JP2005242390A - 帯電方式及び帯電装置 - Google Patents
帯電方式及び帯電装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005242390A JP2005242390A JP2005138912A JP2005138912A JP2005242390A JP 2005242390 A JP2005242390 A JP 2005242390A JP 2005138912 A JP2005138912 A JP 2005138912A JP 2005138912 A JP2005138912 A JP 2005138912A JP 2005242390 A JP2005242390 A JP 2005242390A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charging
- charging method
- charged
- discharge
- image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 91
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 15
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 2
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 abstract description 15
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 44
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 27
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 14
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 11
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 8
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 8
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 8
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 6
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 6
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 6
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 5
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 4
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000131 polyvinylidene Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFRBMBIXVSCUFS-UHFFFAOYSA-N 2,4-dinitro-1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C2=C1 FFRBMBIXVSCUFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 2-N-[8-[[8-(4-aminoanilino)-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]amino]-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]-8-N,10-diphenylphenazin-10-ium-2,8-diamine hydroxy-oxido-dioxochromium Chemical compound O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.Nc1ccc(Nc2ccc3nc4ccc(Nc5ccc6nc7ccc(Nc8ccc9nc%10ccc(Nc%11ccccc%11)cc%10[n+](-c%10ccccc%10)c9c8)cc7[n+](-c7ccccc7)c6c5)cc4[n+](-c4ccccc4)c3c2)cc1 FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFYSUUPKMDJYPF-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-methyl-2-nitrophenyl)diazenyl]-3-oxo-n-phenylbutanamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)C(C(=O)C)N=NC1=CC=C(C)C=C1[N+]([O-])=O MFYSUUPKMDJYPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEIQOMCWGDNMHM-UHFFFAOYSA-N 5-phenylpenta-2,4-dienoic acid Chemical compound OC(=O)C=CC=CC1=CC=CC=C1 FEIQOMCWGDNMHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGCKGOZRHPZPFP-UHFFFAOYSA-N Alizarin Natural products