JP2005235878A - Laminate structure and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a detailed laminate structure object equivalent to a green sheet method even in the case that a piezoelectric material of bulk is used. <P>SOLUTION: This laminate structure includes a piezoelectric element in which a plurality of electrode layers 2, 3 are formed among a plurality of piezoelectric material layers 1 which disconnect the piezoelectric material to be obtained, a first insulating film 4 which covers electrode layers 2 of a first group in the plurality of the electrode layers in the first field of the piezoelectric element, a second insulating film 5 which covers the electrode layers 3 of a second group in the plurality of the electrode layers, first wiring 8 electrically connected to the electrode layers of the second group and insulated from the electrode layers of the first group by the first insulating film in the first field of the piezoelectric element, and second wiring 7 electrically connected to the electrode layers of the first group and insulated from the electrode layers of the second group by the second insulating film in the second field of the piezoelectric element. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、絶縁体と電極とが交互に形成されている積層構造体及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a laminated structure in which insulators and electrodes are alternately formed and a method for manufacturing the same.

絶縁体(誘電体)と電極とが交互に形成されている積層構造は、積層コンデンサの他にも、圧電ポンプ、圧電アクチュエータ、超音波トランスデューサ等の様々な用途に利用されている。近年、MEMS(micro electro mechanical system:微小電子機械システム)関連の機器の開発に伴い、このような積層構造を有する素子の微細化及び集積化がますます進んでいる。   A laminated structure in which insulators (dielectrics) and electrodes are alternately formed is used for various applications such as a piezoelectric pump, a piezoelectric actuator, and an ultrasonic transducer in addition to a laminated capacitor. In recent years, along with the development of MEMS (micro electro mechanical system) related devices, miniaturization and integration of elements having such a laminated structure have been advanced.

対向電極を有する素子の微細化においては、素子の面積を小さくすると電極間の容量が小さくなるので、素子の電気インピーダンスが上昇するという問題が生じている。例えば、圧電アクチュエータにおいて電気インピーダンスが上昇すると、圧電アクチュエータを駆動するための信号回路とのインピーダンスマッチングが取れなくなって電力が供給され難くなり、圧電アクチュエータとしての性能が落ちてしまう。或いは、圧電素子を用いた超音波トランスデューサにおいては、超音波の検出感度が落ちてしまう。そのため、素子を微細化しつつ電極間容量を大きくするために、複数の圧電材料層と複数の電極層とを交互に積層することが行われている。即ち、積層された複数の層を並列に接続することにより、素子全体の電極間容量を大きくすることができる。   In miniaturization of an element having a counter electrode, if the area of the element is reduced, the capacitance between the electrodes is reduced, which causes a problem that the electrical impedance of the element increases. For example, when the electrical impedance rises in the piezoelectric actuator, impedance matching with the signal circuit for driving the piezoelectric actuator cannot be achieved, and it becomes difficult to supply power, and the performance as a piezoelectric actuator is reduced. Or in the ultrasonic transducer using a piezoelectric element, the detection sensitivity of an ultrasonic wave will fall. Therefore, in order to increase the interelectrode capacitance while miniaturizing the element, a plurality of piezoelectric material layers and a plurality of electrode layers are alternately stacked. That is, the inter-electrode capacitance of the entire device can be increased by connecting a plurality of stacked layers in parallel.

圧電材料層を含む積層構造体の製造方法としては、従来より、バルクの圧電材料を用いるバルク法が知られている。バルク法においては、所望の厚さに削ったバルクの圧電材料を電極層と交互に重ね、接着剤を用いて接着したり、ボルトを締めることにより固定したりする手法が用いられている。   As a manufacturing method of a laminated structure including a piezoelectric material layer, a bulk method using a bulk piezoelectric material is conventionally known. In the bulk method, a method is used in which a bulk piezoelectric material cut to a desired thickness is alternately stacked with electrode layers and bonded using an adhesive or fixed by tightening a bolt.

しかしながら、この手法は、一般に、比較的大きい積層構造体の製造に用いられており、微小な積層構造体の製造に用いる場合には、薄く削った圧電材料が脆く割れ易いことからハンドリングが困難であり、また、微細加工が困難であるので、製造工程が煩雑になる。特に、厚さ100μm以下の圧電材料は割れ易い。また、出来上がった製品については、接着剤による装着性に問題があると共に、接着部分において応力が発生するという問題が生じている。従って、この手法によると、製造歩留まりが低下し、製造コストが上昇してしまうので、生産性の観点からも適当ではない。そのため、積層構造体を成膜によって製造するグリーンシート法又はスクリーン印刷法が検討されている。   However, this method is generally used for manufacturing a relatively large laminated structure, and when used for the manufacture of a minute laminated structure, handling is difficult because a thinly cut piezoelectric material is fragile and easily cracked. In addition, since the fine processing is difficult, the manufacturing process becomes complicated. In particular, a piezoelectric material having a thickness of 100 μm or less is easily cracked. In addition, the finished product has a problem in mounting properties by the adhesive and a problem that stress is generated in the bonded portion. Therefore, according to this method, the manufacturing yield decreases and the manufacturing cost increases, which is not appropriate from the viewpoint of productivity. Therefore, a green sheet method or a screen printing method for manufacturing a laminated structure by film formation has been studied.

グリーンシート法又はスクリーン印刷法においては、可塑性のない圧電材料の粉末に有機物等のバインダを混合して成膜したグリーンシート(圧電体シート)が用いられる。この手法においては、圧電体シート上に電極材料のペーストをスクリーン印刷により塗布した複数のシートを積層し、約1000℃の高温で焼成することにより、バインダを圧電体シートから飛散させて、圧電体を強固な膜にしている。   In the green sheet method or the screen printing method, a green sheet (piezoelectric sheet) formed by mixing an unplasticized piezoelectric material powder with a binder such as an organic substance is used. In this method, a plurality of sheets coated with electrode material paste by screen printing are stacked on a piezoelectric sheet, and the binder is scattered from the piezoelectric sheet by firing at a high temperature of about 1000 ° C. Is a strong film.

