KR101938476B1 - Die bonder and bonding method - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 이물질을 비산시키지 않고, 점착력이 강한 이물질도 확실하게 제거 가능한 콜릿의 클리닝을 할 수 있는 다이 본더 및 본딩 방법을 제공하는 것이다. 본 발명은, 웨이퍼로부터 다이를 픽업하고, 다이를 기판에 본딩하고, 다이를 흡착하는 콜릿의 흡착면을, 10㎛ 내지 수백㎛의 선 직경을 갖는 금속 브러시를, 흡착면을 따라서 흡착면과 상대적으로 이동시켜 흡착면을 클리닝하는 다이 본더 및 본딩 방법을 특징으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a die bonder and a bonding method that can clean a collet that can reliably remove contaminants with high adhesive strength without scattering foreign matter. According to the present invention, a die is picked up from a wafer, the die is bonded to a substrate, and the adsorption face of the collet for adsorbing the die is made to be a metal brush having a line diameter of 10 mu m to several hundred mu m, To clean the adsorption surface and the bonding method.

Description

다이 본더 및 본딩 방법{DIE BONDER AND BONDING METHOD}DIE BONDER AND BONDING METHOD [0002]

본 발명은, 다이 본더 및 본딩 방법에 관한 것으로, 특히, 웨이퍼로부터 다이를 픽업하는 콜릿의 이물질 제거 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a die bonder and a bonding method, and more particularly to a method for removing a foreign object from a collet that picks up a die from a wafer.

다이 본더란, 땜납, 금 도금, 수지를 접합 재료로서, 다이(전자 회로를 만들어 넣은 실리콘 기판의 칩)를 리드 프레임이나 배선 기판 등(이하, 기판이라고 함)에 본딩(탑재해서 접착)하는 장치이다.(Bonding) a die (a chip of a silicon substrate into which an electronic circuit is formed) to a lead frame, a wiring board, or the like (hereinafter referred to as a substrate) as a bonding material by soldering, gold plating, to be.

이 다이라고 불리는 반도체 칩을, 예를 들어, 기판의 표면에 본딩하는 다이 본더에 있어서는, 일반적으로, 콜릿이라고 불리는 흡착 노즐을 사용해서 다이를 웨이퍼로부터 흡착하여 픽업하고, 기판 상에 반송하고, 압박력을 부여함과 함께, 접합재를 가열함으로써 본딩을 행한다고 하는 동작(작업)이 반복해서 행해진다.[0003] In a die bonder for bonding a semiconductor chip called " die ", for example, to a surface of a substrate, a die is picked up from a wafer by using a suction nozzle generally called a collet, picked up and transported onto a substrate, (Operation) of performing bonding by heating the bonding material is repeatedly performed.

콜릿이란, 도 5에 도시하는 바와 같이, 흡착 구멍(6a)을 갖고, 에어를 흡인하여, 다이를 흡착 보유 지지하는 보유 지지구이다.As shown in Fig. 5, the collet is a holding support having a suction hole 6a and sucking air to hold and hold the die.

상술한 일련의 동작에 있어서, 다이를 콜릿에 흡착시킬 필요가 있으므로, 다이와 콜릿의 선단부(흡착면)와의 간극에, 예를 들어, 다이싱 공정에서 생긴 웨이퍼의 칩을 주체로 한 이물질이 부착되는 경우가 있다. 그 부착량이 소정의 양 이상이 되면 다이의 소자부나 보호막의 파괴, 혹은 배선이 단선될 가능성이 있었다.In the above-described series of operations, since the die needs to be attracted to the collet, a foreign substance mainly composed of a chip of the wafer formed in the dicing step is attached to the gap between the die and the tip (attracting surface) There is a case. There is a possibility that breakage of the element portion or the protective film of the die or disconnection of the wiring occurs if the amount of adhesion exceeds a predetermined amount.

따라서, 예를 들어, 특허문헌 1에서는, 콜릿의 선단에 다이를 흡착하고, 이를 리드 프레임 상에 탑재하는 장치이며, 그 도중에, 콜릿의 선단에 부착된 이물질을 에어 블로우하여 불어 날려 제거하거나, 브러시로 이물질을 제거하는 방법을 사용해서 본딩을 행하고 있었다. Therefore, for example, in Patent Document 1, a die is adsorbed on the tip of a collet, and the die is mounted on a lead frame. During this operation, foreign matter adhered to the tip of the collet is blown off by blowing air, The bonding is performed by using a method of removing foreign matters.

