JP2005172096A - Mr流体式ロータリステアダンパ - Google Patents
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Abstract
【課題】二輪自動車のステアリング緩衝制御などに好適に用いられる、小型化可能なMR流体式ロータリステアダンパを提供する。
【解決手段】MR流体Fを封止したボデイ1内でベーン2を回動させ、このベーン2によりボデイ1内に形成される流体通路を通過するMR流体Fの粘性抵抗によりステアリング緩衝機能を発揮するMRダンパであって、この流体通路に磁界を発生させる磁界発生手段4をベーン2内に設けた。
【選択図】図1
【解決手段】MR流体Fを封止したボデイ1内でベーン2を回動させ、このベーン2によりボデイ1内に形成される流体通路を通過するMR流体Fの粘性抵抗によりステアリング緩衝機能を発揮するMRダンパであって、この流体通路に磁界を発生させる磁界発生手段4をベーン2内に設けた。
【選択図】図1
Description
本発明は、MR流体(Magneto-Rheological Fluid:磁性流体)を封止したボデイ内でベーンを回動させ、このベーンによりボデイ内に形成される流体通路を通過するMR流体の粘性抵抗によりステアリング緩衝機能を発揮するMR流体式ロータリステアダンパに関する。
従来より、油圧回路を用いたロータリダンパが、二輪自動車などのステアリング緩衝制御用として用いられ、近年、その改造型として、磁界強度によって粘性抵抗が変化するMR流体を用いることで油圧回路を不要としたロータリダンパも提案されている。これは、油圧回路においてリリーフバルブで行われていた油圧制御による緩衝制御に代えて、ボデイ内のMR流体の粘性抵抗を磁界強度を制御することによって変化させ、もって緩衝制御を行うものである。
このようなMR流体を用いたロータリダンパとしては、特許文献1に記載されたものがあり、これを図6に示す。
このロータリダンパは、ボデイ110、ベーン112、磁界発生手段114を備えている。ボデイ110は非磁性体材料で形成された密封容器で、内部は断面形状扇形の流体室118となっており、この流体室118にMR流体が封止されている。
ベーン112は、ボデイ110内部に回動軸122を中心に回動可能に配置され、この回動に伴い、その翼面に流体室118に封止されたMR流体が作用することで緩衝作用が発揮される。回動軸122からは更にベーン112と回転固定された入力部材120がボデイ110外部へ延出されている。
磁界発生手段114は、ベーン112の回動基部と回動するベーン112の先端部に対面する位置に設けられたライニング材126とを電気的に接続する鉄心部材128を備え、このライニング材126とベーン112の先端部との間にMR流体を通過させる流体通路124が形成されている。
磁界発生手段114は、鉄心部材128の一部を巻き囲んでいるコイル130、このコイル130に可変電圧の電気を供給する電源116を備えている。ベーン112、ライニング材126、鉄心部材128は磁性体材料で形成されている。
このロータリダンパは、上述したような構成で、従来の油圧回路を不要としながら、コイル130によって流体通路124に発生する磁界を変化させることで、この部分のMR流体の粘性抵抗を変化させてベーン112で区分けされる流体部分間の差圧(ベーンへの翼面圧)を変化させ、ベーン112に生じる抵抗力を制御することができ、これによって入力部材120からの外部入力の緩衝制御ができるものであったが、ボデイ110の外部に磁界発生手段114を設ける必要があり、全体として装置の小型化には限界があり、二輪車のステアリング緩衝制御用としては好適とは言えなかった。
また、特許文献2にも、MR流体を用いたロータリダンパが記載されているが、このものにおいても、磁界発生手段はボテイの外部に設けられ、装置の小型化には限界があった。
実開平2−31932号公報(第1図他)
特登録2619967号公報(第4図、第5図他)
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、二輪自動車のステアリング緩衝制御などに好適に用いられる、小型化可能なMR流体式ロータリステアダンパを提供することを目的としている。
