JP2007149995A - Laminated piezoelectric element and its manufacturing method - Google Patents

Laminated piezoelectric element and its manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP2007149995A
JP2007149995A JP2005342915A JP2005342915A JP2007149995A JP 2007149995 A JP2007149995 A JP 2007149995A JP 2005342915 A JP2005342915 A JP 2005342915A JP 2005342915 A JP2005342915 A JP 2005342915A JP 2007149995 A JP2007149995 A JP 2007149995A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode layer
piezoelectric
layer
electrode
piezoelectric element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2005342915A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2007149995A5 (en
Inventor
Satoru Miyoshi
哲 三好
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2005342915A priority Critical patent/JP2007149995A/en
Priority to US11/604,699 priority patent/US20070120448A1/en
Publication of JP2007149995A publication Critical patent/JP2007149995A/en
Priority to US12/126,459 priority patent/US7765660B2/en
Publication of JP2007149995A5 publication Critical patent/JP2007149995A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/01Manufacture or treatment
    • H10N30/05Manufacture of multilayered piezoelectric or electrostrictive devices, or parts thereof, e.g. by stacking piezoelectric bodies and electrodes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/01Manufacture or treatment
    • H10N30/07Forming of piezoelectric or electrostrictive parts or bodies on an electrical element or another base
    • H10N30/074Forming of piezoelectric or electrostrictive parts or bodies on an electrical element or another base by depositing piezoelectric or electrostrictive layers, e.g. aerosol or screen printing
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/50Piezoelectric or electrostrictive devices having a stacked or multilayer structure
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/80Constructional details
    • H10N30/87Electrodes or interconnections, e.g. leads or terminals
    • H10N30/871Single-layered electrodes of multilayer piezoelectric or electrostrictive devices, e.g. internal electrodes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/80Constructional details
    • H10N30/87Electrodes or interconnections, e.g. leads or terminals
    • H10N30/872Interconnections, e.g. connection electrodes of multilayer piezoelectric or electrostrictive devices
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/42Piezoelectric device making
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/43Electric condenser making
    • Y10T29/435Solid dielectric type
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/49128Assembling formed circuit to base
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/49155Manufacturing circuit on or in base

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminated piezoelectric element firmly connecting an internal electrode and a side-face electrode. <P>SOLUTION: The laminated piezoelectric element alternately laminates a first electrode layer and a second electrode layer by holding a piezoelectric-body layer. The laminated piezoelectric element contains a plurality of the piezoelectric-body layers 10; the first electrode layer 11a projecting at least a part of an end to the side outer than the adjacent piezoelectric-body layer on the first side face of a laminate, and forming an insulating region 12a between the first electrode layer 11a and the second side face of the laminate; and the second electrode layer 11b projecting at least a part of the end section to the side outer than the adjacent piezoelectric-body layer on the second side face of the laminate, and forming the insulating region 12b between the second electrode layer 11b and the first side face of the laminate. The laminated piezoelectric element further contains a first side-face electrode 13a formed on the first side face of the laminate, connected to at least a part of the end section of the first electrode layer and insulated from the second electrode layer and a second side-face electrode 13b formed on the second side face of the laminate, connected to at least a part of the end of the second electrode layer, and insulated from the first electrode layer. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、圧電アクチュエータ、超音波トランスデューサ等として利用される積層構造を有する圧電素子(積層型圧電素子)、及び、その製造方法に関する。   The present invention relates to a piezoelectric element (laminated piezoelectric element) having a laminated structure used as a piezoelectric actuator, an ultrasonic transducer, and the like, and a method for manufacturing the same.

PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)等の鉛系ペロブスカイト構造を有する材料に代表される圧電体は、電圧を印加することにより伸縮する圧電効果を生じる。このような性質を利用する圧電素子は、圧電ポンプや、圧電アクチュエータや、超音波トランスデューサ等の様々な用途に利用されている。圧電素子の構造は、1つの圧電体の両側に電極が形成された単層構造が基本であるが、近年のMEMS(マイクロエレクトロメカニカルシステム)関連の機器の開発に伴う圧電素子の微細化及び集積化により、複数の圧電体と複数の電極とが交互に積層された積層型の圧電素子も用いられるようになっている。   A piezoelectric body typified by a material having a lead-based perovskite structure such as PZT (lead zirconate titanate) produces a piezoelectric effect that expands and contracts when a voltage is applied. Piezoelectric elements that utilize such properties are used in various applications such as piezoelectric pumps, piezoelectric actuators, and ultrasonic transducers. The structure of the piezoelectric element is basically a single-layer structure in which electrodes are formed on both sides of one piezoelectric body, but the miniaturization and integration of the piezoelectric element accompanying the recent development of MEMS (micro electro mechanical system) related equipment. As a result, stacked piezoelectric elements in which a plurality of piezoelectric bodies and a plurality of electrodes are alternately stacked are also used.

図6は、積層型圧電素子の構造を示す断面図である。この圧電素子は、交互に積層された圧電体層100並びに内部電極層101a及び101bを含む積層体と、側面電極103a及び103bと、上部電極104と、下部電極105とを含んでいる。内部電極層101a及び101bには、絶縁領域102a及び102bがそれぞれ設けられている。   FIG. 6 is a cross-sectional view showing the structure of the multilayer piezoelectric element. The piezoelectric element includes a stacked body including alternately stacked piezoelectric layers 100 and internal electrode layers 101 a and 101 b, side electrodes 103 a and 103 b, an upper electrode 104, and a lower electrode 105. Insulating regions 102a and 102b are provided in the internal electrode layers 101a and 101b, respectively.

側面電極103aは、内部電極層101aに接続されていると共に、絶縁領域102bによって内部電極層101bから絶縁されている。また、側面電極103bは、内部電極層101bに接続されている共に、絶縁領域102aによって内部電極層101aから絶縁されている。また、上部電極層104は側面電極103aに接続されており、下部電極層105は側面電極103bに接続されている。   The side electrode 103a is connected to the internal electrode layer 101a and insulated from the internal electrode layer 101b by the insulating region 102b. The side electrode 103b is connected to the internal electrode layer 101b and insulated from the internal electrode layer 101a by the insulating region 102a. The upper electrode layer 104 is connected to the side electrode 103a, and the lower electrode layer 105 is connected to the side electrode 103b.

圧電素子の電極をこのように形成することにより、複数の圧電体層100の各々に電圧を印加するための電極が並列に接続される。それにより、積層構造体全体として電極間容量が大きくなるので、圧電素子のサイズを小さくしても、電気インピーダンスの上昇を抑えることができる。   By forming the electrodes of the piezoelectric elements in this way, the electrodes for applying a voltage to each of the plurality of piezoelectric layers 100 are connected in parallel. As a result, the inter-electrode capacity of the laminated structure as a whole increases, so that an increase in electrical impedance can be suppressed even if the size of the piezoelectric element is reduced.

また、図1に示す内部電極層101a及び101bに絶縁領域102a及び102bを設ける替わりに、内部電極層を圧電体層上の全面に形成すると共に、積層体の側面において内部電極層の端面に絶縁膜を形成することにより側面電極から絶縁させる積層型圧電素子も知られている。   Further, instead of providing the insulating regions 102a and 102b in the internal electrode layers 101a and 101b shown in FIG. 1, the internal electrode layer is formed on the entire surface of the piezoelectric layer, and insulated from the end surface of the internal electrode layer on the side surface of the laminate. A laminated piezoelectric element that is insulated from a side electrode by forming a film is also known.

ところが、図6に示す積層型圧電素子においては、内部電極層と側面電極との接続領域において剥離が生じ易いという問題が生じている。その理由は、圧電体層が伸縮した場合に、側面電極が圧電体層の変位に追随できないため、側面電極と積層体との界面において歪みが生じるからである。また、積層体の側面に絶縁膜が形成されるタイプの積層型圧電素子においては、同様の理由から、絶縁膜が内部電極の端面から剥離してしまう。そのため、圧電素子の動作時における信頼性が低く、また、素子の寿命が短いことが問題となっている。   However, the multilayer piezoelectric element shown in FIG. 6 has a problem that peeling easily occurs in the connection region between the internal electrode layer and the side electrode. The reason is that when the piezoelectric layer expands and contracts, the side electrode cannot follow the displacement of the piezoelectric layer, so that distortion occurs at the interface between the side electrode and the laminate. Further, in a multilayer piezoelectric element in which an insulating film is formed on the side surface of the multilayer body, the insulating film is peeled off from the end face of the internal electrode for the same reason. Therefore, there is a problem that the reliability of the piezoelectric element during operation is low and the lifetime of the element is short.

そこで、上記の点に鑑み、本発明は、側面電極が内部電極層から剥離し難い積層型圧電素子を提供することを第1の目的とする。また、本発明は、内部電極の端面に形成された絶縁膜が剥離し難い積層型圧電素子を提供することを第2の目的とする。   Therefore, in view of the above points, a first object of the present invention is to provide a multilayer piezoelectric element in which a side electrode is difficult to peel from an internal electrode layer. A second object of the present invention is to provide a multilayer piezoelectric element in which an insulating film formed on an end face of an internal electrode is difficult to peel off.