このような手法を用いて製造される積層構造体においては、複数の電極層を互いに接続するために、積層構造体の側面において配線が行われる。図10は、積層構造体の一般的な配線方法を説明するための断面図である。積層構造体100は、複数の圧電材料層101と、複数の電極層102及び103と、側面配線104及び105とを含んでいる。   In a laminated structure manufactured using such a method, wiring is performed on the side surface of the laminated structure in order to connect a plurality of electrode layers to each other. FIG. 10 is a cross-sectional view for explaining a general wiring method of the laminated structure. The laminated structure 100 includes a plurality of piezoelectric material layers 101, a plurality of electrode layers 102 and 103, and side wirings 104 and 105.

電極102は、その一端が積層構造体の一方の壁面まで延びるように形成されており、電極103は、その一端が積層構造体の他方の壁面まで伸びるように形成されている。これにより、電極102は、一方の側面配線104に接続されると共に、他方の側面配線105から絶縁領域106によって絶縁される。反対に、電極103は、側面配線105に接続されると共に、側面配線104から絶縁領域106によって絶縁される。側面配線104と側面配線105との間に電位差を与えることにより、電極102と電極103との間にそれぞれ配置された圧電材料層101の各々に電圧が印加され、圧電効果によって圧電材料層101が伸縮する。   The electrode 102 is formed so that one end thereof extends to one wall surface of the multilayer structure, and the electrode 103 is formed so that one end thereof extends to the other wall surface of the multilayer structure. As a result, the electrode 102 is connected to one side wiring 104 and insulated from the other side wiring 105 by the insulating region 106. On the contrary, the electrode 103 is connected to the side wiring 105 and insulated from the side wiring 104 by the insulating region 106. By applying a potential difference between the side wiring 104 and the side wiring 105, a voltage is applied to each of the piezoelectric material layers 101 disposed between the electrode 102 and the electrode 103, and the piezoelectric material layer 101 is caused to have a piezoelectric effect. It expands and contracts.

しかしながら、電極102及び103には、いずれかの側面配線と絶縁するために、電極が形成されていない絶縁領域106が設けられている。この絶縁領域106は、積層構造体100に電圧を印加しても伸縮しない。そのため、圧電材料層101の内部に、伸縮する第1の領域と伸縮しない第2の領域とが存在するので、これらの領域の間に応力が集中して破損し易いという問題がある。   However, the electrodes 102 and 103 are provided with an insulating region 106 in which no electrode is formed in order to insulate from one of the side wirings. The insulating region 106 does not expand or contract even when a voltage is applied to the laminated structure 100. For this reason, the piezoelectric material layer 101 has a first region that expands and contracts and a second region that does not expand and contract, and there is a problem that stress is easily concentrated between these regions and is easily damaged.

関連する技術として、下記の特許文献1には、長寿命の積層型圧電アクチュエータの製造方法が開示されている。この特許文献1によれば、圧電セラミックス材を主体とするグリーンシートの表面全面に内部電極を形成し、該グリーンシートを層状に積層して焼結し、該被焼結物の両側面に機械加工を施し、両側面の端部を一層おきに樹脂にて絶縁処理し、該被処理物の上からそれぞれの面に導電層を形成する。これにより、従来のように全面電極を形成し得ないものに比べて耐久性を向上させることができ、また、内部電極を部分的に形成するための位置合わせの必要も無く、微細化が可能となる。   As a related technique, Patent Document 1 below discloses a method for manufacturing a long-life multilayer piezoelectric actuator. According to Patent Document 1, an internal electrode is formed on the entire surface of a green sheet mainly composed of a piezoelectric ceramic material, the green sheet is laminated in layers and sintered, and machined on both sides of the object to be sintered. Processing is performed, and end portions on both sides are insulated with resin every other layer, and a conductive layer is formed on each surface from the top of the workpiece. As a result, the durability can be improved compared to the conventional case where the full-surface electrode cannot be formed, and there is no need for alignment for partially forming the internal electrode, and miniaturization is possible. It becomes.

しかしながら、グリーンシート(圧電体シート)と内部電極シートとによって形成される積層体の焼成は、一般的に約1000℃の高温で行われるので、内部電極に用いられる導電材料(例えば、銀)が圧電体内に拡散することにより、圧電体の特性が劣化してしまう。さらに、グリーンシート法によって製造される圧電体においては、内部に含まれる有機物等のバインダが抜けた後に形成される孔がバルクの圧電体に比べて多いので、その特性は、バルクの圧電体の特性の6割〜7割程度である。したがって、グリーンシート法によって製造される積層構造体の圧電性能は、バルク法によって製造される積層構造体の圧電性能よりも劣るという問題がある。また、スクリーン印刷法においても同様の問題がある。
特開昭60−128683号公報(第2頁、第2図)
However, since the laminate formed by the green sheet (piezoelectric sheet) and the internal electrode sheet is generally fired at a high temperature of about 1000 ° C., a conductive material (for example, silver) used for the internal electrode is used. By diffusing into the piezoelectric body, the characteristics of the piezoelectric body deteriorate. Furthermore, in the piezoelectric body manufactured by the green sheet method, the number of holes formed after the binder such as organic matter contained therein is removed is larger than that of the bulk piezoelectric body. It is about 60% to 70% of the characteristics. Therefore, there is a problem that the piezoelectric performance of the multilayer structure manufactured by the green sheet method is inferior to the piezoelectric performance of the multilayer structure manufactured by the bulk method. The screen printing method has the same problem.
JP-A-60-128683 (2nd page, FIG. 2)

そこで、上記の点に鑑み、本発明は、バルクの圧電材料を用いた場合においても、グリーンシート法と同等の微細な積層構造体を実現することを目的とする。   Therefore, in view of the above points, an object of the present invention is to realize a fine laminated structure equivalent to the green sheet method even when a bulk piezoelectric material is used.

