JP2005221705A - フォトマスク用石英基板判別装置 - Google Patents

フォトマスク用石英基板判別装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2005221705A
JP2005221705A JP2004028883A JP2004028883A JP2005221705A JP 2005221705 A JP2005221705 A JP 2005221705A JP 2004028883 A JP2004028883 A JP 2004028883A JP 2004028883 A JP2004028883 A JP 2004028883A JP 2005221705 A JP2005221705 A JP 2005221705A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
quartz substrate
light
photomask
corner
type
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2004028883A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Yasui
孝史 安井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semiconductor Leading Edge Technologies Inc
Original Assignee
Semiconductor Leading Edge Technologies Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Semiconductor Leading Edge Technologies Inc filed Critical Semiconductor Leading Edge Technologies Inc
Priority to JP2004028883A priority Critical patent/JP2005221705A/ja
Publication of JP2005221705A publication Critical patent/JP2005221705A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

【課題】 フォトマスク用石英基板の種類を判別するフォトマスク用石英基板判別装置に係り、フォトマスク用石英基板の裏面側に加工されているノッチの加工箇所と形状と数を認識し、石英基板の種類を判定することを課題とする。
【解決手段】 石英基板は位置決めピン3により、位置規正されており、石英基板1の四隅にはLED5と第一受光器6と第二受光器7が配置される。LEDからノッチに向けて光が照射され、反射光はノッチの種類によって異なる受光器で受光される。これによって四隅のノッチの有無と種類を判別し、そのパターンにより石英基板の種類を判定する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、フォトマスク用石英基板の種類を判別することを特徴とする装置に関するものである。
近年の半導体プロセスの微細化に伴い、その原版としての役割を果たすフォトマスクに求められる品質はますます厳しいものになっている。フォトマスクは石英基板の上にクロムなどがパターンニングされたものである。石英基板は、光リソグラフィーのプロセスで使用される露光機の光源の波長によって種別されている。
図12は、1.5mm厚の石英基板の波長別最小透過率を示す図である。単位は、パーセント(%)である。
石英基板の裏面側にはノッチが加工されており、ノッチの加工箇所や数や形は、露光機の光源波長に対応するよう種類毎にSEMI(Semiconductor Equipment and Materials International)で規定されている。
図13から図15は、石英基板1から3のノッチの加工箇所と加工数と形状を示す図である。図に示すように石英基板1は、対角に二箇所、石英基板2は一箇所、石英基板3も一箇所ノッチが加工されている。
図16は、スクエアコーナータイプ(石英基板1及び石英基板2)のノッチ形状を示す図である。図17は、ラウンドコーナータイプ(石英基板1及び石英基板2)のノッチ形状を示す図である。図18は、石英基板3のノッチ形状を示す図である。図に示すように石英基板1及び2はノッチの形状が同じであるが、石英基板1及び2に対して石英基板3のノッチの形状は異なる。従来は、ノッチの加工箇所と数と形の目視確認等を作業者が行うことによって、石英基板の種類を区別していた。