上記課題を解決するため、本発明の1つの観点に係る積層型圧電素子は、複数の圧電体層と、少なくとも1つの第1の電極層と、少なくとも1つの第2の電極層とを有し、上記少なくとも1つの第1の電極層と上記少なくとも1つの第2の電極層とが、圧電体層を挟んで交互に積層されている積層体を含む積層型圧電素子であって、複数の圧電体層と、上記積層体の第1の側面において、端部の少なくとも一部が、隣接する圧電体層よりも外側に突出していると共に、上記積層体の第2の側面との間に絶縁領域が設けられている少なくとも1つの第1の電極層と、上記積層体の第2の側面において、端部の少なくとも一部が、隣接する圧電体層よりも外側に突出していると共に、上記積層体の第1の側面との間に絶縁領域が設けられている少なくとも1つの第2の電極層と、上記積層体の第1の側面に形成され、第1の電極層の端部の少なくとも一部に接続されていると共に、第2の電極層から絶縁されている第1の側面電極と、上記積層体の第2の側面に形成され、第2の電極層の端部の少なくとも一部に接続されていると共に、第1の電極層から絶縁されている第2の側面電極とを具備する。   In order to solve the above problems, a multilayer piezoelectric element according to one aspect of the present invention includes a plurality of piezoelectric layers, at least one first electrode layer, and at least one second electrode layer. A multilayer piezoelectric element including a multilayer body in which the at least one first electrode layer and the at least one second electrode layer are alternately stacked with the piezoelectric layer interposed therebetween, wherein a plurality of piezoelectric elements In the first side surface of the multilayer body, at least a part of the end portion projects outward from the adjacent piezoelectric body layer, and the insulating region is between the second side surface of the multilayer body. And at least a part of the end portion of the second side surface of the multilayer body that protrudes outside the adjacent piezoelectric layer, and the multilayer body. An insulating region is provided between the first side surface of the Formed on at least one second electrode layer and the first side surface of the laminate, connected to at least part of the end of the first electrode layer, and insulated from the second electrode layer. Formed on the second side surface of the laminate and connected to at least a part of the end portion of the second electrode layer and insulated from the first electrode layer. A second side electrode.

また、本発明の1つの観点に係る積層型圧電素子の製造方法は、複数の圧電体層と、少なくとも1つの第1の電極層と、少なくとも1つの第2の電極層とを有し、上記少なくとも1つの第1の電極層と上記少なくとも1つの第2の電極層とが、圧電体層を挟んで交互に積層されている積層体を含む積層型圧電素子の製造方法であって、圧電体層を形成する工程(a)と、該圧電体層上に、上記積層体の第1の側面との間に第1の絶縁領域が設けられるように、第1の電極層を形成する工程(b)と、該第1の電極層上に圧電体層を形成する工程(c)と、該圧電体層上に、上記積層体の第2の側面との間に第2の絶縁領域が設けられるように、第2の電極層を形成する工程(d)と、該第2の電極層上に圧電体層を形成する工程(e)と、形成された積層体をダイシングして第1の側面を形成することにより、第2の電極層の端部の少なくとも一部を、隣接する圧電体層よりも外側に突出させる工程(f)と、上記積層体をダイシングして第2の側面を形成することにより、第1の電極層の端部の端部の少なくとも一部を、隣接する圧電体層よりも外側に突出させる工程(g)と、上記積層体の第1の側面に、第2の電極層の端部の少なくとも一部に接続されると共に、第1の絶縁領域によって第1の電極層から絶縁されるように、第1の側面電極を形成する工程(h)と、上記積層体の第2の側面に、第1の電極層の端部の少なくとも一部に接続されると共に、第2の絶縁領域によって第2の電極層から絶縁されるように、第2の側面電極を形成する工程(i)とを具備する。   A method for manufacturing a multilayer piezoelectric element according to one aspect of the present invention includes a plurality of piezoelectric layers, at least one first electrode layer, and at least one second electrode layer, A method for manufacturing a laminated piezoelectric element comprising a laminate in which at least one first electrode layer and the at least one second electrode layer are alternately laminated with a piezoelectric layer interposed therebetween, wherein the piezoelectric body Forming the first electrode layer so that a first insulating region is provided between the step (a) of forming a layer and the first side surface of the laminate on the piezoelectric layer ( a second insulating region is provided between b), the step (c) of forming a piezoelectric layer on the first electrode layer, and the second side surface of the laminate on the piezoelectric layer. A step (d) of forming a second electrode layer, a step (e) of forming a piezoelectric layer on the second electrode layer, Dicing the laminated body to form the first side surface, thereby causing at least a part of the end portion of the second electrode layer to protrude outward from the adjacent piezoelectric layer; and Dicing the laminate to form the second side surface, thereby causing at least a part of the end portion of the first electrode layer to protrude outward from the adjacent piezoelectric layer; The first side surface of the laminate is connected to at least a part of the end portion of the second electrode layer and insulated from the first electrode layer by the first insulating region. Step (h) of forming an electrode, and connected to at least a part of the end portion of the first electrode layer on the second side surface of the laminate, and from the second electrode layer by the second insulating region And (i) forming a second side electrode so as to be insulated.

本発明によれば、内部電極の端部を積層体の積層部分から外側に突出させることにより、内部電極と側面電極とを広い接触面積で接続する。それにより、内部電極と側面電極との接続強度が向上するので、圧電体層が伸縮した場合においても、側面電極が内部電極から剥離し難くなる。その結果、圧電素子の動作の信頼性を向上させると共に、圧電素子及びそれを含む機器の寿命を伸ばすことが可能となる。   According to the present invention, the internal electrode and the side electrode are connected with a wide contact area by projecting the end portion of the internal electrode outward from the laminated portion of the multilayer body. Thereby, since the connection strength between the internal electrode and the side electrode is improved, even when the piezoelectric layer expands and contracts, the side electrode is difficult to peel from the internal electrode. As a result, it is possible to improve the reliability of the operation of the piezoelectric element and extend the life of the piezoelectric element and the device including the piezoelectric element.

以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。なお、同一の構成要素には同一の参照番号を付して、説明を省略する。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る積層型圧電素子の構造を示す一部断面斜視図である。
図1に示すように、本実施形態に係る積層型圧電素子は、例えば、底面の一辺が200μm〜1.0mm程度で高さが300μm〜1.0mm程度の柱状の構造体である。また、この積層型圧電素子は、複数の圧電体層10並びに複数の内部電極層11a及び11bを含む積層体と、側面電極13a及び13bとを含んでいる。複数の内部電極層11aと複数の内部電極層11bとは、圧電体層10を挟んで交互に積層されている。また、本実施形態に係る積層型圧電素子は、上部電極層14及び下部電極層15をさらに含んでも良い。
Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The same constituent elements are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
FIG. 1 is a partial cross-sectional perspective view showing the structure of the multilayer piezoelectric element according to the first embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 1, the multilayer piezoelectric element according to this embodiment is a columnar structure having, for example, a side of the bottom surface of about 200 μm to 1.0 mm and a height of about 300 μm to 1.0 mm. The multilayer piezoelectric element includes a multilayer body including a plurality of piezoelectric layers 10 and a plurality of internal electrode layers 11a and 11b, and side electrodes 13a and 13b. The plurality of internal electrode layers 11 a and the plurality of internal electrode layers 11 b are alternately stacked with the piezoelectric layer 10 interposed therebetween. In addition, the multilayer piezoelectric element according to this embodiment may further include an upper electrode layer 14 and a lower electrode layer 15.

圧電体層10は、例えば、100μm程度の厚さを有しており、PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)等の鉛系ペロブスカイト構造を有する複合酸化物によって形成されている。なお、図1には、5層の圧電体層10が表されているが、圧電体層は少なくとも2層あれば良く、6層以上あっても構わない。この圧電体層10は、後述するエアロゾルデポジション法によって形成されることにより、緻密で硬い組織を有している。   The piezoelectric layer 10 has a thickness of about 100 μm, for example, and is formed of a complex oxide having a lead-based perovskite structure such as PZT (lead zirconate titanate). In FIG. 1, five piezoelectric layers 10 are shown, but at least two piezoelectric layers may be provided, and six or more piezoelectric layers may be provided. The piezoelectric layer 10 has a dense and hard structure by being formed by an aerosol deposition method to be described later.

内部電極層11a及び11bは、例えば、3μm程度の厚さを有している。また、内部電極層11a及び11bには、絶縁領域12a及び12bがそれぞれ設けられている。また、側面電極13a側における内部電極層11aの端部の少なくとも一部、及び、側面電極13b側における内部電極層11bの端部の少なくとも一部は、積層体の積層部分から外側に突出している。そして、図1に示すように、それらの突出部分は、側面電極13a及び13bに埋没するように、側面電極によって覆われている。なお、図1には、内部電極層11bの側面電極13b側における端部全体が積層部分から突出している様子が示されている。   The internal electrode layers 11a and 11b have a thickness of about 3 μm, for example. The internal electrode layers 11a and 11b are provided with insulating regions 12a and 12b, respectively. In addition, at least a part of the end of the internal electrode layer 11a on the side electrode 13a side and at least a part of the end of the internal electrode layer 11b on the side electrode 13b side protrude outward from the stacked portion of the stacked body. . And as shown in FIG. 1, those protrusion parts are covered with the side electrode so that it may be buried in side electrode 13a and 13b. FIG. 1 shows a state in which the entire end portion of the internal electrode layer 11b on the side electrode 13b side protrudes from the laminated portion.

