JP2005274219A - Semiconductor acceleration sensor device and its manufacturing method - Google Patents

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澄夫 赤井
Hisakazu Miyajima
久和 宮島
Toshiyuki Suzuki
俊之 鈴木
Shinobu Kida
忍 木田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To miniaturize a package without lowering the degree of freedom of wiring. <P>SOLUTION: The package 10 is provided with recessed parts 11, 12 on the surface and the back respectively, and a rectangular though hole 13 is formed on the bottom surfaces of the two recessed parts 11, 12, to thereby form a hollow structure. An integrated circuit chip 2 is mounted so as to block the though hole 13 on the bottom surface of the recessed part 12 on the back side of the package 10. An acceleration sensor chip 1 is inserted into the though hole 13 from the recessed part 11 on the surface side of the package 10, and mounted adhesively on the surface of the integrated circuit chip 2 blocking the though hole 13. Since the acceleration sensor chip 1 and the integrated circuit chip 2 are mounted in the piled state across the though hole 13 from the surface side and the back side of the package 10, the package 10 can be miniaturized without lowering the degree of freedom of the wiring (conductive pattern), compared with a conventional example wherein a plurality of chips are mounted in the piled state on one surface of the package 10. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&amp;NCIPI

Description

本発明は、加速度センサチップを集積回路チップとともにパッケージに実装してなる半導体加速度センサ装置並びにその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a semiconductor acceleration sensor device in which an acceleration sensor chip is mounted in a package together with an integrated circuit chip, and a manufacturing method thereof.

従来、半導体加工技術を用いてシリコン基板等の半導体基板を加工して作成される加速度センサチップ(以下、センサチップと略す)40として、図18に示すように半導体基板を加工することで枠状の支持部43の内側に薄肉の梁部41によって揺動自在に支持された重り部42を形成するとともに、梁部41に複数個のピエゾ抵抗素子(図示せず)を形成した、いわゆる片持ち梁式のものがある(特許文献1参照)。ここでピエゾ抵抗素子は、例えば3軸方向の加速度を個別に検出し得る位置及び向きに形成されている。つまり、各軸方向に加速度が作用すると、重り部42が揺動することにより加速度の作用方向に応じて梁部41が変形して歪みが生じる。この梁部41の歪みによってピエゾ抵抗素子の抵抗値が変化し、しかも、その抵抗値変化は加速度の作用方向によって異なることから、各軸方向のピエゾ抵抗素子でブリッジ回路を構成して歪みによる抵抗値変化を電気信号として取り出せば、各軸方向毎に梁部41の歪み、すなわち作用する加速度の大きさに応じたレベルの電気信号(検出信号)が得られる。そして、各軸方向毎に得られる検出信号を演算処理(増幅や温度補償を含む)することによって加速度の作用方向並びにその大きさが検出できるものである。   Conventionally, as an acceleration sensor chip (hereinafter abbreviated as a sensor chip) 40 formed by processing a semiconductor substrate such as a silicon substrate using semiconductor processing technology, a frame shape is formed by processing the semiconductor substrate as shown in FIG. A so-called cantilever in which a weight portion 42 slidably supported by a thin beam portion 41 is formed inside the support portion 43 and a plurality of piezoresistive elements (not shown) are formed on the beam portion 41. There is a beam type (see Patent Document 1). Here, the piezoresistive elements are formed at positions and orientations that can individually detect accelerations in, for example, triaxial directions. That is, when acceleration acts in each axial direction, the weight portion 42 swings, and the beam portion 41 is deformed and distorted according to the acceleration acting direction. Since the resistance value of the piezoresistive element changes due to the distortion of the beam portion 41, and the change in the resistance value varies depending on the direction of the action of acceleration, a piezoresistive element in each axial direction constitutes a bridge circuit and resistance due to the distortion. If the change in value is taken out as an electric signal, an electric signal (detection signal) of a level corresponding to the distortion of the beam portion 41, that is, the magnitude of the acting acceleration is obtained for each axial direction. The direction of acceleration and its magnitude can be detected by performing arithmetic processing (including amplification and temperature compensation) on detection signals obtained for each axial direction.

ところで、上述のようにピエゾ抵抗素子のブリッジ回路から検出信号を得る回路や各軸方向毎に得られる検出信号を演算処理する処理回路等は集積回路(IC)チップ2として形成されている。そして、この集積回路チップ2が、図18に示すようにセンサチップ40とともにパッケージ100に実装されて半導体加速度センサ装置が構成される。パッケージ100は、例えばシリコン系あるいはエポキシ系の接着剤を用いてセンサチップ40並びに集積回路チップ2が実装される矩形平板状のセラミック基板101と、一面が開口する箱形に形成されて各チップを覆うようにセラミック基板101の実装面に取着されるカバー(図示せず)とを有する。なお、パッケージ100のセラミック基板101には図示しない導電パターンが形成されており、各チップに設けられている電極(図示せず)と導電パターンがワイヤボンディングによって電気的に接続される。   By the way, as described above, a circuit for obtaining a detection signal from a bridge circuit of a piezoresistive element, a processing circuit for processing the detection signal obtained for each axial direction, and the like are formed as an integrated circuit (IC) chip 2. Then, the integrated circuit chip 2 is mounted on the package 100 together with the sensor chip 40 as shown in FIG. 18 to constitute a semiconductor acceleration sensor device. The package 100 is formed in a rectangular flat plate-like ceramic substrate 101 on which the sensor chip 40 and the integrated circuit chip 2 are mounted using, for example, a silicon-based or epoxy-based adhesive, and a box shape with one surface open. And a cover (not shown) attached to the mounting surface of the ceramic substrate 101 so as to cover. A conductive pattern (not shown) is formed on the ceramic substrate 101 of the package 100, and an electrode (not shown) provided on each chip and the conductive pattern are electrically connected by wire bonding.

ところで上記従来例においては、複数のチップを平面的に実装配置する構造であるため、パッケージ100の小型化が困難であった。   By the way, in the above conventional example, since the plurality of chips are mounted and arranged in a plane, it is difficult to reduce the size of the package 100.

そこで本出願人は、パッケージに凹所を設け、寸法が最も大きい集積回路チップを除く他の加速度センサチップ等を凹所内に収納し、集積回路チップを凹所内に収納した加速度センサチップ等に対して積み重ねるように配置した半導体加速度センサ装置を既に提案している(特許文献2参照)。
特開平8−110351号公報 特開2003−344439公報
Therefore, the present applicant provides a recess in the package, and stores other acceleration sensor chips other than the integrated circuit chip having the largest dimension in the recess, and the acceleration sensor chip etc. in which the integrated circuit chip is stored in the recess. A semiconductor acceleration sensor device arranged so as to be stacked is already proposed (see Patent Document 2).
JP-A-8-110351 JP 2003-344439 A

しかしながら、上記後者の従来例ではパッケージの同一面側に複数のチップを積み重ねているため、導電パターンを形成するスペースが減少してしまい、配線の自由度が低下してしまうという課題があった。   However, in the latter conventional example, since a plurality of chips are stacked on the same surface side of the package, there is a problem that a space for forming a conductive pattern is reduced and the degree of freedom of wiring is lowered.

本発明は上記事情に鑑みて為されたものであり、その目的は、配線の自由度を低下させずにパッケージの小型化が可能な半導体加速度センサ装置並びにその製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a semiconductor acceleration sensor device capable of downsizing a package without reducing the degree of freedom of wiring, and a method for manufacturing the same.

請求項1の発明は、上記目的を達成するために、半導体基板を加工して作成され作用する加速度の大きさ及び方向に応じた電気信号を出力する加速度センサチップと、加速度センサチップが出力する電気信号を処理して作用する加速度の大きさ及び方向を求めるための処理回路を有する集積回路チップと、加速度センサチップ並びに集積回路チップを実装するパッケージとを備えた半導体加速度センサ装置において、パッケージの表裏両面に各々凹所を設けるとともにこれら凹所の底面を貫通する貫通孔を形成し、裏面側の凹所底面に集積回路チップを実装し、加速度センサチップを表面側の凹所から貫通孔に挿通したことを特徴とする。   According to a first aspect of the present invention, in order to achieve the above object, an acceleration sensor chip that outputs an electrical signal corresponding to the magnitude and direction of an acceleration that is created and processed by processing a semiconductor substrate, and the acceleration sensor chip outputs In a semiconductor acceleration sensor device comprising an integrated circuit chip having a processing circuit for determining the magnitude and direction of acceleration acting by processing an electrical signal, and an acceleration sensor chip and a package on which the integrated circuit chip is mounted. Recesses are provided on both the front and back surfaces, and through holes are formed through the bottom surfaces of these recesses. An integrated circuit chip is mounted on the bottom surface of the recesses on the back side, and the acceleration sensor chip is changed from the recesses on the front side to the through holes. It is characterized by being inserted.

この発明によれば、加速度センサチップと集積回路チップをパッケージの表側と裏側から貫通孔を通して積み重ねるように実装しているため、パッケージの片面に複数のチップを積み重ねるように実装する従来例に比較して、配線の自由度を低下させずにパッケージの小型化が可能となる。   According to the present invention, since the acceleration sensor chip and the integrated circuit chip are mounted so as to be stacked through the through holes from the front side and the back side of the package, compared to the conventional example in which a plurality of chips are stacked so as to be stacked on one side of the package. Thus, the package can be downsized without reducing the degree of freedom of wiring.