しかしながら、従来の石英基板の目視確認等だけでは作業者による作業バラツキが生じ、種別を誤ることがあった。種別を誤った場合、たとえば、石英基板3にパターンニングしたフォトマスクを193nmの光源波長をもつ露光機で使用する場合は透過率が石英基板2と同じであるため問題はないが、石英基板1にパターンニングしたフォトマスクを157nm、あるいは193nmの光源波長をもつ露光機で使用する場合は透過率が低いため、ウエハに転写することができないという問題が生じる。
特開2000−356849号公報
本発明は、上記した従来技術の欠点を除くためになされたものであって、その目的とするところは、フォトマスク用石英基板の種類を判別する装置を提供することである。
本発明に係るフォトマスク用石英基板判別装置は、
フォトマスク用石英基板のコーナー毎のノッチを検出し、コーナー毎のノッチの有無によるパターンと比較し、一致する場合に当該パターンに対応する石英基板の種別を出力する石英基板種別判定部を有することを特徴とする。
石英基板種別判定部は、ノッチのタイプを区別して検出し、検出したノッチのタイプと、タイプ別のノッチの有無によるパターンを比較し、一致する場合に当該パターンに対応する石英基板の種別を出力することを特徴とする。
フォトマスク用石英基板のコーナーを照射する光源装置と、コーナーからの反射光を受光する受光器を有し、
石英基板種別判定部は、光源装置により照射した状態で、受光器で受光した受光結果を入力し、当該受光結果に基づいて、コーナー毎のノッチを検出することを特徴とする。
フォトマスク用石英基板のコーナーを照射する光源装置と、異なる角度でコーナーからの反射光を受光するように設置された複数の受光器を有し、
石英基板種別判定部は、光源装置により照射した状態で、複数の受光器で受光した受光結果を入力し、受光器の別により、ノッチのタイプを区別して検出することを特徴とする。
フォトマスク用石英基板の各コーナー毎に光源装置と受光器を設置し、
石英基板種別判定部は、受光器の別により、コーナーを区別することを特徴とする。
光源装置と受光器を、フォトマスク用石英基板の各コーナーの位置に移動させ、
石英基板種別判定部は、受光のタイミングの別により、コーナーを区別することを特徴とする。
フォトマスク用石英基板の各コーナーを、光源装置と受光器の位置に移動させ、
石英基板種別判定部は、受光のタイミングの別により、コーナーを区別することを特徴とする。
石英基板種別判定部は、光源装置により照射した状態で、受光器で受光した受光結果を入力し、受光レベルに基づいて、ノッチのタイプを区別して検出することを特徴とする。
フォトマスク用石英基板のコーナーを異なる角度で照射する複数の光源装置と、コーナーからの反射光を受光するように設置された受光器を有し、
石英基板種別判定部は、それぞれの光源装置により別々に照射した複数の状態で、それぞれに受光器で受光した受光結果を入力し、照射した光源装置の別により、ノッチのタイプを区別して検出することを特徴とする。
フォトマスク用石英基板の裏面側に加工されているノッチの加工箇所と形状と数を認識し、石英基板の表裏の判別を行うことを特徴とするフォトマスク用石英基板判別装置。
本発明は、位置規正ピンによって規正された石英基板裏面側の四隅に、LEDが照射され、反射した光の受光器による検出の有無によってノッチの加工箇所、個数、形状を認識可能となるため、フォトマスク用石英基板の種別を判別することができる。
実施の形態1.
マスクを載せるステージ、マスクの位置を規正する位置決めピン、ノッチに対して照射するLED、ノッチに対して照射された光を反射して検出する2種類の検出器を備えているフォトマスク用石英基板判別装置について説明する。この構成により、位置規正ピンによって規正された石英基板裏面側の四隅に、LEDが照射され、反射光の受光器による検出の有無によってノッチの加工箇所、個数、形状を認識し、フォトマスク用石英基板の種類を判別する。
以下本発明を図面に示す実施例に基づいて説明する。図1は、フォトマスク用石英基板判別装置の上面図である。図2は、フォトマスク用石英基板判別装置の側面図である。図中、1は石英基板、4はステージ、3は位置決めピン、2は石英基板裏面側に加工されているノッチ、5はLED(発光ダイオード)、6は第一受光器、7は第二受光器をあらわす。尚、LED以外の光源装置を用いてもよい。
以上のように構成された本実施例のフォトマスク用石英基板判別装置について、以下その動作を説明する。
まず、ステージには位置決めピン3が設置されており、位置決めピン3に合うように、石英基板の裏面側を上にして、ステージに載せる。