C1=CC=C2C(=O)C3=C(O)C(O)=CC=C3C(=O)C2=C1 RGCKGOZRHPZPFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZUSCVCCMHDHDF-UHFFFAOYSA-N P(=O)(=O)[W] Chemical compound P(=O)(=O)[W] MZUSCVCCMHDHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Natural products CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- HFVAFDPGUJEFBQ-UHFFFAOYSA-M alizarin red S Chemical compound [Na+].O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(S([O-])(=O)=O)C(O)=C2O HFVAFDPGUJEFBQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012164 animal wax Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- QHDCBMPSMSDZDZ-UHFFFAOYSA-N but-3-en-2-one;styrene Chemical compound CC(=O)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 QHDCBMPSMSDZDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 1
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- YAGKRVSRTSUGEY-UHFFFAOYSA-N ferricyanide Chemical compound [Fe+3].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] YAGKRVSRTSUGEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 229910052595 hematite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011019 hematite Substances 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 229920002681 hypalon Polymers 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- LIKBJVNGSGBSGK-UHFFFAOYSA-N iron(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Fe+3].[Fe+3] LIKBJVNGSGBSGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004200 microcrystalline wax Substances 0.000 description 1
- 235000019808 microcrystalline wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000012184 mineral wax Substances 0.000 description 1
- VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L molybdic acid Chemical compound O[Mo](O)(=O)=O VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxomolybdenum Chemical compound O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.OP(O)(O)=O DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYDGMDWEHDFVQI-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxotungsten Chemical compound O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.OP(O)(O)=O IYDGMDWEHDFVQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012165 plant wax Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229920002102 polyvinyl toluene Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003066 styrene-(meth)acrylic acid ester copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000001648 tannin Substances 0.000 description 1
- 229920001864 tannin Polymers 0.000 description 1
- 235000018553 tannin Nutrition 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013518 transcription Methods 0.000 description 1
