JP2005166993A - Method and apparatus for cleaning head pressurization surface - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、微振動手段を有したヘッド加圧面に保持された第1被接合物と、ステージ上面に保持された第2被接合物同士を接合する際、ヘッド加圧面を清掃する方法および装置に関するものである。 The present invention relates to a method and an apparatus for cleaning a head pressure surface when bonding a first object to be bonded held on a head pressure surface having fine vibration means and a second object to be bonded held on an upper surface of a stage. It is about.
たとえばリードボンダーにおいて、ツールの表面に酸化物などが付着することによって接合の品質を低下させるなどの理由により、ツール表面を砥石とブラシにて周期的にクリーニングする方法は一般的に知られている。(特許文献1参照)
図15に示すように、たとえば超音波振動などの微振動手段をヘッドに有した実装装置107において、チップ100を基盤103に実装する際、ツール加圧面105aにチップ100のフェイスダウン面100bを保持した後、ツール105を降下させて加圧200と微振動201によってチップ100のバンプ101と基板保持ステージ106に保持された基板103のパッド104を擦り合わせるようにしながら接合する。
As shown in FIG. 15, in the mounting apparatus 107 having a fine vibration means such as ultrasonic vibration in the head, when the chip 100 is mounted on the base 103, the tool pressing surface 105a holds the face-down surface 100b of the chip 100. After that, the
そのため、図16に示すように、微振動201によってチップエッジ部のバリ102から分離したチップ片(以下、チッピングという)が、ツール加圧面105aに付着する。さらに微振動201と加圧200が継続されることにより、チッピング102がツール加圧面105aを削りながらツール105の内部に進入して固着(凝着)してしまうので、チッピングがツールを傷つけるだけでなく、ツールの寿命を極めて短くしてしまい、実装品質を低下させる原因にもなっていた。
Therefore, as shown in FIG. 16, a chip piece (hereinafter referred to as chipping) separated from the
さらに、チッピング102のツール105への食い込みは急速に発生するため、特許文献1に述べられているような周期的な清掃ではチッピング102のツール105への進入を止めることは困難であり、ツールの材質よりも硬い砥石で清掃するとツール表面を傷つける可能性がある。
Further, since the chipping 102 bites into the
本発明は、このような問題点に着目し、たとえば超音波振動などの微振動手段を有した実装装置において、ツール加圧面がチッピングによって傷つくことを低減し、実装品質の向上、実装時間短縮による生産性の向上を実現することを可能にした実装装置および実装方法を提供することを目的としている。 The present invention pays attention to such problems, and for example, in a mounting apparatus having a fine vibration means such as ultrasonic vibration, the tool pressing surface is less damaged by chipping, thereby improving the mounting quality and shortening the mounting time. It is an object of the present invention to provide a mounting apparatus and a mounting method capable of improving productivity.
