JP2005244232A - リソグラフィ装置用の搬送システム及びデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】特に、リソグラフィ装置とトラックの間で基板を搬送するように構成された搬送システムが開示され、このトラックは１つ又は複数の処理デバイスを備える。また、搬送システムは、トラック内の処理デバイスの間で基板を搬送することもできる。１つの実施例では、搬送システムが備える搬送装置通路に沿って、１つ又は複数のトラック及びリソグラフィ装置が間隔をあけて配置されている。基板は、基板を保持するように構成された搬送デバイスによって、搬送装置通路に沿って搬送することができる。
【選択図】図３

Description

本発明は、リソグラフィ装置用の搬送システム及びデバイス製造方法に関する。

リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板の目標部分に付ける機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造で使用することができる。この環境では、マスクのようなパターン形成デバイスを使用して、ＩＣの個々の層に対応する回路パターンを生成することができ、そして、放射敏感材料（レジスト）の層を有する基板（例えば、シリコン・ウェーハ）の目標部分（１つ又はいくつかのダイ、その部分を含む）に、このパターンの像を形成することができる。一般に、単一基板は、網の目のような隣り合った目標部分を含み、この目標部分が連続して露光される。知られているリソグラフィ装置にはいわゆるステッパ及びいわゆるスキャナがある。ステッパでは、目標部分に全パターンを一度に露光することで各目標部分が放射を照射され、そしてスキャナでは、投影ビームによってパターンを所定の方向（「スキャン」方向）に走査し、同時にこの方向に対して平行又は反平行に基板を走査することで、各目標部分が照射される。

一般に「ファブ（ｆａｂ）」又は「ファンドリ（ｆｏｕｎｄｒｙ）」と呼ばれる、半導体デバイスが製造される工場では、各リソグラフィ装置は、ウェーハ処理デバイス及び前処理デバイス及び後処理デバイスを備える「トラック」と共に、「リソセル（ｌｉｔｈｏｃｅｌｌ）」を形成するようにグループ化される。トラックの処理デバイスは、基板を冷却するための冷却板、基板を加熱するためのベーク板、例えばレジストを基板に塗布するための回転塗付装置、現像装置、及び、トラック内の様々なデバイスとリソグラフィ装置の基板ロード部及び基板アンロード部との間で基板を動かすための基板ハンドラ又はロボットを含むことができる。トラックのデバイスを使用して、リソグラフィ露光プロセスのために基板を用意し（例えば、基板に塗布する）、そしてリソグラフィ・プロセスを仕上げ（例えば、基板を現像する）ので、基板はトラックとリソグラフィ装置の間で搬送できなければならない。これらのデバイスは、一般に、まとめてトラックと呼ばれる。

空白であるかもしれないし、又は、既に処理されて１つ又は複数の処理層又はデバイス層を含んでいるかもしれないウェーハのような基板が、処理のためにロット（バッチとも呼ばれる）でリソセルに送られる。ロット・サイズは任意であるかもしれないし、又は、ファブのあちこちで異なる処理装置、計測装置（検査装置を含むことができる）又は保管場所の間で基板を搬送するために使用されるキャリアのサイズによって決定されるかもしれない。

基板は一般に、トラック内及びリソグラフィ装置とトラックの間で、トラックの１つ又は複数のアームによって動かされる。１つのロボット・アームは、トラックの範囲を越えて、例えばリソグラフィ装置のロード部及びアンロード部に届くことができる。また、搬送ロボットが、トラックではなくてリソグラフィ装置内にあるような構成もある。したがって、トラック及びリソグラフィ装置の構成は、ロボット・アームの届く距離及びリソグラフィ装置のロード部の位置に依存して、トラックの一端がリソグラフィ装置の一端と合わせられているインライン構成か、又はトラックがリソグラフィ装置に対して垂直に配置されている直交構成かのどちらかである。リソセルの構成は限られているので、リソグラフィ装置の大きさは制限されるが、その制限はファブにおけるそのようなリソセルの収容密度である。さらに、古いファブは、小さな基板（一般に、直径が２００ｍｍ）にプリントする古いリソセル用に設計されている。構成が限られているために、古いリソセルを、より大きな基板（例えば、３００ｍｍ）に対応する新しいリソセルに取り替えることは困難である。

