JP2005200709A - アルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法 - Google Patents

アルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2005200709A
JP2005200709A JP2004008797A JP2004008797A JP2005200709A JP 2005200709 A JP2005200709 A JP 2005200709A JP 2004008797 A JP2004008797 A JP 2004008797A JP 2004008797 A JP2004008797 A JP 2004008797A JP 2005200709 A JP2005200709 A JP 2005200709A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
copper
magnesium alloy
aluminum
nickel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004008797A
Other languages
English (en)
Inventor
Zengyo Kim
善堯 金
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KY JAPAN KK
Original Assignee
KY JAPAN KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KY JAPAN KK filed Critical KY JAPAN KK
Priority to JP2004008797A priority Critical patent/JP2005200709A/ja
Publication of JP2005200709A publication Critical patent/JP2005200709A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/02Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material
    • C23C28/023Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material only coatings of metal elements only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/322Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/345Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/26Anodisation of refractory metals or alloys based thereon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/10Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
    • C25D5/12Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/34Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
    • C25D5/42Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of light metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/34Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
    • C25D5/42Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of light metals
    • C25D5/44Aluminium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/60Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
    • C25D5/605Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
    • C25D5/611Smooth layers

Abstract

【課題】アルミニウム及びマグネシウム合金は軽く、強度もあるが、耐食性に限界がある。酸化皮膜処理や塗装で耐食性を維持できたとしても、耐摩耗性、導電性、耐衝撃性に問題がある。この点を解決し、さらに高輝度で、且つ様々な発色が可能な高耐食性を有するアルミニウム及びマグネシウム合金を提供する。
【解決手段】アルミニウム及びマグネシウム合金1上に銅層2及びニッケル層3を形成する方法において、活性化溶液によりアルミニウム及びマグネシウム合金を前処理する工程と、湿式電気めっきによりアルミニウム及びマグネシウム合金上に直接銅層を形成する工程と、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成する工程とからなる構成を有している。更に、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成した後、そのニッケル層上に蒸着によりチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層を形成する工程からなる構成を有する。
【選択図】図1