このような内部電極層11a及び11bは、1種類の材料によって形成されていても良いし、異なる複数の材料によって形成された複数層構造を有していても良い。前者の例としては、白金(Pt)等の金属材料や、合金(例えば、銀パラジウム)が挙げられる。一方、後者の例としては、50nm程度の酸化チタン(TiO)によって形成された密着層と、3μm程度の白金(Pt)によって形成された導電層とを含む2層構造の電極が挙げられる。このような密着層を設けることにより、導電層と圧電体層10との密着性を高めることができる。 Such internal electrode layers 11a and 11b may be formed of one type of material or may have a multi-layer structure formed of a plurality of different materials. Examples of the former include metal materials such as platinum (Pt) and alloys (for example, silver palladium). On the other hand, an example of the latter is an electrode having a two-layer structure including an adhesion layer formed of titanium oxide (TiO 2 ) of about 50 nm and a conductive layer formed of platinum (Pt) of about 3 μm. By providing such an adhesion layer, the adhesion between the conductive layer and the piezoelectric layer 10 can be enhanced.

側面電極13aは、内部電極層11aに接続されていると共に、絶縁領域12bによって内部電極層11bから絶縁されている。また、側面電極13bは、内部電極層11bに接続されていると共に、絶縁領域12aによって内部電極層11aから絶縁されている。   The side electrode 13a is connected to the internal electrode layer 11a and insulated from the internal electrode layer 11b by the insulating region 12b. The side electrode 13b is connected to the internal electrode layer 11b and insulated from the internal electrode layer 11a by the insulating region 12a.

上部電極14は、側面電極13aに接続されており、下部電極15は、側面電極13bに接続されている。これらの上部電極14及び下部電極15は、内部電極層11a及び11bと同様に、1種類の材料によって形成されていても良いし、密着層及び導電層を含む複数層構造を有していても良い。   The upper electrode 14 is connected to the side electrode 13a, and the lower electrode 15 is connected to the side electrode 13b. Similar to the internal electrode layers 11a and 11b, these upper electrode 14 and lower electrode 15 may be formed of one kind of material, or may have a multi-layer structure including an adhesion layer and a conductive layer. good.

このような積層型圧電素子に、上部電極14及び下部電極15を介して電圧を供給することにより、各圧電体層10に電圧が印加される。その結果、各圧電体層10における圧電効果により、積層型圧電素子が全体として伸縮する。ここで、側面電極13a及び13bは、積層部分から外側に突出している内部電極層11a及び11bの端部において、広い接触面積で内部電極層11a及び11bに接続されている。それにより、それらの接続部分における接続強度が増加するので、各圧電体層10が伸縮した場合においても、側面電極13a及び13bが内部電極層11a及び11bから剥離するのを抑制することができる。   A voltage is applied to each piezoelectric layer 10 by supplying a voltage to such a laminated piezoelectric element via the upper electrode 14 and the lower electrode 15. As a result, the multilayer piezoelectric element expands and contracts as a whole due to the piezoelectric effect in each piezoelectric layer 10. Here, the side electrodes 13a and 13b are connected to the internal electrode layers 11a and 11b with a wide contact area at the ends of the internal electrode layers 11a and 11b protruding outward from the laminated portion. Thereby, since the connection strength in those connection parts increases, even when each piezoelectric layer 10 expands and contracts, the side electrodes 13a and 13b can be prevented from peeling from the internal electrode layers 11a and 11b.

次に、本発明の第1の実施形態に係る積層型圧電素子の製造方法について、図2及び図3を参照しながら説明する。
まず、図2の(a)に示すように、基板9上に、圧電体層20と、内部電極層21aと、圧電体層20と、内部電極層21bとをこの順に繰り返して形成することにより、積層体23を形成する。
Next, a method for manufacturing a multilayer piezoelectric element according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
First, as shown in FIG. 2A, the piezoelectric layer 20, the internal electrode layer 21a, the piezoelectric layer 20, and the internal electrode layer 21b are repeatedly formed in this order on the substrate 9. Then, the laminated body 23 is formed.

本実施形態において、圧電体層20は、エアロゾルデポジション(aerosol deposition:AD)法を用いることによって形成される。図3は、AD法を用いた成膜装置の構成を示す模式図である。この成膜装置は、エアロゾル生成室1と、エアロゾル生成室1に配置されている巻き上げガスノズル2、圧調整ガスノズル3、及び、エアロゾル搬送管4と、成膜チャンバ5と、排気ポンプ6と、噴射ノズル7と、基板ホルダ8とを含んでいる。
エアロゾル生成室1は、原料粉が配置される容器である。エアロゾル生成室1には、エアロゾル生成室1に振動等を与えることにより、その内部に配置された原料粉を攪拌するための容器駆動部1aが設けられている。
In the present embodiment, the piezoelectric layer 20 is formed by using an aerosol deposition (AD) method. FIG. 3 is a schematic diagram showing a configuration of a film forming apparatus using the AD method. This film forming apparatus includes an aerosol generating chamber 1, a hoisting gas nozzle 2, a pressure adjusting gas nozzle 3, an aerosol transport pipe 4, a film forming chamber 5, an exhaust pump 6, and an injection disposed in the aerosol generating chamber 1. A nozzle 7 and a substrate holder 8 are included.
The aerosol generation chamber 1 is a container in which raw material powder is placed. The aerosol generation chamber 1 is provided with a container drive unit 1a for agitating the raw material powder disposed therein by applying vibration or the like to the aerosol generation chamber 1.

エアロゾル生成室1に配置されている巻き上げガスノズル2には、キャリアガスを供給するためのガスボンベが接続されている。巻き上げガスノズル2は、ガスボンベから供給されたガスをエアロゾル生成室1内に噴射することにより、サイクロン流を生成する。それにより、エアロゾル生成室1内に配置された原料粉がガスにより分散させられて、エアロゾルが生成される。   A gas cylinder for supplying a carrier gas is connected to the hoisting gas nozzle 2 arranged in the aerosol generating chamber 1. The hoisting gas nozzle 2 generates a cyclone flow by injecting the gas supplied from the gas cylinder into the aerosol generating chamber 1. Thereby, the raw material powder | flour arrange | positioned in the aerosol production | generation chamber 1 is disperse | distributed with gas, and an aerosol is produced | generated.

また、圧調整ガスノズル3には、エアロゾル生成室1内のガス圧を調整するための圧調整ガスを供給するガスボンベが接続されている。圧調整ガスの流量を調節してエアロゾル生成室1内の圧力を制御することにより、エアロゾル生成室1内に発生する気流(巻き上げガス)の速度が制御される。
キャリアガス及び圧調整ガスとしては、窒素(N)、酸素(O)、ヘリウム(He)、アルゴン(Ar)、又は、乾燥空気等が用いられる。
The pressure adjusting gas nozzle 3 is connected to a gas cylinder that supplies a pressure adjusting gas for adjusting the gas pressure in the aerosol generation chamber 1. By controlling the pressure in the aerosol generation chamber 1 by adjusting the flow rate of the pressure adjusting gas, the speed of the air flow (winding gas) generated in the aerosol generation chamber 1 is controlled.
As the carrier gas and the pressure adjusting gas, nitrogen (N 2 ), oxygen (O 2 ), helium (He), argon (Ar), dry air, or the like is used.

エアロゾル生成室1に配置されているエアロゾル搬送管4は、エアロゾル生成室1内において巻き上げられた原料粉を含むエアロゾルを、成膜チャンバ5に配置されているノズル7に搬送する。
成膜チャンバ5の内部は、排気ポンプ6によって排気されており、それによって所定の真空度に保たれている。成膜チャンバ5内に配置されている噴射ノズル7は、所定の形状及び大きさの開口を有しており、エアロゾル生成室1からエアロゾル搬送管4を介して供給されたエアロゾルを、開口から基板9に向けて高速で噴射する。
The aerosol transport pipe 4 disposed in the aerosol generation chamber 1 transports the aerosol containing the raw material powder wound up in the aerosol generation chamber 1 to the nozzle 7 disposed in the film forming chamber 5.
The inside of the film forming chamber 5 is evacuated by an exhaust pump 6 and thereby maintained at a predetermined degree of vacuum. The injection nozzle 7 disposed in the film forming chamber 5 has an opening of a predetermined shape and size, and the aerosol supplied from the aerosol generation chamber 1 through the aerosol transport pipe 4 is transferred from the opening to the substrate. Inject toward 9 at high speed.

基板ホルダ8は、基板9を保持している。また、基板ホルダ8には、基板ホルダ8を3次元的に移動させるための基板ホルダ駆動部8aが設けられている。これにより、噴射ノズル7と基板9との3次元的な相対位置及び相対速度が制御される。この相対速度を制御することにより、1往復あたりに形成される膜の厚さを制御することができる。   The substrate holder 8 holds the substrate 9. The substrate holder 8 is provided with a substrate holder driving unit 8a for moving the substrate holder 8 three-dimensionally. As a result, the three-dimensional relative position and relative speed between the spray nozzle 7 and the substrate 9 are controlled. By controlling this relative speed, the thickness of the film formed per round trip can be controlled.