したがって、例えば、トラック及びリソグラフィ装置のより実際的で効率の良い構成を可能にするリソグラフィ処理セル及びデバイス製造方法を提供することは有利であるかもしれない。

本発明の１つの態様に従って、
放射ビームを供給するように構成された照明装置、
パターン形成デバイスを保持するように構成された支持構造であって、そのパターン形成デバイスがビームの断面にパターンを与えるように構成されている支持構造、
基板を保持するように構成された基板テーブル、及び
パターン形成されたビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システム、を備えるリソグラフィ装置と、
１つ又は複数の処理デバイスを備えるトラックと、
トラックとリソグラフィ装置の間で細長い搬送装置通路に沿って、基板を搬送するように構成された搬送システムとを備えるリソセルが提供される。

搬送システムは、トラックとリソグラフィ装置の間での基板の自動搬送を可能にしながら、トラック及びリソグラフィ装置を任意の向きに配置することができるようにする。したがって、より小さなスペースに詰め込むように、これらの要素のより効率的な収容及びより高い密度を得ることができる。また、個々の要素を同じ又は異なる要素に取り替えることが簡単になる。その要素はトラック及びリソグラフィ装置だけでなく、基板が通過して行く他の処理装置、計測装置及び保管装置又はバッファ装置であることもある。

１つの実施例では、搬送システムはそれ自体のミニ環境を有する。１つ又は複数のミニ環境は、いくつかのミニ環境の大きさであるかもしれないクリーン・ルーム全体よりも、清浄に維持し保つのが遥かに簡単でかつ安価である。ミニ環境は、そこに含まれるシステムの要求に依存して、異なる条件に保つこともできる。

トラック及びリソグラフィ装置は並列に配置することができ、そして、搬送システムは、それらの間に直線の搬送装置通路を備えることができる。これによって、一方の側にリソグラフィ装置とトラックがあり他方の側に直線搬送装置通路がある直線システムを設置することができるようになり、メンテナンスなどのための両側へのアクセスがより容易になる。この直線の実施例は、簡単な構成要素であり、この構成要素からより大きな実施例を考え出すことができる。

搬送システムは、トラックからリソグラフィ装置に基板を搬送するように構成された搬送装置通路と、リソグラフィ装置からトラックに基板を搬送するように構成された搬送装置通路との少なくとも２つの搬送装置通路を備えることができる。このことは、より高速でより効率的なシステムを作るのに役立つことができる。通路が例えば円のような閉じた形である場合、一方の搬送装置通路は基板を時計方向に搬送し、他方は反時計方向に搬送することができる。したがって、搬送方向を変える必要のない搬送システムを作ることができ、ことによるとシステムはより軽くより効率的になる。

搬送システムは、搬送装置通路に沿って基板を搬送するように構成された少なくとも１つの搬送ロボットを備えることができる。このロボットは、トラックからリソグラフィ装置に、またその逆に基板を搬送するために搬送装置通路に沿って進むだけでなく、基板のローディング及びアンローディングの任意の組合せを行うように構成することができる。

搬送システムは、複数のリソグラフィ装置の役に立つことができる。これによって、そのとき要求されることに依存して、いくつかのリソグラフィ装置のうちのどれか１つに、トラックからの基板を供給することができるようになる。例えば露光される層のクリティカルさに依存して、リソグラフィ装置は異なる特性のものであるかもしれない。さらに、複数のリソグラフィ装置に供給する複数のトラックがあり、単一システムで効率的かつ迅速にいくつかの基板にパターンを付けることができるようになる。１つの実施例では、搬送システムは、リソグラフィ装置及びトラックの外に、延長された基板組立ラインを形成する基板処理装置及び基板計測装置のうちの少なくとも１つの役に立つ。