일본 특허 공개 평6-302630호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-302630

그러나, 점착력이 강한 이물질은, 특히, 콜릿의 다이의 흡착부에 단차가 있는 경우는, 단순한 브러싱으로는 제거(클리닝)할 수 없었다. 또한, 에어 블로우는, 이물질을 제거했다고 해도, 제거된 이물질이 비산하여, 제품에 부착될 우려가 있었다. However, in the case of a foreign matter having a strong adhesive force, in particular, when there is a step in a suction portion of a die of a collet, it is impossible to remove (clean) by simple brushing. Also, in the air blow, even if the foreign substance is removed, the removed foreign matter may scatter and adhere to the product.

본 발명은, 상기와 같은 문제점을 감안하여, 이물질을 비산시키지 않고, 점착력이 강한 이물질도 확실하게 제거 가능한 콜릿의 클리닝을 할 수 있는 다이 본더 및 본딩 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a die bonder and a bonding method capable of cleaning a collet that can reliably remove contaminants with high adhesive strength without scattering foreign matter.

상기한 과제를 해결하기 위한 본원 발명은, 그 일례를 들면, 선단에 설치한 콜릿의 흡착면에 다이를 흡착시켜 웨이퍼로부터 다이를 픽업하는 픽업 헤드와, 픽업한 다이를 기판에 본딩하는 본딩 헤드와, 10㎛내지 수백㎛의 선 폭을 갖는 금속을 복수개 묶은 극세 금속 브러시로 흡착면의 이물질을 제거하는 클리닝 장치와, 극세 금속 브러시와 흡착면을 접촉시키는 접촉 수단과, 흡착면을 따라서 극세 금속 브러시와 흡착면을 상대적으로 이동시키는 이동 수단과, 접촉 수단과 이동 수단을 제어하는 제어부를 갖는 것을 특징으로 한다. According to an aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, there is provided a bonding apparatus including a pick-up head for picking up a die from a wafer by sucking a die on a suction surface of a collet provided at a tip end, a bonding head for bonding the pick- A cleaning device for removing foreign matter on the adsorption surface with a superfine metal brush having a plurality of bundles of metal having a line width of 10 mu m to several hundreds of mu m; contact means for bringing the superfine metal brush into contact with the adsorption surface; And a control unit for controlling the contact means and the moving means.

또한, 다른 예를 들면, 웨이퍼로부터 다이를 픽업하고, 다이를 기판에 본딩하는 제1 스텝과, 다이를 흡착하는 콜릿의 흡착면을 10㎛내지 수백㎛의 선 폭을 복수개 묶은 극세 금속 브러시를, 흡착면을 따라서 흡착면과 상대적으로 이동시켜 흡착면을 클리닝하는 제2 스텝을 갖는 것을 특징으로 한다. In another example, a method may further include: a first step of picking up a die from the wafer and bonding the die to the substrate; and a step of bonding the superfine metal brush, which has a plurality of line widths of 10 mu m to several hundred mu m, And a second step of moving relative to the adsorption surface along the adsorption surface to clean the adsorption surface.

따라서, 본 발명에 따르면, 이물질을 비산시키지 않고, 점착력이 강한 이물질도 확실하게 제거 가능한 콜릿의 클리닝을 할 수 있는 다이 본더 및 콜릿 본딩 방법을 제공할 수 있다. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a die bonder and a collet bonding method capable of cleaning a collet that can reliably remove foreign matter having a high adhesive force without scattering foreign matter.