ステージの四隅にはLED5と第一受光器1と第二受光器2がそれぞれ設置されている。第一受光器1は、石英基板1と石英基板2に加工されている形状のノッチにLEDが照射した場合、反射光を検出するよう角度調整がされており、第二受光器2は石英基板3に加工されている形状のノッチにLEDが照射した場合、反射光を検出されるよう角度調整がされている。例えば、石英基板1をステージに載せた場合、2つの対角にあるノッチはそれぞれのコーナーの第一受光器1が検出し、2つの対角にあるノッチの加工されていないコーナーは第一受光器1も第二受光器2も検出しない。また、石英基板2を載せた場合は、3つのノッチはそれぞれのコーナーの第一受光器1が検出し、1つのノッチの加工されていないコーナーは第一受光器1も第二受光器2も検出しない。さらに石英基板3を載せた場合は、1つのノッチは第二受光器2が検出し、3つのノッチの加工されていないコーナーは第一受光器1も第二受光器2も検出しない。それぞれの検出器のノッチの有無と形状と個数の認識により、石英基板の種別が可能となる。
石英基板の種別の判定を行う石英基板種別判定部について説明する。石英基板種別判定部は、例えばコンピュータで構成することができる。但し、これに限らず、他の演算装置であっても構わない。
図3は、石英基板種別判定部のインターフェースを示す図である。石英基板種別判定部は、各コーナーの第一受光器1及び第二受光器2による受光結果を入力して、処理を行う。受光結果は、LEDにより照射した状態で、受光器で受光した受光レベル(光の強度、エネルギー量)あるいは受光の有/無である。処理に際しては、パターンテーブルの情報を用いる。そして、石英基板種別の判定結果を出力する。
図4は、パターンテーブルの例を示す図である。石英基板1〜3の種別毎に、第一コーナーの第一受光器1及び第二受光器2の受光結果、第二コーナーの第一受光器1及び第二受光器2の受光結果、第三コーナーの第一受光器1及び第二受光器2の受光結果、及び第四コーナーの第一受光器1及び第二受光器2の受光結果からなる受光パターンを定義して記憶している。パターンテーブルは、石英基板種別判定部で読み取れるように構成されている。例えば、コンピュータ内の記憶領域に記憶されている。
但し、石英基板は、必ずしも所定の方向に設置されるとは限らないので、上述の受光パターンを90度、180度、270度回転した関係(コーナー循環)の受光パターンも適合する受光パターンとしてあつかう。
図5は、コーナー循環の概念を示す図である。第一コーナーの受光結果を第二コーナーの受光結果と扱い、第二コーナーの受光結果を第三コーナーの受光結果と扱い、第三コーナーの受光結果を第四コーナーの受光結果と扱い、第四コーナーの受光結果を第一コーナーの受光結果と扱うことにより、90度回転した関係の受光パターンとなる。
また、第一コーナーの受光結果を第三コーナーの受光結果と扱い、第二コーナーの受光結果を第四コーナーの受光結果と扱い、第三コーナーの受光結果を第一コーナーの受光結果と扱い、第四コーナーの受光結果を第二コーナーの受光結果と扱うことにより、180度回転した関係の受光パターンとなる。
また、第一コーナーの受光結果を第四コーナーの受光結果と扱い、第二コーナーの受光結果を第一コーナーの受光結果と扱い、第三コーナーの受光結果を第二コーナーの受光結果と扱い、第四コーナーの受光結果を第三コーナーの受光結果と扱うことにより、270度回転した関係の受光パターンとなる。
この例によらず、90度、180度、270度回転した関係の受光パターンをすべてパターンテーブルで記憶するようにしてもよい。
図6は、フォトマスク用石英基板判別装置の処理フローを示す図である。各コーナーの受光結果を入力し(S601)、石英基板種別判定部による石英基板種別判定処理を行う(S602)。
図7は、石英基板種別判定の処理フローを示す図である。各コーナーの受光結果について、パターンテーブルのパターンと一致するか判定する(S702)。受光レベルで受光結果を入力した場合は、受光レベルが閾値を越える場合に、受光有りとして扱う。いずれかのパターンと一致する場合には(S703)、一致したパターンに相当する種別を出力する(S704)。
いずれのパターンにも一致しない場合には、前述のように順に90度、180度、270度と回転させた関係の受光パターンについてもマッチングを行う(S701,S702)。
石英基板種別判定は、上述のように、フォトマスク用石英基板のコーナー毎のノッチを検出し、コーナー毎のノッチの有無によるパターンと比較し、一致する場合に当該パターンに対応する石英基板の種別を出力するように構成されている。この例では、特に、ノッチのタイプを区別して検出し、検出したノッチのタイプと、タイプ別のノッチの有無によるパターンを比較し、一致する場合に当該パターンに対応する石英基板の種別を出力する。
このように処理することにより、受光結果から石英基板の種別を判定することができる。
実施の形態2.