１つの実施例では、搬送システムは、複数のリソグラフィ装置に対応するように、所望の形に、例えば正方形などに形成可能である。これによってもより効率的な収容が可能になり、したがって、より小さなスペースでリソグラフィ装置及びトラックの密度が高くなる。その理由は、搬送システムは使用可能なスペースに適応することができるからである。

１つの実施例では、搬送システムは、トラックの異なる処理デバイスの間で基板を搬送するように構成された１つ又は複数の搬送装置通路を備える。搬送システムは、単に基板をトラックからリソグラフィ装置に搬送しそして再び逆に搬送する以上のものに使用することができる。搬送システムは、トラック内で１つの処理デバイスから他の処理デバイスに基板を搬送して、リソグラフィ・プロセスの始めから終りまで、さらに全てリソグラフィ・プロセスに結合されているエッチング、打ち込み、及びスパッタリングのような他のプロセスまで、基板を継ぎ目の無い移動をさせることができる。

搬送装置通路で基板を搬送することができるいくつかの方法がある。搬送システムは、電気モータ及び空気モータのうちの１つで作動される直線案内の上のシャトルの形のコンベヤ、又は上に搬送される基板を支えるように構成されたピン及び／又はワイヤ・ループの付いたコンベヤ・ベルトを備えることができる。この直線案内は、ローラ・ベアリング案内及び気体ベアリング案内のうちの１つであることができる。

１つの実施例では、リソセルは、搬送システムからある距離離れた通行を可能にするように構成された、搬送システムとは別に設けられた通路を備える。これは、システムのメンテナンスなどのために作業員が歩く安全な場所を与えるためである。

本発明の他の態様に従って、
放射ビームを供給するように構成された照明装置、
パターン形成デバイスを保持するように構成された支持構造であって、そのパターン形成デバイスがビームの断面にパターンを与えるように構成されている支持構造、
基板を保持するように構成された基板テーブル、及び
パターン形成されたビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムを、備えるリソグラフィ装置と、
１つ又は複数の処理デバイスを備えるトラックと、
トラックとリソグラフィ装置の間で基板を搬送するように構成された、トラック及びリソグラフィ装置の外の搬送システムとを備えるリソセルであって、搬送システムが、第１の端部で軸のまわりを回転可能でありかつ反対の端部に基板を保持するように構成されたロボット・アームを備えるリソセルが、提供される。

本発明の他の態様に従って、リソグラフィ装置及びトラックを備えるリソセルを使用するデバイス製造方法が提供され、この方法は、
・トラックで放射敏感材料を基板に付けるステップと、
・トラックからリソグラフィ装置に、その間で搬送装置を使用して、基板を搬送するステップと、
・パターン形成された放射ビームを基板の目標部分に投影するステップとを備える。

この明細書では、ＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用を特に参照するかもしれないが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には、集積光システム、磁気ドメイン・メモリの誘導及び検出パターン、液晶表示装置（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド、その他の製造のような他の用途があるかもしれないことは理解すべきである。当業者は理解するであろうが、そのような他の用途の環境では、この明細書での用語「ウェーハ」又は「ダイ」の使用は、より一般的な用語である「基板」又は「目標部分」とそれぞれ同義であると考えることができる。基板は、例えば多層ＩＣを作るために、一度よりも多く処理することができるので、本明細書で使用する基板という用語は、また、多くの処理された層を既に含んでいる基板のことを意味することができる。

本明細書で使用する用語「放射」及び「ビーム」は、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、波長が、３６５、２４８、１９３、１５７又は１２６ｎｍである）及び極端紫外線（ＥＵＶ）放射（例えば、波長が５〜２０ｎｍの範囲にある）、並びにイオン・ビーム又は電子ビームのような粒子ビームを含んだ、全ての種類の電磁放射を包含する。