上記課題を解決するため、本発明に係る積層構造体は、圧電材料を切断して得られた複数の圧電材料層の間に複数の電極層がそれぞれ形成されている圧電素子と、圧電素子の第1の面において、複数の電極層の内の第1群の電極層を被う第1の絶縁膜と、圧電素子の第2の面において、複数の電極層の内の第2群の電極層を被う第2の絶縁膜と、圧電素子の第1の面において、第2群の電極層と電気的に接続され、第1の絶縁膜によって第1群の電極層から絶縁されている第1の配線と、圧電素子の第2の面において、第1群の電極層と電気的に接続され、第2の絶縁膜によって第2群の電極層から絶縁されている第2の配線とを具備する。   In order to solve the above problems, a multilayer structure according to the present invention includes a piezoelectric element in which a plurality of electrode layers are formed between a plurality of piezoelectric material layers obtained by cutting a piezoelectric material, and a piezoelectric element A first insulating film covering a first group of electrode layers of the plurality of electrode layers on the first surface; and a second group of electrodes of the plurality of electrode layers on the second surface of the piezoelectric element. The second insulating film covering the layer and the first surface of the piezoelectric element are electrically connected to the second group of electrode layers and insulated from the first group of electrode layers by the first insulating film. A first wiring and a second wiring electrically connected to the first group of electrode layers and insulated from the second group of electrode layers by a second insulating film on the second surface of the piezoelectric element; It comprises.

また、本発明に係る積層構造体の製造方法は、圧電材料を切断して複数の圧電材料層に分離し、複数の圧電材料層の間に導電体ペーストを注入して焼成することにより、複数の圧電材料層の間に複数の電極層がそれぞれ形成された圧電素子を得るステップ(a)と、圧電素子の第1の面において、複数の電極層の内の第1群の電極層を被う第1の絶縁膜を形成するステップ(b)と、圧電素子の第2の面において、複数の電極層の内の第2群の電極層を被う第2の絶縁膜を形成するステップ(c)と、圧電素子の第1の面において、第2群の電極層と電気的に接続され、第1の絶縁膜によって第1群の電極層から絶縁される第1の配線を形成するステップ(d)と、圧電素子の第2の面において、第1群の電極層と電気的に接続され、第2の絶縁膜によって第2群の電極層から絶縁される第2の配線を形成するステップ(e)とを具備する。   Also, in the method for manufacturing a laminated structure according to the present invention, a piezoelectric material is cut and separated into a plurality of piezoelectric material layers, and a conductive paste is injected between the plurality of piezoelectric material layers and fired. A step (a) of obtaining a piezoelectric element in which a plurality of electrode layers are respectively formed between the piezoelectric material layers; and covering a first group of the plurality of electrode layers on the first surface of the piezoelectric element. A step (b) of forming a first insulating film, and a step of forming a second insulating film covering the second group of electrode layers of the plurality of electrode layers on the second surface of the piezoelectric element ( and c) forming a first wiring electrically connected to the second group of electrode layers on the first surface of the piezoelectric element and insulated from the first group of electrode layers by the first insulating film. (D) and the second surface of the piezoelectric element is electrically connected to the first group of electrode layers, Comprising a step (e) forming a second wiring which is insulated from the second group of electrode layers by Enmaku.

本発明によれば、圧電材料を切断して複数の圧電材料層に分離し、導電体ペーストを注入した後に焼成を行うことにより、バルクの圧電材料を用いた場合においても、グリーンシート法と同等の微細な積層構造体を実現することができる。   According to the present invention, the piezoelectric material is cut and separated into a plurality of piezoelectric material layers, and the conductive paste is injected and then fired, so that even when a bulk piezoelectric material is used, it is equivalent to the green sheet method. A fine laminated structure can be realized.

以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。なお、同一の構成要素には同一の参照番号を付して、説明を省略する。
図1は、本発明の一実施形態に係る積層構造体の構造を示す図である。図1に示すように、積層構造体10は、例えば、底面の一辺が0.3〜1.0mm程度、高さが2.1mm程度の微小な柱状の構造体である。積層構造体10は、複数のPZT(チタン酸ジルコン酸鉛:Pb(lead) zirconate titanate)層1と、複数の第1電極層2と、複数の第2電極層3と、複数の第1絶縁膜4と、複数の第2絶縁膜5と、複数の第3絶縁膜6と、配線7及び8とを含んでいる。本実施形態においては、PZT層1として、バルクのPZTを用いている。
Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The same constituent elements are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
FIG. 1 is a diagram showing a structure of a laminated structure according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the laminated structure 10 is a minute columnar structure having, for example, a side of the bottom surface of about 0.3 to 1.0 mm and a height of about 2.1 mm. The laminated structure 10 includes a plurality of PZT (Pb (lead) zirconate titanate) layers 1, a plurality of first electrode layers 2, a plurality of second electrode layers 3, and a plurality of first insulations. The film 4 includes a plurality of second insulating films 5, a plurality of third insulating films 6, and wirings 7 and 8. In the present embodiment, bulk PZT is used as the PZT layer 1.

複数のPZT層1の間には、第1電極層2と第2電極層3とが交互に配置され、各々のPZT層1には、第1電極層2又は第2電極層3が直接接合されている。配線7は、積層構造体10の一方の側面及び底面を覆い、配線8は、積層構造体10の他方の側面及び上面を覆い、配線7と配線8とは、第3絶縁膜6によって絶縁されている。   Between the PZT layers 1, the first electrode layers 2 and the second electrode layers 3 are alternately arranged, and the first electrode layer 2 or the second electrode layer 3 is directly bonded to each PZT layer 1. Has been. The wiring 7 covers one side surface and the bottom surface of the multilayer structure 10, the wiring 8 covers the other side surface and top surface of the multilayer structure 10, and the wiring 7 and the wiring 8 are insulated by the third insulating film 6. ing.

