JP2005185876A - ハロゲン系ガスの処理方法および処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】吸着剤が乾燥した場合でもハロゲン系ガスを十分に吸着することができる方法および装置を提供する。
【解決手段】ハロゲン系ガスをNaHCO3に接触させる工程と、ハロゲン系ガスをCa(OH)2系吸着剤に吸着させる工程とを有するハロゲン系ガスの処理方法。ハロゲン系ガスの処理系統に、NaHCO3とCa(OH)2系吸着剤との混合物を充填したカラム、または上流側にNaHCO3層を、下流側にCa(OH)2系吸着剤層を充填したカラムを設けたハロゲン系ガスの処理装置。
【選択図】 図1
【解決手段】ハロゲン系ガスをNaHCO3に接触させる工程と、ハロゲン系ガスをCa(OH)2系吸着剤に吸着させる工程とを有するハロゲン系ガスの処理方法。ハロゲン系ガスの処理系統に、NaHCO3とCa(OH)2系吸着剤との混合物を充填したカラム、または上流側にNaHCO3層を、下流側にCa(OH)2系吸着剤層を充填したカラムを設けたハロゲン系ガスの処理装置。
【選択図】 図1
Description
本発明は、ハロゲン系ガス処理装置に関する。
従来、ハロゲン系ガス(ハロゲン化物たとえばHCl、ハロゲンたとえばCl2またはこれらの混合物)は、NaOHなどを用いた湿式の苛性スクラバーにより処理されている。苛性スクラバーは処理効率が高いが、大量の液体廃棄物を生成し、液体廃棄物の後処理が問題となる。また、苛性スクラバーは、毒性副生物を生成することがあるので、安全性の面でもより一層配慮する必要がある。
一方、吸着剤としてソーダライム(Ca(OH)2+NaOH)、石灰石(CaCO3)またはアルミナ(Al2O3)のような固体を用いて、ハロゲン系ガスを乾式処理することも行われている(例えば、特許文献1参照)。しかし、吸着剤による処理では、吸着剤をN2フローなどによって乾燥して水分含有量を減少させた場合に、吸着容量が減少することがわかっている。
特開2001−338910号公報
本発明の目的は、吸着剤が乾燥した場合でもハロゲン系ガスを十分に吸着することができる方法および装置を提供することにある。
本発明に係るハロゲン系ガスの除去方法は、ハロゲン系ガスをNaHCO3に接触させる工程と、ハロゲン系ガスをCa(OH)2系吸着剤に吸着させる工程とを有することを特徴とする。
本発明の一態様に係るハロゲン系ガスの除去装置は、ハロゲン系ガスの処理系統に、NaHCO3とCa(OH)2系吸着剤との混合物を充填したカラムを設けたことを特徴とする。
本発明の他の態様に係るハロゲン系ガスの除去装置は、ハロゲン系ガスの処理系統に、上流側にNaHCO3層を、下流側にCa(OH)2系吸着剤層を充填したカラムを設けたことを特徴とする。
本発明のさらに他の態様に係るハロゲン系ガスの除去装置は、ハロゲン系ガスの処理系統に、NaHCO3層を充填した上流側の第1のカラムと、Ca(OH)2系吸着剤層を充填した下流側の第2のカラムとを設けたことを特徴とする。
本発明によれば、NaHCO3がハロゲン系ガスと反応することにより水を生成するので、Ca(OH)2系吸着剤を常に湿潤状態にすることができ、Ca(OH)2系吸着剤によるハロゲン系ガスの吸着容量を十分に維持することができる。
以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明において、ハロゲン系ガスとは、ハロゲン化物、ハロゲン、またはこれらの混合物のことをいう。本発明は、空気や窒素に混入したハロゲン系ガスを吸着により除去する方法および装置を対象としている。