本明細書で使用する用語「パターン形成デバイス」は、基板の目標部分にパターンを形成するように投影ビームの断面にパターンを与えるために使用することができる任意のデバイスを意味するものとして広く解釈すべきである。留意すべきことであるが、投影ビームに与えられたパターンは、基板の目標部分の所望パターンに正確に対応しないかもしれない。一般に、投影ビームに与えられたパターンは、集積回路のような、目標部分に作られるデバイスの特定の機能層に対応する。

パターン形成デバイスは、透過型又は反射型であることができる。パターン形成デバイスの例には、マスク、プログラム可能ミラー・アレイ、及びプログラム可能ＬＣＤパネルがある。マスクは、リソグラフィでよく知られており、２値、交番位相シフト、及び減衰位相シフトのようなマスクの型、並びに様々なハイブリッド・マスクの型がある。プログラム可能ミラー・アレイの例は小さなミラーのマトリックス配列を使用し、そのミラーの各々は、入射放射ビームを異なる方向に反射するように個々に傾けることができる。このようにして、反射ビームはパターンに形成される。パターン形成デバイスの各例で、支持構造は例えばフレーム又はテーブルであることができる。この支持構造は、必要に応じて固定されているか可動であることができ、また、パターン形成デバイスが例えば投影システムに対して所望の位置にあることを保証することができる。本明細書での用語「レチクル」又は「マスク」の使用は、より一般的な用語「パターン形成デバイス」と同義であると考えることができる。

本明細書で使用する用語「投影システム」は、例えば使用される露光用放射に対して、又は浸漬流体の使用又は真空の使用のような他の要素に対して適切であるように、屈折型光システム、反射型光システム、及び反射屈折型光システムを含んだ様々な型の投影システムを包含する。本明細書での用語「レンズ」の使用は、より一般的な「投影システム」と同義であると考えることができる。

また、照明システムは、投影放射ビームを方向付けし、整形し、又は制御するための屈折、反射、及び屈折反射光学部品を含んだ様々な型の光学部品を包含することができる。そのような部品は、以下で、まとめて又は単独で、「レンズ」と呼ぶこともできる。

リソグラフィ装置は、２（デュアル・ステージ）又はそれよりも多い基板テーブル（及び／又は２以上のマスク・テーブル）を有する型であるかもしれない。そのような「多ステージ」機械では、追加のテーブルを並行して使用することができ、又は、１つ又は複数のテーブルを露光に使用している間に、１つ又は複数のテーブルで準備ステップを行うことができる。

また、リソグラフィ装置は、投影システムの要素と基板の間のスペースを満たすように、基板が比較的高屈折率の液体例えば水に浸漬される型であるかもしれない。浸漬液は、また、リソグラフィ装置の他のスペース、例えばマスクと投影システムの要素の間に付けることもできる。浸漬方法は、投影システムの開口数を増すために、当技術分野でよく知られている。

本発明の実施例は、今、単に例として、添付の概略図面を参照して説明する。図面において、対応する参照符号は対応する部分を示す。

図１は、本発明の特定の実施例に従ったリソグラフィ投影装置を模式的に示す。本装置は、
放射の投影ビームＰＢ（例えば、ＵＶ放射）を供給するための照明システム（照明装置）ＩＬと、
パターン形成デバイス（例えば、マスク）ＭＡを支持するための、要素ＰＬに対してパターン形成デバイスを正確に位置決めするために第１の位置決めデバイスＰＭに接続された第１の支持構造（例えば、マスク・テーブル）ＭＴと、
基板（例えば、レジスト被覆ウェーハ）Ｗを保持するための、要素ＰＬに対して基板を正確に位置決めするために第２の位置決めデバイスＰＷに接続された基板テーブル（例えば、ウェーハ・テーブル）ＷＴと、
パターン形成デバイスＭＡによって投影ビームＰＢに与えられたパターンの像を基板Ｗの目標部分Ｃ（例えば、１つ又は複数のダイを含む）に形成するための投影システム（例えば、屈折投影レンズ）ＰＬとを備える。

ここに示すように、本装置は、透過型（例えば、透過マスクを使用する）である。若しくは、本装置は、反射型（例えば、上で言及したような型のプログラム可能ミラー・アレイを使用する）であることができる。