第1電極層2は、一方の側面において配線7と電気的に接続され、他方の側面に配置された第1絶縁膜4によって配線8から絶縁されている。第2電極層3は、一方の側面に配置された第2絶縁膜5によって配線7から絶縁され、他方の側面において配線8と電気的に接続されている。   The first electrode layer 2 is electrically connected to the wiring 7 on one side and is insulated from the wiring 8 by the first insulating film 4 disposed on the other side. The second electrode layer 3 is insulated from the wiring 7 by the second insulating film 5 disposed on one side surface, and is electrically connected to the wiring 8 on the other side surface.

配線7及び8、第1電極層2、第2電極層3を介してPZT層1に電圧を印加することにより、PZT層1は圧電効果によって伸縮する。このようなPZT等の圧電材料を絶縁層(誘電体層)として用いる積層構造体は、圧電ポンプや、圧電アクチュエータや、超音波用探触子において超音波を送受信する超音波トランスデューサ等に用いられる。積層構造を有する構造体は、単層の構造体よりも、対向する電極の面積を増やすことになるので、電気的インピーダンスを下げることができる。従って、単層の構造体と比較して、印加される電圧に対して効率良く動作する。   By applying a voltage to the PZT layer 1 via the wirings 7 and 8, the first electrode layer 2, and the second electrode layer 3, the PZT layer 1 expands and contracts due to the piezoelectric effect. Such a laminated structure using a piezoelectric material such as PZT as an insulating layer (dielectric layer) is used for a piezoelectric pump, a piezoelectric actuator, an ultrasonic transducer that transmits and receives ultrasonic waves in an ultrasonic probe, and the like. . Since the structure having a stacked structure increases the area of the opposing electrode as compared with a single-layer structure, the electrical impedance can be lowered. Therefore, it operates efficiently with respect to the applied voltage as compared with a single-layer structure.

なお、本実施形態においては、圧電材料としてバルクのPZTを用いているが、粉末を焼成したバルク材のほかに、エアロゾルデポジション(AD:aerosol deposition)法により形成される圧電材料や、引き上げ法により形成される単結晶体の圧電材料を用いても良い。   In this embodiment, bulk PZT is used as the piezoelectric material, but in addition to the bulk material obtained by firing the powder, a piezoelectric material formed by an aerosol deposition (AD) method or a pulling method. A single crystal piezoelectric material formed by the above method may be used.

次に、本実施形態に係る積層構造体の製造方法について、図2〜図6を参照しながら説明する。図2は、本実施形態に係る積層構造体の製造方法を示すフローチャートである。また、図3〜図6は、本実施形態に係る積層構造体の製造方法を説明するための図である。   Next, the manufacturing method of the laminated structure according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a flowchart showing a method for manufacturing a laminated structure according to this embodiment. Moreover, FIGS. 3-6 is a figure for demonstrating the manufacturing method of the laminated structure which concerns on this embodiment.

まず、図2に示すステップS1〜S3において、PZT層1を形成する。ステップS1において、図3の(A)に示すように、バルクのPZTを用意する。本実施形態においては、25mm角で厚さ0.3mmのPZTを用いている。次に、ステップS2において、図3の(B)に示すように、バルクのPZTの裏面に粘着シートを貼り付ける。   First, the PZT layer 1 is formed in steps S1 to S3 shown in FIG. In step S1, bulk PZT is prepared as shown in FIG. In this embodiment, PZT having a 25 mm square and a thickness of 0.3 mm is used. Next, in step S2, as shown in FIG. 3B, an adhesive sheet is attached to the back surface of the bulk PZT.

ステップS3において、図3の(C)に示すように、ダイサー式切断機を用いてバルクのPZTを切断し、PZT層1を形成する。ここで、各PZT層1を固定するために、ダイサー式切断機によって粘着シートが切断されないようにしている。このように、ダイサー式切断機を用いることにより、容易にPZTを微細加工できるので、所望の寸法を有するPZT層1を精度良く形成することができる。   In step S <b> 3, as shown in FIG. 3C, bulk PZT is cut using a dicer cutting machine to form a PZT layer 1. Here, in order to fix each PZT layer 1, the pressure-sensitive adhesive sheet is prevented from being cut by a dicer type cutting machine. Thus, since the PZT can be easily finely processed by using the dicer type cutting machine, the PZT layer 1 having a desired dimension can be formed with high accuracy.

本実施形態によれば、微細加工が可能であるダイサー式切断機を用いているので、PZT層1の厚さを調整するための研磨が必要なく、また、パッキング密度が90%以上で、且つ、微小な積層構造体を製造することができる。また、PZT層1を1枚ずつハンドリングする必要が無いので、PZT層1枚ずつのハンドリングに起因する破損を防止することができ、歩留まりを向上させることができる。   According to the present embodiment, since a dicer type cutting machine capable of microfabrication is used, polishing for adjusting the thickness of the PZT layer 1 is not required, the packing density is 90% or more, and A minute laminated structure can be manufactured. In addition, since it is not necessary to handle the PZT layers 1 one by one, it is possible to prevent damage due to the handling of one PZT layer one by one and improve the yield.

次に、ステップS4〜S6において、第1電極層2及び第2電極層3を形成する。ステップS4において、図4の(A)に示すように、ダイサー式切断機によって形成された溝に、銀ペースト又は銀パラジウムペースト等の導電体ペーストを注入する。ステップS5において、図4の(B)に示すように、PZT層1を固定していた粘着シートを剥がす。   Next, in steps S4 to S6, the first electrode layer 2 and the second electrode layer 3 are formed. In step S4, as shown in FIG. 4A, a conductor paste such as silver paste or silver palladium paste is injected into the groove formed by the dicer type cutting machine. In step S5, as shown in FIG. 4B, the pressure-sensitive adhesive sheet on which the PZT layer 1 is fixed is peeled off.