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、請求項1に記載の発明は、微振動手段を有したヘッドに保持された第1被接合物とステージに保持された第2被接合物同士を接合する際、前記微振動手段を有したヘッドの第1被接合物保持面を清掃する方法であって、微振動手段を有したヘッドに保持された第1被接合物とステージに保持された第2被接合物を認識手段によって認識する工程と、前記第1被接合物と前記第2被接合物を位置合わせ工程後、前記微振動手段により接合する工程と、前記第1被接合物と前記第2被接合物の接合ごとに前記微振動手段を有したヘッドの第1被接合物保持面を清掃手段によって清掃する工程を有することを特徴とする実装方法である。
In order to achieve such an object, the present invention has the following configuration. That is, the invention described in
また、請求項2に記載の発明は、前記微振動手段により接合する工程が、超音波振動により合する工程であることを特徴とする請求項1に記載の実装方法である。
The invention according to
また、請求項3に記載の発明は、前記清掃手段によって清掃する工程が、ブラシで清掃する工程であることを特徴とする請求項1または2に記載の実装方法である。
The invention described in
また、請求項4に記載の発明は、前記清掃手段によって清掃する工程と第1被接合物の搬送工程が共に行われることを特徴とする請求項1、2または3に記載の実装方法である。
The invention according to
また、請求項5に記載の実装装置は、微振動手段を有したヘッドに保持された第1被接合物とステージに保持された第2被接合物同士を接合する際、前記微振動手段を有したヘッドの第1被接合物保持面を清掃する装置であって、微振動手段を有したヘッドに保持された第1被接合物とステージに保持された第2被接合物を認識する認識手段と、前記第1被接合物と前記第2被接合物を位置合わせ手段によって位置合わせした後、接合する接合手段と、前記微振動手段を有したヘッドの第1被接合物保持面を清掃する清掃手段を有し、前記第1被接合物と前記第2被接合物の接合ごとに前記清掃手段によって前記微振動手段を有したヘッドの第1被接合物保持面を清掃することを特徴とする実装装置である。
The mounting apparatus according to
また、請求項6に記載の実装装置は、前記微振動手段を有したヘッドに設けられた微振動手段が、超音波振動であることを特徴とする請求項5に記載の実装装置である。
The mounting device according to claim 6 is the mounting device according to
また、請求項7に記載の実装装置は、前記清掃手段が、ブラシであることを特徴とする請求項5または6に記載の実装装置である。
The mounting device according to claim 7 is the mounting device according to
また、請求項8に記載の実装装置は、前記清掃手段が、搬送手段の直近に配置されていることを特徴とする請求項5、6または7に記載の実装装置である。
Moreover, the mounting apparatus of
本発明に係る実装装置および実装方法によれば、1チップを実装する毎に、少なくとも1回以上、ツール加圧面を清掃手段によって清掃するため、常にチッピングなどの塵を除去することが出来る。したがって、ツール加圧面を清掃しない場合、チップ実装回数に換算すると約1〜1000チップの実装回数にてツールの交換寿命を迎えていたが、1チップを実装する毎に、少なくとも1回以上、ツール加圧面を清掃することによって、チップ実装回数に換算して約10万〜100万チップ以上の実装回数までツールの交換が不要となった。よって、常にチッピングなどの塵が除去されるため、ツールの寿命が延びることによるランニングコストの低減が達成できる。 According to the mounting apparatus and the mounting method according to the present invention, the tool pressing surface is cleaned by the cleaning means at least once every time one chip is mounted, so that dust such as chipping can always be removed. Therefore, when the tool pressurizing surface is not cleaned, the tool replacement life is reached at the number of times of mounting of about 1 to 1000 chips when converted to the number of times of chip mounting, but at least once or more every time one chip is mounted. By cleaning the pressing surface, it is not necessary to replace the tool up to the number of times of mounting of about 100,000 to 1 million chips or more in terms of the number of times of chip mounting. Therefore, since dust such as chipping is always removed, the running cost can be reduced by extending the tool life.
また、微振動手段に超音波振動を用いれば実装品質が向上する。また、清掃手段にブラシを用いればツール表面を傷つけることがない。さらに、清掃手段とチップ搬送手段をお互い直近に配置しチップの搬送工程と共に行われるようにすれば、清掃後すぐにチップを吸着できるため実装時間短縮による生産性の向上を実現することができる。 Further, if ultrasonic vibration is used for the fine vibration means, the mounting quality is improved. Moreover, if a brush is used for the cleaning means, the tool surface will not be damaged. Further, if the cleaning unit and the chip transport unit are arranged in close proximity to each other and are performed together with the chip transport process, the chip can be adsorbed immediately after the cleaning, thereby improving the productivity by shortening the mounting time.
以下に、本発明の望ましい実施の形態を、図面を参照して説明する。
(実施の形態1)
図1、図2は、本発明の一実施態様に係る実装装置、第1被接合物、第2被接合物を示しており、まず、この実装装置における各構成について説明する。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(Embodiment 1)
1 and 2 show a mounting apparatus, a first object to be bonded, and a second object to be bonded according to an embodiment of the present invention. First, each configuration of the mounting apparatus will be described.