Description

本発明は、自動車、電子機器及び建築などあらゆる産業に於けるアルミニウム及びマグネシウム合金の耐食性向上のためのめっき方法に関する。
近年、自動車、電子機器などは小型・軽量化の傾向が著しい。自動車においては燃費改善ひいては環境保護に繋がり、電子機器においてはあらゆる電子機器のモバイル化のニーズに対応してきている。これら小型・軽量化に欠かせない金属はアルミニウムでありマグネシウム合金である。特に、マグネシウムは金属のなかでも最も軽く強度もあるが、耐食性に問題があり需要拡大に限界がある。ダイカスト及びプレス加工などで加工されたマグネシウム合金の防食は、多くが酸化皮膜処理、塗装によりその耐食性を付与しているのが、一般的である。
しかしながら、アルミニウム及びマグネシウム合金が強度、経済性から見ても有望な金属材料であるが、どちらの金属も酸及びアルカリに対する耐食性に欠けるため、地金の価値が生かされていないのが現状である。即ち酸化皮膜処理や塗装で耐食性を維持できたとしても、耐磨耗性、導電性及び耐衝撃性に問題があった。
マグネシウム合金は比重1.7とアルミニウムより30%も軽いメリットがあるが、上記のように、その耐食性に問題がある。一般的に、めっき方法には乾式法と湿式法とに分類されるが、マグネシウム合金上のめっきは、真空下での気相めっきのみ対応することができるのが現状である。なぜならば、マグネシウム合金は、酸及びアルカリにより腐食され、食塩水でも激しく発熱、腐食されるからである。一部ではマグネシウム合金の表面を亜鉛置換して無電解めっきが行われているが、マグネシウム合金のデメリットである耐食性をカバーするまでの完璧なものではない。酸化皮膜の生成法ではクローメート(6価のクロムの利用)などがあるが、クロムはそれを使用することによって起こる環境汚染のために厳しく規制され、将来的にはそれらを使わない処理方法が義務付けられている。このようにマグネシウム合金の耐食性の維持即ち防錆処理方法には限界があるという課題があった。
本発明は上記従来の問題点を解決するものであり、アルミニウム及びマグネシウム合金上に直接銅層及び銅層上にニッケル層を形成し、優れた耐食性の維持即ち防錆処理方法となるアルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法を提供することを目的とする。更に、チタニウム蒸着層と及び陽極酸化されたチタニウム蒸着層を形成することで高輝度で、且つ、様々な発色が可能な高耐食性を有するアルミニウム及びマグネシウム合金を提供することを目的とする。
本発明は、アルミニウム及びマグネシウム合金上に銅層及びニッケル層を形成する方法において、活性化溶液によりアルミニウム及びマグネシウム合金を前処理する工程と、湿式電気めっきによりアルミニウム及びマグネシウム合金上に直接銅層を形成する工程と、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成する工程とからなる構成を有している。
更に、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成した後、そのニッケル層上に蒸着によりチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層を形成する工程からなる構成を有している。
本発明は、アルミニウム及びマグネシウム合金の表面に打痕や傷などの凹凸があっても、従来の防錆処理方法のようにアルミニウム及びマグネシウム合金の表面が露出しないため、耐食性に優れ、また塗装や酸化皮膜のように絶縁性がないので電磁波シールドの効果が高く、携帯電話、パソコンなどのノイズ対策に大きな効果が得られる。また、銅―ニッケル層でアルミニウム及びマグネシウム合金の持つ耐食性という弱点をカバーすることが実現できる。更に、目的及び用途に応じて、蒸着によるチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層、金、白金などの多層めっきをすることが可能で、従来の塗装をすることも可能となるため、自動車、電子機器、電子部品、建築材料及び航空機などの幅広い産業分野に貢献することができるものである。
本発明の請求項1に記載した発明は、アルミニウム及びマグネシウム合金上に銅層及びニッケル層を形成する方法において、活性化溶液によりアルミニウム及びマグネシウム合金を前処理する工程と、湿式電気めっきによりアルミニウム及びマグネシウム合金上に直接銅層を形成する工程と、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成する工程とからなる構成であり、この構成とすることにより優れた耐食性の維持即ち防錆処理方法とすることができる。
請求項2に記載の発明は、銅めっき層を形成する前に活性化処理として、Na27を12〜15重量部、CHCOONa及びNHOHを10〜15重量部、および添加剤を用い、アルミニウム及びマグネシウム合金を前処理する構成であり、この構成とすることにより優れた耐食性の維持即ち防錆処理方法の活性化前処理とすることができる。
請求項3に記載の発明は、銅めっき液として、シアン銅めっき溶液(CuCN 30〜60重量部、NaCN 40〜60重量部、添加剤5%)と硫酸銅メッキ液(CuSO・5H2O 300〜400重量部、H2SO4 30〜50重量部、塩素イオン 30〜50重量部、添加剤2%)からなる溶液にて銅層を形成する構成であり、この構成とすることにより優れた耐食性の維持即ち防錆処理方法の銅めっき液とすることができる。
請求項4に記載の発明は、ニッケルめっき液としてNiSO4・6H2Oを150重量部、NH4Clを15重量部、ZnSO4・7H2Oを35重量部からなる溶液にてニッケル層を形成する構成であり、この構成とすることにより優れた耐食性の維持即ち防錆処理方法のニッケルめっき液とすることができる。
請求項5に記載の発明は、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成した後、そのニッケル層上に蒸着によりチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層を形成する構成であり、この構成とすることにより優れた耐食性と所定の高輝度発色を実現することができる。
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説明する。
図1は本発明の実施例1におけるマグネシウム合金への銅層及びニッケル層の組合せの概念図である。図1において、1はマグネシウム合金、2は銅めっき層、3はニッケルめっき層である。図2は本発明の実施例1における製造プロセスを示すフローチャートである。
以上のように、構成されたアルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法について以下説明する。
マグネシウム合金(AZ31B)を金型プレス加工或いはマグネシウム合金(AZ91D)をダイカストした母材1を製作する。次に、図2に示すように、マグネシウムの母材1の加工工程で表面に付着した油分などの脱脂処理を行う。脱脂処理は、55〜85℃の溶液で10分間処理し、油分を完全に除去、十分な水洗浄を行う。この際、脱脂液の母材表面の残留は、次工程のめっき工程での電気化学反応を悪化させ、ブリスターやピンホールの原因となるため、十分な水洗浄が必要である。水溶液組成を表1に示す。
Figure 2005200709
次に、図2に示すように、脱脂処理されたマグネシウム合金の母材1を表2に示す組成の水溶液に浸漬する。所定時間の経過後、常温で弱酸性の水溶液で3分間のリンスを行う。
Figure 2005200709
更に、表3に示すような組成の水溶液を用意し、図2に示すように、平滑に銅めっきするため弱酸性で洗浄されたマグネシウム合金の母材1の表面を活性化する。
Figure 2005200709
次に、図2に示すように、マグネシウム合金の母材1の表面に銅めっきを施す。はじめに母材との密着性を向上させるため、シアン銅めっき液で銅めっき層2を施す。シアン銅めっき液は、表4に示す組成の水溶液、温度、電圧、電流、電流作動時間に調整する。
Figure 2005200709
マグネシウム合金の母材1にシアン銅めっき液で銅めっき層2を形成した後、ピンホールなどの不具合を除去するため、硫酸銅めっき液で銅めっき層2を施し、補強する。これは、次工程におけるニッケルめっき層3との密着性を改善する効果をもたらす。表5に示す組成の水溶液、温度、電圧、電流、電流作動時間に調整することで、シアン銅めっき層の上に硫酸銅めっき液による銅めっき層2を形成することができる。
Figure 2005200709
次に、シアン銅めっき液と硫酸銅めっき液から形成した銅めっき層2に、耐磨耗性と密着性を向上させるために図2に示すように、ニッケルめっき層3を形成する。表6に示す組成の水溶液、温度、電圧、電流、電流作動時間に調整することで、銅めっき層2の上にニッケルめっき層3を形成する。
Figure 2005200709
マグネシウム合金の母材上の銅めっき層及びニッケルめっき層にファイル試験とテープ試験を実施し、その結果を表7に示す。
Figure 2005200709
表7から明らかなように、銅めっき及びニッケルめっきを施したした母材を切断し、表面を45度でヤスリがけしたファイル試験において、実施例1のN=7全てにおいて剥離が無かった。また、一般的な方法であるタングステンナイフで1mm間隔の並んだの引っかき傷をつけるテープ試験においても、剥離が無いことが確認された。
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説明する。
図3は本発明の実施例2におけるニッケル層上にチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層の組合せとの概念図である。図3において、1はマグネシウム合金の母材、2は銅めっき層、3はニッケルめっき層、4はチタニウム層、5は陽極酸化されたチタニウム層である。
以上のように、構成されたニッケル層上に蒸着によりチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層を形成するめっき方法について以下説明する。
実施例1と同様に、マグネシウム合金の母材1に銅めっき層2及びニッケル層3をめっき形成したものに、蒸着方法でチタニウム層4を形成するめっき方法を形成する。ついで、その形成されたチタニウム層4上にチタニウム層を形成し、そのチタニウム層に陽極酸化を施し、陽極酸化されたチタニウム層5即ち陽極酸化皮膜層を形成する。
マグネシウム合金の母材上の銅めっき層及びニッケルめっき層に形成されたチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層をファイル試験とテープ試験を実施し、その結果を表8に示す。
Figure 2005200709
表8から明らかなように、チタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層を形成した母材を切断し、表面を45度でヤスリがけしたファイル試験において、実施例2のN=7全てにおいて剥離が無かった。また、一般的な方法であるタングステンナイフで1mm間隔の並んだの引っかき傷をつけるテープ試験においても、剥離が無いことが確認された。めっきした製品を切断し、表面を45度でヤスリがけしたファイル試験においても実施例2のN=7全てにおいて剥離が無かったことが表8からわかる。更に、一般的な方法であるタングステンナイフで1mm間隔の並んだの引っかき傷をつけたテープ試験においても、剥離が無いことが確認できた。
耐食性を確認するために、発色させた7色のサンプルについて3%NaOH水溶液で耐食性試験をした結果を表9に示す。表9に示すように全てが腐食しなかったことがわかる。また、輝度も発色も変化は認められなかった。
Figure 2005200709
本発明の実施例1におけるマグネシウム合金への銅層及びニッケル層の組合せの概念図 本発明の実施例1における製造プロセスを示すフローチャート 本発明の実施例2におけるニッケル層上にチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層の組合せとの概念図
符号の説明
1 マグネシウム合金の母材
2 銅めっき層
3 ニッケルめっき層
4 チタニウム層
5 陽極酸化されたチタニウム層