前述の例では、各コーナーに、LEDと受光器(4組)を設け、受光器の別によりコーナーを区別したが、1組のLEDと受光器で、各コーナーの測定を行い、受光のタイミングの別によりコーナーを区別することもできる。この実施の形態では、ステージを90度ずつ回転させ、その回転の都度、測定を行う形態について説明する。
図8は、実施の形態2に係るフォトマスク用石英基板判別装置の上面図である。図9は、実施の形態2に係るフォトマスク用石英基板判別装置の側面図である。制御モータ等で、回転軸8を回転させることにより、所定の角度にステージを停止させることができるように構成されている。
まず回転しない状態(0度状態)で、第一コーナーを測定し、受光結果を得る。続いて、90度回転させて(90度状態)、第二コーナーを測定し、受光結果を得る。次に、更に90度回転させて(180度状態)、第三コーナーを測定し、受光結果を得る。最後に、更に90度回転させて(270度状態)、第四コーナーを測定し、受光結果を得る。
これにより、実施の形態1と同様の受光結果を取得することができる。
実施の形態3.
本実施の形態では、1組のLEDと受光器を90度ずつ回転させ、その回転の都度、測定を行う形態について説明する。この例も、前述と同様に受光のタイミングの別によりコーナーを区別する。
図10は、実施の形態3に係るフォトマスク用石英基板判別装置の上面図である。図11は、実施の形態3に係るフォトマスク用石英基板判別装置の側面図である。制御モータ等で、回転軸8を回転させることにより、所定の角度にLEDと受光器の設置台を停止させることができるように構成されている。
まず回転しない状態(0度状態)で、第一コーナーを測定し、受光結果を得る。続いて、90度回転させて(90度状態)、第二コーナーを測定し、受光結果を得る。次に、更に90度回転させて(180度状態)、第三コーナーを測定し、受光結果を得る。最後に、更に90度回転させて(270度状態)、第四コーナーを測定し、受光結果を得る。
これにより、実施の形態2と同様の受光結果を取得することができる。
実施の形態4.
上述の例では、反射面となるノッチの角度毎に複数の受光器を用いる例を説明したが、一つの受光器で、ノッチの別を測定することも考えられる。角度により反射強度が異なることに着目し、その差によりノッチを区別することができる。つまり、受光レベルに基づいて、ノッチのタイプを区別して検出する。
例えば、閾値A以上かつ閾値B以下の場合に、石英基板1または2のノッチと判定し、閾値C以上かつ閾値D以下の場合に、石英基板3のノッチと判定することができる。各閾値は、LEDの発光レベルや設置角度等により適宜設定する。
実施の形態5.
また、LEDを2つ設けて、片方ずつ発光させ、それぞれに一つの受光器で測定することにより、ノッチの別を測定することも考えられる。ノッチの角度により、受光器に効果的に反射させるLEDの位置が異なることに着目している。
例えば、第一のLEDを発光させた状態で、受光した場合には、石英基板1または2のノッチと判定し、第二のLEDを発光させた状態で、受光した場合には、石英基板3のノッチと判定することができる。
これにより、石英基板種別判定部は、それぞれの光源装置により別々に照射した複数の状態で、それぞれに受光器で受光した受光結果を入力し、照射した光源装置の別により、ノッチのタイプを区別して検出することができる。
実施の形態6.
また、石英基板の四隅のノッチについての加工箇所と形状と数をLEDと2種類の受光器で認識することにより、石英基板の表裏の判別を行うことも可能である。
フォトマスク用石英基板判別装置の上面図である。 フォトマスク用石英基板判別装置の側面図である。 石英基板種別判定部のインターフェースを示す図である。 パターンテーブルの例を示す図である。 コーナー循環の概念を示す図である。 フォトマスク用石英基板判別装置の処理フローを示す図である。 石英基板種別判定の処理フローを示す図である。 実施の形態2に係るフォトマスク用石英基板判別装置の上面図である。 実施の形態2に係るフォトマスク用石英基板判別装置の側面図である。 実施の形態3に係るフォトマスク用石英基板判別装置の上面図である。 実施の形態3に係るフォトマスク用石英基板判別装置の側面図である。 1.5mm厚の石英基板の波長別最小透過率を示す図である。 石英基板1のノッチの加工箇所と加工数と形状を示す図である。 石英基板2のノッチの加工箇所と加工数と形状を示す図である。 石英基板3のノッチの加工箇所と加工数と形状を示す図である。 スクエアコーナータイプ(石英基板1及び石英基板2)のノッチ形状を示す図である。 ラウンドコーナータイプ(石英基板1及び石英基板2)のノッチ形状を示す図である。 石英基板3のノッチ形状を示す図である。
符号の説明
1 石英基板、2 ノッチ、3 位置決めピン、4 ステージ、5 LED、6 受光器1、7 受光器2、8 回転軸。