このような成膜装置において、原料粉として圧電材料の粉体をエアロゾル生成室1に配置すると共に、基板9を基板ホルダ8にセットして所定の成膜温度に保つ。そして、成膜装置を駆動して噴射ノズル7からエアロゾルを噴射しながら、基板を所定の速度で移動させる。それにより、エアロゾル(原料粉)が、基板9や基板9上に先に堆積した構造物に衝突して食い込み(「アンカーリング」と呼ばれる)、さらに、衝突の際に原料粉が変形又は破砕することによって生じた活性な新生面において粒子同士が結合することにより、原料粉が基板上に堆積する。そのようにして形成された膜は、下地である基板や内部電極層との境界領域に形成されたアンカー部(アンカーリングによって形成された領域)において、下地層と強固に密着していると共に、新生面における粒子の結合(メカノケミカル反応)により極めて緻密な構造を有している。   In such a film forming apparatus, a powder of piezoelectric material as a raw material powder is disposed in the aerosol generating chamber 1 and the substrate 9 is set on the substrate holder 8 and kept at a predetermined film forming temperature. Then, the substrate is moved at a predetermined speed while driving the film forming apparatus to spray aerosol from the spray nozzle 7. As a result, the aerosol (raw material powder) collides with the substrate 9 or the structure deposited on the substrate 9 (referred to as “anchoring”), and the raw material powder is deformed or crushed during the collision. The raw material powder is deposited on the substrate by bonding the particles on the active new surface generated by the above. The film thus formed is firmly in close contact with the underlying layer in the anchor portion (region formed by anchoring) formed in the boundary region with the underlying substrate and internal electrode layer, It has an extremely dense structure due to particle bonding (mechanochemical reaction) on the new surface.

ここで、AD法による成膜を行う場合に、下地となる基板や内部電極層の材料としては、原料粉が衝突することにより変形又は破砕できる程度の硬度を有しているものが用いられる。下地の硬度が不足している場合には、下地に衝突した原料粉は変形又は破砕することなく、単に下地に食い込んで堆積してしまうので、メカノケミカル反応による緻密な膜を形成できなくなるからである。そのため、基板9としては、例えば、YSZ(イットリウム安定化ジルコニア)基板やSUS基板等が用いられる。   Here, when the film is formed by the AD method, as the material for the substrate or the internal electrode layer as a base, a material having a hardness that can be deformed or crushed when the raw material powder collides is used. If the hardness of the substrate is insufficient, the raw material powder that collided with the substrate will not be deformed or crushed and will simply bite into the substrate and accumulate, making it impossible to form a dense film by mechanochemical reaction. is there. Therefore, as the substrate 9, for example, a YSZ (yttrium stabilized zirconia) substrate or a SUS substrate is used.

再び、図2を参照すると、内部電極層21aは、側面23a側において、破線で示すダイシングラインを超えるように形成され、側面23b側において、ダイシングラインの内側に収まるように形成される。それにより、絶縁領域22aが設けられる。また、内部電極層21bは、側面23b側において、破線で示すダイシングラインを超えるように形成され、側面23a側において、ダイシングラインの内側に収まるように形成される。それにより、絶縁領域22bが設けられる。   Referring to FIG. 2 again, the internal electrode layer 21a is formed on the side surface 23a side so as to exceed the dicing line indicated by a broken line, and on the side surface 23b side, the internal electrode layer 21a is formed so as to fit inside the dicing line. Thereby, an insulating region 22a is provided. The internal electrode layer 21b is formed on the side surface 23b side so as to exceed the dicing line indicated by the broken line, and on the side surface 23a side, the internal electrode layer 21b is formed so as to fit inside the dicing line. Thereby, an insulating region 22b is provided.

内部電極層21a及び21bの材料としては、ある程度の延性及び硬性を有する材料が用いられる。延性を必要とするのは、後述するように、本実施形態においては、積層体23をダイシングすることにより、内部電極層21a及び21bの端部を側面に突出させるからである。また、硬性を必要とするのは、先にも述べたように、内部電極層21a及び21bは、圧電体層20を形成する際に下地層となるので、原料粉の衝突に耐え得る程度の十分な硬さを備えている必要があるからである。材料の特性はダイシング条件等によって多少異なるが、スパッタ法やメッキ法等の成膜技術を用いることにより形成された白金(Pt)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)等の金属薄膜であれば、内部電極21a及び21bとして使用することができる。本実施形態においては、スパッタ法により形成された白金薄膜を用いている。   As the material of the internal electrode layers 21a and 21b, a material having a certain degree of ductility and hardness is used. The reason why the ductility is required is that, in the present embodiment, by dicing the laminated body 23, the end portions of the internal electrode layers 21a and 21b are protruded from the side surfaces as described later. In addition, as described above, the internal electrode layers 21a and 21b are required to be hard because they serve as base layers when the piezoelectric layer 20 is formed. This is because it is necessary to have sufficient hardness. The characteristics of the material vary somewhat depending on the dicing conditions, etc., but any metal thin film such as platinum (Pt), copper (Cu), nickel (Ni), etc., formed by using a film forming technique such as sputtering or plating. The internal electrodes 21a and 21b can be used. In this embodiment, a platinum thin film formed by sputtering is used.

次に、図2の(a)に示すダイシングラインにおいて、積層体23をダイシングする。それにより、図2の(b)に示すように、ダイシングされた側面において内部電極層21a及び21bの端部25が積層部分から外側に突出している積層体24が得られる。このように端部25が突出する理由は、内部電極層21a及び21bが、圧電体層20よりも大きい硬度を有しているため、積層体24を切断する際に、圧電体層20よりも残留し易いからである。
なお、この工程において、積層体23から基板9を剥離しても良い。
Next, the laminated body 23 is diced in the dicing line shown in FIG. Thereby, as shown in FIG. 2B, a laminated body 24 is obtained in which the end portions 25 of the internal electrode layers 21a and 21b protrude outward from the laminated portion on the diced side surfaces. The reason why the end portion 25 protrudes in this way is that the internal electrode layers 21 a and 21 b have a hardness higher than that of the piezoelectric layer 20, so that when the laminate 24 is cut, the internal electrode layers 21 a and 21 b have a larger hardness than the piezoelectric layer 20. This is because it tends to remain.
In this step, the substrate 9 may be peeled from the laminate 23.

次に、図2の(c)に示すように、積層体24のダイシングされた側面の絶縁領域27以外の領域に、側面電極26a及び26bを形成する。なお、この絶縁領域27を設けるのは、側面電極26a及び26bを下部電極層15及び上部電極層14(図1)からそれぞれ絶縁するためである。側面電極26a及び26bは、絶縁領域27にレジストマスクを形成して、スパッタ法又はメッキ法を行うことにより形成される。このような成膜方法を用いることにより、突出した端部25を覆うように側面電極26aおよび26bを形成することができる。
また、図1に示す上部電極層14及び下部電極層15については、側面電極26a及び26bと同時に形成しても良いし、その後で形成しても良い。それにより、本実施形態に係る積層型圧電素子が完成する。
Next, as shown in FIG. 2C, side electrodes 26 a and 26 b are formed in regions other than the insulating region 27 on the diced side surface of the laminate 24. The insulating region 27 is provided to insulate the side electrodes 26a and 26b from the lower electrode layer 15 and the upper electrode layer 14 (FIG. 1), respectively. The side electrodes 26a and 26b are formed by forming a resist mask in the insulating region 27 and performing sputtering or plating. By using such a film forming method, the side electrodes 26 a and 26 b can be formed so as to cover the protruding end portion 25.
Further, the upper electrode layer 14 and the lower electrode layer 15 shown in FIG. 1 may be formed simultaneously with the side electrodes 26a and 26b, or may be formed after that. Thereby, the multilayer piezoelectric element according to the present embodiment is completed.

本実施形態に係る積層型圧電素子を作製し、側面電極を積層体から剥離する実験を行った。内部電極層としては、50nm程度の酸化チタン(TiO)の密着層と、3μm程度の白金(Pt)の導電層とを含む2層構造を形成した。また、積層体のダイシング条件としては、株式会社ディスコ社製のダイシングブレードNBC−ZSタイプを用い、回転数を12000rpmとした。 A multilayer piezoelectric element according to the present embodiment was manufactured, and an experiment was conducted to peel the side electrode from the multilayer body. As the internal electrode layer, a two-layer structure including a titanium oxide (TiO 2 ) adhesion layer of about 50 nm and a platinum (Pt) conductive layer of about 3 μm was formed. Moreover, as a dicing condition of the laminated body, a dicing blade NBC-ZS type manufactured by DISCO Corporation was used, and the rotation speed was set to 12000 rpm.

その結果、側面電極の引っ張り強度は、スクリーン印刷法によって内部電極層を形成した場合に比較して、約2倍向上していた。なお、スクリーン印刷法は、従来の積層型圧電素子における電極形成方法としては一般的な方法であり、形成される電極が軟らかいので、積層体をダイシングしても、内部電極層の端部が積層部分から外側に突出することはない。   As a result, the tensile strength of the side electrode was improved about twice as compared with the case where the internal electrode layer was formed by the screen printing method. Note that the screen printing method is a general method for forming electrodes in a conventional multilayer piezoelectric element, and since the formed electrode is soft, the end of the internal electrode layer is laminated even if the laminate is diced. It does not protrude outward from the part.

次に、本発明の第2の実施形態に係る積層型圧電素子について説明する。図4は、本実施形態に係る積層型圧電素子の構造を示す一部断面斜視図である。
ここで、本発明の第1の実施形態においては、絶縁領域を設けることにより内部電極層を側面電極から絶縁しているのに対して、本発明の第2の実施形態においては、内部電極層の端部を絶縁膜によって覆うことにより側面電極から絶縁している点において異なっている。
Next, a laminated piezoelectric element according to the second embodiment of the present invention will be described. FIG. 4 is a partial cross-sectional perspective view showing the structure of the multilayer piezoelectric element according to this embodiment.
Here, in the first embodiment of the present invention, the internal electrode layer is insulated from the side electrode by providing an insulating region, whereas in the second embodiment of the present invention, the internal electrode layer is insulated. It is different in that it is insulated from the side electrode by covering the end of the substrate with an insulating film.