本発明者らは、ハロゲン化物単独、ハロゲン単独、およびハロゲン化水素とハロゲンとの混合物(たとえばHCl/Cl2)に対して吸着剤による処理を行い、その吸着容量を検討してきた。その結果、多くの吸着剤は、ハロゲン化物単独に対する吸着容量が比較的高いが、ハロゲン単独に対する吸着容量が比較的低く、ハロゲン化水素とハロゲンとの混合物に対する吸着容量が特に低い場合が多いことを見出した。後述するように、本発明ではハロゲン単独またはハロゲン化水素とハロゲンとの混合物に対しても、高い吸着容量が得られる点に特徴がある。
本発明において、Ca(OH)2系吸着剤としては、Ca(OH)2やソーダライム(Ca(OH)2+NaOH)などが挙げられる。以下で説明する試験においては、Ca(OH)2としてズードケミー触媒株式会社から購入したN620Bを用い、ソーダライムとして和光純薬から購入したものを用いた。N620Bは85重量%以上のCa(OH)2と約2.5%のFe2O3を主成分として含有する。
以下に説明する試験は、図1に示した本発明に係るハロゲン系ガス処理装置を用いて実施した。図1において、カラム10に吸着剤が充填される。カラム10へは、マスフローコントローラー1を通して窒素ガスが、マスフローコントローラー2を通して塩素ガスシリンダ4からの塩素ガスが、マスフローコントローラー3を通して塩化水素ガスシリンダ4からの塩化水素ガスがそれぞれ供給される。カラム10を通過したガスはサンプリングポート6で採取されて分析される。
まず、本発明者らは、Cl2を効果的に除去できる吸着剤を探索するためにスクリーニングテストを行った。このスクリーニングテストでは次の2つの基準を採用した。(1)吸着容量が大きいこと。ここで、吸着容量とは、Cl2の線速度を増加させながらCl2を吸着剤に吸着させる実験を行ったときに吸着剤からCl2が放出されるようになる線速度(しきい値線速度、TLV値)を超える前に吸着剤によって保持されるCl2の体積と定義される。(2)いったんCl2が吸着剤に吸着されれば、不活性ガスパージに切り換えたときにもCl2が吸着剤から脱着しないこと。表1に各種吸着剤の吸着容量を示す。
表1からわかるように、ソーダライム、Ca(OH)2[N620B]、および機能性活性炭(FAC)は、大きなCl2吸着容量を示している。活性炭のCl2吸着容量は、50℃においては、ソーダライム、N620B、FACと同等である。しかし、各吸着剤からのCl2の脱着を測定したところ、ソーダライム、N620BおよびFACからの脱着は検出されなかったのに対し、50℃に加熱された活性炭からは脱着が認められた。したがって、表1の結果によれば、上述したCl2の吸着除去の基準を満足する吸着剤はソーダライム、N620BおよびFACであるといえる。
次に、本発明者らは、Cl2の吸着に対する吸着剤中の水分の影響について検討した。その結果を表2に示す。購入したまま(未処理)のソーダライム、N620BおよびFACのCl2吸着容量と、室温で15時間窒素を流すことにより乾燥処理を施したソーダライム、N620BおよびFACのCl2吸着容量とを比較した。表2から明らかなように、いずれの吸着剤も、乾燥状態ではCl2吸着容量が減少した。乾燥した吸着剤に対して15時間にわたって窒素バブリング(200sccm)を施すことにより再び湿潤させると、Cl2吸着容量が増加した。したがって、吸着剤中の水分はCl2吸着容量に対して重量な要因であることがわかる。
次いで、ソーダライムおよびN620Bについて、Cl2、HClおよびHCl/Cl2混合物の吸着容量を調べた。その結果を表3に示す。ソーダライムおよびN620Bのいずれも、HCl吸着容量の方がCl2吸着容量よりも高い。しかし、ソーダライムおよびN620Bのいずれも、HCl/Cl2吸着容量は低い。乾燥処理を施したソーダライムはHCl/Cl2吸着容量がゼロになるが、乾燥処理を施したN620Bは初期値の約1/2程度のHCl/Cl2吸着容量を維持している。