ステップS6において、図4の(C)に示すように、導電体ペーストの乾燥及び焼成を行い、第1電極層2及び第2電極層3を形成する。本実施形態においては、乾燥は約100℃で10分間行い、焼成は約600℃で行っている。ここで、焼成時には、導電体ペーストから有機分や水分が抜けるので、導電体ペーストの体積が減少する。したがって、本実施形態においては、焼成時に、PZT層1間の間隔を徐々に狭めるように、一定の力を積層方向に印加している。   In step S <b> 6, as shown in FIG. 4C, the conductor paste is dried and fired to form the first electrode layer 2 and the second electrode layer 3. In this embodiment, drying is performed at about 100 ° C. for 10 minutes, and baking is performed at about 600 ° C. Here, at the time of firing, organic components and moisture are removed from the conductor paste, so that the volume of the conductor paste is reduced. Therefore, in this embodiment, a constant force is applied in the stacking direction so as to gradually narrow the interval between the PZT layers 1 during firing.

次に、ステップS7〜S10において、第1絶縁膜4、第2絶縁膜5、及び、第3絶縁膜6を形成する。ステップS7において、図5の(A)に示すように、フォトリソグラフィ工程を用いて、積層構造体10の第1の面に、所望のパターンのレジストマスクを形成する。なお、レジストマスクの替わりに、メタルマスクを形成しても良い。ステップS8において、図5の(B)に示すように、レジストマスクを利用して第1の面に第1絶縁膜4及び第3絶縁膜6を形成した後、レジストマスクを取り除く。   Next, in steps S7 to S10, the first insulating film 4, the second insulating film 5, and the third insulating film 6 are formed. In step S7, as shown in FIG. 5A, a resist mask having a desired pattern is formed on the first surface of the multilayer structure 10 using a photolithography process. Note that a metal mask may be formed instead of the resist mask. In step S8, as shown in FIG. 5B, the first insulating film 4 and the third insulating film 6 are formed on the first surface using a resist mask, and then the resist mask is removed.

ステップS9において、積層構造体10の上下を逆転させ、図5の(C)に示すように、フォトリソグラフィ工程を用いて、積層構造体10の第1の面と反対の第2の面に、所望のパターンのレジストマスクを形成する。ステップS10において、図5の(D)に示すように、レジストマスクを利用して、第2の面に第2絶縁膜5及び第3絶縁膜6を形成した後、レジストマスクを取り除く。   In step S9, the stacked structure 10 is turned upside down, and as shown in FIG. 5C, using a photolithography process, a second surface opposite to the first surface of the stacked structure 10 is used. A resist mask having a desired pattern is formed. In step S10, as shown in FIG. 5D, the resist mask is used to form the second insulating film 5 and the third insulating film 6 on the second surface, and then the resist mask is removed.

以上において、絶縁膜4〜6の形成には、後で説明するAD法による成膜方法を用いている。絶縁膜4〜6の材料としては、例えば、PZT、アルミナ、ZrO等のZr系酸化物、及び、TiO等を用いることができる。即ち、AD法による成膜方法を用いて絶縁膜を形成することが可能な材料であれば、使用することができる。 In the above, the insulating films 4 to 6 are formed by a film forming method by an AD method which will be described later. As a material of the insulating films 4 to 6, for example, PZT, alumina, Zr-based oxides such as ZrO 2 , TiO 2 , and the like can be used. In other words, any material can be used as long as it can form an insulating film using a film formation method by the AD method.

次に、ステップS11〜S13において、配線7及び8を形成する。ステップS11において、図6の(A)に示すように、不要なPZTの周辺部をカットする。ステップS12において、図6の(B)に示すように、積層構造体10の前面、後面、及び、第3絶縁膜6以外の部分に、導電体ペーストを塗布する。ステップS13において、図6の(C)に示すように、導電体ペーストの乾燥及び焼成を行い、配線7及び8を形成する。   Next, wirings 7 and 8 are formed in steps S11 to S13. In step S11, as shown in FIG. 6A, unnecessary peripheral portions of PZT are cut. In step S <b> 12, as shown in FIG. 6B, a conductor paste is applied to portions other than the front surface, the rear surface, and the third insulating film 6 of the laminated structure 10. In step S13, as shown in FIG. 6C, the conductor paste is dried and fired to form the wirings 7 and 8.

ここで、本実施形態において絶縁膜を形成するために用いられるAD法について説明する。図7は、AD法によって成膜を行うために用いる装置を示している。この装置は、エアロゾル生成容器20と、成膜チャンバ30とを有している。エアロゾルとは、気体中に浮遊する固体又は液体の微粒子のことをいう。なお、本実施形態においては、絶縁膜を形成するために、平均粒子径が0.2μm〜1μmのPZTの微粒子を用いている。   Here, the AD method used for forming the insulating film in the present embodiment will be described. FIG. 7 shows an apparatus used for film formation by the AD method. This apparatus has an aerosol generation container 20 and a film forming chamber 30. Aerosol refers to solid or liquid fine particles floating in a gas. In this embodiment, PZT fine particles having an average particle diameter of 0.2 μm to 1 μm are used to form an insulating film.

エアロゾル生成容器20は、成膜原料の粉体が配置される容器であり、ここでエアロゾルの生成が行われる。エアロゾル生成容器20には、キャリアガス導入部21、エアロゾル導出部22、及び、圧力調整ノズル23が設けられている。キャリアガス導入部21は、原料の粉体をキャリアするために用いられる気体であるキャリアガスを、エアロゾル生成容器20の内部に導入する。即ち、エアロゾル生成容器20に配置された原料の粉体をキャリアガスによって噴き上げることにより、エアロゾルが生成される。   The aerosol generation container 20 is a container in which the film forming raw material powder is placed, and generation of the aerosol is performed here. The aerosol generation container 20 is provided with a carrier gas introduction part 21, an aerosol lead-out part 22, and a pressure adjustment nozzle 23. The carrier gas introduction unit 21 introduces a carrier gas, which is a gas used to carry the raw material powder, into the aerosol generation container 20. That is, the aerosol is generated by spraying the raw material powder disposed in the aerosol generation container 20 with the carrier gas.