図4に示すように、本実施形態に係る積層型圧電素子は、複数の圧電体層30並びに複数の内部電極層31a及び31bを含む積層体と、積層体の側面に形成された絶縁膜32a及び32bと、側面電極33a及び33bとを含んでいる。複数の内部電極層31aと複数の内部電極層31bとは、圧電体層30を挟んで交互に積層されている。また、本実施形態に係る積層型圧電素子は、上部電極層34及び下部電極層35をさらに含んでも良い。   As shown in FIG. 4, the multilayer piezoelectric element according to this embodiment includes a multilayer body including a plurality of piezoelectric layers 30 and a plurality of internal electrode layers 31a and 31b, and an insulating film 32a formed on a side surface of the multilayer body. And 32b, and side electrodes 33a and 33b. The plurality of internal electrode layers 31 a and the plurality of internal electrode layers 31 b are alternately stacked with the piezoelectric layer 30 interposed therebetween. The multilayer piezoelectric element according to the present embodiment may further include an upper electrode layer 34 and a lower electrode layer 35.

内部電極層31a及び31bは、圧電体層30上の全面に形成されている。また、側面電極33a及び33b側における内部電極層31a及び31bの端部の少なくとも一部は、積層部分から外側に突出している。なお、図4には、内部電極層31a及び31bの側面電極33b側における端部全体が積層部分から突出している様子が示されている。
側面電極33a側において、内部電極層31aの端部は、側面電極33aに埋没するように覆われている。また、同じ側面において、内部電極層31bの端部を覆うように、絶縁膜32bが形成されている。同様に、側面電極33b側において、内部電極層31bの端部は側面電極33bに覆われていると共に、内部電極層31aの端部の覆うように絶縁膜32aが形成されている。
このように絶縁膜31a及び31bを形成することにより、側面電極33aは、内部電極層31aに接続されると共に、内部電極層31bから絶縁される。一方、側面電極33bは、内部電極層31bに接続されると共に、内部電極層31aから絶縁される。
The internal electrode layers 31 a and 31 b are formed on the entire surface of the piezoelectric layer 30. In addition, at least a part of the end portions of the internal electrode layers 31a and 31b on the side surface electrodes 33a and 33b side protrudes outward from the laminated portion. FIG. 4 shows a state in which the entire end portions on the side electrode 33b side of the internal electrode layers 31a and 31b protrude from the laminated portion.
On the side electrode 33a side, the end of the internal electrode layer 31a is covered so as to be buried in the side electrode 33a. In addition, on the same side surface, an insulating film 32b is formed so as to cover the end portion of the internal electrode layer 31b. Similarly, on the side electrode 33b side, the end of the internal electrode layer 31b is covered with the side electrode 33b, and an insulating film 32a is formed so as to cover the end of the internal electrode layer 31a.
By forming the insulating films 31a and 31b in this manner, the side electrode 33a is connected to the internal electrode layer 31a and insulated from the internal electrode layer 31b. On the other hand, the side electrode 33b is connected to the internal electrode layer 31b and insulated from the internal electrode layer 31a.

本実施形態においては、積層部分から外側に突出している内部電極層31a及び31bの端部に絶縁膜32a及び32bをそれぞれ形成するので、両者の接触面積が広くなる。その結果、両者の接続強度が増加するので、圧電素子を駆動することにより圧電体層30が伸縮した場合においても、絶縁膜32a及び32bが内部電極層31a及び31bから剥離するのを抑制することができる。また、側面電極33a及び33bについても、突出した端部において内部電極層31a及び31bとそれぞれ接続することにより、剥離を防止することができる。   In the present embodiment, since the insulating films 32a and 32b are respectively formed at the end portions of the internal electrode layers 31a and 31b protruding outward from the laminated portion, the contact area between both is widened. As a result, since the connection strength between the two increases, even when the piezoelectric layer 30 expands and contracts by driving the piezoelectric element, the insulating films 32a and 32b are prevented from being separated from the internal electrode layers 31a and 31b. Can do. Also, the side electrodes 33a and 33b can be prevented from being peeled off by connecting to the internal electrode layers 31a and 31b at the protruding ends.

次に、本発明の第2の実施形態に係る積層型圧電素子の製造方法について、図5を参照しながら説明する。
まず、図5の(a)に示すように、基板9上に、圧電体層40と内部電極層41とを交互に積層することにより、積層体42を形成する。圧電体層40は、第1の実施形態におけるのと同様にAD法によって形成される。また、内部電極層41は、第1の実施形態において説明したものと同様の材料を用いてスパッタ法又はメッキ法によって形成される。
Next, a method for manufacturing a multilayer piezoelectric element according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
First, as illustrated in FIG. 5A, the stacked body 42 is formed by alternately stacking the piezoelectric layers 40 and the internal electrode layers 41 on the substrate 9. The piezoelectric layer 40 is formed by the AD method as in the first embodiment. The internal electrode layer 41 is formed by sputtering or plating using the same material as that described in the first embodiment.

次に、図5の(a)に破線で示すダイシングラインにおいて、積層体42をダイシングする。それにより、図5の(b)に示すように、成形された積層体43が得られる。この積層体43のダイシングされた側面には、積層部分から外側に突出した内部電極層41の端部44が形成される。なお、この工程において、積層体42から基板9を剥離しても良い。   Next, the laminated body 42 is diced along a dicing line indicated by a broken line in FIG. Thereby, as shown to (b) of FIG. 5, the molded laminated body 43 is obtained. An end portion 44 of the internal electrode layer 41 protruding outward from the laminated portion is formed on the diced side surface of the laminated body 43. In this step, the substrate 9 may be peeled from the stacked body 42.

次に、図5の(c)に示すように、積層体42のダイシングされた側面43aにおいて、内部電極層41の端部44に、1つおきに絶縁膜45aを形成する。また、もう一方のダイシングされた側面43bにおいて、内部電極層41の端部44に、絶縁膜45aと互い違いになるように、絶縁膜45bを形成する。これらの絶縁膜45a及び45bは、例えば、500℃〜700℃程度の軟化点を有するガラス粉末を電気泳動法(電着法)によって端部44に付着させたり、ガラス粉末を含有するペーストをスクリーン印刷法によって端部44に成膜することにより形成される。或いは、絶縁材料の粉体を分散させたエアロゾルを内部電極層41の端部44に吹き付けることにより被膜を形成するエアロゾルデポジション法を用いても良い。   Next, as shown in FIG. 5C, every other insulating film 45 a is formed on the end 44 of the internal electrode layer 41 on the diced side surface 43 a of the multilayer body 42. In addition, on the other diced side surface 43b, the insulating film 45b is formed on the end portion 44 of the internal electrode layer 41 so as to alternate with the insulating film 45a. These insulating films 45a and 45b are formed by, for example, attaching glass powder having a softening point of about 500 ° C. to 700 ° C. to the end portion 44 by electrophoresis (electrodeposition method) or screening paste containing glass powder. It is formed by forming a film on the end portion 44 by a printing method. Alternatively, an aerosol deposition method in which a film is formed by spraying an aerosol in which powder of an insulating material is dispersed on the end 44 of the internal electrode layer 41 may be used.

次に、図5の(d)に示すように、積層体43のダイシングされた側面の絶縁領域47以外の領域に、スパッタ法又はメッキ法により側面電極46a及び46bを形成する。さらに、図4に示す上部電極層34及び下部電極層35を形成しても良い。それにより、本実施形態に係る積層型圧電素子が完成する。   Next, as shown in FIG. 5D, side electrodes 46a and 46b are formed in a region other than the insulating region 47 on the diced side surface of the laminate 43 by sputtering or plating. Furthermore, the upper electrode layer 34 and the lower electrode layer 35 shown in FIG. 4 may be formed. Thereby, the multilayer piezoelectric element according to the present embodiment is completed.

以上説明した本発明の第1及び第2の実施形態に係る積層型圧電素子は、圧電ポンプや、圧電アクチュエータや、超音波用探触子において超音波を送受信する超音波トランスデューサ等として用いられる。その際には、積層型圧電素子を単体で使用することも可能であるし、積層型圧電素子を1次元又は2次元に配列することにより、圧電素子アレイとして利用することも可能である。   The multilayer piezoelectric element according to the first and second embodiments of the present invention described above is used as a piezoelectric pump, a piezoelectric actuator, an ultrasonic transducer that transmits and receives ultrasonic waves in an ultrasonic probe, and the like. In that case, the laminated piezoelectric element can be used alone or can be used as a piezoelectric element array by arranging the laminated piezoelectric elements in one or two dimensions.

本発明は、圧電アクチュエータ、超音波トランスデューサ等として利用される積層型圧電素子及びその製造方法において利用することが可能である。   The present invention can be used in a laminated piezoelectric element used as a piezoelectric actuator, an ultrasonic transducer, and the like and a manufacturing method thereof.