照明装置ＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受け取る。放射源とリソグラフィ装置は、例えば放射源がエキシマ・レーザであるときに、別個の実体であることができる。そのような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成するとは考えられず、例えば適切な方向付けミラー及び／又はビーム拡大器を備えるビーム送出システムＢＤを用いて、放射ビームは放射源ＳＯから照明装置ＩＬに送られる。他の場合には、放射源は、例えば放射源が水銀灯であるとき、リソグラフィ装置の一体部分であることができる。放射源ＳＯ及び照明装置ＩＬは、必要であればビーム送出システムＢＤと共に、放射システムと呼ぶことができる。

照明装置ＩＬは、ビームの角度強度分布を調整するための調整デバイスＡＭを備えることができる。一般に、照明装置のひとみ面内の強度分布の少なくとも外側半径範囲及び／又は内側半径範囲（通常、それぞれ、σ−ｏｕｔｅｒ、σ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）を調整することができる。さらに、照明装置ＩＬは、一般に、積分器ＩＮ及び集光器ＣＯなどの様々な他の部品を備える。照明装置は、断面内に所望の一様性及び強度分布を持つ投影ビームＰＢと呼ばれる条件付けされた放射ビームを供給する。

投影ビームＰＢは、マスク・テーブルＭＴに保持されているマスクＭＡに入射する。マスクＭＡを通り抜けた投影ビームＰＢは、レンズＰＬを通り抜ける。このレンズＰＬは、ビームを基板Ｗの目標部分Ｃに収束させる。第２の位置決めデバイスＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば、干渉測定デバイス）の助けを借りて、例えばビームＰＢの経路内に異なった目標部分Ｃを位置付けするように、基板テーブルＷＴを正確に動かすことができる。同様に、第１の位置決め手段ＰＭ及び他の位置センサ（図１にはっきりと示されていない）を使用して、例えば、マスク・ライブラリから機械的に取り出した後で、又は走査中に、ビームＰＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般に、物体テーブルＭＴ及びＷＴの移動は、長行程モジュール（粗い位置決め）と短行程モジュール（精密位置決め）を使って行われる。これらのモジュールは、位置決めデバイスＰＭ及びＰＷの一部を形成する。しかしステッパ（スキャナに対して）の場合は、マスク・テーブルＭＴは、短行程用アクチュエータに接続するだけでよく、又は、固定することができる。マスクＭＡと基板Ｗは、マスク位置合わせマークＭ１、Ｍ２及び基板位置合わせマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。

図示の装置は、次の好ましいモードで使用することができる。

１．ステップ・モードでは、投影ビームに与えられた全パターンが一括して（すなわち、単一静的露光で）目標部分Ｃに投影されている間、マスク・テーブルＭＴ及び基板テーブルＷＴは基本的に静止したままである。次に、異なる目標部分Ｃが露光されるように、基板テーブルＷＴはＸ及び／又はＹ方向に移動される。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一の静的露光で像が形成される目標部分Ｃのサイズが制限される。

２．走査モードでは、投影ビームに与えられたパターンが目標部分Ｃに投影（すなわち、単一動的露光で）されるのと同時に、マスク・テーブルＭＴ及び基板テーブルＷＴが走査される。マスク・テーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＬの拡大（縮小）率及び像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光での目標部分の幅（非走査方向の）が制限されるが、走査移動の長さによって、目標部分の高さ（走査方向の）が決定される。

３．他のモードでは、投影ビームに与えられたパターンが目標部分Ｃに投影されている間、マスク・テーブルＭＴはプログラム可能パターン形成デバイスを保持しながら基本的に静止したままであり、基板テーブルが移動又は走査される。このモードでは、一般に、パルス化放射源が使用され、そして、プログラム可能パターン形成デバイスは、基板テーブルＷＴの各移動の後で、又は走査中に連続する放射パルスの間で、必要に応じて更新される。この動作モードは、上で言及したような型のプログラム可能ミラー・アレイのようなプログラム可能パターン形成デバイスを使用するマスクのないリソグラフィに容易に利用することができる。