請求項1に記載のMR流体式ロータリステアダンパ(以下、必要に応じて、「MRダンパ」という。)は、MR流体を封止したボデイ内でベーンを回動させ、このベーンにより前記ボデイ内に形成される流体通路を通過する前記MR流体の粘性抵抗によりステアリング緩衝機能を発揮するMRダンパであって、
前記流体通路に磁界を発生させる磁界発生手段を前記ベーン内に設けたことを特徴とする。なお、ここでは、磁界発生手段とは、コイルなどの磁界励起手段を指している。
前記流体通路に磁界を発生させる磁界発生手段を前記ベーン内に設けたことを特徴とする。なお、ここでは、磁界発生手段とは、コイルなどの磁界励起手段を指している。
請求項2に記載のMR流体式ロータリステアダンパは、請求項1に記載のMR流体式ロータリステアダンパにおいて、前記流体通路を、前記ベーンの回動軸に直交する上下面とこれに対面するボデイ上下内面との隙間に設けたことを特徴とする。
請求項3に記載のMR流体式ロータリステアダンパは、請求項1または2のいずれかに記載のMR流体式ロータリステアダンパにおいて、前記流体通路を前記ベーンの翼面を貫通するように設けたことを特徴とする。
請求項4に記載のMR流体式ロータリステアダンパは、請求項1から3のいずれかに記載のMR流体式ロータリステアダンパにおいて、前記磁界発生手段がコイルで構成され、このコイルをその巻芯軸の方向が前記ベーンの回動円周方向と一致するように設けたことを特徴とする。
請求項5に記載のMR流体式ロータリステアダンパは、請求項1から3のいずれかに記載のMR流体式ロータリステアダンパにおいて、前記磁界発生手段がコイルで構成され、このコイルをその巻芯軸の方向が前記ベーンの回動円周方向に直交するように設けたことを特徴とする。
請求項6に記載のMR流体式ロータリステアダンパは、MR流体を封止したボデイ内でベーンを回動させ、このベーンにより前記ボデイ内に形成される流体通路を通過する前記MR流体の粘性抵抗によりステアリング緩衝機能を発揮するMR流体式ロータリステアダンパであって、
前記流体通路を、前記ベーンの回動軸に直交する上下面とこれに対面するボデイ上下内面との隙間に設け、前記流体通路に磁界を発生させる磁界発生手段を前記ボデイ内面の前記ベーンの翼面に対面する位置に設けたことを特徴とする。
前記流体通路を、前記ベーンの回動軸に直交する上下面とこれに対面するボデイ上下内面との隙間に設け、前記流体通路に磁界を発生させる磁界発生手段を前記ボデイ内面の前記ベーンの翼面に対面する位置に設けたことを特徴とする。
請求項1に記載のMRダンパは、従来のものと異なり、ボデイ外ではなく、ボテイ内で回動するベーン内に磁界発生手段を設けたものである。このようにすると、磁界発生手段を磁界が必要な流体通路の最も近い位置に設けることになり位置効率が良い。また、ベーンはボデイの内部となるので、ボデイ外部に磁界発生手段が突出することがなく、MRダンパ全体を小型化でき、二輪自動車のステアリング緩衝用などとして好適に用いることができる。
請求項2に記載のMRダンパは、流体通路の位置を、回動するベーンの回動軸方向に対して上下となる上下面と、これに対面するボデイの上下内面との隙間としたものである。このようにすると、特許文献1記載のダンパのように、回動周面(図6の流体通路124を参照)に設ける場合に比べ、ベーンの上下二面とすることができ、同じダンパ容積なら流体通路断面積を大きくとることができる。
請求項3に記載のMRダンパは、流体通路をベーンそのものに、その翼面を貫通するように設けるものである。その個数は限定しない。このようにすれば、流体通路が上下隙間だけに限定されず、設計の自由度が高くなる。
請求項4に記載のMRダンパは、磁界発生手段をコイルとした場合の、コイルの巻芯軸の方向と、ベーンの回動円周方向との間の関係を規定したもので、この場合両者を一致させている。
請求項5に記載のMRダンパは、請求項4と同様に、コイルの巻芯軸の方向と、ベーンの回動円周方向との間の関係を規定したもので、この場合両者を直交させている。
請求項6に記載のMRダンパは、従来のダンパと同様に、磁界発生手段をボデイ側に設けるものであるが、ボデイの外ではなく、ボデイ内部に設けるものである。こうすることで、磁界発生手段の位置が、磁界が必要な流体通路のより直近となり位置効率が向上する。また、特許文献1と異なり、流体通路をベーンの上下側としているので、磁界発生手段の位置もボデイ内部のベーン翼面に対面する位置となっている。