本発明の第1の実施形態に係る積層型圧電素子の構造を示す一部断面斜視図である。1 is a partial cross-sectional perspective view showing the structure of a multilayer piezoelectric element according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係る積層型圧電素子の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the lamination type piezoelectric element which concerns on the 1st Embodiment of this invention. エアロゾルデポジション法を用いた成膜装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the film-forming apparatus using the aerosol deposition method. 本発明の第2の実施形態に係る積層型圧電素子の構造を示す一部断面斜視図である。It is a partial cross section perspective view which shows the structure of the lamination type piezoelectric element which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係る積層型圧電素子の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the lamination type piezoelectric element which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 従来の積層型圧電素子の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the conventional lamination type piezoelectric element.

符号の説明Explanation of symbols

1 エアロゾル生成室
2 巻き上げガスノズル
3 圧調整ガスノズル
4 エアロゾル搬送管
5 成膜チャンバ
6 排気ポンプ
7 噴射ノズル
8 基板ホルダ
9 基板
10、20、30、40、100 圧電体層
11a、11b、21a、21b、31a、31b、41、
101a、101b 内部電極層
12a、12b、22a、22b、27、47、102a、102b 絶縁領域
13a、13b、26a、26b、33a、33b、46a、46b、
103a、103b 側面電極
14、34、103 上部電極層
15、35、105 下部電極層
23、24、42、43 積層体
24a、24b、43a、43b 側面
25、44 端部
32a、32b、45a、45b 絶縁膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Aerosol production | generation chamber 2 Hoisting gas nozzle 3 Pressure regulation gas nozzle 4 Aerosol conveyance pipe 5 Deposition chamber 6 Exhaust pump 7 Injection nozzle 8 Substrate holder 9 Substrate 10, 20, 30, 40, 100 Piezoelectric layer 11a, 11b, 21a, 21b, 31a, 31b, 41,
101a, 101b Internal electrode layers 12a, 12b, 22a, 22b, 27, 47, 102a, 102b Insulating regions 13a, 13b, 26a, 26b, 33a, 33b, 46a, 46b,
103a, 103b Side electrodes 14, 34, 103 Upper electrode layers 15, 35, 105 Lower electrode layers 23, 24, 42, 43 Laminated bodies 24a, 24b, 43a, 43b Side surfaces 25, 44 Ends 32a, 32b, 45a, 45b Insulation film

Claims (14)

