JP2005177614A - 硫黄化合物の除去方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 塩化水素および/または塩素を含有するガス中に含まれる硫黄化合物の除去方法であって、硫黄化合物が効率的に除去され、また100体積ppb以下の低濃度の硫黄化合物を除去できる方法を提供する。
【解決手段】 塩化水素および/または塩素を含有するガス中に含まれる硫黄化合物を、周期律表の8族、9族若しくは10族の金属および周期律表の8族、9族若しくは10族化合物の中から選ばれる少なくとも1種類の金属または化合物と接触させる硫黄化合物の除去方法。 塩化水素を含有するガスとしては、水素と塩素の反応、塩素化合物の熱分解反応や燃焼反応、有機化合物のホスゲン化反応または塩素化反応、クロロフルオロアルカンの製造、塩酸の加熱、焼却炉の燃焼等において発生した塩化水素を含むいかなるものを使用することができる。
【選択図】 なし

Description

本発明は、硫黄化合物の除去方法に関するものである。更に詳しくは、本発明は、塩化水素および/または塩素を含有するガス中に含まれる硫黄化合物を除去する方法であって、硫黄化合物が効率的に除去され、また100体積ppb以下の低濃度の硫黄化合物を除去できるという優れた特徴を有する硫黄化合物の除去方法に関するものである。
塩素を含有するガス中に含まれる硫黄化合物を除去する方法は公知である。たとえば、特許文献1には、酸化クロム触媒の存在下、塩化水素と含酸素ガスを原料ガスに用いて塩化水素の酸化反応を行い、生成ガスを硫酸で洗浄脱水し、生成ガス中の塩素を圧縮冷却して分離回収し、塩素分離後の酸素を主成分とする塩素回収残ガスを原料の一部として再利用する塩素の製造方法において、塩素回収残ガス中に含まれる硫酸ミストを除去材で除去する方法が記載されている。しかしながら、かかる方法においては、例示されている除去材では硫黄成分の吸着除去が充分には行われないという問題があった。
特開平6−171907号公報
かかる状況において、本発明が解決しようとする課題は、塩化水素および/または塩素を含有するガス中に含まれる硫黄化合物を除去する方法であって、硫黄化合物が効率的に除去され、また100体積ppb以下の低濃度の硫黄化合物を除去できるという優れた特徴を有する硫黄化合物の除去方法を提供する点に存する。
すなわち、本発明は、塩化水素および/または塩素を含有するガス中に含まれる硫黄化合物を、周期律表の8族、9族若しくは10族の金属および周期律表の8族、9族若しくは10族化合物の中から選ばれる少なくとも1種類の金属または化合物と接触させる硫黄化合物の除去方法に係るものである。
本発明により、塩化水素および/または塩素を含有するガス中に含まれる硫黄化合物を周期律表の8族、9族または10族の金属または化合物のうち、少なくとも1種類の金属または化合物と接触させる硫黄化合物の除去方法であって、硫黄化合物が効率的に除去され、また100体積ppb以下の低濃度の硫黄化合物を除去できる方法を提供することができる。
本発明においては、塩化水素および/または塩素を含有するガス中に含まれる硫黄化合物を周期律表の8族、9族若しくは10族の金属および周期律表の8族、9族若しくは10族化合物の中から選ばれる少なくとも1種類の金属または化合物と接触させる必要がある。このことにより、塩化水素および/または塩素を含有するガス中に含まれる硫黄化合物が効率的に除去され、また100体積ppb以下の低濃度の硫黄化合物を除去できる。
塩化水素を含有するガスとしては、水素と塩素の反応、塩素化合物の熱分解反応や燃焼反応、有機化合物のホスゲン化反応または塩素化反応、クロロフルオロアルカンの製造、塩酸の加熱、焼却炉の燃焼等において発生した塩化水素を含むいかなるものを使用することができる。
塩素化合物の熱分解反応としては、1,2−ジクロロエタンから塩化ビニルの製造、クロロジフルオロメタンからテトラフルオロエチレンの製造などが挙げられる。
有機化合物のホスゲン化反応としては、アミン化合物とホスゲンとの反応によるイソシアネートの製造、ヒドロキシ化合物とホスゲンとの反応による炭酸エステルの製造が挙げられる。
有機化合物の塩素化反応としては、プロピレンと塩素との反応による塩化アリルの製造、エタンと塩素との反応による塩化エチルの製造、1,2−ジクロロエタンと塩素との反応によるトリクロロエチレンとテトラクロロエチレンの製造、ベンゼンと塩素との反応によるクロロベンゼンの製造などが挙げられる。