実装装置1は、第1認識マーク13を有した第1被接合物11と、その下方に配され第2認識マーク16を有した第2被接合物14と、を実装する装置に構成されている。
The
第1被接合物11(以下、チップという)は、フェイスアップ面11aにバンプ12と、第1認識マーク13を有し、第2被接合物14(以下、基板という)は、実装面14aにパッド15と、第2認識マーク16を有している。
The first object 11 (hereinafter referred to as a chip) has
なお、本発明における第1被接合物(チップ)とは、たとえばICチップ、半導体チップ、光素子、表面実装部品、ウエハなど種類や大きさに関係なく第2被接合物(基板)と接合する側全ての形態を示し、第1被接合物(チップ)に設けられたバンプとは、たとえばハンダバンプ、スタッドバンプなど第2被接合物(基板)のパッドと接合する側全ての電極を示す。 Note that the first object to be bonded (chip) in the present invention is bonded to the second object to be bonded (substrate) regardless of the type or size, such as an IC chip, a semiconductor chip, an optical element, a surface mount component, or a wafer. The bumps provided on the first object to be bonded (chip) indicate all electrodes on the side to be bonded to the pads of the second object to be bonded (substrate) such as solder bumps and stud bumps.
また、第2被接合物(基板)とは、たとえば樹脂基板、ガラス基板、フレキシブルプリント基板(FPC)、セラミック基板、チップ、ウエハなど第1被接合物(チップ)と接合する側全ての形態を示し、第2被接合物(基板)に設けられたパッドとは、第1被接合物(チップ)のバンプと接合する側全ての電極を示す。 Further, the second object to be bonded (substrate) includes all forms on the side to be bonded to the first object to be bonded (chip) such as a resin substrate, a glass substrate, a flexible printed circuit board (FPC), a ceramic substrate, a chip, and a wafer. The pads provided on the second object to be bonded (substrate) indicate all electrodes on the side to be bonded to the bumps of the first object to be bonded (chip).
ヘッド2は、微振動手段3の下部にツール4を備え、ツール4の加圧面4aにチップ11を空気吸着保持するための吸気孔5を備えているが、空気吸着による吸着手段以外に、静電気による静電保持手段、磁石や磁気などによる磁気保持手段、単数または複数のツメなどによってチップを挟むまたは押さえる機械的手段など、どのような保持手段であっても良い。
The
なお、微振動手段3は、たとえば超音波振動など超音波発振子による振動、ピエゾ素子による振動など、微振動を発生させる全ての形態を示す。 The fine vibration means 3 shows all forms for generating fine vibration such as vibration by an ultrasonic oscillator such as ultrasonic vibration and vibration by a piezo element.
微振動手段3の振動数は、たとえば超音波振動の場合は50kHzを選定しているが、20kHzから200kHzの範囲であってもよい。また50kHzのときの振幅は1μmから6μmの範囲でチップのバンプと基板の電極の接合強度が安定しているが、振動数の組み合わせによっては、0.1μmから10μmの範囲であっても良い。 The frequency of the fine vibration means 3 is, for example, 50 kHz in the case of ultrasonic vibration, but may be in the range of 20 kHz to 200 kHz. The amplitude at 50 kHz is in the range of 1 μm to 6 μm, and the bonding strength between the bumps of the chip and the electrodes of the substrate is stable, but may be in the range of 0.1 μm to 10 μm depending on the combination of frequencies.
