JP2005272201A - ガリウム砒素単結晶とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 GaAs単結晶は、20000cm-2以下の平均転位密度を有し、赤外線散乱原因となる粒径1μm以上の析出粒子を含んでいないことを特徴としている。このようなGaAs単結晶は、その育成時の固液界面に直交する方向の温度勾配を40℃/cm以下にし、GaAsの融点から1100℃までの冷却速度を25℃/時間以下にし、1100℃未満から1000℃までの冷却速度を35℃/時間以下にし、そして1000℃未満から900℃までの冷却速度を25℃/時間以上にすることによって得られる。
【選択図】 図1
Description
Claims (5)
- 20000cm-2以下の平均転位密度を有し、赤外線散乱原因となる粒径1μm以上の析出粒子を含まないことを特徴とするGaAs単結晶。
- 前記粒径1μm以上の析出粒子を含まないことは、主に波長1μmの赤外線を含む光を使用する赤外線透過顕微鏡を使って確認されていることを特徴とする請求項1に記載のGaAs単結晶。
- 100mm以上の直径を有することを特徴とする請求項1または2に記載のGaAs単結晶。
- 請求項1から3のいずれかに記載されたGaAs単結晶を製造するための方法であって、前記単結晶の育成時の固液界面に直交する方向の温度勾配を40℃/cm以下にし、GaAsの融点から1100℃までの冷却速度を25℃/時間以下にし、1100℃未満から1000℃までの冷却速度を35℃/時間以下にし、そして1000℃未満から900℃までの冷却速度を25℃/時間以上にすることを特長とするGaAs単結晶の製造方法。
- 前記単結晶は縦型ボート法によって育成されることを特長とする請求項4に記載のGaAs単結晶の製造方法。
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