請求項2の発明は、請求項1の発明において、集積回路チップを凹所底面にフリップチップ実装したことを特徴とする。   The invention of claim 2 is characterized in that, in the invention of claim 1, the integrated circuit chip is flip-chip mounted on the bottom surface of the recess.

この発明によれば、ワイヤボンディングする場合に比較してパッケージをさらに小型化できる。   According to the present invention, the package can be further downsized as compared with the case of wire bonding.

請求項3の発明は、請求項1又は2の発明において、裏面側の凹所底面における貫通孔の周囲に、貫通孔の軸方向に突出する突部を全周に渡って設けたことを特徴とする。   The invention of claim 3 is characterized in that, in the invention of claim 1 or 2, a protrusion projecting in the axial direction of the through hole is provided around the entire circumference of the through hole in the bottom surface of the recess on the back surface side. And

この発明によれば、集積回路チップをパッケージに確実に固定するために裏面側の凹所に接着剤を流し込む場合、接着剤が貫通孔に流れ込むのを突部によって防ぐことができ、加速度センサチップと集積回路チップの実装に関わる信頼性が向上する。   According to the present invention, when the adhesive is poured into the recess on the back side in order to securely fix the integrated circuit chip to the package, it is possible to prevent the adhesive from flowing into the through hole by the protrusion, and the acceleration sensor chip. And reliability related to the mounting of the integrated circuit chip is improved.

請求項4の発明は、請求項1又は2又は3の発明において、表面側の凹所底面を、貫通孔に向かって裏面側へ傾斜するすり鉢状に形成したことを特徴とする。   The invention of claim 4 is characterized in that, in the invention of claim 1, 2 or 3, the bottom surface of the recess on the front surface side is formed in a mortar shape inclined toward the back surface side toward the through hole.

この発明によれば、加速度センサチップの実装時のアライメント精度が向上する。   According to this invention, the alignment accuracy when mounting the acceleration sensor chip is improved.

請求項5の発明は、請求項1〜4の何れかの発明において、集積回路チップの実装面に対して隙間を空けた状態で加速度センサチップを集積回路チップにフリップチップ実装したことを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects of the invention, the acceleration sensor chip is flip-chip mounted on the integrated circuit chip in a state where a gap is left with respect to the mounting surface of the integrated circuit chip. To do.

この発明によれば、隙間を空けたことで加速度センサチップの駆動部分(重り部)が集積回路チップに当たることがなく、加速度センサチップの動作不良が回避できる。   According to the present invention, the drive portion (weight portion) of the acceleration sensor chip does not hit the integrated circuit chip due to the clearance, and malfunction of the acceleration sensor chip can be avoided.

請求項6の発明は、請求項2の発明において、裏面側の凹所底面における貫通孔の周囲に貫通孔の軸方向に突出する複数の突台部を設けるとともに各突台部の先端面に集積回路チップをフリップチップ実装したことを特徴とする。   According to a sixth aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, a plurality of projecting portions protruding in the axial direction of the through hole are provided around the through hole in the bottom surface of the recess on the back surface side, and the tip surface of each projecting portion is provided. The integrated circuit chip is flip-chip mounted.

この発明によれば、突台部によって凹所底面と集積回路チップとの間に隙間が確保され、封止樹脂を充填する際の作業性が向上する。   According to the present invention, a gap is secured between the bottom surface of the recess and the integrated circuit chip by the projecting portion, and workability when filling the sealing resin is improved.

請求項7の発明は、請求項1〜6の何れかの発明において、裏面側の凹所内に充填される封止樹脂で集積回路チップをパッケージに固定したことを特徴とする。   According to a seventh aspect of the present invention, in any one of the first to sixth aspects, the integrated circuit chip is fixed to the package with a sealing resin filled in the recess on the back surface side.

この発明によれば、封止樹脂により集積回路チップの封止と同時にパッケージへの固定が行われるため、工程の簡略化とコスト低減が図れる。   According to the present invention, the integrated circuit chip is simultaneously sealed with the sealing resin, so that the process can be simplified and the cost can be reduced.

請求項8の発明は、請求項2記載の半導体加速度センサ装置を製造する方法であって、異方性導電膜を用いてパッケージ裏面の凹所底面に集積回路チップをフリップチップ実装する工程と、裏面側の凹所を封止樹脂で封止する工程と、非導電性膜を取着した加速度センサチップの実装面を貫通孔を通して異方性導電膜の表面側に固定する工程とを有することを特徴とする。   The invention of claim 8 is a method of manufacturing the semiconductor acceleration sensor device according to claim 2, wherein the step of flip-chip mounting an integrated circuit chip on the bottom of the recess on the back of the package using an anisotropic conductive film; Sealing the recess on the back side with a sealing resin, and fixing the mounting surface of the acceleration sensor chip to which the non-conductive film is attached to the surface side of the anisotropic conductive film through the through hole. It is characterized by.

請求項9の発明は、請求項2又は3記載の半導体加速度センサ装置を製造する方法であって、スタッドバンプボンディングによりパッケージ裏面の凹所底面に集積回路チップをフリップチップ実装する工程と、裏面側の凹所を封止樹脂で封止する工程と、非導電性膜を取着した加速度センサチップの実装面を貫通孔を通して異方性導電膜の表面側に固定する工程とを有することを特徴とする。   The invention according to claim 9 is a method of manufacturing the semiconductor acceleration sensor device according to claim 2 or 3, wherein the step of flip-chip mounting the integrated circuit chip on the bottom of the recess on the back of the package by stud bump bonding, and the back side And a step of fixing the mounting surface of the acceleration sensor chip to which the non-conductive film is attached to the surface side of the anisotropic conductive film through a through hole. And

請求項10の発明は、請求項2記載の半導体加速度センサ装置を製造する方法であって、パッケージ裏面の凹所底面に異方性導電膜を貼り付ける工程と、異方性導電膜の表面側及び裏面側にそれぞれ加速度センサチップ並びに集積回路チップをフリップチップ実装する工程と、裏面側の凹所を封止樹脂で封止する工程とを有することを特徴とする。   A tenth aspect of the present invention is a method for manufacturing the semiconductor acceleration sensor device according to the second aspect, wherein the step of attaching an anisotropic conductive film to the bottom of the recess on the back surface of the package, and the surface side of the anisotropic conductive film And a step of flip-chip mounting the acceleration sensor chip and the integrated circuit chip on the back surface side, respectively, and a step of sealing the recess on the back surface side with a sealing resin.

請求項11の発明は、請求項3記載の半導体加速度センサ装置を製造する方法であって、パッケージ裏面の凹所底面に異方性導電膜を貼り付ける工程と、異方性導電膜に貫通孔と連通する孔を貫設する工程と、異方性導電膜の表面側及び裏面側にそれぞれ加速度センサチップ並びに集積回路チップをフリップチップ実装する工程と、裏面側の凹所を封止樹脂で封止する工程とを有することを特徴とする。   The invention according to claim 11 is a method of manufacturing the semiconductor acceleration sensor device according to claim 3, wherein the anisotropic conductive film is attached to the bottom of the recess on the back surface of the package, and the through hole is formed in the anisotropic conductive film. A step of penetrating a hole communicating with the substrate, a step of flip-chip mounting an acceleration sensor chip and an integrated circuit chip on the front surface side and the back surface side of the anisotropic conductive film, respectively, and a recess on the back surface side are sealed with a sealing resin. And a step of stopping.

請求項12の発明は、請求項5記載の半導体加速度センサ装置を製造する方法であって、集積回路チップのパッドにスタッドバンプを形成するとともに、集積回路チップの実装面に加速度センサチップの可動部に対向する部位を除いて異方性導電膜を貼り付ける工程と、異方性導電膜を挟んでスタッドバンプボンディングにより加速度センサチップを集積回路チップの実装面に実装する工程と、加速度センサチップを実装した集積回路チップを異方性導電膜を用いて裏面側の凹所底面に実装する工程と、裏面側の凹所を封止樹脂で封止する工程とを有することを特徴とする。   According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing the semiconductor acceleration sensor device according to the fifth aspect, wherein stud bumps are formed on the pads of the integrated circuit chip and the movable portion of the acceleration sensor chip is mounted on the mounting surface of the integrated circuit chip. A step of attaching an anisotropic conductive film excluding a portion facing the substrate, a step of mounting the acceleration sensor chip on the mounting surface of the integrated circuit chip by stud bump bonding with the anisotropic conductive film sandwiched, and an acceleration sensor chip It has a step of mounting the mounted integrated circuit chip on the bottom surface of the recess on the back surface side using an anisotropic conductive film, and a step of sealing the recess on the back surface side with a sealing resin.

請求項13の発明は、請求項4記載の半導体加速度センサ装置を製造する方法であって、すり鉢状に形成された表面側の凹所底面に加速度センサチップを搭載するとともに封止樹脂により加速度センサチップをパッケージに固定する工程と、加速度センサチップのパッドとパッケージの導電パターンをワイヤボンディングにより接続する工程と、異方性導電膜を用いてパッケージ裏面の凹所底面に集積回路チップをフリップチップ実装する工程と、裏面側の凹所を封止樹脂で封止する工程とを有することを特徴とする。   A thirteenth aspect of the invention is a method of manufacturing the semiconductor acceleration sensor device according to the fourth aspect of the invention, in which an acceleration sensor chip is mounted on a bottom surface of a recess formed in a mortar shape and the acceleration sensor is formed by a sealing resin. The process of fixing the chip to the package, the process of connecting the pad of the acceleration sensor chip and the conductive pattern of the package by wire bonding, and the flip chip mounting of the integrated circuit chip on the bottom of the recess on the back of the package using an anisotropic conductive film And a step of sealing the recess on the back surface side with a sealing resin.