また、ヘッド2は、昇降制御可能な形態に設けられているが、昇降制御だけでなく平行移動制御、回転制御、昇降制御および平行移動制御、昇降制御および回転制御、平行移動制御および回転制御、昇降制御および平行移動制御および回転制御などの組み合わせ様態に設けても良い。
Further, the
さらに、ツール4には、たとえばヒータなどの加熱手段(図示略)を備えているが、場合によっては備えていない形態であっても良い。
Furthermore, although the
基板保持ステージ6は、ステージ上面に基板14を空気吸着するための吸気孔(図示略)を備えているが、空気吸着による吸着手段以外に、静電気による静電保持手段、磁石や磁気などによる磁気保持手段、単数または複数のツメなどによってチップを挟むまたは押さえる機械的手段など、どのような保持手段であっても良い。
The substrate holding stage 6 is provided with an intake hole (not shown) for air-adsorbing the
また、基板保持ステージ6は、平行移動制御および回転制御可能な形態に設けられているが、平行移動制御および回転制御だけでなく平行移動制御、回転制御、昇降制御、平行移動制御および昇降制御、回転制御および昇降制御、昇降制御および平行移動制御および回転制御などの組み合わせ様態に設けても良い。 Further, the substrate holding stage 6 is provided in a form capable of parallel movement control and rotation control, but not only the parallel movement control and rotation control but also the parallel movement control, rotation control, lift control, parallel movement control and lift control, You may provide in the combination mode, such as rotation control and raising / lowering control, raising / lowering control, parallel movement control, and rotation control.
さらに、基板保持ステージ6には、たとえばヒータなどの加熱手段(図示略)を備えているが、場合によっては備えていない形態であっても良い。 Further, the substrate holding stage 6 is provided with a heating means (not shown) such as a heater, but may not be provided in some cases.
2視野の認識手段7は、上下方向に2つの視野を有する手段であり、本実施態様では、上光軸7aでチップ11の第1認識マーク13を、下光軸7bで基板14の第2認識マーク16を読み取る。なお、2視野の認識手段8は、CCDカメラを示すが、CCDカメラ以外に、たとえば、赤外線カメラ、X線カメラ、センサーなど種類に関係なく認識マークを認識できれば、どのような認識手段であっても良い。
The two-field recognition means 7 is a means having two fields of view in the vertical direction. In this embodiment, the
また、2視野の認識手段8は、平行移動制御可能な態様に設けられているが、昇降制御、回転制御、平行移動制御および昇降制御、平行移動制御および回転制御、昇降制御および回転制御、平行移動制御および昇降制御および回転制御などの組み合わせ様態に設けても良い。 The two-field recognition means 8 is provided in such a manner that the parallel movement control is possible, but the vertical movement control, rotation control, parallel movement control and vertical movement control, parallel movement control and rotation control, vertical movement control and rotation control, parallel You may provide in a combination mode, such as movement control, raising / lowering control, and rotation control.
チップ搬送手段9は、チップトレイやウエハー(いずれも図示略)などからチップ11(フェイスダウン面11bが上面向き)をチップ搬送手段9に移載された後、ツール4の加圧面4a下方に平行移動制御する様態に設けられている。
The
清掃手段8は、ブラシ10とブラシホルダ10aによって構成されており、ブラシ10を含む清掃手段8の高さは搬送されるチップ11よりも高くなるように設けられている。