クロロフルオロアルカンの製造としては、四塩化炭素とフッ化水素との反応によるジクロロジフルオロメタンとトリクロロモノフルオロメタンの製造、メタンと塩素とフッ化水素との反応によるジクロロジフルオロメタンとトリクロロモノフルオロメタンの製造などが挙げられる。
塩素を含有するガスとしては、食塩の電気分解、塩酸または塩化水素の電気分解、塩化水素と酸素との反応等において発生した塩素を含むいかなるものを使用することができる。
塩化水素および/または塩素を含有するガス中に含まれる硫黄化合物としては、硫酸(HSO)、三酸化硫黄(SO)、二酸化硫黄(SO)、硫化水素(HS)、硫化カルボニル(COS)などが挙げられる。これらの硫黄化合物は通常ミスト状またはガス状で含まれており、例えば、硫酸は通常ミスト状で含まれ、三酸化硫黄、二酸化硫黄、硫化水素、硫化カルボニルはガス状で含まれている。
周期律表の8族金属としては、Fe、RuまたはOs、9族金属としてはCo、RhまたはIr、10族金属としてはNi、PdまたはPtが挙げられる。
8族、9族または10族の化合物としては、8族、9族または10族の元素を含有するハロゲン化物およびその水和物、酸化物およびその水和物、過塩素酸塩およびその水和物、硝酸塩およびその水和物、炭酸塩およびその水和物、ハロゲン化酸、その塩およびその水和物、アンミン錯塩およびその水和物、有機酸塩およびその水和物、カルボニル錯体、ヒドロキシ酸、その塩およびその水和物が挙げられる。ハロゲン化物およびその水和物としては、FeCl、FeCl、FeBr、FeBr、FeI、CoCl、CoBr、CoI、NiCl、NiI、RuCl、RhCl、RhBr、PdCl、IrCl、IrBr、IrCl、OsCl、PtClまたはPtClおよびその水和物などが挙げられる。酸化物およびその水和物としては、FeO、Fe、Fe、CoO、Co、Co、CoO、NiO、Ni、Ni、NiO、RuO、RuO、Rh、PdO、OsO,IrOまたはPtOおよびその水和物などが挙げられる。過塩素酸塩およびその水和物としては、Fe(ClO、Fe(ClO、Co(ClO、Ni(ClOまたはRh(ClOおよびその水和物などが挙げられる。硝酸塩およびその水和物としては、Fe(NO、Ni(NO、Co(NO、Ru(NOまたはRh(NOおよびその水和物などが挙げられる。炭酸塩およびその水和物としては、NiCOおよびその水和物などが挙げられる。ハロゲン化酸、その塩およびその水和物としては、HRuCl、HRhCl、(NHRhCl、HRhBr、KOsO、HIrCl、HIrCl、HIrBr、NaIrCl、NaIrCl、KIrCl、KIrCl、(NHIrCl、KIrBr、HPtCl、NaPtCl、KPtCl、(NHPtCl、HPtCl、KPtCl、(NHPtCl、HPtBr、KPtBr、(NHPtBrまたはKPtBrおよびその水和物などが挙げられる。アンミン錯塩およびその水和物としては、Rh(NHCl、Pt(NHCl、Pt(NH(NO、Pt(NHCOまたはPt(NH(CHCOO)およびその水和物などが挙げられる。有機酸塩およびその水和物としては、Rh(CHCOO)およびその水和物などが挙げられる。カルボニル錯体としては、Rh(CO)12またはRh(CO)16などが挙げられる。ヒドロキシ酸、その塩およびその水和物としては、HPt(OH)またはNaPt(OH)およびその水和物などが挙げられる。
本発明においては、周期律表の8族、9族または10族の金属または化合物が、Ru、Rh、Ir、PdまたはPtの金属または化合物の中から選ばれる少なくとも1種類の金属または化合物であることが、硫黄化合物を効率的に除去できるために好ましく、中でもRu、Rh、Ir、PdまたはPtの金属の中から選ばれる少なくとも1種類の金属であることが、硫黄化合物を更に効率的に除去できるために好ましい。
本発明においては、周期律表の8族、9族または10族の金属または化合物が、8族、9族または10族の金属または化合物を担体に担持した担持型の化合物であることが、該金属または該化合物の使用量に対して硫黄化合物が効率的に除去されるために好ましい。
担体としては、活性炭、アルミナ、チタニア、シリカ、ジルコニアまたはゼオライトなどが挙げられる。
周期律表の8族、9族または10族の金属または化合物を担体に担持する方法としては、該金属または該化合物の水溶液中に担体を含浸させ、続いて乾燥させる方法、または該乾燥後に水素、窒素、酸素または空気流通下に焼成を行う方法が挙げられる。
担持型の化合物中に担持される8族、9族または10族の金属または化合物の担持量は、0.01質量%以上10質量%以下が好ましく、0.1質量%以上5質量%以下が更に好ましい。担持量が少なすぎる場合には硫黄化合物が充分に除去できないことがあり、担持量が多すぎる場合には8族、9族または10族の金属または化合物の使用量に対する硫黄化合物の除去される効率が低くなり経済的でないことがある。