以上の結果から、Cl2、HClおよびHCl/Cl2混合物を処理するための吸着剤としてはN620Bが最も適しているといえるが、乾燥時の吸着容量低下およびハロゲン化物/ハロゲン混合物に対する吸着容量低下が課題として残っている。
本発明は、Ca(OH)2系吸着剤に加えてNaHCO3を併用すれば、NaHCO3がハロゲン系ガスと反応することにより水を生成してCa(OH)2系吸着剤を常に湿潤状態に保つことができ、ハロゲン系ガスの吸着容量を維持できることを見出すことによりなされたものである。
Gibbsエネルギーの計算から判断して、NaHCO3はハロゲン系ガスと以下のような反応を起こすことが有利であると考えられる。
HCl+NaHCO3→NaCl+CO2+H2O(g)
ΔG=−58.7KJ/mol ・・・(1)、
Cl2+NaHCO3→NaCl+HCl(g)+CO2+0.5O2
ΔG=−244KJ/mol ・・・(2)。
HCl+NaHCO3→NaCl+CO2+H2O(g)
ΔG=−58.7KJ/mol ・・・(1)、
Cl2+NaHCO3→NaCl+HCl(g)+CO2+0.5O2
ΔG=−244KJ/mol ・・・(2)。
したがって、ハロゲン系ガスをNaHCO3に接触させると、次のような効果が得られる。すなわち、(1)式に示すようにHClがNaHCO3と反応すると水が生成するので、Ca(OH)2系吸着剤が乾燥するのを防止して高い吸着容量を維持できる。(2)式に示すようにCl2がNaHCO3と反応した場合にはHClが生成し、生成したHClがNaHCO3と反応するので上記と同じ効果が得られる。また、Cl2とNaHCO3との反応により生成するHClはCa(OH)2系吸着剤によって吸着されやすい(表3参照)ので、HCl/Cl2混合物に対する吸着容量の低下を避けることができる。
図2〜図4を参照して、NaHCO3とCa(OH)2系吸着剤とを併用する実施形態を説明する。
図2は、ハロゲン系ガスの処理系統(たとえば図1)に1つのカラム10を設け、このカラム10に、NaHCO311とCa(OH)2系吸着剤12との混合物を充填した実施形態である。
図2は、ハロゲン系ガスの処理系統(たとえば図1)に1つのカラム10を設け、このカラム10に、NaHCO311とCa(OH)2系吸着剤12との混合物を充填した実施形態である。
図3は、ハロゲン系ガスの処理系統に1つのカラム10を設け、このカラム10の上流側にNaHCO3層13を、下流側にCa(OH)2系吸着剤層14を充填した実施形態である。
図4は、ハロゲン系ガスの処理系統に設けた2つのカラム10、10’を設け、上流側の第1のカラム10にNaHCO315を充填し、下流側の第2のカラム10’にCa(OH)2系吸着剤16を充填した実施形態である。
まず、未処理のソーダライム、乾燥ソーダライム、およびNaHCO3(旭硝子株式会社製)と乾燥ソーダライムとの混合物(図2の実施形態)、を用いて、Cl2吸着容量を比較した。試験条件は、濃度2%Cl2/N2、流速1cm/secとした。これらの条件は表2の試験条件に近い。その結果は、以下の通りであった。
未処理ソーダライムのCl2吸着容量=34.9cc/g吸着剤
乾燥ソーダライムのCl2吸着容量=9.8cc/g吸着剤
NaHCO3と乾燥ソーダライムとの混合物のCl2吸着容量=36.5cc/g吸着剤
このように、NaHCO3と乾燥ソーダライムとの混合物では、Cl2吸着容量が乾燥ソーダライムおよび未処理ソーダライムのいずれと比較しても増加することが判明した。
未処理ソーダライムのCl2吸着容量=34.9cc/g吸着剤
乾燥ソーダライムのCl2吸着容量=9.8cc/g吸着剤
NaHCO3と乾燥ソーダライムとの混合物のCl2吸着容量=36.5cc/g吸着剤