Claims (5)

  1. アルミニウム及びマグネシウム合金上に銅層及びニッケル層を形成する方法において、活性化溶液によりアルミニウム及びマグネシウム合金を前処理する工程と、湿式電気めっきによりアルミニウム及びマグネシウム合金上に直接銅層を形成する工程と、湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成する工程とからなるアルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法。
  2. 銅めっき層を形成する前に活性化処理としてNa27を12〜15重量部、CHCOONa及びNHOHを10〜15重量部、および添加剤を用い、アルミニウム及びマグネシウム合金を前処理する請求項1記載のアルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法。
  3. 銅めっき液として、シアン銅めっき溶液(CuCN 30〜60重量部、NaCN 40〜60重量部、添加剤5%)と硫酸銅メッキ液(CuSO・5H2O 300〜400重量部、H2SO4 30〜50重量部、塩素イオン 30〜50重量部、添加剤2%)からなる溶液にて銅層を形成する請求項1記載のアルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法。
  4. ニッケルめっき液としてNiSO4・6H2Oを150重量部、NH4Clを15重量部、ZnSO4・7H2Oを35重量部からなる溶液にてニッケル層を形成する請求項1記載のアルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法。
  5. 湿式電気めっきにより銅層上にニッケル層を形成した後、そのニッケル層上に蒸着によりチタニウム層及び陽極酸化されたチタニウム層を形成する請求項1、請求項2、請求項3及び請求項4記載のアルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法。
JP2004008797A 2004-01-16 2004-01-16 アルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法 Pending JP2005200709A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004008797A JP2005200709A (ja) 2004-01-16 2004-01-16 アルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004008797A JP2005200709A (ja) 2004-01-16 2004-01-16 アルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005200709A true JP2005200709A (ja) 2005-07-28