複数の圧電体層と、少なくとも1つの第1の電極層と、少なくとも1つの第2の電極層とを有し、前記少なくとも1つの第1の電極層と前記少なくとも1つの第2の電極層とが、圧電体層を挟んで交互に積層されている積層体を含む積層型圧電素子であって、
複数の圧電体層と、
前記積層体の第1の側面において、端部の少なくとも一部が、隣接する圧電体層よりも外側に突出していると共に、前記積層体の第2の側面との間に絶縁領域が設けられている少なくとも1つの第1の電極層と、
前記積層体の第2の側面において、端部の少なくとも一部が、隣接する圧電体層よりも外側に突出していると共に、前記積層体の第1の側面との間に絶縁領域が設けられている少なくとも1つの第2の電極層と、
前記積層体の第1の側面に形成され、前記第1の電極層の前記端部の少なくとも一部に接続されていると共に、前記第2の電極層から絶縁されている第1の側面電極と、
前記積層体の第2の側面に形成され、前記第2の電極層の前記端部の少なくとも一部に接続されていると共に、前記第1の電極層から絶縁されている第2の側面電極と、
を具備する積層型圧電素子。
A plurality of piezoelectric layers, at least one first electrode layer, and at least one second electrode layer, the at least one first electrode layer and the at least one second electrode layer; Is a stacked piezoelectric element including a stacked body that is alternately stacked with a piezoelectric layer interposed therebetween,
A plurality of piezoelectric layers;
In the first side surface of the multilayer body, at least a part of the end portion protrudes outside the adjacent piezoelectric layer, and an insulating region is provided between the second side surface of the multilayer body. At least one first electrode layer comprising:
In the second side surface of the multilayer body, at least a part of the end portion protrudes outside the adjacent piezoelectric layer, and an insulating region is provided between the first side surface of the multilayer body. At least one second electrode layer,
A first side electrode formed on the first side surface of the laminate, connected to at least a part of the end of the first electrode layer, and insulated from the second electrode layer; ,
A second side surface electrode formed on the second side surface of the laminate, connected to at least a part of the end portion of the second electrode layer, and insulated from the first electrode layer; ,
A laminated piezoelectric element comprising:
複数の圧電体層と、少なくとも1つの第1の電極層と、少なくとも1つの第2の電極層とを有し、前記少なくとも1つの第1の電極層と前記少なくとも1つの第2の電極層とが、圧電体層を挟んで交互に積層されている積層体を含む積層型圧電素子であって、
複数の圧電体層と、
前記積層体の2つの側面において、端部の少なくとも一部が、隣接する圧電体層よりも外側に突出している少なくとも1つの第1の電極層と、
前記積層体の前記2つの側面の内の第1の側面において前記第1の電極層の前記端部を覆う第1の絶縁膜と、
前記積層体の前記2つの側面において、端部の少なくとも一部が、隣接する圧電体層よりも外側に突出している少なくとも1つの第2の電極層と、
前記積層体の前記2つの側面の内の第2の側面において前記第2の電極層の前記端部を覆う第2の絶縁膜と、
前記積層体の第1の側面に形成され、前記第1の絶縁膜によって前記第1の電極層から絶縁されていると共に、前記第2の電極層の前記端部の少なくとも一部に接続されている第1の側面電極と、
前記積層体の第2の側面に形成され、前記第2の絶縁膜によって前記第2の電極層から絶縁されていると共に、前記第1の電極層の前記端部の少なくとも一部に接続されている第2の側面電極と、
を具備する積層型圧電素子。
A plurality of piezoelectric layers, at least one first electrode layer, and at least one second electrode layer, the at least one first electrode layer and the at least one second electrode layer; Is a stacked piezoelectric element including a stacked body that is alternately stacked with a piezoelectric layer interposed therebetween,
A plurality of piezoelectric layers;
In at least two side surfaces of the laminate, at least one first electrode layer in which at least a part of the end protrudes outside the adjacent piezoelectric layer; and
A first insulating film covering the end portion of the first electrode layer on a first side surface of the two side surfaces of the stacked body;
In the two side surfaces of the multilayer body, at least one second electrode layer in which at least a part of the end portion projects outward from the adjacent piezoelectric layer; and
A second insulating film covering the end portion of the second electrode layer on a second side surface of the two side surfaces of the stacked body;
Formed on the first side surface of the laminate, insulated from the first electrode layer by the first insulating film, and connected to at least a part of the end of the second electrode layer A first side electrode,
Formed on the second side surface of the stacked body, insulated from the second electrode layer by the second insulating film, and connected to at least a part of the end of the first electrode layer; A second side electrode,
A laminated piezoelectric element comprising:
前記複数の圧電体層が、基板又は前記少なくとも1つの第1若しくは第2の電極層に向けて圧電材料の粉体を吹き付けることにより圧電材料を堆積させるエアロゾルデポジション法によって形成されている、請求項1又は2記載の積層型圧電素子。   The plurality of piezoelectric layers are formed by an aerosol deposition method in which a piezoelectric material is deposited by spraying a powder of piezoelectric material toward a substrate or the at least one first or second electrode layer. Item 3. The laminated piezoelectric element according to Item 1 or 2. 前記少なくとも1つの第1及び第2の電極層が、スパッタ法又はメッキ法によって形成されている、請求項1〜3のいずれか1項記載の積層型圧電素子。   The multilayer piezoelectric element according to claim 1, wherein the at least one first and second electrode layers are formed by a sputtering method or a plating method. 前記少なくとも1つの第1及び第2の電極層の各々が、導電層と、前記導電層と圧電体層との間に形成された密着層とを含む、請求項1〜4のいずれか1項記載の積層型圧電素子。   5. The method according to claim 1, wherein each of the at least one first and second electrode layers includes a conductive layer and an adhesion layer formed between the conductive layer and the piezoelectric layer. The laminated piezoelectric element described. 複数の圧電体層と、少なくとも1つの第1の電極層と、少なくとも1つの第2の電極層とを有し、前記少なくとも1つの第1の電極層と前記少なくとも1つの第2の電極層とが、圧電体層を挟んで交互に積層されている積層体を含む積層型圧電素子の製造方法であって、
圧電体層を形成する工程(a)と、
前記圧電体層上に、前記積層体の第1の側面との間に第1の絶縁領域が設けられるように、第1の電極層を形成する工程(b)と、
前記第1の電極層上に圧電体層を形成する工程(c)と、
前記圧電体層上に、前記積層体の第2の側面との間に第2の絶縁領域が設けられるように、第2の電極層を形成する工程(d)と、
前記第2の電極層上に圧電体層を形成する工程(e)と、
形成された積層体をダイシングして第1の側面を形成することにより、前記第2の電極層の端部の少なくとも一部を、隣接する圧電体層よりも外側に突出させる工程(f)と、
前記積層体をダイシングして第2の側面を形成することにより、前記第1の電極層の端部の少なくとも一部を、隣接する圧電体層よりも外側に突出させる工程(g)と、
前記積層体の第1の側面に、前記第2の電極層の前記端部の少なくとも一部に接続されると共に、前記第1の絶縁領域によって前記第1の電極層から絶縁されるように、第1の側面電極を形成する工程(h)と、
前記積層体の第2の側面に、前記第1の電極層の前記端部の少なくとも一部に接続されると共に、前記第2の絶縁領域によって前記第2の電極層から絶縁されるように、第2の側面電極を形成する工程(i)と、
を具備する積層型圧電素子の製造方法。
A plurality of piezoelectric layers, at least one first electrode layer, and at least one second electrode layer, the at least one first electrode layer and the at least one second electrode layer; Is a method for manufacturing a stacked piezoelectric element including a stacked body that is alternately stacked with piezoelectric layers interposed therebetween,
Forming a piezoelectric layer (a);
A step (b) of forming a first electrode layer on the piezoelectric layer so that a first insulating region is provided between the first side surface of the multilayer body; and
Forming a piezoelectric layer on the first electrode layer (c);
A step (d) of forming a second electrode layer on the piezoelectric layer so that a second insulating region is provided between the second side surface of the multilayer body; and
Forming a piezoelectric layer on the second electrode layer (e);
(F) projecting at least a part of the end portion of the second electrode layer to the outside of the adjacent piezoelectric layer by dicing the formed laminate to form the first side surface; ,
Dicing the laminated body to form a second side surface, thereby causing at least a part of the end of the first electrode layer to protrude outward from the adjacent piezoelectric layer;
The first side surface of the laminate is connected to at least a part of the end portion of the second electrode layer, and is insulated from the first electrode layer by the first insulating region. Forming a first side electrode (h);
The second side surface of the laminate is connected to at least a part of the end portion of the first electrode layer, and is insulated from the second electrode layer by the second insulating region. Forming a second side electrode (i);
A method for manufacturing a laminated piezoelectric element comprising:
工程(a)及び(c)及び(e)の各々が、基板又は前記第1若しくは第2の電極層に向けて圧電材料の粉体を吹き付けることにより圧電材料を堆積させるエアロゾルデポジション法を用いることにより前記圧電体層を形成することを含む、請求項6記載の積層型圧電素子の製造方法。   Each of the steps (a), (c) and (e) uses an aerosol deposition method in which a piezoelectric material is deposited by spraying a powder of the piezoelectric material toward the substrate or the first or second electrode layer. The method for manufacturing a multilayer piezoelectric element according to claim 6, further comprising forming the piezoelectric layer. 工程(b)及び(d)の各々が、スパッタ法又はメッキ法を用いることにより前記第1又は第2の電極層を形成することを含む、請求項6又は7記載の積層型圧電素子の製造方法。   8. The multilayer piezoelectric element according to claim 6, wherein each of the steps (b) and (d) includes forming the first or second electrode layer by using a sputtering method or a plating method. Method. 工程(b)及び(d)の各々が、前記圧電体層上に密着層を介して導電層を配置することにより、前記第1又は第2の電極層を形成することを含む、請求項6〜8のいずれか1項記載の積層型圧電素子の製造方法。   Each of the steps (b) and (d) includes forming the first or second electrode layer by disposing a conductive layer on the piezoelectric layer via an adhesion layer. The manufacturing method of the lamination type piezoelectric element of any one of -8. 複数の圧電体層と、少なくとも1つの第1の電極層と、少なくとも1つの第2の電極層とを有し、前記少なくとも1つの第1の電極層と前記少なくとも1つの第2の電極層とが、圧電体層を挟んで交互に積層されている積層体を含む積層型圧電素子の製造方法であって、
圧電体層と第1及び第2の電極層とを積層することにより積層体を形成する工程(a)と、
形成された積層体をダイシングして第1の側面を形成することにより、前記第1及び第2の電極層の端部の少なくとも一部を、隣接する圧電体層よりも外側に突出させる工程(b)と、
前記積層体をダイシングして第2の側面を形成することにより、前記第1及び第2の電極層の端部の少なくとも一部を、隣接する圧電体層よりも外側に突出させる工程(c)と、
前記積層体の第1の側面において、前記第1の電極層の端部を覆うように第1の絶縁膜を形成する工程(d)と、
前記積層体の第2の側面において、前記第2の電極層の端部を覆うように第2の絶縁膜を形成する工程(e)と、
前記積層体の第1の側面に、前記第1の絶縁膜によって前記第1の電極層から絶縁されると共に、前記第2の電極層の前記端部の少なくとも一部に接続されるように、第1の側面電極を形成する工程(f)と、
前記積層体の第2の側面に、前記第2の絶縁膜によって前記第2の電極層から絶縁されると共に、前記第1の電極層の前記端部の少なくとも一部に接続されるように、第2の側面電極を形成する工程(g)と、
を具備する積層型圧電素子の製造方法。
A plurality of piezoelectric layers, at least one first electrode layer, and at least one second electrode layer, the at least one first electrode layer and the at least one second electrode layer; Is a method for manufacturing a stacked piezoelectric element including a stacked body that is alternately stacked with piezoelectric layers interposed therebetween,
A step (a) of forming a laminate by laminating the piezoelectric layer and the first and second electrode layers;
Dicing the formed laminate to form the first side surface, thereby causing at least part of the end portions of the first and second electrode layers to protrude outward from the adjacent piezoelectric layers ( b) and
(C) projecting at least a part of the end portions of the first and second electrode layers beyond the adjacent piezoelectric layers by forming the second side surface by dicing the laminate. When,
A step (d) of forming a first insulating film so as to cover an end of the first electrode layer on the first side surface of the multilayer body;
A step (e) of forming a second insulating film so as to cover an end of the second electrode layer on the second side surface of the multilayer body;
The first side surface of the stacked body is insulated from the first electrode layer by the first insulating film and is connected to at least a part of the end portion of the second electrode layer. Forming a first side electrode (f);
The second side surface of the stacked body is insulated from the second electrode layer by the second insulating film and is connected to at least a part of the end portion of the first electrode layer. Forming a second side electrode (g);
A method for manufacturing a laminated piezoelectric element comprising:
工程(a)が、基板又は前記第1若しくは第2の電極層に向けて圧電材料の粉体を吹き付けることにより圧電材料を堆積させるエアロゾルデポジション法を用いることにより前記圧電体層を形成することを含む、請求項10記載の積層型圧電素子の製造方法。   Step (a) forms the piezoelectric layer by using an aerosol deposition method in which a piezoelectric material is deposited by spraying a powder of the piezoelectric material toward a substrate or the first or second electrode layer. The manufacturing method of the lamination type piezoelectric element of Claim 10 containing these. 工程(a)が、スパッタ法又はメッキ法を用いることにより前記第1及び第2の電極層を形成することを含む、請求項10又は11記載の積層型圧電素子の製造方法。   The method of manufacturing a multilayer piezoelectric element according to claim 10 or 11, wherein step (a) includes forming the first and second electrode layers by using a sputtering method or a plating method. 工程(a)が、前記圧電体層上に密着層を介して導電層を配置することにより、前記第1及び第2の電極層を形成することを含む、請求項10〜12のいずれか1項記載の積層型圧電素子の製造方法。   The process (a) includes forming the first and second electrode layers by disposing a conductive layer on the piezoelectric layer via an adhesion layer, 13. A method for producing a laminated piezoelectric element according to the item. 工程(d)及び(e)の各々が、前記第1又は第2の電極層の端部に向けて絶縁材料の粉体を吹き付けることにより絶縁材料を堆積させるエアロゾルデポジション法、又は、電着法を用いることにより、第1及び第2の絶縁膜をそれぞれ形成することを含む、請求項10〜13のいずれか1項記載の積層型圧電素子の製造方法。
In each of the steps (d) and (e), an aerosol deposition method in which an insulating material is deposited by spraying a powder of an insulating material toward the end of the first or second electrode layer, or electrodeposition The method for manufacturing a multilayer piezoelectric element according to claim 10, comprising forming the first and second insulating films by using a method.
JP2005342915A 2005-11-28 2005-11-28 Laminated piezoelectric element and its manufacturing method Withdrawn JP2007149995A (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005342915A JP2007149995A (en) 2005-11-28 2005-11-28 Laminated piezoelectric element and its manufacturing method
US11/604,699 US20070120448A1 (en) 2005-11-28 2006-11-28 Multilayered piezoelectric element and method of manufacturing the same
US12/126,459 US7765660B2 (en) 2005-11-28 2008-05-23 Method of manufacturing a multilayered piezoelectric element having internal electrodes and side electrodes

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005342915A JP2007149995A (en) 2005-11-28 2005-11-28 Laminated piezoelectric element and its manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007149995A true JP2007149995A (en) 2007-06-14
JP2007149995A5 JP2007149995A5 (en) 2008-08-28

Family

ID=38086753

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005342915A Withdrawn JP2007149995A (en) 2005-11-28 2005-11-28 Laminated piezoelectric element and its manufacturing method

Country Status (2)

Country Link
US (2) US20070120448A1 (en)
JP (1) JP2007149995A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009246253A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Fujifilm Corp Laminated piezoelectric element, and method for manufacturing the same
JP2015527746A (en) * 2012-10-15 2015-09-17 コンチネンタル オートモーティヴ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングContinental Automotive GmbH Method for manufacturing electronic components as a stack