The
また、清掃手段8とチップ搬送手段9は一体型に設けられており、チップ搬送手段9と共にツール4の加圧面4a下方に平行移動制御する様態に設けられ、ツール4の方向側から清掃手段8、チップ搬送手段9の順に配置されているため、チップ11がツールの加圧面4aに保持される毎に確実に清掃することができる。
Further, the cleaning means 8 and the
ツール4に加熱手段(図示略)を備えている場合、ツール4の加圧面4aの表面は約100〜200℃の範囲に設定されるため、ブラシ10には200℃を超えるガラス転移点を有する耐熱性のある材質が要求される。また早期に磨耗や倒毛しない材質および耐性も要求される。
When the
そこで、ブラシ10の材質としてはアラミド繊維を選定しているが、たとえばツール4の加圧面4aを傷つけない硬度の低い材質であれば、たとえば金属製ブラシなどアラミド繊維以外であっても良い。
Therefore, although an aramid fiber is selected as the material of the
また、ブラシ10の磨耗や倒毛に対する耐性を有し、ブラシとしての柔軟性を満たすために、ブラシ10を構成する線材は0.18mmの線径を有したものを用いているが、異なる複数の線径を試行した結果、0.1〜0.4mmの範囲であれば有効であることが判ったため、有効範囲内であれば0.18mm以外の線径を有した線材を用いたブラシであっても良い。
Further, in order to have resistance to wear and fall of the
さらに、ブラシ10の植毛方法として、チッピングのすり抜けを防ぐ機能が要求されるためブラシ10を構成する線材は隙間なく密にブラシホルダ10aによって一括保持されることが好ましいが、たとえば線材を小分けにした束を千鳥型に配置するなどチッピングのすり抜けを防止できればどのような形態であっても良い。
Further, as a method for flocking the
なお、ブラシ10は磨耗や倒毛に対する耐性を有したものを選択しているが、チップ11がツールの加圧面4aに保持されるごとに確実に清掃するため、半永久的に使用することは難しい。そのためブラシ10とブラシホルダ10aは清掃手段8から自由に脱着可能な形態に設けられている。また、清掃手段8自身が搬送手段9と自由に脱着できる形態であっても良い。
In addition, although the
また、清掃手段8とチップ搬送手段9は、お互い直近に配置され、一体型に設けられているが、各々独立した形態であっても良く、さらには、一体型、独立型を問わず、各々、平行移動制御だけでなく、昇降制御、回転制御、平行移動制御および昇降制御、平行移動制御および回転制御、昇降制御および回転制御、平行移動制御および昇降制御および回転制御などの組み合わせ様態に設けても良い。 Further, the cleaning means 8 and the chip transport means 9 are disposed in close proximity to each other and are provided in an integral form, but may be in an independent form, and each of them may be an integral form or an independent form. In addition to parallel movement control, it is provided in combination modes such as lifting control, rotation control, parallel movement control and lifting control, parallel movement control and rotation control, lifting control and rotation control, parallel movement control and lifting control and rotation control, etc. Also good.
図3〜8は、本発明の一実施態様に係る実装装置の動作形態を示しており、順に説明する。 3-8 has shown the operation | movement form of the mounting apparatus which concerns on one embodiment of this invention, and demonstrates it in order.
図3は、チップ11がチップトレイやウエハー(いずれも図示略)などからフェイスダウン面11bを上面にした後、チップ搬送手段9に移載された状態を示している。チップ11がチップ搬送手段9に移載されると、チップ搬送手段9と清掃手段8は、待避位置からツール4の加圧面直下付近へ平行移動する。
FIG. 3 shows a state in which the
図4は、チップ搬送手段9と清掃手段8がツール4の加圧面直下付近に平行移動してきた状態を示す。チップ搬送手段9と清掃手段8が平行移動し続けるためブラシ10によってツール4の加圧面が清掃される。