本発明によれば、加速度センサチップと集積回路チップをパッケージの表側と裏側から貫通孔を通して積み重ねるように実装しているため、パッケージの片面に複数のチップを積み重ねるように実装する従来例に比較して、配線の自由度を低下させずにパッケージの小型化が可能となるという効果がある。   According to the present invention, the acceleration sensor chip and the integrated circuit chip are mounted so as to be stacked through the through-holes from the front side and the back side of the package. Therefore, compared to the conventional example in which a plurality of chips are stacked on one side of the package. Thus, there is an effect that the package can be reduced in size without reducing the degree of freedom of wiring.

以下、図面を参照して本発明の各実施形態を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

ここで、個々の実施形態を説明する前に、各実施形態におけるパッケージ10の製造方法について簡単に説明する。なお、パッケージ10は立体回路成型基板(MID基板)として構成されている。   Here, before describing individual embodiments, a method of manufacturing the package 10 in each embodiment will be briefly described. The package 10 is configured as a three-dimensional circuit molded substrate (MID substrate).

まず、エンジニアリングプラスチック材料あるいはセラミック材料などを目的の形状に射出成型して絶縁基材(成型品)を得る。この成型品の表面に銅の薄膜を形成した後、レーザビームにより必要な導電パターンの輪郭部の薄膜を除去する。そして、残った薄膜部分(導電パターン部分)に電気銅メッキを施した後、ソフトエッチングにより余分な薄膜部分を除去する。最後に導電パターンにニッケル・金の順で電気メッキを行えば、必要な導電パターンが表面に形成された成型品、すなわち、パッケージ10が完成する。なお、立体回路成型基板の製造方法には、ホットスタンピング法や2ショット法などの他の方法もあるが、上述の製造方法によれば、他の方法に比較して微細・複雑な導電パターンの形成が可能であり、導電パターン及び成型品の変更の自由度が高いという利点がある。   First, an engineering plastic material or a ceramic material is injection molded into a desired shape to obtain an insulating base material (molded product). After forming a copper thin film on the surface of this molded product, the thin film at the contour portion of the necessary conductive pattern is removed by a laser beam. After the remaining thin film portion (conductive pattern portion) is subjected to electrolytic copper plating, the excess thin film portion is removed by soft etching. Finally, if the conductive pattern is electroplated in the order of nickel and gold, a molded product having the necessary conductive pattern formed on the surface, that is, the package 10 is completed. There are other methods such as a hot stamping method and a two-shot method as a method of manufacturing a three-dimensional circuit molded substrate. However, according to the above-described manufacturing method, a fine and complicated conductive pattern is formed as compared with other methods. There is an advantage that it can be formed and the degree of freedom in changing the conductive pattern and the molded product is high.

(実施形態1)
本実施形態は、図1及び図2に示すように、従来例とほぼ同じ構造を持つ加速度センサチップ1と、加速度センサチップ1が出力する電気信号を処理して作用する加速度の大きさ及び方向を求めるための処理回路(増幅器や温度補償回路を含む)を有する集積回路チップ2と、加速度センサチップ1並びに集積回路チップ2を実装するパッケージ10とを備える。
(Embodiment 1)
In this embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, the acceleration sensor chip 1 having substantially the same structure as the conventional example, and the magnitude and direction of the acceleration that acts by processing the electrical signal output from the acceleration sensor chip 1 An integrated circuit chip 2 having a processing circuit (including an amplifier and a temperature compensation circuit) for obtaining the acceleration sensor, and an acceleration sensor chip 1 and a package 10 on which the integrated circuit chip 2 is mounted.

パッケージ10は、上述の製造方法によって扁平な板状に形成され、その表面並びに裏面には各々凹所11,12が設けられるとともに2つの凹所11,12の底面には矩形の貫通孔13が形成されて中空構造となっている。   The package 10 is formed into a flat plate shape by the above-described manufacturing method, and recesses 11 and 12 are provided on the front surface and the back surface, respectively, and rectangular through holes 13 are formed on the bottom surfaces of the two recesses 11 and 12. A hollow structure is formed.

集積回路チップ2は、パッケージ10の裏面側の凹所12の底面に貫通孔13を塞ぐようにして実装され、表面に設けられている端子(図示せず)と、凹所12の内周面に形成されている導電パターン(図示せず)のパッドとがボンディングワイヤ3により電気的に接続されている。そして、凹所12に充填された封止樹脂4によって集積回路チップ2が封止されている。   The integrated circuit chip 2 is mounted so as to close the through hole 13 on the bottom surface of the recess 12 on the back surface side of the package 10, and a terminal (not shown) provided on the surface and the inner peripheral surface of the recess 12. A pad of a conductive pattern (not shown) formed on is electrically connected by a bonding wire 3. The integrated circuit chip 2 is sealed with a sealing resin 4 filled in the recess 12.

加速度センサチップ1は、パッケージ10の表面側の凹所11から貫通孔13に挿通され、貫通孔13を塞いでいる集積回路チップ2の表面に接着して実装され、凹所11の内周面に形成されている導電パターン(図示せず)のパッドとボンディングワイヤ5により電気的に接続されている。また、パッケージ10の表面にはパッケージ10と同材料により平板状に形成された蓋体14が接合され、この蓋体14によってパッケージ10の表面側の凹所11が封止されている。   The acceleration sensor chip 1 is inserted into the through hole 13 from the recess 11 on the surface side of the package 10, and is adhered and mounted on the surface of the integrated circuit chip 2 blocking the through hole 13. Are electrically connected to pads of conductive patterns (not shown) formed by the bonding wires 5. Further, a lid 14 formed in the shape of a flat plate of the same material as the package 10 is joined to the surface of the package 10, and the recess 11 on the surface side of the package 10 is sealed by the lid 14.

上述のようにパッケージ10の表裏両面に凹所11,12を設けるとともにこれらの2つの凹所11,12の底面を貫通する貫通孔13を設け、加速度センサチップ1と集積回路チップ2をパッケージ10の表側と裏側から貫通孔13を通して積み重ねるように実装しているため、パッケージ10の片面に複数のチップを積み重ねるように実装する従来例に比較して、配線(導電パターン)の自由度を低下させずにパッケージ10の小型化が可能となる。   As described above, the recesses 11 and 12 are provided on both the front and back surfaces of the package 10 and the through-holes 13 penetrating the bottom surfaces of the two recesses 11 and 12 are provided, so that the acceleration sensor chip 1 and the integrated circuit chip 2 are connected to the package 10. Since it is mounted so as to be stacked through the through-holes 13 from the front side and the back side, the degree of freedom of wiring (conductive pattern) is reduced as compared with the conventional example in which a plurality of chips are stacked on one side of the package 10. Therefore, the package 10 can be downsized.

(実施形態2)
本実施形態は、基本的な構成が実施形態1と共通であるから、共通の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 2)
Since the basic configuration of the present embodiment is the same as that of the first embodiment, the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図3に示すように、集積回路チップ2の端子に金等のバンプ6が設けられ、パッケージ10の裏面側の凹所12の底面に集積回路チップ2がフリップチップ実装されている。   As shown in FIG. 3, bumps 6 such as gold are provided on the terminals of the integrated circuit chip 2, and the integrated circuit chip 2 is flip-chip mounted on the bottom surface of the recess 12 on the back surface side of the package 10.

而して、集積回路チップ2をフリップチップ実装したことにより、実施形態1のようにワイヤボンディングする場合に比較してパッケージ10のさらなる小型化(低背化)と配線長の低減による耐ノイズ性の向上が図れるものである。   Thus, since the integrated circuit chip 2 is flip-chip mounted, the package 10 is further reduced in size (lower profile) and reduced in noise resistance compared to the case of wire bonding as in the first embodiment. Can be improved.

(実施形態3)
本実施形態は、基本的な構成が実施形態2と共通であるから、共通の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 3)
Since the basic configuration of this embodiment is the same as that of the second embodiment, common components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

本実施形態は、図4及び図5に示すように、パッケージ10の裏面側の凹所12の底面における貫通孔13の周囲に、貫通孔13の軸方向(図4における下方向)に突出する突部15が全周に渡って設けてある点に特徴がある。   As shown in FIGS. 4 and 5, the present embodiment projects in the axial direction of the through hole 13 (downward in FIG. 4) around the through hole 13 in the bottom surface of the recess 12 on the back surface side of the package 10. A feature is that the protrusion 15 is provided over the entire circumference.