- 230000035897 transcription Effects 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
- Discharging, Photosensitive Material Shape In Electrophotography (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Dry Development In Electrophotography (AREA)
Abstract
【解決手段】 直流電圧と重畳する交流電圧とを帯電部材22に印加し、帯電部材22と被帯電体1表面との間に放電を生じさせて被帯電体1の帯電を行う帯電方式において、帯電部材22の長手方向における放電可能な領域の単位長さ当たりの絶対値放電電流量を50μA/cm以下とした。
【選択図】 図1
Description
請求項17記載の発明によれば、放電電流を低減させることで像流れの発生を防止しかつ耐久性を向上させることができる。
本実施形態に用いられる感光体ドラム1としては、導電性支持体を50℃〜400℃に加熱し、この支持体上に真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、熱CVD法、光CVD法、プラズマCVD法等の成膜法により、アモルファスシリコンからなる光導電層を形成することで得られる。中でもプラズマCVD法、すなわち、原料ガスを直流または高周波またはマイクロ波グロー放電によって分解し、支持体上にアモルファスシリコン堆積膜を形成する方法が好適なものとして用いられている。
図1において、符号22は近接帯電部材としての中抵抗の帯電ローラを示している。本例の帯電ローラ22は、芯金21上に硬度JIS−A50度のゴム層を設け、軸−ローラ表面間の抵抗が107Ω・cmのものを使用している。ローラ表面にはフッ素コートが施されており、放電により発生した生成物がローラ表面に付着しにくくなるように表層処理されている。一般的にローラ形状の帯電部材では、感光体と連れ回りさせたり回転駆動させてローラ表面にクリーニング部材を当接できるため、帯電部材の清掃が容易なことから安定した放電状態を作ることができるという利点がある。
ここで現像剤について説明する。本実施形態で使用する現像剤は、以下の特性を有している。
重量平均径の測定方法は、以下の手順にて行う。
まず、電解水溶液100〜150ml中に分散剤として界面活性剤(好ましくはアルキルベンゼンスルフォン酸塩)を0.1〜5ml加える。ここで、電解液とは1級塩化ナトリウムを用いて約1%NaCl水溶液を調製したもので、例えばISOTON−II(コールター社製)が使用できる。ここに、さらに測定試料を2〜20mg加える。試料を懸濁した電解液は、超音波分散器で約1〜3分間分散処理を行ない、測定装置によりアパーチャーとして100μmアパーチャーを用いてトナー粒子またはトナーの体積、個数を測定し、体積分布と個数分布とを算出する。得られた分布からトナーの重量平均粒径(D4)及び個数平均粒径を求めることができる。
結着樹脂としては、例えば、ポリスチレン、ポリ−p−クロルスチレン、ポリビニルトルエンの如きスチレン及びその置換体の単重合体;スチレン−p−クロルスチレン共重合体、スチレン−ビニルトルエン共重合体、スチレン−ビニルナフタリン共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−クロルメタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ビニルメチルエーテル共重合体、スチレン−ビニルエチルエーテル共重合体、スチレン−ビニルメチルケトンなどが挙げられる。
磁性材料としては、マグネタイト、γ−酸化鉄、フェライト鉄、過剰型フェライトのごとき酸化鉄;鉄、コバルト、ニッケルのごとき磁性金属;酸化鉄又は磁性金属と、コバルト、スズ、チタン、銅、鉛、亜鉛、マグネシウム、マンガン、アルミニウム、珪素のごとき金属との複合金属酸化物合金または、混合物が挙げられる。これら磁性粒子は、平均粒径が0.05〜1.0μmの範囲内であることが好ましく、より好ましくは0.1〜0.6μmの範囲内、さらに好ましくは、0.1〜0.4μmの範囲内であることが良い。
磁性トナーとして用いる場合、磁性材料を含有する磁性トナー粒子は、結着樹脂100質量部に対し10〜150質量部、好ましくは20〜120質量部の磁性材料を含有するものがよい。
これらの荷電制御剤をトナー粒子中に内添する場合には、トナー粒子は結着樹脂100質量部に対して好ましくは、0.1〜20質量部、より好ましくは、0.2〜10質量部含有することが良い。
無機微粉体はトナーに対して0.1〜2重量%使用されるのが好ましい。これは、0.1重量%未満ではトナー凝集を改善する効果が乏しくなり、2重量%を超える場合は細線間のトナー飛び散り,機内の汚染,感光体の傷や摩耗等の問題が生じやすい傾向があるためである。
トナー混練・冷却後のトナー粉の製造方法も従来公知の方法でよく、例えば混練・冷却した後、これをジェットミルで粉砕し、分級することで得られる。
二成分現像剤として用いる場合、トナーとキャリアとの混合割合は、一般にキャリア100重量部に対しトナー0.5〜6.0重量部程度が適当である。
乾式二成分現像剤として使用する場合、キャリア並びに本発明のトナーの使用量としては、トナー粒子がキャリア粒子のキャリア表面に付着して、その表面積の30〜90%を占める程度に両粒子を混合するのが好ましい。
本発明において、現像剤を構成するキャリアの核体粒子としては従来公知のものでよく、例えば鉄、コバルト、ニッケル等の強磁性金属;マグネタイト、ヘマタイト、フェライト等の合金や化合物;前記強磁性体微粒子と樹脂との複合体等が挙げられる。
中でもトナースペントを防止する点で好ましいのは、シリコーン樹脂またはその変成品あるいはフッ素樹脂であり、特に好ましいのはシリコーン樹脂またはその変成品である。
被覆層の形成法としては、従来と同様にキャリア核体粒子の表面に被覆層形成液を噴霧法、浸漬法等の手段で塗布すればよい。このときの被覆層の厚さは0.1〜20μmが好ましい。
次に現像剤の実施形態として、2成分系の現像剤について説明する。