また、上述の使用モード又は全く異なる使用モードの組合せ及び／又は変形が使用されるかもしれない。

図２に注意を向けると、トラック２０とリソグラフィ装置１０の知られている構成が示されている。トラック及びリソグラフィ装置は、図２ａに示すようにインライン構成であるか、又は図２ｂに示すように直交構成であるかのどちらかである。また、トラックとリソグラフィ装置の逆の構成も可能である。図において、トラック、リソグラフィ装置、又は搬送装置にある基板４０は、任意の数の円で表されている。

図３は、本発明の実施例を示し、この図では、並列配置のトラック２０及びリソグラフィ装置１０が、それらの一端の間に１つ又は複数の細長い搬送装置通路を備えた搬送装置３０を有して、含まれている。搬送装置３０によって、基板４０をトラック２０とリソグラフィ装置１０の間で搬送することができるようになる。矢印は、リソグラフィ装置１０／トラック２０と搬送装置３０の間での基板４０のローディング及びアンローディングの方向を示す。搬送装置通路３０に沿って進み基板４０を運ぶ搬送デバイス３６は、いくつかの形をとることができる。搬送デバイス３６は直線モータ又はコンベヤ・ベルトの上のシャトルであってもよく、このシャトルは基板を支持するためのデバイス又は構造を有する。基板４０を支持するこのデバイス又は構造は、例えば、基板が上に載るピン又はワイヤ・ループの形であってもよい。搬送装置３０は、進行方向を逆にすることができる１つのコンベヤを備えることができ、又は、反対方向に進む２以上のコンベヤがあってもよい。後者の場合、１つ又はいくつかの搬送装置通路を進む１つ又はいくつかのシャトルがあるかもしれない。トラック及びリソグラフィ装置のロード部及びアンロード部は、水平方向に層になるだけでなく、垂直方向に積み重ねることができる。さらに、ロード部及びアンロード部は、単一「ステーション」中にあることができ、例えば、１つのデバイス又は構造が、ロード部とアンロード部の両方として機能することができる。

１つの実施例では、搬送システムは、基板４０をリソグラフィ装置１０に、及びリソグラフィ装置１０から搬送するだけでなく、トラック２０内において異なる処理デバイス（計測デバイス及び／又は保管デバイス又はバッファ・デバイスを含むかもしれない）の間で搬送することができる。さらに、搬送システムは、リソセルの外の１つ又は複数の他の計測装置及び処理装置（図示しない）に、例えばスキャタロメータ、打ち込み装置、その他に、基板を搬送することができる。

搬送システムは、ミニ環境中のプロセス群の間で基板４０を搬送する。このプロセス群は、リソグラフィ装置及びトラック又は同じ環境を使用する任意の他の処理装置及び／又は計測装置のような、計測装置と処理装置の組合せであることができる。ミニ環境は、搬送システムのまわりにケースを導入して形成される。このケースは、一般に、１つ又は複数のＨＥＰＡフィルタ及び１つ又は複数のファンを備えて、この１つ又は複数のフィルタを通過するガス（例えば、空気）が搬送システムのまわりに清浄ガスの層流を形成するようにすることができる。

図４は、本発明の他の実施例を示し、搬送装置３２でその間を接続された２つのリソグラフィ装置１０及び２つのトラック２０を含む。もちろん、もっと多くの各リソグラフィ装置及びトラックがあることができ、さらに、リソグラフィ装置又は他の処理装置／計測装置と同じ数のトラックがある必要はない。さらに、搬送装置３２又は、搬送装置３２の搬送装置通路の搬送デバイス３６にさらに他の搬送装置通路を追加することで、任意の他の処理装置／計測装置だけでなくリソグラフィ装置１０及びトラック２０も、搬送装置３２の搬送装置通路の両側に位置付けすることができるようになり、そして、搬送システムは、より多くの数の装置に供給するようにいっそう複雑な構成をとることができるようになる。