集積回路チップ2をフリップチップ実装する場合、集積回路チップ2とパッケージ10との接合強度を確保するために集積回路チップ2と凹所12の底面の間に接着剤(アンダーフィル樹脂)7を充填する必要がある。そして、この接着剤7を凹所12内に流し込む際、貫通孔13の周りに突設されている突部15によって接着剤7が貫通孔13に流れ込むのを防止し、貫通孔13に流れ込んだ接着剤7によって加速度センサチップ1と集積回路チップ2の接合強度の信頼性が損なわれることを防ぐことができる。   When the integrated circuit chip 2 is flip-chip mounted, an adhesive (underfill resin) 7 is filled between the integrated circuit chip 2 and the bottom surface of the recess 12 in order to ensure the bonding strength between the integrated circuit chip 2 and the package 10. There is a need to. When the adhesive 7 is poured into the recess 12, the adhesive 7 is prevented from flowing into the through-hole 13 by the protrusion 15 protruding around the through-hole 13, and flows into the through-hole 13. The adhesive 7 can prevent the reliability of the bonding strength between the acceleration sensor chip 1 and the integrated circuit chip 2 from being impaired.

(実施形態4)
本実施形態の基本構成は実施形態2と共通であるから、共通の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 4)
Since the basic configuration of the present embodiment is the same as that of the second embodiment, the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

本実施形態は、図6及び図7に示すようにパッケージ10の表面側の凹所11の底面が、貫通孔13に向かって裏面側へ傾斜するすり鉢状に形成されている点に特徴がある。   As shown in FIGS. 6 and 7, this embodiment is characterized in that the bottom surface of the recess 11 on the front surface side of the package 10 is formed in a mortar shape that is inclined toward the back surface toward the through hole 13. .

而して、凹所11の底面がすり鉢状に形成されているため、凹所11の底面に加速度センサチップ1を実装する際の実装位置精度(アライメント精度)を向上することができる。   Thus, since the bottom surface of the recess 11 is formed in a mortar shape, mounting position accuracy (alignment accuracy) when mounting the acceleration sensor chip 1 on the bottom surface of the recess 11 can be improved.

(実施形態5)
本実施形態の基本構成は実施形態2と共通であるから、共通の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 5)
Since the basic configuration of the present embodiment is the same as that of the second embodiment, the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

本実施形態は、集積回路チップ2の実装面に対して隙間を空けた状態で加速度センサチップ1を集積回路チップ2にフリップチップ実装した点に特徴がある。   The present embodiment is characterized in that the acceleration sensor chip 1 is flip-chip mounted on the integrated circuit chip 2 with a gap from the mounting surface of the integrated circuit chip 2.

図8に示すように、集積回路チップ2の貫通孔13に臨む面には加速度センサチップ1と電気的に接続されるべき端子(図示せず)が設けられている。そして、この端子に金等のバンプ16が設けられ、貫通孔13に挿通された加速度センサチップ1がバンプ16を介して集積回路チップ2にフリップチップ実装されている。ここで、加速度センサチップ1と集積回路チップ2との間にはバンプ16の厚み分に相当する隙間が生じることになる。   As shown in FIG. 8, a terminal (not shown) to be electrically connected to the acceleration sensor chip 1 is provided on the surface facing the through hole 13 of the integrated circuit chip 2. A bump 16 such as gold is provided on this terminal, and the acceleration sensor chip 1 inserted through the through hole 13 is flip-chip mounted on the integrated circuit chip 2 via the bump 16. Here, a gap corresponding to the thickness of the bump 16 is generated between the acceleration sensor chip 1 and the integrated circuit chip 2.

而して、加速度センサチップ1を集積回路チップ2にフリップチップ実装したことにより、実施形態2のようにワイヤボンディングする場合に比較してパッケージ10のさらなる小型化(低背化)と配線長の低減による耐ノイズ性の向上が図れるものである。また、加速度センサチップ1と集積回路チップ2との間に隙間を空けているから、加速度センサチップ1の駆動部分(重り部)が集積回路チップ2に当たることがなく、加速度センサチップ1の動作不良が回避できるという利点がある。   Thus, since the acceleration sensor chip 1 is flip-chip mounted on the integrated circuit chip 2, the package 10 can be further reduced in size (reduced height) and the wiring length can be reduced as compared with the case of wire bonding as in the second embodiment. The noise resistance can be improved by the reduction. Further, since there is a gap between the acceleration sensor chip 1 and the integrated circuit chip 2, the drive portion (weight portion) of the acceleration sensor chip 1 does not hit the integrated circuit chip 2, and the acceleration sensor chip 1 malfunctions. There is an advantage that can be avoided.

なお、裏面側の凹所12内に充填される封止樹脂4で集積回路チップ2をパッケージ10に固定するようにすれば、封止樹脂4により集積回路チップ2の封止と同時にパッケージ10への固定が行われるため、工程の簡略化とコスト低減が図れるという利点がある。   If the integrated circuit chip 2 is fixed to the package 10 with the sealing resin 4 filled in the recess 12 on the back surface side, the sealing circuit 4 seals the integrated circuit chip 2 to the package 10 at the same time. Therefore, there is an advantage that the process can be simplified and the cost can be reduced.

(実施形態6)
本実施形態の基本構成は実施形態5と共通であるから、共通の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 6)
Since the basic configuration of this embodiment is the same as that of the fifth embodiment, the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

本実施形態は、図9及び図10に示すようにパッケージ10の裏面側の凹所12の底面における貫通孔13の周囲に貫通孔13の軸方向に突出する複数の突台部17を設けるとともに各突台部17の先端面に集積回路チップ2をフリップチップ実装した点に特徴がある。   In the present embodiment, as shown in FIGS. 9 and 10, a plurality of projecting portions 17 projecting in the axial direction of the through hole 13 are provided around the through hole 13 in the bottom surface of the recess 12 on the back surface side of the package 10. There is a feature in that the integrated circuit chip 2 is flip-chip mounted on the front end surface of each protrusion 17.

図10に示すように、凹所12の底面には貫通孔13を囲むように合計8個の突台部17が設けられ、各突台部17の側面、凹所12の内周面並びにパッケージ10の裏面には導電パターン18が形成されている。そして、集積回路チップ2の端子(図示せず)に金等のバンプが設けられ、突台部17の先端面に集積回路チップ2がフリップチップ実装されることで導電パターン18と端子が電気的に接続されている。なお、加速度センサチップ1は、異方性導電膜(AnisotropicConductiveFilm)19を介して集積回路チップ2にフリップチップ実装されている。   As shown in FIG. 10, a total of eight projecting parts 17 are provided on the bottom surface of the recess 12 so as to surround the through hole 13, and the side surface of each projecting part 17, the inner peripheral surface of the recess 12, and the package A conductive pattern 18 is formed on the back surface of 10. And bumps, such as gold | metal | money, are provided in the terminal (not shown) of the integrated circuit chip 2, and the conductive pattern 18 and a terminal are electrically connected by flip-chip mounting the integrated circuit chip 2 on the front end surface of the projecting part 17. It is connected to the. The acceleration sensor chip 1 is flip-chip mounted on the integrated circuit chip 2 via an anisotropic conductive film (Anisotropic Conductive Film) 19.

而して、貫通孔13の周囲に設けた複数の突台部17の先端面に集積回路チップ2をフリップチップ実装することにより凹所12の底面と集積回路チップ2との間に隙間が確保されるから、凹所12内へ封止樹脂4を充填する際の作業性が向上するものである。   Thus, a gap is secured between the bottom surface of the recess 12 and the integrated circuit chip 2 by flip-chip mounting the integrated circuit chip 2 on the tip surfaces of the plurality of projecting portions 17 provided around the through hole 13. Therefore, workability at the time of filling the sealing resin 4 into the recess 12 is improved.

以下、実施形態7〜実施形態12までは、本発明に係る半導体加速度センサ装置を製造する製造方法の発明の実施形態である。   Hereinafter, the seventh to twelfth embodiments are embodiments of the invention of the manufacturing method for manufacturing the semiconductor acceleration sensor device according to the present invention.

(実施形態7)
本実施形態は、実施形態2の半導体加速度センサ装置を製造する製造方法である。以下、図11の工程フロー図を参照しながら本実施形態の製造方法について説明する。但し、以下で示す数値は一例であって、例示した数値に限定する主旨ではない。
(Embodiment 7)
The present embodiment is a manufacturing method for manufacturing the semiconductor acceleration sensor device of the second embodiment. Hereinafter, the manufacturing method of this embodiment will be described with reference to the process flow chart of FIG. However, the numerical values shown below are merely examples, and are not intended to limit the numerical values illustrated.

まず、パッケージ10の裏面側凹所12の底面に異方性導電膜(ACF)21を貼り付けるとともに、貼り付けた異方性導電膜21を加熱して仮硬化させる(図11(a)参照)。ここで、パッケージ10の裏面は6mm×6mmの正方形に形成され、凹所11,12の底面に設けられた貫通孔13の開口寸法は1.8mm×1.8mmとなっている。なお、パッケージ10の表裏両面並びに凹所11,12の内周面には、導電パターン20(銅の膜厚:15μm、ニッケルの膜厚:10μm、金の膜厚:0.3μm)が形成されている。ここで、異方性導電膜21の膜厚は50μm、貼り付け時の圧力は100g/mm2、加熱温度は100℃である。 First, the anisotropic conductive film (ACF) 21 is attached to the bottom surface of the back-side recess 12 of the package 10, and the attached anisotropic conductive film 21 is heated and temporarily cured (see FIG. 11A). ). Here, the back surface of the package 10 is formed in a 6 mm × 6 mm square, and the opening size of the through hole 13 provided in the bottom surfaces of the recesses 11 and 12 is 1.8 mm × 1.8 mm. A conductive pattern 20 (copper film thickness: 15 μm, nickel film thickness: 10 μm, gold film thickness: 0.3 μm) is formed on both the front and back surfaces of the package 10 and the inner peripheral surfaces of the recesses 11 and 12. ing. Here, the film thickness of the anisotropic conductive film 21 is 50 μm, the pressure at the time of attachment is 100 g / mm 2 , and the heating temperature is 100 ° C.