Claims (10)

  1. フォトマスク用石英基板のコーナー毎のノッチを検出し、コーナー毎のノッチの有無によるパターンと比較し、一致する場合に当該パターンに対応する石英基板の種別を出力する石英基板種別判定部を有することを特徴とするフォトマスク用石英基板判別装置。
  2. 石英基板種別判定部は、ノッチのタイプを区別して検出し、検出したノッチのタイプと、タイプ別のノッチの有無によるパターンを比較し、一致する場合に当該パターンに対応する石英基板の種別を出力することを特徴とする請求項1記載のフォトマスク用石英基板判別装置。
  3. フォトマスク用石英基板のコーナーを照射する光源装置と、コーナーからの反射光を受光する受光器を有し、
    石英基板種別判定部は、光源装置により照射した状態で、受光器で受光した受光結果を入力し、当該受光結果に基づいて、コーナー毎のノッチを検出することを特徴とする請求項1記載のフォトマスク用石英基板判別装置。
  4. フォトマスク用石英基板のコーナーを照射する光源装置と、異なる角度でコーナーからの反射光を受光するように設置された複数の受光器を有し、
    石英基板種別判定部は、光源装置により照射した状態で、複数の受光器で受光した受光結果を入力し、受光器の別により、ノッチのタイプを区別して検出することを特徴とする請求項2記載のフォトマスク用石英基板判別装置。
  5. フォトマスク用石英基板の各コーナー毎に光源装置と受光器を設置し、
    石英基板種別判定部は、受光器の別により、コーナーを区別することを特徴とする請求項3または4記載のフォトマスク用石英基板判別装置。
  6. 光源装置と受光器を、フォトマスク用石英基板の各コーナーの位置に移動させ、
    石英基板種別判定部は、受光のタイミングの別により、コーナーを区別することを特徴とする請求項3または4記載のフォトマスク用石英基板判別装置。
  7. フォトマスク用石英基板の各コーナーを、光源装置と受光器の位置に移動させ、
    石英基板種別判定部は、受光のタイミングの別により、コーナーを区別することを特徴とする請求項3または4記載のフォトマスク用石英基板判別装置。
  8. 石英基板種別判定部は、光源装置により照射した状態で、受光器で受光した受光結果を入力し、受光レベルに基づいて、ノッチのタイプを区別して検出することを特徴とする請求項2記載のフォトマスク用石英基板判別装置。
  9. フォトマスク用石英基板のコーナーを異なる角度で照射する複数の光源装置と、コーナーからの反射光を受光するように設置された受光器を有し、
    石英基板種別判定部は、それぞれの光源装置により別々に照射した複数の状態で、それぞれに受光器で受光した受光結果を入力し、照射した光源装置の別により、ノッチのタイプを区別して検出することを特徴とする請求項2記載のフォトマスク用石英基板判別装置。
  10. フォトマスク用石英基板の裏面側に加工されているノッチの加工箇所と形状と数を認識し、石英基板の表裏の判別を行うことを特徴とするフォトマスク用石英基板判別装置。
JP2004028883A 2004-02-05 2004-02-05 フォトマスク用石英基板判別装置 Withdrawn JP2005221705A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004028883A JP2005221705A (ja) 2004-02-05 2004-02-05 フォトマスク用石英基板判別装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004028883A JP2005221705A (ja) 2004-02-05 2004-02-05 フォトマスク用石英基板判別装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005221705A true JP2005221705A (ja) 2005-08-18