図３のように、搬送装置３２は、様々なトラック２０とリソグラフィ装置１０の間で基板４０を搬送する。また、図４に自動材料取扱システム（ＡＭＨＳ）６０が示され、この自動材料取扱システムを介して、搬送システムを妨害することなく、カセット又はキャリアを使用して、基板を取り除き、追加し、又は置き替えるなどすることができる。明らかに、トラック２０及びリソグラフィ装置１０へのアクセスが必要であるところにはどこでもＡＭＨＳ６０があるかもしれない。

図５は、本発明のさらに他の実施例を示し、この場合には、トラック２０及びリソグラフィ装置１０は並列構成でなく、四角い搬送装置３４のまわりに間隔をあけて配置されている。基板搬送システムが作業することができるいくつかの方法がある。第１の方法は、図３及び４に示すのと同じ方法であるが、非直線の細長い搬送装置通路、例えば円形、長方形又は正方形の細長い通路を有している。若しくは、中央のロボット５０及びアーム５２が、トラック２０とリソグラフィ装置１０の間で基板を搬送することができる。この方法は、図５に示すような形に特に適応され、この場合には、ロボット・アーム５２が中心軸のまわりを回転することができる。若しくは、ロボット５０自体が細長い搬送装置通路（例えば、円形、長方形、又は正方形の通路）に沿って進んで、図３及び４に示す方法で基板４０を搬送することができる。ロボット５０は、上述のシャトルの役割を効果的に果たす。この場合、アーム５２は随意である。

本発明の特定の実施例を上で説明したが、本発明は上述と違った別の方法で実施することができることは認識されるであろう。この説明は本発明を制限する意図でない。

本発明の実施例に従ったリソグラフィ装置を示す図である。 従来技術のトラックとリソグラフィ装置の構成を示す図である。 本発明の第１の実施例に従った搬送システムを有するリソグラフィ装置とトラックの構成を示す図である。 本発明の第２の実施例に従ったリソグラフィ装置、トラック及び搬送システムの構成を示す図である。 本発明の第３の実施例に従ったリソグラフィ装置、トラック、及びロボット・アームを備える搬送システムの構成を示す図である。

符号の説明

ＬＡ 放射源
Ｅｘ、ＩＬ 放射システム
ＩＬ 照明システム（照明装置）
ＰＬ 投影システム
ＭＡ パターン形成デバイス（マスク）
ＭＴ 第１の支持構造（マスク・テーブル）
Ｃ 目標部分（１つ又は複数のダイ）
ＰＢ 投影ビーム
Ｗ 基板（レジスト被覆ウェーハ）
ＷＴ 基板テーブル（ウェーハ・テーブル）
１０ リソグラフィ装置
２０ トラック
３０、３２、３４ 搬送装置（搬送装置通路）
３６ 搬送デバイス
４０ 基板
６０ 自動材料取扱システム（ＡＭＨＳ）
５０ ロボット
５２ ロボット・アーム

Claims (23)