次に、パッド表面にスタッドバンプ22(材料:金、直径100μm、高さ100μm)が形成された集積回路チップ2を裏面の凹所12内にアライメントした状態で収納し、凹所12底面の導電パターン20にスタッドバンプ22を接触導通させる。そして、図11(b)に示すように集積回路チップ2に図中矢印の向きに荷重(一つのスタッドバンプ22につき100g/mm2)を印加しながら異方性導電膜21を10秒程度の間加熱(210℃)して本硬化させる。このように異方性導電膜21を本硬化させることによって、スタッドバンプ22と導電パターン20の接触状態が保持されて集積回路チップ2と導電パターン20の接合部が導通する。すなわち、異方性導電膜21を用いてパッケージ10の裏面の凹所12底面に集積回路チップ2がフリップチップ実装(ACF実装)されたことになる。そして、集積回路チップ2と異方性導電膜21を覆うように凹所12内に封止樹脂4を充填し、30分間、150℃に加熱して封止樹脂4を硬化させる(図11(c)参照)。 Next, the integrated circuit chip 2 in which stud bumps 22 (material: gold, diameter 100 μm, height 100 μm) are formed on the pad surface is stored in an aligned state in the recess 12 on the back surface, and the bottom surface of the recess 12 is electrically conductive. The stud bump 22 is brought into contact with the pattern 20. Then, as shown in FIG. 11B, the anisotropic conductive film 21 is applied to the integrated circuit chip 2 for about 10 seconds while applying a load (100 g / mm 2 per stud bump 22) in the direction of the arrow in the figure. This is cured by heating (210 ° C.) for a short time. As the anisotropic conductive film 21 is fully cured in this way, the contact state between the stud bump 22 and the conductive pattern 20 is maintained, and the joint between the integrated circuit chip 2 and the conductive pattern 20 becomes conductive. That is, the integrated circuit chip 2 is flip-chip mounted (ACF mounted) on the bottom surface of the recess 12 on the back surface of the package 10 using the anisotropic conductive film 21. Then, the recess 12 is filled with the sealing resin 4 so as to cover the integrated circuit chip 2 and the anisotropic conductive film 21, and the sealing resin 4 is cured by heating to 150 ° C. for 30 minutes (FIG. 11 ( c)).

それから、加速度センサチップ1の実装面(パッドが形成されていない面)に非導電性膜(NonConductiveFilm)23を貼り付け、パッケージ10の表面の凹所11から加速度センサチップ1を貫通孔13に挿通し、非導電性膜23を貫通孔13に対向した異方性導電膜21上に搭載し、30分間、150℃に加熱して非導電性膜23を硬化させることで加速度センサチップ1を固定する(図11(d)参照)。そして、最後に加速度センサチップ1のパッドと凹所11内に設けられている導電パターン20を金ワイヤ24(直径:25μm)で接続(ワイヤボンディング)すれば、半導体加速度センサ装置が完成する(図11(e)参照)。   Then, a non-conductive film (NonConductiveFilm) 23 is attached to the mounting surface (surface on which no pad is formed) of the acceleration sensor chip 1, and the acceleration sensor chip 1 is inserted into the through hole 13 from the recess 11 on the surface of the package 10. The acceleration sensor chip 1 is fixed by mounting the nonconductive film 23 on the anisotropic conductive film 21 facing the through-hole 13 and curing the nonconductive film 23 by heating to 150 ° C. for 30 minutes. (See FIG. 11D). Finally, if the pads of the acceleration sensor chip 1 and the conductive pattern 20 provided in the recess 11 are connected (wire bonding) with a gold wire 24 (diameter: 25 μm), a semiconductor acceleration sensor device is completed (FIG. 5). 11 (e)).

(実施形態8)
本実施形態は、実施形態3の半導体加速度センサ装置を製造する製造方法である。以下、図12の工程フロー図を参照しながら本実施形態の製造方法について説明する。但し、実施形態7における構成要素と共通のものには同一の符号を付して説明を省略する。また、以下で示す数値は一例であって、例示した数値に限定する主旨ではない。
(Embodiment 8)
The present embodiment is a manufacturing method for manufacturing the semiconductor acceleration sensor device of the third embodiment. Hereinafter, the manufacturing method of this embodiment will be described with reference to the process flow chart of FIG. However, the same components as those in the seventh embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. Moreover, the numerical value shown below is an example, Comprising: It is not the main point limited to the illustrated numerical value.

まず、集積回路チップ2のパッド表面にスタッドバンプ22(材料:金、直径100μm、高さ100μm)が形成され、さらにスタッドバンプ22の先端に導電性接着剤25を塗布した後、その集積回路チップ2を裏面の凹所12内にアライメントした状態で収納し、凹所12底面の導電パターン20にスタッドバンプ22を接触導通させる(図12(a)参照)。そして、集積回路チップ2に一つのスタッドバンプ22につき45g/mm2の荷重を印加しながら導電性接着剤25を2時間の間加熱(120℃)して硬化させる。このように導電性接着剤25を本硬化させることによって、スタッドバンプ22と導電パターン20の接触状態が保持されて集積回路チップ2と導電パターン20の接合部が導通する。そして、集積回路チップ2を覆うようにアンダーフィル樹脂を兼ねる封止樹脂4を凹所12内に充填し、表面の凹所11側から紫外線を照射することで封止樹脂4を硬化させる(図12(b)参照)。ここで、封止樹脂4を凹所12内に流し込む際、貫通孔13の周りに突設されている突部15(高さ:50μm)によって封止樹脂4が貫通孔13に流れ込むのを防止している。 First, a stud bump 22 (material: gold, diameter 100 μm, height 100 μm) is formed on the pad surface of the integrated circuit chip 2, and a conductive adhesive 25 is applied to the tip of the stud bump 22. 2 is stored in an aligned state in the recess 12 on the back surface, and the stud bump 22 is brought into contact with the conductive pattern 20 on the bottom surface of the recess 12 (see FIG. 12A). Then, the conductive adhesive 25 is cured by heating (120 ° C.) for 2 hours while applying a load of 45 g / mm 2 per stud bump 22 to the integrated circuit chip 2. Thus, the conductive adhesive 25 is fully cured, so that the contact state between the stud bump 22 and the conductive pattern 20 is maintained, and the joint between the integrated circuit chip 2 and the conductive pattern 20 is conducted. Then, the recess 12 is filled with a sealing resin 4 that also serves as an underfill resin so as to cover the integrated circuit chip 2, and the sealing resin 4 is cured by irradiating ultraviolet rays from the recess 11 side of the surface (FIG. 12 (b)). Here, when the sealing resin 4 is poured into the recess 12, the sealing resin 4 is prevented from flowing into the through-hole 13 by the protrusion 15 (height: 50 μm) provided around the through-hole 13. doing.

それから、加速度センサチップ1の実装面に非導電性膜23を貼り付け、パッケージ10の表面の凹所11から加速度センサチップ1を貫通孔13に挿通し、非導電性膜23を貫通孔13に対向した集積回路チップ2上に搭載し、30分間、150℃に加熱して非導電性膜23を硬化させることで加速度センサチップ1を固定する(図12(c)参照)。そして、最後に加速度センサチップ1のパッドと凹所11内に設けられている導電パターン20を金ワイヤ24(直径:25μm)で接続(ワイヤボンディング)すれば、半導体加速度センサ装置が完成する(図12(d)参照)。   Then, a nonconductive film 23 is attached to the mounting surface of the acceleration sensor chip 1, the acceleration sensor chip 1 is inserted into the through hole 13 from the recess 11 on the surface of the package 10, and the nonconductive film 23 is inserted into the through hole 13. The acceleration sensor chip 1 is fixed by mounting it on the opposing integrated circuit chip 2 and heating it to 150 ° C. for 30 minutes to cure the nonconductive film 23 (see FIG. 12C). Finally, if the pads of the acceleration sensor chip 1 and the conductive pattern 20 provided in the recess 11 are connected (wire bonding) with a gold wire 24 (diameter: 25 μm), a semiconductor acceleration sensor device is completed (FIG. 5). 12 (d)).

(実施形態9)
本実施形態は、実施形態2の半導体加速度センサ装置を製造する製造方法である。以下、図13の工程フロー図を参照しながら本実施形態の製造方法について説明する。但し、実施形態7における構成要素と共通のものには同一の符号を付して説明を省略する。また、以下で示す数値は一例であって、例示した数値に限定する主旨ではない。
(Embodiment 9)
The present embodiment is a manufacturing method for manufacturing the semiconductor acceleration sensor device of the second embodiment. Hereinafter, the manufacturing method of this embodiment will be described with reference to the process flow diagram of FIG. However, the same components as those in the seventh embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. Moreover, the numerical value shown below is an example, Comprising: It is not the main point limited to the illustrated numerical value.