このキャリアガスとしては、乾燥空気、窒素ガス、アルゴンガス、酸素ガス、ヘリウムガス等が用いられる。また、エアロゾル導出部22は、エアロゾル生成容器20において生成されたエアロゾルを吸引し、成膜チャンバ30に導く。圧力調整ノズル33は、エアロゾル生成容器20と成膜チャンバ30との圧力差を調整する際に用いられる。   As this carrier gas, dry air, nitrogen gas, argon gas, oxygen gas, helium gas or the like is used. Further, the aerosol deriving unit 22 sucks the aerosol generated in the aerosol generation container 20 and guides it to the film forming chamber 30. The pressure adjustment nozzle 33 is used when adjusting the pressure difference between the aerosol generation container 20 and the film forming chamber 30.

このようなエアロゾル生成容器20は、振動台24の上に戴置されている。振動台24は、エアロゾル生成容器20に振動を与えることにより、エアロゾル生成容器20に配置される原料の粉体を撹拌し、エアロゾルが効率的に生成されるようにする。   Such an aerosol generation container 20 is placed on the vibration table 24. The vibration table 24 agitates the raw material powder disposed in the aerosol generation container 20 by applying vibration to the aerosol generation container 20 so that the aerosol is efficiently generated.

成膜チャンバ30には、排気管31と、エアロゾル導入部32と、ノズル33と、可動ステージ34とが備えられている。排気管31は、真空ポンプに接続されており、成膜チャンバ30内を排気する。エアロゾル導入部32は、エアロゾル生成部20のエアロゾル導出部22に接続されており、エアロゾル生成部20において生成されたエアロゾルを成膜チャンバ30内に導入する。ノズル33は、エアロゾル導入部32を介して導入されたエアロゾルを、可動ステージ34上に配置されている積層構造体10に向けて噴射する。   The film forming chamber 30 is provided with an exhaust pipe 31, an aerosol introduction part 32, a nozzle 33, and a movable stage 34. The exhaust pipe 31 is connected to a vacuum pump and exhausts the film forming chamber 30. The aerosol introducing unit 32 is connected to the aerosol deriving unit 22 of the aerosol generating unit 20, and introduces the aerosol generated in the aerosol generating unit 20 into the film forming chamber 30. The nozzle 33 injects the aerosol introduced through the aerosol introduction part 32 toward the laminated structure 10 disposed on the movable stage 34.

本実施形態によれば、PZT層1としてバルクのPZTを用いているので、グリーンシート法やスクリーン印刷法を用いて形成されるPZTと比べて圧電性能が良い。また、グリーンシート法のように約1000℃の焼成を必要としないので、電極材である銀の拡散がほとんど生じない。さらに、接着剤を用いずPZT層1に電極層2又は3を直接接合しているので、接着剤に起因する応力が発生せず、良好な圧電アクチュエータの性能を得ることができる。また、電極層2及び3をPZT層1の全面に配置しているので、PZT層1の一部の領域に応力が集中しない。その結果、積層構造体10は、従来の積層構造体と比べて耐久性が良い。   According to this embodiment, since bulk PZT is used as the PZT layer 1, the piezoelectric performance is better than PZT formed by using a green sheet method or a screen printing method. Further, unlike the green sheet method, baking at about 1000 ° C. is not required, so that silver as an electrode material hardly diffuses. Furthermore, since the electrode layer 2 or 3 is directly bonded to the PZT layer 1 without using an adhesive, stress due to the adhesive does not occur and good piezoelectric actuator performance can be obtained. Further, since the electrode layers 2 and 3 are disposed on the entire surface of the PZT layer 1, stress is not concentrated on a part of the PZT layer 1. As a result, the laminated structure 10 has better durability than the conventional laminated structure.

なお、本実施形態においては、AD法を用いて絶縁膜を形成したが、スパッタ法、蒸着法、電気泳動法、又は、メッキ法等を用いて絶縁膜を形成しても良い。また、本実施形態においては、導電体ペーストを用いて配線7及び8を形成したが、白金チタンを密着層として用いて、白金をスパッタすることによって配線7及び8を形成しても良い。さらに、本実施形態においては、ダイサー式切断機を用いてバルクのPZTを切断しているが、レーザカッタを用いてバルクのPZTを切断しても良い。その場合には、粘着シートの替りに基板を用いる。   In this embodiment, the insulating film is formed using the AD method. However, the insulating film may be formed using a sputtering method, a vapor deposition method, an electrophoresis method, a plating method, or the like. In the present embodiment, the wirings 7 and 8 are formed using a conductor paste. However, the wirings 7 and 8 may be formed by sputtering platinum using platinum titanium as an adhesion layer. Furthermore, in this embodiment, bulk PZT is cut using a dicer type cutting machine, but bulk PZT may be cut using a laser cutter. In that case, a substrate is used instead of the adhesive sheet.

以上説明した積層構造体を複数配置することにより、アレイ状の積層構造体を作製することができる。例えば、図8に示すように、複数の積層構造体10が、基板上に2次元アレイ状に配置された積層構造体を作製することができる。   By arranging a plurality of the laminated structures described above, an arrayed laminated structure can be manufactured. For example, as shown in FIG. 8, a laminated structure in which a plurality of laminated structures 10 are arranged in a two-dimensional array on a substrate can be produced.