担持型の化合物としては、活性炭担持ルテニウム、アルミナ担持ルテニウム、チタニア担持ルテニウム、シリカ担持ルテニウム、ジルコニア担持ルテニウム、ゼオライト担持ルテニウム、活性炭担持ロジウム、アルミナ担持ロジウム、チタニア担持ロジウム、シリカ担持ロジウム、ジルコニア担持ロジウム、ゼオライト担持ロジウム、活性炭担持イリジウム、アルミナ担持イリジウム、チタニア担持イリジウム、シリカ担持イリジウム、ジルコニア担持イリジウム、ゼオライト担持イリジウム、活性炭担持パラジウム、アルミナ担持パラジウム、チタニア担持パラジウム、シリカ担持パラジウム、ジルコニア担持パラジウム、ゼオライト担持パラジウム、活性炭担持白金、アルミナ担持白金、チタニア担持白金、シリカ担持白金、ジルコニア担持白金またはゼオライト担持白金などが挙げられる。
本発明においては、塩化水素および/または塩素を含有するガスが、該ガス中の水分を除去するために硫酸と接触したガスであることが好ましい。硫酸と接触したガス中には硫酸が通常ミスト状で含まれており、周期律表の8族、9族または10族の金属または化合物の中から選ばれる少なくとも1種類の金属または化合物と接触させることにより、該硫酸ミストが除去される。
本発明においては、塩化水素および/または塩素を含有するガスが、塩化水素と酸素を塩素と水に変換する反応に供給される塩化水素であることが好ましい。特開平6−171907号公報には、原料ガス中に硫酸ミストが含まれることにより、酸化クロム触媒表面に触媒毒となる硫黄成分が蓄積し、これにより触媒の活性低下が生じ、長期安定活性を維持することが困難であることが記載されている。塩化水素と酸素を塩素と水に変換する反応に供給される塩化水素を周期律表の8族、9族または10族の金属または化合物の中から選ばれる少なくとも1種類の金属または化合物と接触させて該塩化水素中の硫黄化合物を除去することにより、触媒の長期安定活性を維持することができる。
塩化水素と酸素を塩素と水に変換する反応の触媒としては、酸化ルテニウムを含む触媒、好ましくは酸化ルテニウムおよびチタニアを含む触媒が用いられる。酸化ルテニウムを含む触媒は、たとえば、特許3284879号公報、特開平10−338502号公報、特開2002−292279号公報に記載されている。酸化ルテニウムおよびチタニアを含む触媒は、たとえば、特開2000−229239号公報、特開2000−281314号公報、特開2002−79093号公報に記載されている。
塩化水素と酸素を塩素と水に変換する反応の方式としては、たとえば、特開2000−34105号公報、特開2000−272906号公報、特開2000−272907号公報、特開2001−199710号公報に記載されている。
本発明においては、塩化水素および/または塩素を含有するガスが、塩化水素と酸素を塩素と水に変換する反応を行い、次いで未反応酸素と生成塩素を主成分とするガスを未反応塩化水素と生成水からなる塩酸と分離し、次いで得られた未反応酸素と生成塩素を主成分とするガス中の水分を除去し、次いで圧縮冷却して未反応酸素を主成分とするガスを液化塩素と分離し、次いで得られた未反応酸素を主成分とするガスを塩化水素と酸素を塩素と水に変換する反応の酸素の一部分として再利用されるガスであることが好ましい。該未反応酸素を主成分とするガスを周期律表の8族、9族または10族の金属または化合物の中から選ばれる少なくとも1種類の金属または化合物と接触させて該塩化水素中の硫黄化合物を除去することにより、触媒の長期安定活性を維持することができる。
本発明においては、塩化水素および/または塩素を含有するガス中に含まれる硫黄化合物を周期律表の8族、9族または10族の金属または化合物の中から選ばれる少なくとも1種類の金属または化合物と接触させる方法としては、該金属または該化合物が充填物として充填された塔に該ガスを供給して接触させる固定床流通方式、または流動層流通方式等があげられるが、固定床流通方式が好ましい。流動層流通方式は、該金属または該化合物がガスに同伴されて飛散する場合がある。
固定床流通方式の場合、充填物の形状は、球形粒状、円柱形ペレット状、押出形状、リング形状、ハニカム状あるいは成型後に粉砕分級した適度の大きさの顆粒状等で用いられる。この際、充填物の直径としては5mm以下が好ましい。充填物の直径が5mmを越えると、硫黄化合物が十分に除去されないことがある。充填物の直径の下限は特に制限はないが、過度に小さくなると、充填層での圧力損失が大きくなるため、通常は0.5mm以上のものが用いられる。なお、ここでいう充填物の直径とは、球形粒状では球の直径、円柱形ペレット状では断面の直径、その他の形状では断面の最大直径を意味する。
