JP2005189029A - 基板汚染粒子検出方法およびその装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 回転板3上に基板5を載置し、モータ4の駆動により回転板3を回転させながらノズル6から洗浄液を噴射して洗浄工程を行う。水素終端された清浄なシリコンとなった基板表面に対してノズル6からIPA等の汚染粒子検出用液体を噴霧する。次いで気体制御ポート8から前記残存汚染粒子検出用液体と同一成分から成る気体を供給し、容器2内を飽和蒸気圧に保つ。回転板3をモータ4により回転して基板5を回転させると、基板5の外周程遠心力が大きいため、外側程薄い液体膜15が形成される。この液体膜15にレーザー光源11からレーザーを照射し、CCDカメラ13で受光すると同心円の干渉縞が観察され、微粒子16が存在すると干渉縞の乱れが大きく現れる。
【選択図】図1
Description
2 容器
3 回転板
4 モータ
5 基板
6 噴射ノズル
7 バルブ
8 気体制御ポート
9 バルブ
10 ビームスプリッター
11 レーザー光源
12 レンズ
13 CCDカメラ
14 レンズ
15 液体膜
16 微粒子
Claims (27)
- 洗浄後の基板表面に液体を接触させて液体膜を形成し、
前記液体膜の膜厚を基板表面の位置に応じて徐々に変化させ、
前記液体膜の膜厚の変化による干渉縞を観察し、
前記干渉縞の変化により基板表面の粒子を検出することを特徴とする基板汚染粒子検出方法。 - 前記液体膜の膜厚を基板表面の位置に応じて徐々に変化させるため、基板を回転させることを特徴とする請求項1記載の基板汚染粒子検出方法。
- 前記液体膜の膜厚を基板表面の位置に応じて徐々に変化させるため、基板を立てることを特徴とする請求項1記載の基板汚染粒子検出方法。
- 前記基板表面の位置に応じて徐々に変化した液体膜が所定の膜厚になったとき、それ以上の膜厚の変化を停止することを特徴とする請求項1記載の基板汚染粒子検出方法。
- 前記液体は基板表面の洗浄用液体であることを特徴とする請求項1記載の基板汚染粒子検出方法。
- 前記液体は純水、エタノール、イソプロピルアルコール、オゾン水、硝酸、過酸化水素水、リン酸、硫酸のいずれか、もしくはそれらのうちの複数を成分とする混合液であることを特徴とする請求項1記載の基板汚染粒子検出方法。
- 前記液体膜に単色光のレーザーを照射することを特徴とする請求項1記載の基板汚染粒子検出方法。
- 前記干渉縞をカメラにより撮影し、撮影映像により前記干渉縞の変化を観察することを特徴とするする請求項1記載の基板汚染粒子検出方法。
- 前記干渉縞の観察時には基板表面上の全体の干渉縞の中における、粒子によって変化した干渉縞の位置を計測することにより粒子の位置を検出することを特徴とする請求項1記載の基板汚染粒子検出方法。
- 前記基板はシリコンウエハーもしくは、ガラス基板であることを特徴とする請求項1記載の基板汚染粒子検出方法。
- 前記洗浄後の基板表面は、ベアシリコン表面、水素終端したシリコン表面、CVD等による堆積もしくは熱酸化やオゾン酸化で酸化膜を形成した表面、窒化シリコン膜表面、アモルファスシリコン膜表面、ポリシリコン膜表面のいずれかであることを特徴とする請求項1記載の基板汚染粒子検出方法。
- 前記基板への液体の接触は、スピンコートによる液体の噴射、液体中への浸漬、液体の霧状噴霧のいずれかであることを特徴とする請求項1記載の基板汚染粒子検出方法。
- 外部から液体を供給する液体供給手段と基板支持部材を内部に備え、透明な窓を備えた容器と、
基板表面に供給された液体による液体膜の膜厚を基板表面の位置に応じて徐々に変化させる膜厚変化手段と、
前記液体膜の膜厚の変化による干渉縞を前記窓を透して観察する干渉縞観察手段とを備え、
前記干渉縞の変化により基板表面の粒子を検出することを特徴とする基板汚染粒子検出装置。 - 前記液体膜の膜厚を基板表面の位置に応じて徐々に変化させる手段は、基板を回転させる手段であることを特徴とする請求項13記載の基板汚染粒子検出装置。
- 前記液体膜の膜厚を基板表面の位置に応じて徐々に変化させる手段は、基板を立てる手段であることを特徴とする請求項13記載の基板汚染粒子検出装置。
- 前記膜厚変化手段は、基板表面の液体膜が所定の膜厚になったとき、それ以上の膜厚の変化を停止することを特徴とする請求項13記載の基板汚染粒子検出装置。
- 前記液体は基板表面の洗浄用液体であることを特徴とする請求項13記載の基板汚染粒子検出装置。
- 前記液体は純水、エタノール、イソプロピルアルコール、オゾン水、硝酸、過酸化水素水、リン酸、硫酸のいずれか、もしくはそれらのうちの複数を成分とする混合液であることを特徴とする請求項13記載の基板汚染粒子検出装置。
- 前記干渉縞観察手段はレーザー光源を備え、該レーザー光源から単色光のレーザーを前記液体膜に照射することを特徴とする請求項13記載の基板汚染粒子検出装置。
- 前記干渉縞観察手段はカメラを備え、該カメラによりにより干渉縞を撮影し、撮影映像により前記干渉縞の変化を観察することを特徴とするする請求項1記載の基板汚染粒子検出装置。
- 前記干渉縞観察手段は、基板表面上の全体の干渉縞の中における、粒子によって変化した干渉縞の位置を計測することにより粒子の位置を検出することを特徴とする請求項13記載の基板汚染粒子検出装置。
- 前記基板はシリコンウエハーもしくは、ガラス基板であることを特徴とする請求項13記載の基板汚染粒子検出装置。
- 前記洗浄後の基板表面は、ベアシリコン表面、水素終端したシリコン表面、CVD等による堆積もしくは熱酸化やオゾン酸化で酸化膜を形成した表面、窒化シリコン膜表面、アモルファスシリコン膜表面、ポリシリコン膜表面のいずれかであることを特徴とする請求項13記載の基板汚染粒子検出装置。
- 前記基板への液体の接触は、スピンコートによる液体の噴射、液体中への浸漬、液体の霧状噴霧のいずれかであることを特徴とする請求項13記載の基板汚染粒子検出装置。
- 前記容器内には複数の基板を立てる基板立設手段を備え、各基板毎に液体の供給と、基板表面の干渉縞の観察を順に行うことを特徴とする請求項15記載の基板汚染粒子検出装置。
- 前記基板立設手段を容器内で移動する基板移動手段を備え、固定した液体供給ノズルと干渉縞観察手段の位置に基板を順に移動することを特徴とする請求項25記載の基板汚染粒子検出装置。
- 前記液体供給ノズルと干渉縞観察手段を移動する移動手段を備え、固定した各基板に対応する位置に順に液体供給ノズルと干渉縞観察手段を移動することを特徴とする請求項26記載の基板汚染粒子検出装置。
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