JP2005200709A - アルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】アルミニウム及びマグネシウム合金は軽く、強度もあるが、耐食性に限界がある。酸化皮膜処理や塗装で耐食性を維持できたとしても、耐摩耗性、導電性、耐衝撃性に問題がある。この点を解決し、さらに高輝度で、且つ様々な発色が可能な高耐食性を有するアルミニウム及びマグネシウム合金を提供する。
【解決手段】アルミニウム及びマグネシウム合金1上に銅層2及びニッケル層3を形成する方法において、活性化溶液によりアルミニウム及びマグネシウム合金を前処理する工程と、湿式電気めっきによりアルミニウム及びマグネシウム合金上に直接銅層を形成する工程と、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成する工程とからなる構成を有している。更に、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成した後、そのニッケル層上に蒸着によりチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層を形成する工程からなる構成を有する。
【選択図】図1
【解決手段】アルミニウム及びマグネシウム合金1上に銅層2及びニッケル層3を形成する方法において、活性化溶液によりアルミニウム及びマグネシウム合金を前処理する工程と、湿式電気めっきによりアルミニウム及びマグネシウム合金上に直接銅層を形成する工程と、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成する工程とからなる構成を有している。更に、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成した後、そのニッケル層上に蒸着によりチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層を形成する工程からなる構成を有する。
【選択図】図1
Description
本発明は、自動車、電子機器及び建築などあらゆる産業に於けるアルミニウム及びマグネシウム合金の耐食性向上のためのめっき方法に関する。
近年、自動車、電子機器などは小型・軽量化の傾向が著しい。自動車においては燃費改善ひいては環境保護に繋がり、電子機器においてはあらゆる電子機器のモバイル化のニーズに対応してきている。これら小型・軽量化に欠かせない金属はアルミニウムでありマグネシウム合金である。特に、マグネシウムは金属のなかでも最も軽く強度もあるが、耐食性に問題があり需要拡大に限界がある。ダイカスト及びプレス加工などで加工されたマグネシウム合金の防食は、多くが酸化皮膜処理、塗装によりその耐食性を付与しているのが、一般的である。
しかしながら、アルミニウム及びマグネシウム合金が強度、経済性から見ても有望な金属材料であるが、どちらの金属も酸及びアルカリに対する耐食性に欠けるため、地金の価値が生かされていないのが現状である。即ち酸化皮膜処理や塗装で耐食性を維持できたとしても、耐磨耗性、導電性及び耐衝撃性に問題があった。
マグネシウム合金は比重1.7とアルミニウムより30%も軽いメリットがあるが、上記のように、その耐食性に問題がある。一般的に、めっき方法には乾式法と湿式法とに分類されるが、マグネシウム合金上のめっきは、真空下での気相めっきのみ対応することができるのが現状である。なぜならば、マグネシウム合金は、酸及びアルカリにより腐食され、食塩水でも激しく発熱、腐食されるからである。一部ではマグネシウム合金の表面を亜鉛置換して無電解めっきが行われているが、マグネシウム合金のデメリットである耐食性をカバーするまでの完璧なものではない。酸化皮膜の生成法ではクローメート(6価のクロムの利用)などがあるが、クロムはそれを使用することによって起こる環境汚染のために厳しく規制され、将来的にはそれらを使わない処理方法が義務付けられている。このようにマグネシウム合金の耐食性の維持即ち防錆処理方法には限界があるという課題があった。
本発明は上記従来の問題点を解決するものであり、アルミニウム及びマグネシウム合金上に直接銅層及び銅層上にニッケル層を形成し、優れた耐食性の維持即ち防錆処理方法となるアルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法を提供することを目的とする。更に、チタニウム蒸着層と及び陽極酸化されたチタニウム蒸着層を形成することで高輝度で、且つ、様々な発色が可能な高耐食性を有するアルミニウム及びマグネシウム合金を提供することを目的とする。
本発明は、アルミニウム及びマグネシウム合金上に銅層及びニッケル層を形成する方法において、活性化溶液によりアルミニウム及びマグネシウム合金を前処理する工程と、湿式電気めっきによりアルミニウム及びマグネシウム合金上に直接銅層を形成する工程と、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成する工程とからなる構成を有している。
更に、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成した後、そのニッケル層上に蒸着によりチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層を形成する工程からなる構成を有している。
