティ空間の外周縁を規定するキャビリング、前記第1、第2の鏡面盤の他方より径方向外方に配設された第1の外周リング、及び前記キャビリングより径方向外方に、前記第1の外周リングと対向させて配設された第2の外周リングとを有するとともに、前記キャビリングの円周方向における複数箇所に、径方向に延在させて、かつ、キャビリングを貫通させてガス抜流路が形成される金型装置によって成形される成形品において、
    (a)前記キャビティ空間に成形材料を充填し、
    (b)該成形材料を冷却することによって成形されることを特徴とする成形品。
  8. 第1の支持部材、該第1の支持部材に取り付けられた第1の鏡面盤、前記第1の支持部材と対向させて、進退自在に配設された第2の支持部材、該第2の支持部材に取り付けられた第2の鏡面盤、前記第1、第2の鏡面盤のうちの一方に、前記鏡面盤に対して進退自在に配設され、キャビティ空間の外周縁を規定するキャビリング、前記第1、第2の鏡面盤の他方より径方向外方に配設された第1の外周リング、及び前記キャビリングより径方向外方に、前記第1の外周リングと対向させて配設された第2の外周リングとを有するとともに、前記キャビリングの円周方向における複数箇所に、径方向に延在させて、かつ、キャビリングを貫通させてガス抜流路が形成される金型装置によって成形品を成形する成形品の成形方法において、
    (a)前記キャビティ空間に成形材料を充填し、
    (b)前記ガス抜流路を介してガスを排出させ、
    (c)前記成形材料を冷却することによって成形品を成形することを特徴とする成形品の成形方法。
  9. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の金型装置を備えた成形機。
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