以下に、本発明の実施の形態(実施例)について、図面を用いて説明する。
図1は、本発明のMR流体式ロータリステアダンパの一例を概念的に示すもので、(a)は平面図、(b)は斜視図である。
このMR流体式ロータリステアダンパ10は、MR流体Fを封止したボデイ1、ボデイ1内部で回動軸5を中心に回動するベーン2、磁界発生手段4、ボデイ1内に封止されたMR流体Fの温度による膨張などを補償するためのアキュームレータ6を備えている。
ボデイ1は部分的あるいは全体的に磁性体材料で形成され、その形状は、ベーン2を内部で所定角度内で回動させるため扇形形状となっている。ベーン2は、MR流体Fを封止したボデイ1内で回動し、その翼面にMR流体Fによる粘性抵抗で生じる流体差圧を受けて緩衝作用を発揮する。
このMRダンパ10の特徴は、図示しているように、流体通路(後述する。)に磁界を発生させるための磁界発生手段4を、回動するベーン2の内部に設けている点にある。このようにすると、ベーン2自体がMRダンパ10の外形をなすボデイ1の内部に収容されているので、磁界発生手段4を設けるためにMRダンパ10の外部に追加の部品が付着するということがなくなり、MRダンパ10を究極まで小型化することができ、二輪自動車などのステアリング緩衝制御に好適に用いることができる。
なお、本発明のMRダンパ10は、上記用途に限らず、空間の制限の大きい、また、コンパクトな設計が必要なあらゆる緩衝用途に好適である。また、回動するベーン2内の磁界発生手段4に外部から電気を供給するには、回動軸5を中空にして、この中空部に配線を設ける方法や、ロータリ接点を用いる方法などを採用することができる。
図2は、本発明のMR流体式ロータリステアダンパの一例をより具体的に示すもので、(a)は平面図、(b)は(a)のAA′断面図、(c)は(b)の変形例のAA′断面図である。この図に示すMRダンパ10は、図1に示したものと同じものである。また、これより、既に説明した部分と同じ部分については、同じ符号を付して重複説明を省略する。
ここで、符号2aはベーン2の回動軸5に直交する上下面、符号2bはベーン2が回動によりMR流体の粘性抵抗を受ける翼面、符号2cは回動するベーン2の回動円周方向を示している。また、符号1aはベーン上下面2aに対面するボデイ上下内面を示している。符号3は、ベーン2によりボデイ1の内部に形成され、封止されたMR流体Fがベーン2の回動に伴い通過する流体通路を示している。
このMRダンパ10の特徴は、図2(b)に示するように、流体通路3を、ベーンの上下面2aとこれに対面するボデイ上下内面1aとの隙間に設けた点である。
このようにすると、特許文献1記載のダンパのように、回動周面の部分(図2(a)の符号X)に設ける場合に比べ、ベーン2の上下二面とすることができ、同じダンパ容積なら流体通路断面積を大きくとることができる。
また、MRダンパ10のベーン2には、図2(c)に示すように、流体通路3をベーン2の翼面2bを貫通するように設けることもでき、その個数は限定されない。このようにすれば、流体通路が上下隙間だけに限定されず、設計の自由度が高くなる。
図3は、図2(a)のBB′断面図である。
この図において、着目すべき点は、ボデイ1が部分的に磁性体材料で形成されている点であり、この部分を磁性体部分1cとする。
本発明のMRダンパ10では、ボデイ1全体を鉄などの磁性体材料で形成することなく、磁界を形成するために必要な部分1cだけとすることができ、他の部分はアルミ、合成樹脂などの非磁性体材料で形成することができる。
図4は、図2(a)についてコイルの配置方向に着目したもので、(a)はそのAA′断面図、(b)は(a)の変形例のAA′断面図である。
ここでは、ベーン2内での磁界発生手段(コイル)4の配置方向、つまり、巻芯軸の方向4aに着目する。図4(a)では、巻芯軸の方向4aは、ベーン2のベーンの回動円周方向2cと一致している。その結果、流体通路3には、図示したような磁束線Gが形成される。
一方、図4(b)では、巻芯軸の方向4aは、ベーン2のベーンの回動円周方向2cと直交している。その結果、流体通路3には、図示したような磁束線Gが形成される。
こうして、いずれの場合でも、図示したように、流体通路3近辺に磁界が形成される。
図5は、本発明のMR流体式ロータリステアダンパの他例を示すもので、(a)は平面図、(b)は(a)のCC′断面図である。