1. 放射ビームを供給するように構成された照明装置、
   パターン形成デバイスを保持するように構成された支持構造であって、前記パターン形成デバイスが前記ビームの断面にパターンを与えるように構成されている支持構造、
   基板を保持するように構成された基板テーブル、及び
   前記パターン形成されたビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システム、を備えるリソグラフィ装置と、
   １つ又は複数の処理デバイスを備えるトラックと、
   前記トラックと前記リソグラフィ装置の間の細長い搬送装置通路に沿って、前記基板を搬送するように構成された搬送システムとを備えるリソセル。
2. 前記搬送システムが、それ自体のミニ環境を備える、請求項１に記載のリソセル。
3. 前記トラック及び前記リソグラフィ装置が、並列に配置され、そして前記搬送システムが、前記トラックと前記リソグラフィ装置の間に直線搬送装置通路を備える、請求項１に記載のリソセル。
4. 前記搬送システムが、前記トラックから前記リソグラフィ装置に前記基板を搬送するように構成された搬送装置通路と、前記リソグラフィ装置から前記トラックに前記基板を搬送するように構成された搬送装置通路との少なくとも２つの搬送装置通路を備える、請求項１に記載のリソセル。
5. 前記搬送システムが、前記基板を前記搬送装置通路に沿って搬送するように構成された少なくとも１つの搬送ロボットを備える、請求項１に記載のリソセル。
6. 前記搬送システムが、複数のリソグラフィ装置の役に立つ、請求項１に記載のリソセル。
7. 前記搬送システムが、複数のトラックを備える、請求項１に記載のリソセル。
8. 前記搬送システムが、延長された基板組立ラインを形成する基板処理装置及び基板計測装置のうちの少なくとも１つの役に立つ、請求項１に記載のリソセル。
9. 前記搬送システムが、所望の形に形成可能である、請求項１に記載のリソセル。
10. 前記搬送システムが、前記トラックの異なる処理デバイスの間で基板を搬送するために構成された１つ又は複数の搬送装置通路を備える、請求項１に記載のリソセル。
11. 前記搬送システムが、電気モータ及び空気モータのうちの１つで作動される直線案内の上にシャトルの形のコンベヤを備える、請求項１に記載のリソセル。
12. 前記直線案内が、ローラ・ベアリング案内及び気体ベアリング案内のうちの１つである、請求項１に記載のリソセル。
13. 前記搬送システムが、その上に搬送される前記基板を支えるように構成されたピン及びワイヤ・ループのうちの少なくとも１つを有するコンベヤ・ベルトを備える、請求項１に記載のリソセル。
14. 前記搬送システムからある距離離れた通行を可能にするように構成された、前記搬送システムとは別に設けられた通路を備える、請求項１に記載のリソセル。
15. 放射ビームを供給するように構成された照明装置、
    パターン形成デバイスを保持するように構成された支持構造であって、前記パターン形成デバイスが前記ビームの断面にパターンを与えるように構成されている支持構造、
    基板を保持するように構成された基板テーブル、及び
    前記パターン形成されたビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システム、を備えるリソグラフィ装置と、
    １つ又は複数の処理デバイスを備えるトラックと、
    前記トラックと前記リソグラフィ装置の間で前記基板を搬送するように構成された、前記トラック及びリソグラフィ装置の外の搬送システムとを備えるリソセルであって、前記搬送システムが、第１の端部で軸のまわりを回転可能でありかつ反対の端部に基板を保持するように構成されたロボット・アームを備えるリソセル。
16. 前記搬送システムが、それ自体のミニ環境を備える、請求項１５に記載のリソセル。
17. 前記搬送システムが、複数のリソグラフィ装置の役に立つ、請求項１５に記載のリソセル。
18. 前記搬送システムが、複数のトラックを備える、請求項１５に記載のリソセル。
19. 少なくとも２つのリソグラフィ装置及び少なくとも２つのトラックが、前記ロボット・アームのまわりに配置されている、請求項１５に記載のリソセル。
20. 前記搬送システムが、延長された基板組立ラインを形成する基板処理装置及び基板計測装置のうちの少なくとも１つの役に立つ、請求項１５に記載のリソセル。
21. リソグラフィ装置及びトラックを備えるリソセルを使用するデバイス製造方法であって、
    前記トラックで放射敏感材料を基板に付けるステップと、
    前記トラックから前記リソグラフィ装置に、その間で搬送装置を使用して、前記基板を搬送するステップと、
    パターン形成された放射ビームを前記基板の目標部分に投影するステップとを備える方法。
22. 前記搬送装置が、前記トラックと前記リソグラフィ装置の間で細長い搬送装置通路に沿って前記基板を搬送するように構成されている、請求項２１に記載のデバイス製造方法。
23. 前記トラック及びリソグラフィ装置の外の前記搬送装置が、第１の端部で軸のまわりを回転可能でありかつ反対の端部に基板を保持するように構成されたロボット・アームによって、前記トラックと前記リソグラフィ装置の間で前記基板を搬送するように構成されている、請求項２１に記載のデバイス製造方法。

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