接触温度は通常−40℃以上300℃以下、好ましくは−20℃以上100℃以下、更に好ましくは−20℃以上50℃以下である。温度が低すぎると冷却装置が過大になり経済的でないことがあり、温度が高すぎると硫黄化合物が除去されないことがある。
接触圧力は通常0.1MPa以上3.0MPa以下、好ましくは0.1MPa以上1.0MPa以下である。圧力が高すぎると、圧縮装置が過大になり経済的でないことがある。
固定床流通方式の場合、ガスと充填物との接触時間は、充填物が充填された塔を通過させるガスの単位時間あたりの流量(絶対圧力0.1MPaおよび0℃換算)に対する塔の体積との比(GHSV)で表すと、通常1hr−1以上10000hr−1以下である。空塔基準のガス線速度(LV)は、通常0.01m/sec以上10m/sec以下である。空塔基準のガス線速度は、充填物が充填された塔を通過させるガスの単位時間あたりの流量(絶対圧力0.1MPaおよび0℃換算)と塔の断面積との比で表される。
以下、本発明を実施例により説明する。
実施例1
0.7質量%のルテニウムが活性炭に担持された活性炭担持ルテニウム(エヌ・イーケムキャット社製)をガラス製の塔(内径6mm)に充填した。充填量は1.30gで、充填長さは141mmであった。充填された塔の体積は3.98cmと計算される。
この塔に、硫酸ミスト(HSO)を52体積ppb含む塩化水素ガスを340ml/min(絶対圧力0.1MPa、0℃換算)で塔のまわりの外気温度15〜25℃、塔内の圧力0.1MPaで連続的に供給して通過させた。GHSVは5120hr−1、LVは0.20m/secと計算される。
ガスの供給から92時間後に、塔を通過した後の塩化水素ガス中の硫酸ミストを測定した結果を表1に示す。
比較例1
活性炭担持ルテニウムの代わりに活性炭(エヌ・イーケムキャット社製)を用いたことと、塔に供給した塩化水素ガス中の硫酸ミスト(HSO)が30体積ppbであること以外は同様にして行った。
充填量は1.33gで、充填長さは140mmであった。充填された塔の体積は3.96cmで、GHSVは5156hr−1、LVは0.20m/secと計算される。
ガスの供給から94時間後に、塔を通過した後の塩化水素ガス中の硫酸ミストを測定した結果を表1に示す。
比較例2
活性炭担持ルテニウムの代わりにアルミナ(住友化学工業社製、商品名はNKHD−24)を用いたことと、硫酸ミスト(HSO)を61体積ppb含む塩化水素ガスを273ml/min(絶対圧力0.1MPa、0℃換算)で塔に供給したこと以外は同様にして行った。
充填量は1.32gで、充填長さは93mmであった。充填された塔の体積は2.63cmで、GHSVは6232hr−1、LVは0.16m/secと計算される。
ガスの供給から88時間後に、塔を通過した後の塩化水素ガス中の硫酸ミストを測定した結果を表1に示す。






Figure 2005177614

Claims (6)

  1. 塩化水素および/または塩素を含有するガス中に含まれる硫黄化合物を、周期律表の8族、9族若しくは10族の金属および周期律表の8族、9族若しくは10族化合物の中から選ばれる少なくとも1種類の金属または化合物と接触させる硫黄化合物の除去方法。
  2. 金属または化合物が、Ru、Rh、Ir、PdまたはPtの中から選ばれる少なくとも1種類の金属または化合物である請求項1記載の方法。
  3. 金属が、Ru、Rh、Ir、PdまたはPtの中から選ばれる少なくとも1種類の金属である請求項1記載の方法。
  4. 金属または化合物が、8族、9族または10族の金属または化合物を担体に担持した担持型の化合物である請求項1記載の方法。
  5. 塩化水素および/または塩素を含有するガスが、該ガス中の水分を除去するために硫酸と接触したガスである請求項1記載の方法。
  6. 塩化水素および/または塩素を含有するガスが、塩化水素と酸素を塩素と水に変換する反応に供給される塩化水素である請求項1記載の方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006117528A (ja) * 2005-12-08 2006-05-11 Sumitomo Chemical Co Ltd 塩素の製造方法