FIG. 4 shows a state in which the
なお、チップ搬送手段9と清掃手段8がツール4の加圧面直下付近に平行移動する際、ヘッド2は、予め、待避位置からツール4の加圧面直下付近にチップ11が位置する高さまで降下して待機しているが、たとえばヘッド2が清掃手段8方向へ移動するなど、ツール4の加圧面を清掃手段8で清掃した後、チップ11を吸着保持できれば、ヘッド2、清掃手段8、チップ搬送手段9は、どのような動作様態であっても良く、どのような動作の組み合わせであっても良い。
In addition, when the
そして、図5に示すように、チップ11がツール4の加圧面直下に到達するとチップ搬送手段9と清掃手段8は停止し、図6に示すように、ツール4の加圧面に開口した吸気孔5を通して空気吸引によってチップ11を吸着保持する。その後、ヘッド2はブラシ10がツール4の加圧面にて吸着保持したチップ11と接触しない高さ位置まで上昇した後、チップ搬送手段9と清掃手段8は元の待避位置へ戻る。
Then, as shown in FIG. 5, when the
図7は、ツール4に保持されたチップ11と、その下方に基板保持ステージ6に保持された基板14が配せられた状態において、両者間に、待避位置から2視野の認識手段7が挿入された状態を示す。上光軸7aでチップ11の第1認識マーク13を、下光軸7bで基板14の第2認識16を読み取る。第1認識マーク13および第2認識マーク16は、少なくとも2個以上設けられた態様であることが好ましい。また、図示は省略するが、読み取ったマークを、記憶手段で記憶し、演算手段に基づいて基板14の位置や向き(角度)を認識する。
FIG. 7 shows that the recognition means 7 with two fields of view is inserted between the
なお、基板実装面14a側を上面にし、その下面14b側から基板保持ステージ6上面に開口した吸引孔(図示略)を通して空気吸引によって吸着保持された基板14は、予め実装箇所に、たとえばACF、NCF、ACP、NCPなどの接着材が貼り付けまたは塗布されているが、塗布されていない場合であっても良い。
Note that the
その後、図8に示すように、認識されたチップ11と基板14の相対位置および向き(相対角度)に基づいて、チップ11が、基板14の所定実装位置に位置するように、基板保持ステージ6が平行移動制御および回転制御することにより、アライメント(位置調整)され、2視野の認識手段7が退避位置へ退いた後、ヘッド2が降下して、加圧、加熱、たとえば超音波振動などによる微振動によって接合される。なお、接合手段としては、微振動、微振動および加圧、微振動および加熱など、どのような組み合わせの実装様態であっても良い。
Thereafter, as shown in FIG. 8, the substrate holding stage 6 is arranged so that the
なお、アライメント(位置調整)様態においても、ヘッド2側にて回転制御や平行移動制御するなど、チップ11と基板14がアライメント(位置調整)できれば、ヘッド2と基板保持ステージ6は、どのような動作様態あっても良く、どのような動作の組み合わせであっても良い。
Even in the alignment (position adjustment) mode, if the
いずれのアライメント(位置調整)態様であっても、2視野の認識手段7、記憶手段および演算手段によって、チップ11と基板14の位置と向き(角度)は、各々、認識されているので、これらの位置と向き(角度)を基準に、ヘッド2および/または基板保持ステージ6を制御することによって、基板14の任意な所定位置にチップ11を位置合わせすることができ、チップ11を基板14の所定実装位置に、位置ズレのない高精度な実装を行うことができる。
(実施の形態2)
清掃手段8において、実施の形態1ではブラシ10によるツール4の加圧面を清掃する様態を記載したが、ブラシ10の1種だけでなく、その他の清掃手段を組み合わせた複数の清掃様態を、図9〜13にて説明する。
In any alignment (position adjustment) mode, the positions and orientations (angles) of the
(Embodiment 2)
In the
なお、清掃手段8以外の構成および動作様態については実施の形態1と同じである。したがって、チップ搬送手段9と清掃手段8がツール4の加圧面直下付近に近づき、清掃手段8によるツール4の加圧面の清掃からチップ11が吸着保持されるまでの説明とする。
The configuration and operation mode other than the
図9は、ブラシ10とチップ搬送手段9の間に、清掃手段8上面に開口した吹き出し孔18から空気17を勢いよく吹き出す形態に構成されている。
FIG. 9 is configured in such a manner that
まず、チップ搬送手段9と清掃手段8が平行移動することによりブラシ10によってツール4の加圧面が清掃され、チップ11がツール4の加圧面直下に到達するとチップ搬送手段9と清掃手段8は停止し、ツール4の加圧面に開口した吸気孔5を通して空気吸引によってチップ11を吸着保持する。