まず、パッケージ10の裏面側凹所12の底面に異方性導電膜21を貼り付けるとともに、貼り付けた異方性導電膜21を加熱して仮硬化させる(図13(a)参照)。次に、パッド表面にスタッドバンプ22が形成された集積回路チップ2を裏面の凹所12内にアライメントした状態で収納し、凹所12底面の導電パターン20にスタッドバンプ22を接触導通させる。また、パッケージ10の表面の凹所11から加速度センサチップ1を貫通孔13に挿通し、貫通孔13に対向した異方性導電膜21上に押しつける(押しつけ加重:100g/mm2)。そして、図13(b)に示すように集積回路チップ2に荷重(一つのスタッドバンプ22につき100g/mm2)を印加しながら異方性導電膜21を10秒程度の間加熱(210℃)して本硬化させ、加速度センサチップ1と集積回路チップ2を同時に固定する。そして、集積回路チップ2と異方性導電膜21を覆うように凹所12内に封止樹脂4を充填し、30分間、150℃に加熱して封止樹脂4を硬化させる(図13(c)参照)。最後に加速度センサチップ1のパッドと凹所11内に設けられている導電パターン20を金ワイヤ24で接続(ワイヤボンディング)すれば、半導体加速度センサ装置が完成する(図13(d)参照)。 First, the anisotropic conductive film 21 is attached to the bottom surface of the back surface side recess 12 of the package 10, and the attached anisotropic conductive film 21 is heated and temporarily cured (see FIG. 13A). Next, the integrated circuit chip 2 having the stud bumps 22 formed on the pad surface is accommodated in the recess 12 on the back surface, and the stud bumps 22 are brought into contact with the conductive pattern 20 on the bottom surface of the recess 12. Further, the acceleration sensor chip 1 is inserted into the through hole 13 from the recess 11 on the surface of the package 10 and pressed onto the anisotropic conductive film 21 facing the through hole 13 (pressing load: 100 g / mm 2 ). Then, as shown in FIG. 13B, the anisotropic conductive film 21 is heated (210 ° C.) for about 10 seconds while applying a load (100 g / mm 2 per stud bump 22) to the integrated circuit chip 2. Then, the main body is cured and the acceleration sensor chip 1 and the integrated circuit chip 2 are fixed simultaneously. Then, the recess 12 is filled with the sealing resin 4 so as to cover the integrated circuit chip 2 and the anisotropic conductive film 21, and the sealing resin 4 is cured by heating to 150 ° C. for 30 minutes (FIG. 13 ( c)). Finally, if the pads of the acceleration sensor chip 1 and the conductive pattern 20 provided in the recess 11 are connected (wire bonding) by the gold wire 24, the semiconductor acceleration sensor device is completed (see FIG. 13D).

(実施形態10)
本実施形態は、実施形態3の半導体加速度センサ装置を製造する製造方法である。以下、図14の工程フロー図を参照しながら本実施形態の製造方法について説明する。但し、実施形態7における構成要素と共通のものには同一の符号を付して説明を省略する。また、以下で示す数値は一例であって、例示した数値に限定する主旨ではない。
(Embodiment 10)
The present embodiment is a manufacturing method for manufacturing the semiconductor acceleration sensor device of the third embodiment. Hereinafter, the manufacturing method of this embodiment will be described with reference to the process flow diagram of FIG. However, the same components as those in the seventh embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. Moreover, the numerical value shown below is an example, Comprising: It is not the main point limited to the illustrated numerical value.

まず、集積回路チップ2のパッド表面にスタッドバンプ22を形成するとともに、その同一面における中央部に非導電性膜23を貼り付け、さらに非導電性膜23の上に加速度センサチップ1を搭載し、非導電性膜23を加熱して硬化することにより集積回路チップ2と加速度センサチップ1を結合する(図14(a)参照)。   First, the stud bump 22 is formed on the pad surface of the integrated circuit chip 2, the nonconductive film 23 is attached to the central portion on the same surface, and the acceleration sensor chip 1 is mounted on the nonconductive film 23. Then, the integrated circuit chip 2 and the acceleration sensor chip 1 are coupled by heating and curing the non-conductive film 23 (see FIG. 14A).

次に、パッケージ10の裏面側凹所12の底面に異方性導電膜21を貼り付けるとともに、貼り付けた異方性導電膜21を加熱して仮硬化させる(図14(b)参照)。さらに、貫通孔13の内径とほぼ同サイズのピンで異方性導電膜21の貫通孔13を覆う部位を打ち抜いて貫通孔13の開口を凹所12側に露出させる(図14(c)参照)。このとき、貫通孔13の周りに突設されている突部15にピンがガイドされるために打ち抜きやすくなっている。   Next, the anisotropic conductive film 21 is attached to the bottom surface of the back surface side recess 12 of the package 10, and the attached anisotropic conductive film 21 is heated and temporarily cured (see FIG. 14B). Further, a portion covering the through hole 13 of the anisotropic conductive film 21 is punched with a pin having the same size as the inner diameter of the through hole 13 so that the opening of the through hole 13 is exposed to the recess 12 side (see FIG. 14C). ). At this time, since the pin is guided by the protrusion 15 protruding around the through-hole 13, it is easy to punch.

そして、裏面側の凹所12から加速度センサチップ1を貫通孔13に挿通するとともに、凹所12底面の導電パターン20に集積回路チップ2に設けたスタッドバンプ22を接触導通させ、異方性導電膜21を加熱して本硬化させる(図14(d)参照)。最後に加速度センサチップ1のパッドと凹所11内に設けられている導電パターン20を金ワイヤ24で接続(ワイヤボンディング)すれば、半導体加速度センサ装置が完成する(図14(e)参照)。   Then, the acceleration sensor chip 1 is inserted into the through-hole 13 from the recess 12 on the back surface side, and the stud bump 22 provided on the integrated circuit chip 2 is brought into contact with the conductive pattern 20 on the bottom surface of the recess 12 to conduct anisotropic conduction. The film 21 is heated to be fully cured (see FIG. 14D). Finally, if the pads of the acceleration sensor chip 1 and the conductive pattern 20 provided in the recess 11 are connected (wire bonding) by the gold wire 24, the semiconductor acceleration sensor device is completed (see FIG. 14E).

(実施形態11)
本実施形態は、実施形態5の半導体加速度センサ装置を製造する製造方法である。以下、図15の工程フロー図を参照しながら本実施形態の製造方法について説明する。但し、実施形態7における構成要素と共通のものには同一の符号を付して説明を省略する。また、以下で示す数値は一例であって、例示した数値に限定する主旨ではない。
(Embodiment 11)
The present embodiment is a manufacturing method for manufacturing the semiconductor acceleration sensor device of the fifth embodiment. Hereinafter, the manufacturing method of this embodiment will be described with reference to the process flow diagram of FIG. However, the same components as those in the seventh embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. Moreover, the numerical value shown below is an example, Comprising: It is not the main point limited to the illustrated numerical value.

まず、導電パターン20に接続される集積回路チップ2のパッド(図示せず)表面にスタッドバンプ22を形成するとともに、加速度センサチップ1の集積回路チップ2のパッド2aに接続されるパッド1aの表面にもスタッドバンプ26を形成する。そして、集積回路チップ2のパッド2aが設けられている面の中央部に異方性導電膜27を貼り付け、その上に加速度センサチップ1を搭載し、異方性導電膜27を加熱して硬化することにより集積回路チップ2と加速度センサチップ1を結合する(図15(a)参照)。このとき、図16に示すように加速度センサチップ1のパッド1aと集積回路チップ2のパッド2aがバンプ26を介して接合される。また、加速度センサチップ1のパッド1aが設けられた面には駆動部分(重り部)1bが有るが、この駆動部分1bの周囲には異方性導電膜27を配置しておらず、加速度センサチップ1と集積回路チップ2との間にはバンプ26の厚み分に相当する隙間を設けている。この隙間により、加速度センサチップ1の駆動部分(重り部)1bが集積回路チップ2に当たらないようにして加速度センサチップ1の動作不良を回避している。   First, the stud bump 22 is formed on the surface of the pad (not shown) of the integrated circuit chip 2 connected to the conductive pattern 20, and the surface of the pad 1a connected to the pad 2a of the integrated circuit chip 2 of the acceleration sensor chip 1. Also, stud bumps 26 are formed. Then, an anisotropic conductive film 27 is attached to the center of the surface of the integrated circuit chip 2 where the pads 2a are provided, the acceleration sensor chip 1 is mounted thereon, and the anisotropic conductive film 27 is heated. The integrated circuit chip 2 and the acceleration sensor chip 1 are coupled by being cured (see FIG. 15A). At this time, as shown in FIG. 16, the pad 1 a of the acceleration sensor chip 1 and the pad 2 a of the integrated circuit chip 2 are joined via the bumps 26. Further, the surface of the acceleration sensor chip 1 on which the pad 1a is provided has a drive portion (weight portion) 1b, but the anisotropic conductive film 27 is not disposed around the drive portion 1b, and the acceleration sensor. A gap corresponding to the thickness of the bump 26 is provided between the chip 1 and the integrated circuit chip 2. This gap prevents the drive portion (weight portion) 1b of the acceleration sensor chip 1 from hitting the integrated circuit chip 2 to avoid malfunction of the acceleration sensor chip 1.