二成分現像剤としての製造例
製造実施例
ポリエステル樹脂(重量平均粒径300μm、軟化温度80.2℃) 100重量部
カーボンブラック 10重量部
ポリプロピレン(重量平均粒径180μm) 5重量部
四級アンモニウム塩 2重量部
上記組成の混合物を溶融混練し、その後、粉砕、分級した。
さらに、母体着色粒子100重量部に対して疎水性シリカ0.3重量部を混合し、平均粒径9.0μmのトナーを得た。
また、湿式法により作成したマグネタイト100重量部に対してポリビニルアルコール2重量部、水60重量部をボールミルに入れ12時間混合してマグネタイトのスラリーを調整した。そして、このスラリーをスプレードライヤーにて噴霧造粒して球形粒子とし、この粒子を窒素雰囲気中で1000℃の温度で3時間焼成後冷却し核体粒子1を得た。
シリコーン樹脂溶液 100重量部
トルエン 100重量部
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン 15重量部
カーボンブラック 20重量部
上記混合物をホモミキサーで20分間分散して被覆層形成液1を調整し、この被覆層形成液を流動床型コーティング装置を用いて核体粒子1を1000重量部の表面にコーティングして、シリコーン樹脂被覆キャリアを得た。
そして、上記磁性キャリア97.5重量部に対し上記トナー2.5重量部の割合で混合し、二成分現像剤を作成した。
現像装置3の内部に配設された現像スリーブ33には、現像時において電源V2により現像バイアスとして直流電圧に交流電圧を重畳した振動バイアス電圧が印加される。非画像部電位及び画像部電位は、振動バイアス電圧の最大値と最小値との間に位置しており、これにより現像部bには、向きが交互に変化する交互電界が形成される。この交互電界中で現像剤のトナーとキャリアとが激しく振動し、トナーが現像スリーブ33及びキャリアへの静電的拘束力を振り切って感光体ドラム1に向けて飛翔し、感光体ドラム1の潜像に対応してトナーが付着して現像が行われる。
図1において、符号V1は帯電ローラ22にバイアスを印加する帯電バイアス用の電源であり、本形態においては電源V1が帯電ローラ22の芯金21に接続されている。電源V1は外部からの信号を増幅させるアンプとしても使用ことができ、その信号は波形作成装置F1に入力される。電源V1は波形作成装置F1から送られた信号線を1000倍にして出力することが可能に構成されている。
また、電源V1には帯電ローラ22へ印加される電流及び電圧をモニタする端子が付設されており、放電時に帯電ローラへ実際に印加されている電流量及び電圧を逐次モニタすることが可能に構成されている。
本実施形態で説明する近接帯電方式以外(例えばコロナ帯電方式)においても、放電減少はパッシェン(Paschen)則に従うように放電が行われることが公知である。
上述したように、帯電ローラ22の端部にギャップ材23を設置することで、感光体ドラム1と非接触で対向する帯電ローラ22との空隙は50μm程度である。これを図4に示すパッシェン則(パッシェンの関係式)に当てはめると、放電開始電圧が約600Vとなることが分かる。ACバイアス方式は、DCバイアスにACバイアスを重畳することで画像の均一性を得ることができるが、そのためには直流成分の約2倍の電位をAC成分として印加することが必要である。その理由は、ACバイアス成分を増加させると、本来の放電方向とは逆の方向への放電(逆放電と呼ばれる)を起こすことによって感光体ドラム1の表面上の帯電状態を均一化するため、結果として画像にも均一性が現れるためである。DCバイアスを印加した場合には、帯電ローラ22と感光体ドラム1との間での放電が1回しか行われないため、結果として部材の表面状態の影響を大きく受けてしまい、帯電均一性という点でACバイアス重畳方式に比べて劣ることになる。この帯電均一性の低下は特に、帯電ローラ22と感光体ドラム1とが微小な空隙を有する非接触状態で放電動作が行われる、本実施形態において顕著な現象として現れる。
1.帯電ニップ内での放電回数を減らす
2.放電1回分の放電電流量を減らす
の2つの方法が考えられる。以下に、上記1,2の点から放電電流量を減らすために帯電ローラ22に印加するACバイアスの波形の形状及び振幅、周波数を変えた種々の実施例について説明する。
図1に示した画像形成装置において、ACバイアスに正弦波を印加し、Vdc:800V、Vpp:2000Vとし、周波数を0.3〜3kHzまで振った条件で5000枚の耐久試験を行った時の画質と耐久性評価の結果を下表に示す。
図7に示すように、感光体ドラム1と帯電ローラ22とで構成される空間のうち、帯電ローラ22から放電が可能な領域dはパッシェン則に基づいて次のように考えられる。
本実施例においては、正常な作像プロセスが行われるVpcは800Vであるため、放電が開始する空隙距離は約90μmとなる。同じく、パッシェン則により印加する電位を等しくして空隙を狭めると、20μm以下では放電が行われない。
図8(a)に示すように、帯電ローラ22に代えて小径ローラ22Aを使用することで、ローラの曲率が小さいことから帯電ニップ幅が狭くなるため、結果として放電回数は低減する。この方式では、帯電ローラのへの加圧量を変える必要がないことや、厚みの異なるギャップ材を用意する必要がないため、コストの面から有利である。
また、図8(b)に示すように、非接触状態の帯電ローラ22では空隙距離gをg1と広げることで帯電ニップ幅が狭まり、結果として放電回数が低減する。この方法では、より厚みのあるギャップ材23を用意する必要があるが、帯電ローラ22として同一径のものを使用することができる。
さらに、図8(c)に示すように、放電が可能な領域l1の前後に絶縁性の材質の放電規制板10を設け、帯電ニップ幅を物理的に狭めることで放電回数を低減させることも可能である。この場合、感光体ドラム1と帯電ローラ22との位置的な関係を変える必要がないという優れた利点がある。
上述したいずれの方法においてもそれぞれで有利な点があり、放電回数を低減させることで放電電流量を減らすことが可能となった。
次に、放電回数を同一とし、1回の放電電流を低減させることでトータルの放電電流を低減させる実施例を以下に説明する。