図9は、図8に示すような2次元アレイ状の積層構造体を超音波用探触子に適用した例を示す一部断面斜視図である。この超音波用探触子は、超音波を送信及び受信する複数の超音波トランスデューサを含む超音波トランスデューサアレイ40と、音響整合層41と、音響レンズ42と、バッキング層43とを含んでいる。これらの各部40〜43は、筐体44に収納されている。また、超音波トランスデューサアレイ40に含まれている複数の超音波トランスデューサの配線は、ケーブル45を介して超音波撮像装置本体に接続される。   FIG. 9 is a partial cross-sectional perspective view showing an example in which the two-dimensional array laminated structure as shown in FIG. 8 is applied to an ultrasonic probe. The ultrasonic probe includes an ultrasonic transducer array 40 including a plurality of ultrasonic transducers that transmit and receive ultrasonic waves, an acoustic matching layer 41, an acoustic lens 42, and a backing layer 43. These units 40 to 43 are housed in a housing 44. Further, the wirings of the plurality of ultrasonic transducers included in the ultrasonic transducer array 40 are connected to the ultrasonic imaging apparatus main body via the cable 45.

これらの超音波トランスデューサの間には、エポキシ樹脂等の充填材が配置されている。音響整合層41は、超音波を伝えやすいガラスや、セラミックや、金属粉入りエポキシ樹脂等によって形成されている。音響整合層41は、生体である被検体と超音波トランスデューサとの間の音響インピーダンスの不整合を解消する。これにより、超音波トランスデューサから送信された超音波を、効率良く被検体中に伝播させることができる。   A filler such as an epoxy resin is disposed between these ultrasonic transducers. The acoustic matching layer 41 is formed of glass, ceramic, metal powder-containing epoxy resin, or the like that can easily transmit ultrasonic waves. The acoustic matching layer 41 eliminates the mismatch of acoustic impedance between the subject that is a living body and the ultrasonic transducer. Thereby, the ultrasonic wave transmitted from the ultrasonic transducer can be efficiently propagated into the subject.

音響レンズ42は、例えば、シリコンゴムによって形成されている。音響レンズ42は、超音波トランスデューサアレイ40から送信され、音響整合層41において音響インピーダンスを整合された超音波ビームを、所定の深度において集束させる。バッキング層43は、例えば、エポキシ樹脂やゴムにフェライト等の金属の粉体やPZTの粉体を混入した材料のように、音響減衰の大きい材料によって形成されている。バッキング層43は、超音波トランスデューサアレイ40から発生した不要な超音波を早く減衰させる。   The acoustic lens 42 is made of, for example, silicon rubber. The acoustic lens 42 focuses the ultrasonic beam transmitted from the ultrasonic transducer array 40 and having the acoustic impedance matched in the acoustic matching layer 41 at a predetermined depth. The backing layer 43 is formed of a material having a large acoustic attenuation, such as a material in which a metal powder such as ferrite or a PZT powder is mixed in an epoxy resin or rubber. The backing layer 43 quickly attenuates unnecessary ultrasonic waves generated from the ultrasonic transducer array 40.

このような超音波用探触子を作製する際には、ガラスやマコール(登録商標)を材料とする基板上に複数の積層構造体をアレイ状に配置し、それらの積層構造体の間に充填材を配置することにより、超音波トランスデューサ40及び音響整合層41を作製する。なお、この場合において、基板に別の音響整合層を張り合わせることにより、複数層から成る音響整合層を設けても良い。   When producing such an ultrasonic probe, a plurality of laminated structures are arranged in an array on a substrate made of glass or Macor (registered trademark), and between the laminated structures. By arranging the filler, the ultrasonic transducer 40 and the acoustic matching layer 41 are produced. In this case, a plurality of acoustic matching layers may be provided by attaching another acoustic matching layer to the substrate.

本実施形態において、バルクのPZTを用いてPZT層を作製する場合には、導電体ペーストの焼成時におけるPZT層の熱収縮が少なく、PZT層が熱収縮するグリーンシート法やスクリーン印刷法と比べて、厚い積層構造体を安定して製造することができる。その結果、低い周波数の超音波を送受信する超音波トランスデューサを作製することができる。   In this embodiment, when a PZT layer is produced using bulk PZT, the PZT layer is less thermally contracted during firing of the conductive paste, and compared with the green sheet method or screen printing method in which the PZT layer is thermally contracted. Thus, a thick laminated structure can be manufactured stably. As a result, an ultrasonic transducer that transmits and receives low-frequency ultrasonic waves can be manufactured.

本発明は、絶縁体と電極とが交互に形成されている積層構造体及びその製造方法において利用することが可能である。   The present invention can be used in a laminated structure in which insulators and electrodes are alternately formed and a method for manufacturing the same.

本発明の一実施形態に係る積層構造体の構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of the laminated structure which concerns on one Embodiment of this invention. 本実施形態に係る積層構造体の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the laminated structure which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る積層構造体のPZT層の形成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating formation of the PZT layer of the laminated structure which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る積層構造体の電極層の形成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating formation of the electrode layer of the laminated structure which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る積層構造体の絶縁膜の形成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating formation of the insulating film of the laminated structure which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る積層構造体の配線の形成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating formation of the wiring of the laminated structure which concerns on this embodiment. AD法によって成膜を行うために用いる装置を示す図である。It is a figure which shows the apparatus used in order to form into a film by AD method. 基板上に2次元アレイ状に配置された複数の積層構造体を示す図である。It is a figure which shows the some laminated structure arrange | positioned on the board | substrate at the two-dimensional array form. 2次元アレイ状の積層構造体を超音波用探触子に適用した例を示す一部断面斜視図である。It is a partial cross section perspective view which shows the example which applied the laminated structure of a two-dimensional array shape to the probe for ultrasonic waves. 積層構造体の一般的な配線方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the general wiring method of a laminated structure.