次に、パッケージ10の裏面側凹所12の底面に異方性導電膜21を貼り付けるとともに、貼り付けた異方性導電膜21を加熱して仮硬化させ、さらに、貫通孔13の内径とほぼ同サイズのピンで異方性導電膜21の貫通孔13を覆う部位を打ち抜いて貫通孔13の開口を凹所12側に露出させる。そして、裏面側の凹所12から加速度センサチップ1を貫通孔13に挿通するとともに、凹所12底面の導電パターン20に集積回路チップ2に設けたスタッドバンプ22を接触導通させ、異方性導電膜21を加熱して本硬化させる(図15(b)参照)。最後に集積回路チップ2と異方性導電膜21を覆うように凹所12内に封止樹脂4を充填し、30分間、150℃に加熱して封止樹脂4を硬化すれば、半導体加速度センサ装置が完成する(図15(c)参照)。   Next, the anisotropic conductive film 21 is attached to the bottom surface of the back surface side recess 12 of the package 10, the attached anisotropic conductive film 21 is heated and temporarily cured, and the inner diameter of the through hole 13 A portion covering the through hole 13 of the anisotropic conductive film 21 is punched out with a pin having substantially the same size, so that the opening of the through hole 13 is exposed to the recess 12 side. Then, the acceleration sensor chip 1 is inserted into the through-hole 13 from the recess 12 on the back surface side, and the stud bump 22 provided on the integrated circuit chip 2 is brought into contact with the conductive pattern 20 on the bottom surface of the recess 12 to conduct anisotropic conduction. The film 21 is heated to be fully cured (see FIG. 15B). Finally, the recess 12 is filled with the sealing resin 4 so as to cover the integrated circuit chip 2 and the anisotropic conductive film 21 and heated to 150 ° C. for 30 minutes to cure the sealing resin 4. The sensor device is completed (see FIG. 15C).

(実施形態12)
本実施形態は、実施形態4の半導体加速度センサ装置を製造する製造方法である。以下、図17の工程フロー図を参照しながら本実施形態の製造方法について説明する。但し、実施形態7における構成要素と共通のものには同一の符号を付して説明を省略する。また、以下で示す数値は一例であって、例示した数値に限定する主旨ではない。
Embodiment 12
The present embodiment is a manufacturing method for manufacturing the semiconductor acceleration sensor device of the fourth embodiment. Hereinafter, the manufacturing method of this embodiment will be described with reference to the process flow diagram of FIG. However, the same components as those in the seventh embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. Moreover, the numerical value shown below is an example, Comprising: It is not the main point limited to the illustrated numerical value.

まず、すり鉢状に形成されたパッケージ10の凹所11の底面に加速度センサチップ1を搭載し、裏面の凹所12側から貫通孔13を通して吸着することにより加速度センサチップ1を位置決め(アライメント)する(図17(a)参照)。そして、この状態で凹所11の底面に封止樹脂28を塗布するとともに硬化させて加速度センサチップ1をパッケージ10に固定する(図17(b)参照)。さらに、加速度センサチップ1のパッドと凹所11内に設けられている導電パターン20を金ワイヤ24で接続する(図17(c)参照)。   First, the acceleration sensor chip 1 is mounted on the bottom surface of the recess 11 of the package 10 formed in a mortar shape, and the acceleration sensor chip 1 is positioned (aligned) by being sucked through the through hole 13 from the recess 12 side of the back surface. (See FIG. 17 (a)). In this state, the sealing resin 28 is applied to the bottom surface of the recess 11 and cured to fix the acceleration sensor chip 1 to the package 10 (see FIG. 17B). Further, the pads of the acceleration sensor chip 1 and the conductive pattern 20 provided in the recess 11 are connected by a gold wire 24 (see FIG. 17C).

次に、パッケージ10の裏面側凹所12の底面に異方性導電膜21を貼り付け、貼り付けた異方性導電膜21を加熱して仮硬化させた後、パッド表面にスタッドバンプ22が形成された集積回路チップ2を裏面の凹所12内にアライメントした状態で収納し、凹所12底面の導電パターン20にスタッドバンプ22を接触導通させた状態で荷重を印加しながら異方性導電膜21を10秒程度の間加熱(210℃)して本硬化させる。そして、集積回路チップ2と異方性導電膜21を覆うように凹所12内に封止樹脂4を充填し、30分間、150℃に加熱して封止樹脂4を硬化させれば、半導体加速度センサ装置が完成する(図17(d)参照)。   Next, the anisotropic conductive film 21 is attached to the bottom surface of the back surface side recess 12 of the package 10, and the attached anisotropic conductive film 21 is heated and temporarily cured, and then the stud bump 22 is formed on the pad surface. The formed integrated circuit chip 2 is stored in an aligned state in the recess 12 on the back surface, and anisotropic conductive while applying a load with the stud bump 22 in contact with the conductive pattern 20 on the bottom surface of the recess 12. The film 21 is heated (210 ° C.) for about 10 seconds to be fully cured. Then, if the sealing resin 4 is filled in the recess 12 so as to cover the integrated circuit chip 2 and the anisotropic conductive film 21 and heated to 150 ° C. for 30 minutes to cure the sealing resin 4, the semiconductor The acceleration sensor device is completed (see FIG. 17D).

実施形態1を示し、(a)は表面の斜視図、(b)は裏面の斜視図である。Embodiment 1 is shown, (a) is a front perspective view, (b) is a rear perspective view. 同上の断面図である。It is sectional drawing same as the above. 実施形態2の断面図である。6 is a cross-sectional view of a second embodiment. FIG. 実施形態3の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a third embodiment. 同上におけるパッケージの一部破断した斜視図である。It is the partially broken perspective view of the package in the same. 実施形態4の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a fourth embodiment. 同上におけるパッケージの一部破断した斜視図である。It is the partially broken perspective view of the package in the same. 実施形態5の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a fifth embodiment. 実施形態6の断面図である。It is sectional drawing of Embodiment 6. FIG. 同上におけるパッケージの裏面平面図である。It is a back surface top view of the package in the same as the above. 実施形態7の製造方法を説明する工程フロー図である。FIG. 10 is a process flow diagram illustrating a manufacturing method according to Embodiment 7. 実施形態8の製造方法を説明する工程フロー図である。It is a process flow figure explaining the manufacturing method of Embodiment 8. 実施形態9の製造方法を説明する工程フロー図である。It is a process flow figure explaining the manufacturing method of Embodiment 9. 実施形態10の製造方法を説明する工程フロー図である。It is a process flow figure explaining the manufacturing method of Embodiment 10. 実施形態11の製造方法を説明する工程フロー図である。It is a process flow figure explaining the manufacturing method of Embodiment 11. 同上における要部の平面図である。It is a top view of the principal part in the same as the above. 実施形態12の製造方法を説明する工程フロー図である。It is a process flow figure explaining the manufacturing method of Embodiment 12. 従来例を示し、(a)は平面図、(b)は断面図である。A prior art example is shown, (a) is a plan view and (b) is a cross-sectional view.

符号の説明Explanation of symbols

1 加速度センサチップ
2 集積回路チップ
10 パッケージ
11 凹所
12 凹所
13 貫通孔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Acceleration sensor chip 2 Integrated circuit chip 10 Package 11 Recess 12 Recess 13 Through-hole

Claims (13)