帯電ローラ22に印加することのできるACバイアスの波形としては、上述したように正弦波以外にも矩形波、三角波、1周期の間に振幅がない領域が存在するパルス波といった波形が考えられる。
パルス波のようなACバイアスの振幅に0の領域がある交流波形では(実際には重畳されるDC成分があり電位としては0Vではない)、デューティ比50%の波形に比べて常に電位が変化するわけではないため、放電電流としては少なくなることが予想される。矩形のパルス波において、デューティ比5〜50%の範囲でVppを変化させた時の放電電流の変化を図10に示す(デューティ比50%の矩形パルス波は先の矩形波と同じ)。どのデューティ比でもVdc=800V、f=2kHzとした。
図11に示すように、いずれの波形でも像流れが発生していたデューティ比50%の矩形波よりも放電電流を低減させることができた。
近接帯電部材として、図12に鋸歯状部材の実施例を示す。一般的に鋸歯状の帯電部材22Bは、可動部分を持たせなくても所望の帯電特性を得るという画像形成装置製作上のコストダウンを図る点で帯電ローラ22よりも利点がある。この場合でも放電電流を絶対値で50μA/cmとすることによって像流れを起こさず画質の安定性を維持することが可能となった。
10 放電規制板
22 帯電部材(帯電ローラ)
22A 帯電部材(小径の帯電ローラ)
22B 帯電部材(鋸刃状の帯電部材)
Claims (19)
- 直流電圧と重畳する交流電圧とを帯電部材に印加し、該帯電部材と被帯電体表面との間に放電を生じさせて該被帯電体の帯電を行う帯電方式において、
前記帯電部材の長手方向における放電可能な領域の単位長さ当たりの絶対値放電電流量が50μA/cm以下であることを特徴とする帯電方式。 - 請求項1記載の帯電方式において、
前記被帯電体として表層がアモルファスシリコン系の感光体が用いられることを特徴とする帯電方式。 - 請求項1記載の帯電方式において、
前記帯電部材と前記被帯電体とが有効画像領域内において非接触状態で対向することを特徴とする帯電方式。 - 請求項1記載の帯電方式において、
前記帯電部材と前記被帯電体表面との間での放電回数を低減させるべく、放電可能な領域において前記交流電圧がその周波数をf、被帯電体線速をvとして、
7>f/v>4
の範囲で印加されることを特徴とする帯電方式。 - 請求項3記載の帯電方式において、
前記帯電部材と前記被帯電体とが非接触で放電が行われ、空隙距離が20μm以上100μm以内で前記帯電部材と前記被帯電体とが配置されることを特徴とする帯電方式。 - 請求項1記載の帯電方式において、
前記帯電部材としてその放電可能領域の前後に放電規制板を有するものが用いられることを特徴とする帯電方式。 - 請求項1記載の帯電方式において、
印加する交流波形はデューティ比50%の波形であって形状が三角形であることを特徴とする帯電方式。 - 請求項1記載の帯電方式において、
印加する交流波形は電位の変化が非連続的なパルス波であることを特徴とする帯電方式。 - 請求項7記載の帯電方式において、
パルス波のデューティ比が5%より大きいパルス幅をもって印加されることを特徴とする帯電方式。 - 請求項9記載の帯電方式において、
パルス波の形状が正弦波を有することを特徴とする帯電方式。 - 請求項9記載の帯電方式において、
パルス波の形状が矩形波を有することを特徴とする帯電方式。 - 請求項9記載の帯電方式において、
パルス波の形状が三角波を有することを特徴とする帯電方式。 - 請求項1記載の帯電方式において、
印加する交流波形の電位変位幅が800V以上2000V以下であることを特徴とする帯電方式。 - 請求項1記載の帯電方式において、
前記帯電部材としてローラ形状のものが用いられること特徴とする帯電方式。 - 請求項14記載の帯電方式において、
前記帯電部材として前記被帯電体の径よりも小さい径のものが用いられることを特徴とする帯電方式。 - 請求項1記載の帯電方式において、
前記帯電部材として鋸歯状形状を有するものが用いられることを特徴とする帯電方式。 - 請求項1記載の帯電方式を搭載したことを特徴とする帯電装置。
- 請求項17記載の帯電装置を搭載したことを特徴とする画像形成装置。
- 請求項18記載の画像形成装置に用いられる現像剤であって、
重量平均径が4〜15μmであることを特徴とする現像剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005138912A JP2005242390A (ja) | 2005-05-11 | 2005-05-11 | 帯電方式及び帯電装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005138912A JP2005242390A (ja) | 2005-05-11 | 2005-05-11 | 帯電方式及び帯電装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001075684A Division JP2002278224A (ja) | 2001-03-16 | 2001-03-16 | 帯電方式及び帯電装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005242390A true JP2005242390A (ja) | 2005-09-08 |
Family
ID=35024107
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005138912A Pending JP2005242390A (ja) | 2005-05-11 | 2005-05-11 | 帯電方式及び帯電装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005242390A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007121856A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置と画像形成プロセスカートリッジ |