このように、NaHCO3と乾燥ソーダライムとの混合物では、Cl2吸着容量が乾燥ソーダライムおよび未処理ソーダライムのいずれと比較しても増加することが判明した。
次に、図2〜図4の実施形態のハロゲン系ガス処理装置により、HCl/Cl2ガスを除去する処理を行い、吸着容量を調べた結果を表4に示す。
NaHCO3(旭硝子株式会社製)と乾燥Ca(OH)2[N620B]との混合物を充填したカラムを使用した場合(図2の実施形態)の吸着容量は、乾燥N620Bのみを充填したカラムを使用した参照例2の吸着容量(50.0cc/g吸着剤)と比較して約16.0〜18.6%増加している。
NaHCO3(旭硝子株式会社製)と乾燥Ca(OH)2[N620B]との混合物を充填したカラムを使用した場合(図2の実施形態)の吸着容量は、乾燥N620Bのみを充填したカラムを使用した参照例2の吸着容量(50.0cc/g吸着剤)と比較して約16.0〜18.6%増加している。
上流側にNaHCO3層を、下流側に乾燥N620Bを充填したカラムを使用した場合(図3の実施形態)の吸着容量は、乾燥N620Bのみを充填したカラムを使用した参照例2の吸着容量と比較して約36.6〜40.0%増加し、未処理N620Bのみを充填したカラムを使用した参照例1の吸着容量(71.6cc/g吸着剤)に匹敵する。
NaHCO3を充填した上流側の第1のカラムと、乾燥N620Bを充填した下流側の第2のカラムとを使用した場合(図4の実施形態)の吸着容量は、乾燥N620Bのみを充填したカラムを使用した参照例2の吸着容量と比較して約28.8〜30.0%増加している。ただし、図4の実施形態は、図3の実施形態よりも吸着容量が劣っている。
1〜3…マスフローコントローラー、4…塩素ガスシリンダ、5…塩化水素ガスシリンダ、6…サンプリングポート、10、10’…カラム、11…NaHCO3、12…Ca(OH)2系吸着剤、13…NaHCO3層、14…Ca(OH)2系吸着剤層、15…NaHCO3、16…Ca(OH)2系吸着剤。
Claims (5)
- ハロゲン系ガスをNaHCO3に接触させる工程と、ハロゲン系ガスをCa(OH)2系吸着剤に吸着させる工程とを有することを特徴とするハロゲン系ガスの処理方法。
- 前記ハロゲン系ガスは、ハロゲン化物、ハロゲンまたはこれらの混合物であることを特徴とする請求項1に記載のハロゲン系ガスの処理方法。
- ハロゲン系ガスの処理系統に、NaHCO3とCa(OH)2系吸着剤との混合物を充填したカラムを設けたことを特徴とするハロゲン系ガスの処理装置。
- ハロゲン系ガスの処理系統に、上流側にNaHCO3層を、下流側にCa(OH)2系吸着剤層を充填したカラムを設けたことを特徴とするハロゲン系ガスの処理装置。
- ハロゲン系ガスの処理系統に、NaHCO3層を充填した上流側の第1のカラムと、Ca(OH)2系吸着剤層を充填した下流側の第2のカラムとを設けたことを特徴とするハロゲン系ガスの処理装置。
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JP2003426877A JP2005185876A (ja) | 2003-12-24 | 2003-12-24 | ハロゲン系ガスの処理方法および処理装置 |
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JPWO2007135823A1 (ja) * | 2006-05-19 | 2009-10-01 | 旭硝子株式会社 | ハロゲン系ガスの除去方法及びハロゲン系ガスの除去剤 |
-
2003
- 2003-12-24 JP JP2003426877A patent/JP2005185876A/ja not_active Withdrawn
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