First, the pressure conveying surface of the
そして、ヘッド2はブラシ10がツール4の加圧面にて吸着保持したチップ11と接触しない高さ位置まで上昇した後、チップ搬送手段9と清掃手段8が元の待避位置へ戻る際、吹き出し孔18から空気17を吹き出しながら退避する。よって、ツール4の加圧面およびチップ11のフェイスアップ面11aを空気17によって清掃されるため、チッピングなどの塵を、より精度よく除去することができる。
Then, the
なお、空気17は、チップ搬送手段9と清掃手段8が元の待避位置へ戻る際、吹き出し孔18から空気17が吹き出される様態だけでなく、ブラシ10がツール4の加圧面を清掃する際、空気17も吹き出しながら清掃する様態であっても良い。
The
図10は、図9において吹き出し孔18から空気17を吹き出す形態に代えてゴムブレード19を搬送されるチップ11よりも高くなるように設けられた形態を示す。なお、ゴムブレード19はシリコンゴムであるが、耐熱性と耐久性に優れたゴムであればシリコン以外のゴムであっても良い。
FIG. 10 shows a form in which the
なお、ゴムブレード19はゴムホルダ19aによって固定されているが、チップ11がツール4の加圧面4aに保持されるごとに確実に清掃するため、半永久的に使用することは難しい。そのためゴムブレード19とゴムホルダ19aは清掃手段8から自由に脱着可能な形態に設けられている。また、清掃手段8自身が搬送手段9と自由に脱着できる形態であっても良い。
Although the
また、図11に示すように、図10におけるブラシ10とブラシホルダ10a部を排除したゴムブレード19のみを設けた形態であっても良い。
Moreover, as shown in FIG. 11, the form which provided only the
図12は、ブラシ10と吹き出し孔18の間に、チップ4が載せられた形態に構成されている。まず、チップ搬送手段9と清掃手段8が平行移動することによりブラシ10によってツール4の加圧面が清掃され、チップ11がツール4の加圧面直下に到達するとチップ搬送手段9と清掃手段8は停止し、ツール4の加圧面に開口した吸気孔5を通して空気吸引によってチップ11を吸着保持する。その後、吹き出し孔18から空気17を吹き出しながら、チップ搬送手段9と清掃手段9が更に平行移動したあと停止し、ヘッド2はブラシ10がツール4の加圧面にて吸着保持したチップ11と接触しない高さ位置まで上昇した後、チップ搬送手段9と清掃手段8が元の待避位置へ戻る際、吹き出し孔18から空気17を吹き出しながら退避する。
FIG. 12 shows a configuration in which the
図13は、図11においてゴムブレード19に代えて複数のローラとふき取りシートによって構成された形態を示す。ツール4の加圧面4aを清掃するふき取りシート23はシリコンシートであるが、耐熱性と耐久性に優れシートであればシリコン以外のシートであっても良い。
FIG. 13 shows a form constituted by a plurality of rollers and a wiping sheet instead of the
また、ふき取りシート23は、送りローラ21からスポンジローラ20を経由し、巻き取りローラ22にて巻き取る形態になっているが、送りローラ21と巻き取りローラ22の配置は逆であっても良い。なお、巻き取り動作は周期的、チップ11がツール4の加圧面4aに保持される毎など、どのような動作様態であっても良い。なお、スポンジローラ20における清掃部20aは搬送されるチップ11よりも高くなるように設けられている。
Further, the wiping sheet 23 is wound from the
なお、ツール4の加圧面4aを清掃する際、ローラ20、21、22は停止(ふき取りシート23も停止)した状態で清掃するが、ローラ20、21、22、ふき取りシート23が巻き取り方向へ動作しながらツール4の加圧面4aを清掃する形態であってもよく、送りローラ21と巻き取りローラ22の配置が逆の際も同様に巻き取り方向へ動作しながら清掃する形態であっても良い。
When cleaning the pressing surface 4a of the
なお、たとえばブラシ、空気吹き出し口など、その他の清掃手段と組み合わせた形態であっても良く、清掃手段についてはチッピングなどの塵片を除去できれば実施の形態1、実施の形態2に記載した以外の構成および組み合わせであっても良い。 For example, it may be combined with other cleaning means such as a brush or an air outlet, and the cleaning means other than those described in the first and second embodiments as long as dust particles such as chipping can be removed. It may be a configuration and a combination.