符号の説明Explanation of symbols

1 PZT層
2、3 電極層
4〜6 絶縁膜
7、8 配線
10 積層構造体
20 エアロゾル生成容器
21 キャリアガス導入部
22 エアロゾル導出部
23 圧力調整ノズル
24 振動台
30 成膜チャンバ
31 排気管
32 エアロゾル導入部
33 圧力調整ノズル
34 ステージ
40 超音波トランスデューサアレイ
41 音響整合層
42 音響レンズ
43 バッキング層
44 筐体
45 ケーブル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 PZT layer 2, 3 Electrode layers 4-6 Insulating film 7, 8 Wiring 10 Laminated structure 20 Aerosol production | generation container 21 Carrier gas introduction part 22 Aerosol derivation part 23 Pressure adjustment nozzle 24 Shaking table 30 Deposition chamber 31 Exhaust pipe 32 Aerosol Introduction unit 33 Pressure adjusting nozzle 34 Stage 40 Ultrasonic transducer array 41 Acoustic matching layer 42 Acoustic lens 43 Backing layer 44 Housing 45 Cable

Claims (9)

積層構造体であって、
圧電材料を切断して得られた複数の圧電材料層の間に複数の電極層がそれぞれ形成されている圧電素子と、
前記圧電素子の第1の面において、前記複数の電極層の内の第1群の電極層を被う第1の絶縁膜と、
前記圧電素子の第2の面において、前記複数の電極層の内の第2群の電極層を被う第2の絶縁膜と、
前記圧電素子の第1の面において、前記第2群の電極層と電気的に接続され、前記第1の絶縁膜によって前記第1群の電極層から絶縁されている第1の配線と、
前記圧電素子の第2の面において、前記第1群の電極層と電気的に接続され、前記第2の絶縁膜によって前記第2群の電極層から絶縁されている第2の配線と、
を具備する積層構造体。
A laminated structure,
A piezoelectric element in which a plurality of electrode layers are respectively formed between a plurality of piezoelectric material layers obtained by cutting a piezoelectric material;
A first insulating film covering a first group of electrode layers of the plurality of electrode layers on the first surface of the piezoelectric element;
A second insulating film covering a second group of electrode layers of the plurality of electrode layers on the second surface of the piezoelectric element;
A first wiring electrically connected to the second group of electrode layers on the first surface of the piezoelectric element and insulated from the first group of electrode layers by the first insulating film;
A second wiring electrically connected to the first group of electrode layers on the second surface of the piezoelectric element and insulated from the second group of electrode layers by the second insulating film;
A laminated structure comprising:
前記第1群の電極層と前記第2群の電極層とが交互に配置されている、請求項1記載の積層構造体。   The laminated structure according to claim 1, wherein the first group of electrode layers and the second group of electrode layers are alternately arranged. 前記第1群及び第2群の電極層が、前記複数の圧電材料層の間に注入された導電体ペーストを焼成することにより形成されている、請求項1記載の積層構造体。   The laminated structure according to claim 1, wherein the first group and the second group of electrode layers are formed by firing a conductive paste injected between the plurality of piezoelectric material layers. 前記第1及び第2の絶縁膜が、エアロゾルデポジション法、スパッタ法、蒸着法、電気泳動法、メッキ法の内の1つを用いて形成されている、請求項1記載の積層構造体。   The laminated structure according to claim 1, wherein the first and second insulating films are formed using one of an aerosol deposition method, a sputtering method, a vapor deposition method, an electrophoresis method, and a plating method. 積層構造体の製造方法であって、
圧電材料を切断して複数の圧電材料層に分離し、前記複数の圧電材料層の間に導電体ペーストを注入して焼成することにより、前記複数の圧電材料層の間に複数の電極層がそれぞれ形成された圧電素子を得るステップ(a)と、
前記圧電素子の第1の面において、前記複数の電極層の内の第1群の電極層を被う第1の絶縁膜を形成するステップ(b)と、
前記圧電素子の第2の面において、前記複数の電極層の内の第2群の電極層を被う第2の絶縁膜を形成するステップ(c)と、
前記圧電素子の第1の面において、前記第2群の電極層と電気的に接続され、前記第1の絶縁膜によって前記第1群の電極層から絶縁される第1の配線を形成するステップ(d)と、
前記圧電素子の第2の面において、前記第1群の電極層と電気的に接続され、前記第2の絶縁膜によって前記第2群の電極層から絶縁される第2の配線を形成するステップ(e)と、
を具備する製造方法。
A method of manufacturing a laminated structure,
The piezoelectric material is cut and separated into a plurality of piezoelectric material layers, and a conductive paste is injected between the plurality of piezoelectric material layers and baked, whereby a plurality of electrode layers are formed between the plurality of piezoelectric material layers. Obtaining each formed piezoelectric element (a);
Forming a first insulating film covering a first group of electrode layers of the plurality of electrode layers on the first surface of the piezoelectric element;
Forming a second insulating film covering the second group of electrode layers of the plurality of electrode layers on the second surface of the piezoelectric element;
Forming a first wiring electrically connected to the second group of electrode layers on the first surface of the piezoelectric element and insulated from the first group of electrode layers by the first insulating film; (D) and
Forming a second wiring electrically connected to the first group of electrode layers on the second surface of the piezoelectric element and insulated from the second group of electrode layers by the second insulating film; (E) and
A manufacturing method comprising:
前記第1群の電極層と前記第2群の電極層とが交互に配置される、請求項5記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 5, wherein the first group of electrode layers and the second group of electrode layers are alternately arranged. ステップ(b)が、前記第1の絶縁膜を形成するためのマスクを形成することを含み、
ステップ(c)が、前記第2の絶縁膜を形成するためのマスクを形成することを含む、
請求項5記載の製造方法。
Step (b) includes forming a mask for forming the first insulating film;
Step (c) includes forming a mask for forming the second insulating film.
The manufacturing method of Claim 5.
ステップ(b)又は(c)において形成されるマスクが、レジストマスク又はメタルマスクを含む、請求項7記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 7, wherein the mask formed in step (b) or (c) includes a resist mask or a metal mask. ステップ(b)又は(c)が、前記第1又は第2の絶縁膜を、エアロゾルデポジション法、スパッタ法、蒸着法、電気泳動法、メッキ法の内の1つを用いて形成することを含む、請求項5記載の製造方法。   In step (b) or (c), the first or second insulating film is formed using one of an aerosol deposition method, a sputtering method, a vapor deposition method, an electrophoresis method, and a plating method. The manufacturing method of Claim 5 containing.
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