Family

ID=34997394

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004028883A Withdrawn JP2005221705A (ja) 2004-02-05 2004-02-05 フォトマスク用石英基板判別装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005221705A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009224424A (ja) * 2008-03-14 2009-10-01 Dainippon Printing Co Ltd インプリント用スタンパ
WO2012157629A1 (ja) * 2011-05-19 2012-11-22 Hoya株式会社 マスクブランク用基板、マスクブランク、反射型マスクブランク、転写マスク、及び反射型マスク、並びにそれらの製造方法
JP2020003548A (ja) * 2018-06-26 2020-01-09 クアーズテック株式会社 フォトマスク用基板およびその製造方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009224424A (ja) * 2008-03-14 2009-10-01 Dainippon Printing Co Ltd インプリント用スタンパ
WO2012157629A1 (ja) * 2011-05-19 2012-11-22 Hoya株式会社 マスクブランク用基板、マスクブランク、反射型マスクブランク、転写マスク、及び反射型マスク、並びにそれらの製造方法
JP2012256038A (ja) * 2011-05-19 2012-12-27 Hoya Corp マスクブランク用基板、マスクブランク、反射型マスクブランク、転写マスク、及び反射型マスク、並びにそれらの製造方法
US9400421B2 (en) 2011-05-19 2016-07-26 Hoya Corporation Mask blank substrate, mask blank, reflective mask blank, transfer mask, reflective mask, and methods of manufacturing the same
TWI551939B (zh) * 2011-05-19 2016-10-01 Hoya股份有限公司 空白光罩用基板、空白光罩、反射型空白光罩、轉印光罩、反射型光罩以及該等之製造方法
TWI610124B (zh) * 2011-05-19 2018-01-01 Hoya股份有限公司 空白光罩用基板、空白光罩、反射型空白光罩、轉印光罩、反射型光罩以及該等之製造方法
KR101874504B1 (ko) 2011-05-19 2018-07-04 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크용 기판, 마스크 블랭크, 반사형 마스크 블랭크, 전사 마스크, 및 반사형 마스크, 그리고 그들의 제조방법
JP2020003548A (ja) * 2018-06-26 2020-01-09 クアーズテック株式会社 フォトマスク用基板およびその製造方法
JP7037445B2 (ja) 2018-06-26 2022-03-16 クアーズテック株式会社 Icまたはlcdフォトリソグラフィ用のフォトマスク用基板

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20060126916A1 (en) Template generating method and apparatus of the same, pattern detecting method, position detecting method and apparatus of the same, exposure apparatus and method of the same, device manufacturing method and template generating program
KR101993936B1 (ko) 적외광을 이용한 스루홀 패턴 검사 방법
US7697139B2 (en) Surface inspection apparatus
JPH08234413A (ja) フォトマスクパターン欠陥検査装置及びフォトマスクパターン欠陥検査方法
JP6906050B2 (ja) メトロロジー測定に用いるためのプログラムされた欠陥を生成する方法およびシステム
TW200306636A (en) Measuring apparatus
JP4566007B2 (ja) リソグラフィマスクおよび半導体ウェーハ内の位相欠陥を検出する方法およびシステム
JP2003215059A (ja) パターン検査装置及びその方法
JP2010117632A (ja) アライメントマークの検出方法及び装置
CN108351596A (zh) 用于半导体掩模检验的基于多边形的几何分类
TWI789500B (zh) 用於判定在一晶圓上所偵測到之一缺陷所位於的一層之系統及電腦實施之方法,及非暫時性電腦可讀媒體
JP2005221705A (ja) フォトマスク用石英基板判別装置
JP2002148031A (ja) パターン検査方法及び装置
JP6597469B2 (ja) 欠陥検査装置
US5365330A (en) Foreign particle inspection apparatus
JP7170491B2 (ja) 異物検出装置、露光装置及び物品の製造方法
JP2022072520A (ja) ノッチ検出方法
JP4470503B2 (ja) 基準パターン決定方法とその装置、位置検出方法とその装置、及び、露光方法とその装置
JP4866029B2 (ja) ウェーハ外周検査装置
JP2005292081A (ja) 円板形状部品の欠け検査装置及び欠け検査方法
KR101087628B1 (ko) 이물질 검사장치, 노광장치 및 디바이스 제조방법
CN217902248U (zh) 一种晶片平边寻边装置和光刻系统
JP2001284233A (ja) 縮小投影露光装置及び縮小投影露光方法
JPS5835915A (ja) 半導体素子基板の識別方法
JP2010054269A (ja) 外観検査方法、プログラムおよび外観検査装置

Legal Events

Date Code Title Description
RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20050729

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20050818

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060721

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20070730