更に、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成した後、そのニッケル層上に蒸着によりチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層を形成する工程からなる構成を有している。
本発明は、アルミニウム及びマグネシウム合金の表面に打痕や傷などの凹凸があっても、従来の防錆処理方法のようにアルミニウム及びマグネシウム合金の表面が露出しないため、耐食性に優れ、また塗装や酸化皮膜のように絶縁性がないので電磁波シールドの効果が高く、携帯電話、パソコンなどのノイズ対策に大きな効果が得られる。また、銅―ニッケル層でアルミニウム及びマグネシウム合金の持つ耐食性という弱点をカバーすることが実現できる。更に、目的及び用途に応じて、蒸着によるチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層、金、白金などの多層めっきをすることが可能で、従来の塗装をすることも可能となるため、自動車、電子機器、電子部品、建築材料及び航空機などの幅広い産業分野に貢献することができるものである。
本発明の請求項1に記載した発明は、アルミニウム及びマグネシウム合金上に銅層及びニッケル層を形成する方法において、活性化溶液によりアルミニウム及びマグネシウム合金を前処理する工程と、湿式電気めっきによりアルミニウム及びマグネシウム合金上に直接銅層を形成する工程と、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成する工程とからなる構成であり、この構成とすることにより優れた耐食性の維持即ち防錆処理方法とすることができる。
請求項2に記載の発明は、銅めっき層を形成する前に活性化処理として、Na4P2O7を12〜15重量部、CH3COONa及びNH3OHを10〜15重量部、および添加剤を用い、アルミニウム及びマグネシウム合金を前処理する構成であり、この構成とすることにより優れた耐食性の維持即ち防錆処理方法の活性化前処理とすることができる。
請求項3に記載の発明は、銅めっき液として、シアン銅めっき溶液(CuCN 30〜60重量部、NaCN 40〜60重量部、添加剤5%)と硫酸銅メッキ液(CuSO4・5H2O 300〜400重量部、H2SO4 30〜50重量部、塩素イオン 30〜50重量部、添加剤2%)からなる溶液にて銅層を形成する構成であり、この構成とすることにより優れた耐食性の維持即ち防錆処理方法の銅めっき液とすることができる。
請求項4に記載の発明は、ニッケルめっき液としてNiSO4・6H2Oを150重量部、NH4Clを15重量部、ZnSO4・7H2Oを35重量部からなる溶液にてニッケル層を形成する構成であり、この構成とすることにより優れた耐食性の維持即ち防錆処理方法のニッケルめっき液とすることができる。
請求項5に記載の発明は、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成した後、そのニッケル層上に蒸着によりチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層を形成する構成であり、この構成とすることにより優れた耐食性と所定の高輝度発色を実現することができる。
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説明する。
図1は本発明の実施例1におけるマグネシウム合金への銅層及びニッケル層の組合せの概念図である。図1において、1はマグネシウム合金、2は銅めっき層、3はニッケルめっき層である。図2は本発明の実施例1における製造プロセスを示すフローチャートである。
以上のように、構成されたアルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法について以下説明する。
マグネシウム合金(AZ31B)を金型プレス加工或いはマグネシウム合金(AZ91D)をダイカストした母材1を製作する。次に、図2に示すように、マグネシウムの母材1の加工工程で表面に付着した油分などの脱脂処理を行う。脱脂処理は、55〜85℃の溶液で10分間処理し、油分を完全に除去、十分な水洗浄を行う。この際、脱脂液の母材表面の残留は、次工程のめっき工程での電気化学反応を悪化させ、ブリスターやピンホールの原因となるため、十分な水洗浄が必要である。水溶液組成を表1に示す。
次に、図2に示すように、脱脂処理されたマグネシウム合金の母材1を表2に示す組成の水溶液に浸漬する。所定時間の経過後、常温で弱酸性の水溶液で3分間のリンスを行う。
更に、表3に示すような組成の水溶液を用意し、図2に示すように、平滑に銅めっきするため弱酸性で洗浄されたマグネシウム合金の母材1の表面を活性化する。
次に、図2に示すように、マグネシウム合金の母材1の表面に銅めっきを施す。はじめに母材との密着性を向上させるため、シアン銅めっき液で銅めっき層2を施す。シアン銅めっき液は、表4に示す組成の水溶液、温度、電圧、電流、電流作動時間に調整する。
マグネシウム合金の母材1にシアン銅めっき液で銅めっき層2を形成した後、ピンホールなどの不具合を除去するため、硫酸銅めっき液で銅めっき層2を施し、補強する。これは、次工程におけるニッケルめっき層3との密着性を改善する効果をもたらす。表5に示す組成の水溶液、温度、電圧、電流、電流作動時間に調整することで、シアン銅めっき層の上に硫酸銅めっき液による銅めっき層2を形成することができる。