なお、図示は省略するが、実施の形態1、実施の形態2に限らず、清掃手段8による清掃によって除去されるチッピングなどの塵が飛び散らないように、チップ搬送手段9や清掃手段8に塵吸引手段を設けても良い。なお、塵吸引手段はチップ搬送手段9や清掃手段8と一体型に設けた形態だけでなく、独立して動作制御可能な形態に設けても良い。
Although not shown in the drawings, the present invention is not limited to the first and second embodiments, and the dust is not applied to the
1 実装装置
2 ヘッド
3 微振動手段
4 ツール
4a 加圧面
5 吸気孔
6 基板保持ステージ
7 2視野の認識手段
7a 上光軸
7b 下光軸
8 清掃手段
9 チップ搬送手段
10 ブラシ
10a ブラシホルダ
11 チップ
11a フェイスアップ面
11b フェイスダウン面
12 バンプ
13 第1認識マーク
14 基板
14a 実装面
14b 下面
15 パッド
16 第2認識マーク
17 空気
18 吹き出し孔
19 ゴムブレード
19a ゴムホルダ
20 スポンジローラ
21 送りローラ
22 巻き取りローラ
23 ふき取りシート
100 チップ
100a フェイスアップ面
100b フェイスダウン面
101 バンプ
102 チッピング
103 基板
104 パッド
105 ツール
105a ツール加圧面
106 基板保持ステージ
107 実装装置
200 加圧
201 微振動
DESCRIPTION OF
Claims (8)
微振動手段を有したヘッドに保持された第1被接合物とステージに保持された第2被接合物を認識手段によって認識する工程と、
前記第1被接合物と前記第2被接合物を位置合わせ工程後、前記微振動手段により接合する工程と、
前記第1被接合物と前記第2被接合物の接合ごとに前記微振動手段を有したヘッドの第1被接合物保持面を清掃手段によって清掃する工程とを行うことを特徴とする実装方法。 When the first workpiece held by the head having the fine vibration means and the second workpiece held by the stage are bonded to each other, the first workpiece holding surface of the head having the fine vibration means is used. A method of cleaning,
A step of recognizing the first object to be bonded held by the head having the fine vibration means and the second object to be bonded held by the stage by the recognition means;
Bonding the first object to be bonded and the second object to be bonded by the fine vibration means after the alignment step;
And a step of cleaning the first bonded object holding surface of the head having the fine vibration means by the cleaning means for each bonding of the first bonded object and the second bonded object. .
微振動手段を有したヘッドに保持された第1被接合物とステージに保持された第2被接合物を認識する認識手段と、
前記第1被接合物と前記第2被接合物を位置合わせ手段によって位置合わせした後、接合する接合手段と、
前記微振動手段を有したヘッドの第1被接合物保持面を清掃する清掃手段を有し、
前記第1被接合物と前記第2被接合物の接合ごとに前記清掃手段によって前記微振動手段を有したヘッドの第1被接合物保持面を清掃することを特徴とする実装装置。 When the first workpiece held by the head having the fine vibration means and the second workpiece held by the stage are bonded to each other, the first workpiece holding surface of the head having the fine vibration means is used. A device for cleaning,
Recognizing means for recognizing a first object to be joined held by a head having fine vibration means and a second object to be joined held by the stage;
A joining means for joining the first article to be joined and the second article to be joined by aligning means;
A cleaning means for cleaning the first workpiece holding surface of the head having the fine vibration means;
A mounting apparatus, wherein the first bonded object holding surface of the head having the fine vibration means is cleaned by the cleaning means for each bonding of the first bonded object and the second bonded object.
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