半導体基板を加工して作成され作用する加速度の大きさ及び方向に応じた電気信号を出力する加速度センサチップと、加速度センサチップが出力する電気信号を処理して作用する加速度の大きさ及び方向を求めるための処理回路を有する集積回路チップと、加速度センサチップ並びに集積回路チップを実装するパッケージとを備えた半導体加速度センサ装置において、パッケージの表裏両面に各々凹所を設けるとともにこれら凹所の底面を貫通する貫通孔を形成し、裏面側の凹所底面に集積回路チップを実装し、加速度センサチップを表面側の凹所から貫通孔に挿通したことを特徴とする半導体加速度センサ装置。   An acceleration sensor chip that outputs an electrical signal according to the magnitude and direction of an acceleration that is created and processed by processing a semiconductor substrate, and the magnitude and direction of an acceleration that acts by processing the electrical signal output by the acceleration sensor chip. In a semiconductor acceleration sensor device comprising an integrated circuit chip having a processing circuit for obtaining, an acceleration sensor chip and a package for mounting the integrated circuit chip, recesses are provided on both the front and back surfaces of the package, and the bottom surfaces of these recesses are provided. A semiconductor acceleration sensor device, wherein a through hole is formed, an integrated circuit chip is mounted on a bottom surface of a recess on the back surface side, and the acceleration sensor chip is inserted into the through hole from the recess on the front surface side. 集積回路チップを凹所底面にフリップチップ実装したことを特徴とする請求項1記載の半導体加速度センサ装置。   2. The semiconductor acceleration sensor device according to claim 1, wherein the integrated circuit chip is flip-chip mounted on the bottom surface of the recess. 裏面側の凹所底面における貫通孔の周囲に、貫通孔の軸方向に突出する突部を全周に渡って設けたことを特徴とする請求項1又は2記載の半導体加速度センサ装置。   3. The semiconductor acceleration sensor device according to claim 1, wherein a protrusion projecting in the axial direction of the through hole is provided around the entire circumference of the through hole in the bottom surface of the recess on the back surface side. 表面側の凹所底面を、貫通孔に向かって裏面側へ傾斜するすり鉢状に形成したことを特徴とする請求項1又は2又は3記載の半導体加速度センサ装置。   4. The semiconductor acceleration sensor device according to claim 1, wherein the bottom surface of the recess on the front surface side is formed in a mortar shape inclined toward the back surface side toward the through hole. 集積回路チップの実装面に対して隙間を空けた状態で加速度センサチップを集積回路チップにフリップチップ実装したことを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の半導体加速度センサ装置。   5. The semiconductor acceleration sensor device according to claim 1, wherein the acceleration sensor chip is flip-chip mounted on the integrated circuit chip in a state where a gap is left with respect to the mounting surface of the integrated circuit chip. 裏面側の凹所底面における貫通孔の周囲に貫通孔の軸方向に突出する複数の突台部を設けるとともに各突台部の先端面に集積回路チップをフリップチップ実装したことを特徴とする請求項2記載の半導体加速度センサ装置。   A plurality of projecting portions protruding in the axial direction of the through hole are provided around the through hole in the bottom surface of the recess on the back surface side, and an integrated circuit chip is flip-chip mounted on the tip surface of each projecting portion. Item 3. A semiconductor acceleration sensor device according to Item 2. 裏面側の凹所内に充填される封止樹脂で集積回路チップをパッケージに固定したことを特徴とする請求項1〜6の何れかに記載の半導体加速度センサ装置。   The semiconductor acceleration sensor device according to claim 1, wherein the integrated circuit chip is fixed to the package with a sealing resin filled in a recess on the back surface side. 請求項2記載の半導体加速度センサ装置を製造する方法であって、異方性導電膜を用いてパッケージ裏面の凹所底面に集積回路チップをフリップチップ実装する工程と、裏面側の凹所を封止樹脂で封止する工程と、非導電性膜を取着した加速度センサチップの実装面を貫通孔を通して異方性導電膜の表面側に固定する工程とを有することを特徴とする半導体加速度センサ装置の製造方法。   3. A method of manufacturing a semiconductor acceleration sensor device according to claim 2, wherein a step of flip-chip mounting an integrated circuit chip on the bottom of the recess on the back surface of the package using an anisotropic conductive film, and sealing the recess on the back surface side. A semiconductor acceleration sensor comprising: a step of sealing with a stop resin; and a step of fixing the mounting surface of the acceleration sensor chip to which the nonconductive film is attached to the surface side of the anisotropic conductive film through a through hole Device manufacturing method. 請求項2又は3記載の半導体加速度センサ装置を製造する方法であって、スタッドバンプボンディングによりパッケージ裏面の凹所底面に集積回路チップをフリップチップ実装する工程と、裏面側の凹所を封止樹脂で封止する工程と、非導電性膜を取着した加速度センサチップの実装面を貫通孔を通して異方性導電膜の表面側に固定する工程とを有することを特徴とする半導体加速度センサ装置の製造方法。   4. A method of manufacturing a semiconductor acceleration sensor device according to claim 2, wherein a step of flip-chip mounting an integrated circuit chip on the bottom of the recess on the back surface of the package by stud bump bonding, and a sealing resin for the recess on the back surface side And a step of fixing the mounting surface of the acceleration sensor chip to which the non-conductive film is attached to the surface side of the anisotropic conductive film through the through hole. Production method. 請求項2記載の半導体加速度センサ装置を製造する方法であって、パッケージ裏面の凹所底面に異方性導電膜を貼り付ける工程と、異方性導電膜の表面側及び裏面側にそれぞれ加速度センサチップ並びに集積回路チップをフリップチップ実装する工程と、裏面側の凹所を封止樹脂で封止する工程とを有することを特徴とする半導体加速度センサ装置の製造方法。   3. A method of manufacturing a semiconductor acceleration sensor device according to claim 2, wherein a step of attaching an anisotropic conductive film to the bottom surface of the recess on the back surface of the package, and an acceleration sensor on each of the front surface side and the back surface side of the anisotropic conductive film. A method of manufacturing a semiconductor acceleration sensor device, comprising: a step of flip-chip mounting a chip and an integrated circuit chip; and a step of sealing a recess on a back surface side with a sealing resin. 請求項3記載の半導体加速度センサ装置を製造する方法であって、パッケージ裏面の凹所底面に異方性導電膜を貼り付ける工程と、異方性導電膜に貫通孔と連通する孔を貫設する工程と、異方性導電膜の表面側及び裏面側にそれぞれ加速度センサチップ並びに集積回路チップをフリップチップ実装する工程と、裏面側の凹所を封止樹脂で封止する工程とを有することを特徴とする半導体加速度センサ装置の製造方法。   4. A method of manufacturing a semiconductor acceleration sensor device according to claim 3, wherein a step of attaching an anisotropic conductive film to the bottom surface of the recess on the back surface of the package and a hole communicating with the through hole are provided in the anisotropic conductive film. A step of flip-chip mounting the acceleration sensor chip and the integrated circuit chip on the front surface side and the back surface side of the anisotropic conductive film, respectively, and a step of sealing the recess on the back surface side with a sealing resin. A method for manufacturing a semiconductor acceleration sensor device. 請求項5記載の半導体加速度センサ装置を製造する方法であって、集積回路チップのパッドにスタッドバンプを形成するとともに、集積回路チップの実装面に加速度センサチップの可動部に対向する部位を除いて異方性導電膜を貼り付ける工程と、異方性導電膜を挟んでスタッドバンプボンディングにより加速度センサチップを集積回路チップの実装面に実装する工程と、加速度センサチップを実装した集積回路チップを異方性導電膜を用いて裏面側の凹所底面に実装する工程と、裏面側の凹所を封止樹脂で封止する工程とを有することを特徴とする半導体加速度センサ装置の製造方法。   6. A method of manufacturing a semiconductor acceleration sensor device according to claim 5, wherein stud bumps are formed on the pads of the integrated circuit chip, and a portion of the mounting surface of the integrated circuit chip that faces the movable portion of the acceleration sensor chip is excluded. The step of attaching the anisotropic conductive film, the step of mounting the acceleration sensor chip on the mounting surface of the integrated circuit chip by stud bump bonding across the anisotropic conductive film, and the integrated circuit chip on which the acceleration sensor chip is mounted are different. A method of manufacturing a semiconductor acceleration sensor device, comprising: a step of mounting on a bottom surface of a recess on the back surface side using an isotropic conductive film; and a step of sealing the recess on the back surface side with a sealing resin. 請求項4記載の半導体加速度センサ装置を製造する方法であって、すり鉢状に形成された表面側の凹所底面に加速度センサチップを搭載するとともに封止樹脂により加速度センサチップをパッケージに固定する工程と、加速度センサチップのパッドとパッケージの導電パターンをワイヤボンディングにより接続する工程と、異方性導電膜を用いてパッケージ裏面の凹所底面に集積回路チップをフリップチップ実装する工程と、裏面側の凹所を封止樹脂で封止する工程とを有することを特徴とする半導体加速度センサ装置の製造方法。   5. A method of manufacturing a semiconductor acceleration sensor device according to claim 4, wherein the acceleration sensor chip is mounted on the bottom surface of the recess formed in a mortar shape and the acceleration sensor chip is fixed to the package with a sealing resin. A step of connecting the acceleration sensor chip pad and the conductive pattern of the package by wire bonding, a step of flip-chip mounting the integrated circuit chip on the bottom of the recess using the anisotropic conductive film, And a step of sealing the recess with a sealing resin.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006250581A (en) * 2005-03-08 2006-09-21 Mitsumi Electric Co Ltd Triaxial acceleration sensor module and its manufacturing method
JP2008051686A (en) * 2006-08-25 2008-03-06 Dainippon Printing Co Ltd Sensor unit and manufacturing method therefor
JP2008066517A (en) * 2006-09-07 2008-03-21 Shinko Electric Ind Co Ltd Semiconductor device
JP2014142186A (en) * 2013-01-22 2014-08-07 Seiko Epson Corp Sensor and manufacturing method of the same
JP2016051710A (en) * 2014-08-28 2016-04-11 京セラ株式会社 Wiring board, electronic device and multilayer electronic device
CN117590025A (en) * 2024-01-19 2024-02-23 中国工程物理研究院电子工程研究所 Piezoresistive acceleration sensor

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006250581A (en) * 2005-03-08 2006-09-21 Mitsumi Electric Co Ltd Triaxial acceleration sensor module and its manufacturing method
JP2008051686A (en) * 2006-08-25 2008-03-06 Dainippon Printing Co Ltd Sensor unit and manufacturing method therefor
JP2008066517A (en) * 2006-09-07 2008-03-21 Shinko Electric Ind Co Ltd Semiconductor device
JP2014142186A (en) * 2013-01-22 2014-08-07 Seiko Epson Corp Sensor and manufacturing method of the same
JP2016051710A (en) * 2014-08-28 2016-04-11 京セラ株式会社 Wiring board, electronic device and multilayer electronic device
CN117590025A (en) * 2024-01-19 2024-02-23 中国工程物理研究院电子工程研究所 Piezoresistive acceleration sensor
CN117590025B (en) * 2024-01-19 2024-03-19 中国工程物理研究院电子工程研究所 Piezoresistive acceleration sensor

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