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4593912B2 (en) * 2003-12-24 2010-12-08 京セラ株式会社 Multilayer piezoelectric element, manufacturing method thereof, and injection apparatus
DE102008029185A1 (en) * 2008-06-19 2009-12-24 Epcos Ag Piezoelectric component and method for producing an electrical contact
CN102813549B (en) * 2012-08-27 2014-11-05 杭州电子科技大学 High power density piezoelectric transducer for ultrasonic surgical instrument
CN103258950A (en) * 2013-05-14 2013-08-21 三星高新电机(天津)有限公司 Piezoelectric ceramics component
DE102013114016A1 (en) * 2013-12-13 2015-06-18 Bürkert Werke GmbH Process for producing a piezo stack
JP2017162956A (en) * 2016-03-09 2017-09-14 株式会社村田製作所 Electronic component and manufacturing method for the same
JP6728260B2 (en) * 2018-03-22 2020-07-22 株式会社東芝 Multilayer ultrasonic transducer and ultrasonic inspection device
JP6863328B2 (en) * 2018-04-04 2021-04-21 Tdk株式会社 Piezoelectric elements and vibration devices
SE545844C2 (en) * 2022-10-17 2024-02-20 Precibeo Ab A drive element with two separate monolithic actuators for an electromechanical motor

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10290031A (en) * 1997-04-11 1998-10-27 Nissan Motor Co Ltd Laminated-type piezo-electric actuator and manufacture thereof
JP2003503859A (en) * 1999-06-23 2003-01-28 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング Piezo multilayer actuator with crack stopper for diesel injector and method of manufacturing this piezoelectric multilayer actuator
JP2004095593A (en) * 2002-08-29 2004-03-25 Kyocera Corp Laminated piezoelectric element and jet device
JP2004186507A (en) * 2002-12-04 2004-07-02 Denso Corp Stacked piezoelectric device and its manufacturing method
JP2004260136A (en) * 2003-02-05 2004-09-16 Denso Corp Laminated piezoelectric element and manufacturing method therefor
JP2005101577A (en) * 2003-09-01 2005-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd Laminate structure, piezoelectric actuator, and manufacturing method thereof
JP2005235878A (en) * 2004-02-18 2005-09-02 Fuji Photo Film Co Ltd Laminate structure and its manufacturing method
JP2005294472A (en) * 2004-03-31 2005-10-20 Nec Electronics Corp Semiconductor device, semiconductor wafer, and their manufacturing methods

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0740613B2 (en) 1983-12-05 1995-05-01 株式会社日本自動車部品総合研究所 Method for manufacturing laminated piezoelectric material
US4803763A (en) * 1986-08-28 1989-02-14 Nippon Soken, Inc. Method of making a laminated piezoelectric transducer
JPH03155176A (en) 1989-11-14 1991-07-03 Toyota Motor Corp Manufacture of laminated piezoelectric element
JP2508323B2 (en) 1989-12-15 1996-06-19 トヨタ自動車株式会社 Method of manufacturing laminated piezoelectric actuator
JPH03224281A (en) 1990-01-30 1991-10-03 Toyota Motor Corp Manufacture of piezoelectric laminated body
JPH0786655A (en) 1993-09-14 1995-03-31 Nikon Corp Laminated electrostrictive transducer and laminated ceramics actuator
JPH07226543A (en) 1994-02-09 1995-08-22 Ngk Spark Plug Co Ltd Multilayered piezoelectric actuator
US5945770A (en) * 1997-08-20 1999-08-31 Acuson Corporation Multilayer ultrasound transducer and the method of manufacture thereof
CN1282326A (en) * 1997-12-19 2001-01-31 武田药品工业株式会社 Anilide derivative, production and use thereof
JPH11195818A (en) 1998-01-05 1999-07-21 Nissan Motor Co Ltd Laminated type piezoelectric actuator and manufacture therefor
WO2000038252A1 (en) * 1998-12-18 2000-06-29 Denso Corporation Piezoelectric multilayer body
DE19936713C2 (en) * 1999-08-06 2001-08-23 Bosch Gmbh Robert Piezoceramic actuator and method for its production
DE10028319A1 (en) * 2000-06-07 2001-12-13 Endress Hauser Gmbh Co Electromechanical transducer has piezoelectric elements in stack with intermediate contact electrodes in form of flat connecting vanes fed out of flexible circuit board
DE10148267B4 (en) * 2001-06-08 2005-11-24 Physik Instrumente (Pi) Gmbh & Co. Kg Piezo-linear drive with a group of piezo stack actuators and method for operating such a drive
JP2003046157A (en) 2001-08-01 2003-02-14 Kyocera Corp Laminated piezoelectric device and its manufacturing method
JP4060090B2 (en) * 2002-02-15 2008-03-12 沖電気工業株式会社 Surface acoustic wave device
US6784600B2 (en) * 2002-05-01 2004-08-31 Koninklijke Philips Electronics N.V. Ultrasonic membrane transducer for an ultrasonic diagnostic probe
JP4053822B2 (en) * 2002-06-10 2008-02-27 日本碍子株式会社 Piezoelectric / electrostrictive device and manufacturing method thereof
JP3909276B2 (en) 2002-08-26 2007-04-25 京セラ株式会社 Multilayer piezoelectric element and injection device
JP3929858B2 (en) 2002-09-04 2007-06-13 京セラ株式会社 Multilayer piezoelectric element
US7156938B2 (en) * 2003-11-11 2007-01-02 General Electric Company Method for making multi-layer ceramic acoustic transducer
JP4729260B2 (en) * 2004-02-18 2011-07-20 富士フイルム株式会社 Laminated structure and manufacturing method thereof
JP2006093449A (en) * 2004-09-24 2006-04-06 Fuji Photo Film Co Ltd Laminated structure, laminated structure array and manufacturing method thereof
JP2006093448A (en) * 2004-09-24 2006-04-06 Fuji Photo Film Co Ltd Laminated structure, laminated structure array and manufacturing method thereof
JP4498300B2 (en) 2006-03-27 2010-07-07 京セラ株式会社 Method for manufacturing multilayer piezoelectric element and multilayer piezoelectric element

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10290031A (en) * 1997-04-11 1998-10-27 Nissan Motor Co Ltd Laminated-type piezo-electric actuator and manufacture thereof
JP2003503859A (en) * 1999-06-23 2003-01-28 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング Piezo multilayer actuator with crack stopper for diesel injector and method of manufacturing this piezoelectric multilayer actuator
JP2004095593A (en) * 2002-08-29 2004-03-25 Kyocera Corp Laminated piezoelectric element and jet device
JP2004186507A (en) * 2002-12-04 2004-07-02 Denso Corp Stacked piezoelectric device and its manufacturing method
JP2004260136A (en) * 2003-02-05 2004-09-16 Denso Corp Laminated piezoelectric element and manufacturing method therefor
JP2005101577A (en) * 2003-09-01 2005-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd Laminate structure, piezoelectric actuator, and manufacturing method thereof
JP2005235878A (en) * 2004-02-18 2005-09-02 Fuji Photo Film Co Ltd Laminate structure and its manufacturing method
JP2005294472A (en) * 2004-03-31 2005-10-20 Nec Electronics Corp Semiconductor device, semiconductor wafer, and their manufacturing methods

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009246253A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Fujifilm Corp Laminated piezoelectric element, and method for manufacturing the same
JP2015527746A (en) * 2012-10-15 2015-09-17 コンチネンタル オートモーティヴ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングContinental Automotive GmbH Method for manufacturing electronic components as a stack

Also Published As

Publication number Publication date
US7765660B2 (en) 2010-08-03
US20070120448A1 (en) 2007-05-31
US20080222866A1 (en) 2008-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007149995A (en) Laminated piezoelectric element and its manufacturing method
US7087970B2 (en) Laminated structure, method of manufacturing the same and ultrasonic transducer array
US7673385B2 (en) Laminated structure method
US7199509B2 (en) Multilayered structure and method of manufacturing the same, and ultrasonic transducer
US8106566B2 (en) Piezoelectric component with outer contacting, having gas-phase deposition, method for manufacturing component and use of component
US8237333B2 (en) Piezoelectric actuator and method for producing a piezoelectric actuator
JP2004056085A (en) Piezoelectric actuator unit and liquid injection head using it, and piezoelectric element and its manufacturing method
JP4804760B2 (en) Manufacturing method of laminated piezoelectric structure
JP5289710B2 (en) Piezoelectric element and inkjet head
JP2007059525A (en) Laminated piezoelectric element and apparatus using same, and method of manufacturing laminated piezoelectric element
JP2006261656A (en) Piezoelectric actuator, and method of producing the same
JP2002009359A (en) Integrated piezoelectric/electrostrictive film type element exhibiting excellent durability and its manufacturing method
JP2010157648A (en) Piezoelectric element
JP2004120809A (en) Inorganic erectret actuator, manufacturing method thereof, liquid droplet injecting head, optical device, pressure sensor, oscillator, and motor
JP2002319716A (en) Piezoelectric ceramic multilayer actuator and method for manufacturing the same
JP2003309301A (en) Method for manufacturing device
JP4094521B2 (en) Manufacturing method of structure
JP4908746B2 (en) Multilayer structure, piezoelectric actuator, and manufacturing method thereof
JP4997716B2 (en) Manufacturing method of electronic device
KR100807316B1 (en) Structure of a multilayer piezoelectric element for generating current-voltage
US7950782B2 (en) Droplet discharging head, energy converter, piezoelectric device, MEMS structure, cantilever actuator, piezoelectric sensor, and piezoelectric linear motor
JP2007165372A (en) Laminated structure, and method of manufacturing same
WO2024048768A1 (en) Laminated structure, element, electronic device, electronic apparatus, and system
JP2005102181A (en) Laminate structure, manufacturing method thereof, and ultrasonic transducer array
JPS62113487A (en) Laminated piezoelectric body

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080711

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080711

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111209

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120117

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120315

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20120517