このMR流体式ロータリステアダンパ10Aは、図1のMRダンパ10に比べ、磁界発生手段4をベーン2内に設けるのではなく、ボデイ1内面のベーン2の翼面2bに対面する位置1bに設けた点が異なっている。
このようにすると、図示したような磁束線Gが形成され、その影響は、ボテイ1内部のMR流体F全般に行き渡るが、ベーン2という磁性体に挟まれた流体通路3部分に最も強力な磁界が発生し、それによって、この部分のMR流体Fの粘性が制御される。なお、流体通路3がベーン2の上下面2aとボテイ1の上下内面1aとの隙間に形成される点は同様である。
この方法では、こうすることで、磁界発生手段4の位置が、磁界が必要な流体通路のより直近となり位置効率が向上する。また、図1のMRダンパ10と同様に、MRダンパ10A全体を小型化することができ、二輪自動車などのステアリング緩衝制御に好適に用いることができる。
本発明のMR流体式ロータリステアダンパは、二輪自動車などのステアリング緩衝制御や、その他、衝撃トルクが発生し、かつ、設置場所の空間的制限の厳しい、また、簡易な緩衝制御手段の必要なあらゆる産業上の分野に用いることができる。
1 ボデイ
1a ボデイ上下内面
1b ボデイの翼面対面位置
2 ベーン
2a ベーン上下面
2b 翼面
2c ベーンの回動円周方向
3 流体通路
4 磁界発生手段(コイル)
4a 巻芯軸の方向
5 回動軸
10 MR流体式ロータリステアダンパ(MRダンパ)
F MR流体
1a ボデイ上下内面
1b ボデイの翼面対面位置
2 ベーン
2a ベーン上下面
2b 翼面
2c ベーンの回動円周方向
3 流体通路
4 磁界発生手段(コイル)
4a 巻芯軸の方向
5 回動軸
10 MR流体式ロータリステアダンパ(MRダンパ)
F MR流体
Claims (6)
- MR流体を封止したボデイ内でベーンを回動させ、このベーンにより前記ボデイ内に形成される流体通路を通過する前記MR流体の粘性抵抗によりステアリング緩衝機能を発揮するMR流体式ロータリステアダンパであって、
前記流体通路に磁界を発生させる磁界発生手段を前記ベーン内に設けたことを特徴とするMR流体式ロータリステアダンパ。 - 前記流体通路を、前記ベーンの回動軸に直交する上下面とこれに対面するボデイ上下内面との隙間に設けたことを特徴とする請求項1に記載のMR流体式ロータリステアダンパ。
- 前記流体通路を前記ベーンの翼面を貫通するように設けたことを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載のMR流体式ロータリステアダンパ。
- 前記磁界発生手段がコイルで構成され、このコイルをその巻芯軸の方向が前記ベーンの回動円周方向と一致するように設けたことを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のMR流体式ロータリステアダンパ。
- 前記磁界発生手段がコイルで構成され、このコイルをその巻芯軸の方向が前記ベーンの回動円周方向に直交するように設けたことを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のMR流体式ロータリステアダンパ。
- MR流体を封止したボデイ内でベーンを回動させ、このベーンにより前記ボデイ内に形成される流体通路を通過する前記MR流体の粘性抵抗によりステアリング緩衝機能を発揮するMR流体式ロータリステアダンパであって、
前記流体通路を、前記ベーンの回動軸に直交する上下面とこれに対面するボデイ上下内面との隙間に設け、前記流体通路に磁界を発生させる磁界発生手段を前記ボデイ内面の前記ベーンの翼面に対面する位置に設けたことを特徴とするMR流体式ロータリステアダンパ。
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Legal Events
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Effective date: 20051227 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
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