次に、シアン銅めっき液と硫酸銅めっき液から形成した銅めっき層2に、耐磨耗性と密着性を向上させるために図2に示すように、ニッケルめっき層3を形成する。表6に示す組成の水溶液、温度、電圧、電流、電流作動時間に調整することで、銅めっき層2の上にニッケルめっき層3を形成する。
マグネシウム合金の母材上の銅めっき層及びニッケルめっき層にファイル試験とテープ試験を実施し、その結果を表7に示す。
表7から明らかなように、銅めっき及びニッケルめっきを施したした母材を切断し、表面を45度でヤスリがけしたファイル試験において、実施例1のN=7全てにおいて剥離が無かった。また、一般的な方法であるタングステンナイフで1mm間隔の並んだの引っかき傷をつけるテープ試験においても、剥離が無いことが確認された。
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説明する。
図3は本発明の実施例2におけるニッケル層上にチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層の組合せとの概念図である。図3において、1はマグネシウム合金の母材、2は銅めっき層、3はニッケルめっき層、4はチタニウム層、5は陽極酸化されたチタニウム層である。
以上のように、構成されたニッケル層上に蒸着によりチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層を形成するめっき方法について以下説明する。
実施例1と同様に、マグネシウム合金の母材1に銅めっき層2及びニッケル層3をめっき形成したものに、蒸着方法でチタニウム層4を形成するめっき方法を形成する。ついで、その形成されたチタニウム層4上にチタニウム層を形成し、そのチタニウム層に陽極酸化を施し、陽極酸化されたチタニウム層5即ち陽極酸化皮膜層を形成する。
マグネシウム合金の母材上の銅めっき層及びニッケルめっき層に形成されたチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層をファイル試験とテープ試験を実施し、その結果を表8に示す。
表8から明らかなように、チタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層を形成した母材を切断し、表面を45度でヤスリがけしたファイル試験において、実施例2のN=7全てにおいて剥離が無かった。また、一般的な方法であるタングステンナイフで1mm間隔の並んだの引っかき傷をつけるテープ試験においても、剥離が無いことが確認された。めっきした製品を切断し、表面を45度でヤスリがけしたファイル試験においても実施例2のN=7全てにおいて剥離が無かったことが表8からわかる。更に、一般的な方法であるタングステンナイフで1mm間隔の並んだの引っかき傷をつけたテープ試験においても、剥離が無いことが確認できた。
耐食性を確認するために、発色させた7色のサンプルについて3%NaOH水溶液で耐食性試験をした結果を表9に示す。表9に示すように全てが腐食しなかったことがわかる。また、輝度も発色も変化は認められなかった。
1 マグネシウム合金の母材
2 銅めっき層
3 ニッケルめっき層
4 チタニウム層
5 陽極酸化されたチタニウム層
2 銅めっき層
3 ニッケルめっき層
4 チタニウム層
5 陽極酸化されたチタニウム層
Claims (5)
- アルミニウム及びマグネシウム合金上に銅層及びニッケル層を形成する方法において、活性化溶液によりアルミニウム及びマグネシウム合金を前処理する工程と、湿式電気めっきによりアルミニウム及びマグネシウム合金上に直接銅層を形成する工程と、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成する工程とからなるアルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法。
- 銅めっき層を形成する前に活性化処理としてNa4P2O7を12〜15重量部、CH3COONa及びNH3OHを10〜15重量部、および添加剤を用い、アルミニウム及びマグネシウム合金を前処理する請求項1記載のアルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法。
- 銅めっき液として、シアン銅めっき溶液(CuCN 30〜60重量部、NaCN 40〜60重量部、添加剤5%)と硫酸銅メッキ液(CuSO4・5H2O 300〜400重量部、H2SO4 30〜50重量部、塩素イオン 30〜50重量部、添加剤2%)からなる溶液にて銅層を形成する請求項1記載のアルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法。
- ニッケルめっき液としてNiSO4・6H2Oを150重量部、NH4Clを15重量部、ZnSO4・7H2Oを35重量部からなる溶液にてニッケル層を形成する請求項1記載のアルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法。
- 湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成した後、そのニッケル層上に蒸着によりチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層を形成する請求項1、請求項2、請求項3及び請求項4記載のアルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法。
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