Family

ID=34822017

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004008797A Pending JP2005200709A (ja) 2004-01-16 2004-01-16 アルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005200709A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010285660A (ja) * 2009-06-12 2010-12-24 Taiho Kogyo Co Ltd マグネシウム合金へのすずめっき方法及びマグネシウム合金のエッチング液
CN102021544A (zh) * 2010-12-24 2011-04-20 燕山大学 镁合金表面化学镀镍的溶液及其方法
JP2011137195A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Purotonikusu Kenkyusho:Kk 高耐食性Ni系複合めっき皮膜
CN104651890A (zh) * 2015-02-27 2015-05-27 黑龙江科技大学 低成本高耐腐蚀性能蒙乃尔合金涂层的制备方法
CN105803429A (zh) * 2014-12-31 2016-07-27 比亚迪股份有限公司 一种镁合金表面活化液、制备方法及活化方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010285660A (ja) * 2009-06-12 2010-12-24 Taiho Kogyo Co Ltd マグネシウム合金へのすずめっき方法及びマグネシウム合金のエッチング液
JP2011137195A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Purotonikusu Kenkyusho:Kk 高耐食性Ni系複合めっき皮膜
CN102021544A (zh) * 2010-12-24 2011-04-20 燕山大学 镁合金表面化学镀镍的溶液及其方法
CN105803429A (zh) * 2014-12-31 2016-07-27 比亚迪股份有限公司 一种镁合金表面活化液、制备方法及活化方法
CN104651890A (zh) * 2015-02-27 2015-05-27 黑龙江科技大学 低成本高耐腐蚀性能蒙乃尔合金涂层的制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Wu et al. Progress of electroplating and electroless plating on magnesium alloy
JP4626390B2 (ja) 環境保護を配慮したプリント配線板用銅箔
US20090211914A1 (en) Trivalent Chromium Electroplating Solution and an Operational Method Thereof
CN114555868B (zh) 电解箔及电池用集电体
JP2010242182A (ja) 缶用めっき鋼板
KR20060073941A (ko) 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어진 제품 및 이의제조방법
KR100693902B1 (ko) Nd-Fe-B계 영구자석의 2중 니켈 도금방법
JP2005200709A (ja) アルミニウム及びマグネシウム合金上に銅―ニッケルめっき層を形成するめっき方法
JP2006233315A (ja) マグネシウム合金部材及びその製造方法
JP3604572B2 (ja) マグネシウム合金部材のめっき方法およびマグネシウム合金めっき部材ならびに該部材のめっき剥離方法
JPS6318677B2 (ja)
CN110129779B (zh) 一种铝合金表面化学浸镀铁的方法
JP2009117706A (ja) フレキシブルプリント配線板用銅箔及びその製造方法、並びにフレキシブルプリント配線板
CN102936741A (zh) 一种铝或铝合金的预植电镀镍基合金的方法
JP3108923B1 (ja) マグネシウム合金の表面処理方法
KR100434968B1 (ko) 마그네슘 합금에 양극산화피막을 형성한 후 그 위에동도금층 및 니켈도금층을 전해도금으로 형성하는 방법
JP6892638B1 (ja) めっき部材およびめっき部材の製造方法
JP2006002239A (ja) マグネシウム合金のめっき皮膜形成方法
JP6274556B2 (ja) 電解めっき方法
JP2000219975A (ja) 表面処理されたMg合金およびその表面処理方法
JP2017172031A (ja) 亜鉛ホイスカーの発生を防止したメッキ品およびその製造方法
JP6839839B2 (ja) 黒色クロムメッキ方法
Runge et al. Plating on Aluminum
JP4242185B2 (ja) アルミニウムまたはアルミニウム合金のめっき前処理方法、めっき方法およびめっき品
Pearson Pretreatment of aluminium for electrodeposition

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20050926

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20050926

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051121

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060224