JP2007121334A (ja) * | 2005-10-24 | 2007-05-17 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
JP2010019990A (ja) * | 2008-07-09 | 2010-01-28 | Canon Inc | 画像形成方法 |
JP2010170027A (ja) * | 2009-01-26 | 2010-08-05 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
US9354538B2 (en) | 2014-03-03 | 2016-05-31 | Ricoh Company, Ltd. | Charging device and image forming apparatus incorporating same |
US11762308B2 (en) | 2019-09-02 | 2023-09-19 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Imaging system with non-contact charging device and controller thereof |
-
2005
- 2005-05-11 JP JP2005138912A patent/JP2005242390A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007121334A (ja) * | 2005-10-24 | 2007-05-17 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
JP2007121856A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置と画像形成プロセスカートリッジ |
JP2010019990A (ja) * | 2008-07-09 | 2010-01-28 | Canon Inc | 画像形成方法 |
JP2010170027A (ja) * | 2009-01-26 | 2010-08-05 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
US9354538B2 (en) | 2014-03-03 | 2016-05-31 | Ricoh Company, Ltd. | Charging device and image forming apparatus incorporating same |
US11762308B2 (en) | 2019-09-02 | 2023-09-19 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Imaging system with non-contact charging device and controller thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH06314016A (ja) | 帯電装置 | |
JP2006268021A (ja) | 帯電装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 | |
JP2002278224A (ja) | 帯電方式及び帯電装置 | |
JP2005242390A (ja) | 帯電方式及び帯電装置 | |
JP4861736B2 (ja) | 画像形成装置 | |
JP3745639B2 (ja) | 帯電装置とそれを搭載した画像形成装置 | |
JPH06250509A (ja) | 現像装置 | |
JP2004212823A (ja) | 画像形成装置 | |
JP2002182468A (ja) | 画像形成装置 | |
JP2006053201A (ja) | 電子写真用キャリア、現像剤及び画像形成装置 | |
JPH11190916A (ja) | 画像形成方法 | |
JP4298113B2 (ja) | 現像剤および画像形成方法 | |
JP2003195639A (ja) | 現像装置および画像形成装置 | |
JP4303543B2 (ja) | 画像形成装置 | |
JP2002214997A (ja) | クリーニング装置及びこれを用いた画像形成装置 | |
JP2005331632A (ja) | 現像装置およびプロセスカートリッジならびにそれらを備えた画像形成装置 | |
JP4208452B2 (ja) | 画像形成装置 | |
JPH07239603A (ja) | 帯電装置 | |
JP3904203B2 (ja) | クリーニング装置及び該クリーニング装置を有する画像形成装置 | |
JP2003098843A (ja) | 画像形成装置 | |
JP7183029B2 (ja) | クリーニング装置、カートリッジ及び画像形成装置 | |
JP4875352B2 (ja) | 画像形成方法 | |
JP2002244401A (ja) | 帯電装置及び画像形成装置 | |
JP2005165113A (ja) | 画像形成装置 | |
JP2002196643A (ja) | 画像形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080306 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081111 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081219 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090203 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090602 |