DE102007020146A1 (de) 2007-04-26 2008-10-30 Bayer Materialscience Ag Verfahren zur Reinigung und Oxidation eines Chlorwasserstoff enthaltenden Gases
DE102007020444A1 (de) 2007-04-27 2008-11-06 Bayer Materialscience Ag Verfahren zur Oxidation eines Chlorwasserstoffenthaltenden Gasgemisches
WO2010050546A1 (ja) 2008-10-30 2010-05-06 住友化学株式会社 塩素の製造方法
EP3730202A1 (de) * 2019-04-26 2020-10-28 Covestro Deutschland AG Verfahren zur reinigung von schwefelhaltigen korrosiven prozessgasen

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006117528A (ja) * 2005-12-08 2006-05-11 Sumitomo Chemical Co Ltd 塩素の製造方法
DE102007020146A1 (de) 2007-04-26 2008-10-30 Bayer Materialscience Ag Verfahren zur Reinigung und Oxidation eines Chlorwasserstoff enthaltenden Gases
WO2008131869A1 (de) * 2007-04-26 2008-11-06 Bayer Materialscience Ag Verfahren zur reinigung und oxidation eines chlorwasserstoff enthaltenden gases
DE102007020444A1 (de) 2007-04-27 2008-11-06 Bayer Materialscience Ag Verfahren zur Oxidation eines Chlorwasserstoffenthaltenden Gasgemisches
EP1992592A2 (de) 2007-04-27 2008-11-19 Bayer MaterialScience AG Verfahren zur Oxidation eines Chlorwasserstoff enthaltenden Gasgemisches
JP2009001477A (ja) * 2007-04-27 2009-01-08 Bayer Materialscience Ag 塩素の製造方法およびイソシアネートの製造方法
EP1992592A3 (de) * 2007-04-27 2009-03-04 Bayer MaterialScience AG Verfahren zur Oxidation eines Chlorwasserstoff enthaltenden Gasgemisches
US9242860B2 (en) 2007-04-27 2016-01-26 Bayer Materialscience Ag Process for the oxidation of a gas mixture containing hydrogen chloride
WO2010050546A1 (ja) 2008-10-30 2010-05-06 住友化学株式会社 塩素の製造方法
JP2010105857A (ja) * 2008-10-30 2010-05-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 塩素の製造方法
EP3730202A1 (de) * 2019-04-26 2020-10-28 Covestro Deutschland AG Verfahren zur reinigung von schwefelhaltigen korrosiven prozessgasen
WO2020216837A1 (de) * 2019-04-26 2020-10-29 Covestro Intellectual Property Gmbh & Co. Kg Verfahren zur reinigung von schwefelhaltigen korrosiven prozessgasen

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