도 1은 본 발명의 다이 본더의 제1 실시 형태의 개략 상면도이다.
도 2는 도 1에 있어서 화살표 A 방향에서 보았을 때에, 본딩 헤드(41)의 동작을 설명하는 도면이다.
도 3은 픽업 장치의 구성을 도시하는 도면이다.
도 4는 픽업 장치의 구성을 도시하는 도면이다.
도 5의 (a)는 콜릿의 다이의 흡착면을 도시하는 도면이고, 도 5의 (b)는 콜릿의 흡착면에 부착된 Si 부스러기의 실제 예를 나타낸 도면이다.
도 6은 Si 부스러기를 모의하는 시험용 분체로서 일본 분체 공업 기술 협회의 시험용 분체 1의 2종(규사)을 도시하는 도면이다.
도 7은 평가 방법을 나타내는 시험 흐름도이다.
도 8은 툴로서 극세 금속 브러시를 사용했을 때의 시험용 분체의 부착 시와 제거 후의 평가 위치의 화상을 도시하는 도면이다.
도 9는 툴로서 칫솔을 사용했을 때의 시험용 분체의 부착 시와 제거 후의 평가 위치의 화상을 도시하는 도면이다.
도 10은 툴로서 극세 금속 브러시를 사용했을 때의 이물질 잔상률의 변화를 도시한 도면이다.
도 11은 툴로서 에어 블로우를 사용했을 때의 이물질 잔상률의 변화를 도시한 도면이다.
도 12는 툴로서 DAF, 칫솔, 전동 칫솔을 사용했을 때의 각각의 이물질 잔상률의 변화를 도시한 도면이다.
도 13은 콜릿 클리닝 장치의 제1 실시예를 도시하는 도면이다.
도 14는 다이 본더의 실시 형태 1에 있어서의 본딩 헤드에 의한 기판에의 본딩 동작 및 콜릿의 클리닝 동작의 동작 플로우를 도시하는 도면이다.
도 15는 다이 본더의 제2 실시 형태를 도시하는 도면이다.
도 16은 콜릿 클리닝 장치의 제2 실시예를 도시하는 도면이다.1 is a schematic top view of a first embodiment of a die bonder of the present invention.
Fig. 2 is a view for explaining the operation of the bonding head 41 when viewed in the direction of arrow A in Fig.
Fig. 3 is a diagram showing a configuration of a pickup device. Fig.
Fig. 4 is a diagram showing a configuration of a pickup device. Fig.
Fig. 5 (a) is a view showing an adsorption face of the die of the collet, and Fig. 5 (b) is a view showing an actual example of the Si chip attached to the adsorption face of the collet.
Fig. 6 is a drawing showing the two kinds (silica sand) of the test powder 1 of the Japanese Powder Technology Association as a test powder simulating Si scraps.
7 is a test flowchart showing the evaluation method.
Fig. 8 is a diagram showing an image at the time of attaching the test powder when the ultra fine metal brush is used as a tool and at the evaluation position after removal. Fig.
Fig. 9 is a diagram showing an image of an evaluation position at the time of attachment and removal of test powder when a toothbrush is used as a tool. Fig.
Fig. 10 is a diagram showing the change of the foreign matter retention rate when a superfine metal brush is used as a tool.
Fig. 11 is a diagram showing a change in the afterimage ratio of foreign matter when air blow is used as a tool. Fig.
Fig. 12 is a diagram showing the change of the foreign matter retention rate when the DAF, the toothbrush, and the electric toothbrush are used as a tool.
13 is a view showing a first embodiment of the collet cleaning apparatus.
Fig. 14 is a diagram showing the operation flow of the bonding operation to the substrate by the bonding head and the cleaning operation of the collet in Embodiment 1 of the die bonder. Fig.
15 is a view showing a second embodiment of the die bonder.
16 is a view showing a second embodiment of the collet cleaning device.

이하에 본 발명의 일 실시 형태에 대해, 도면 등을 사용해서 설명한다. 또한, 각 도면의 설명에 있어서, 동일한 기능을 갖는 구성 요소에는 동일한 부호를 부여하고, 중복을 피하고, 가능한 한 설명을 생략한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the description of each drawing, constituent elements having the same function are denoted by the same reference numerals, duplication is avoided, and explanations are omitted as much as possible.

(실시 형태 1) (Embodiment 1)

도 1은 본 발명의 다이 본더(10)의 제1 실시 형태(10A)의 개략 상면도이다. 도 2는, 도 1에 있어서 화살표 A 방향에서 보았을 때에, 본딩 헤드(41)의 동작을 설명하는 도면이다. 1 is a schematic top view of a first embodiment 10A of a die bonder 10 of the present invention. Fig. 2 is a view for explaining the operation of the bonding head 41 when viewed in the direction of arrow A in Fig.

다이 본더(10A)는, 크게 구별하여, 기판(P)에 실장하는 다이(D)를 공급하는 다이 공급부(1)와, 다이 공급부(1)로부터 다이를 픽업하고, 픽업된 다이(D)를 기판(P) 또는 이미 본딩된 다이 위에 본딩하는 본딩부(4)와, 콜릿(6)의 다이 흡착면의 이물질을 클리닝하는 콜릿 클리닝 장치[60A(60)]와, 기판(P)을 본딩 위치에 반송하는 반송부(5)와, 반송부(5)에 기판(P)을 공급하는 기판 공급부(9K)와, 실장된 기판(P)을 수취하는 기판 반출부(9H)와, 각 부의 동작을 감시하고 제어하는 제어부(7)를 갖는다.The die bonder 10A largely includes a die feeder 1 for feeding a die D to be mounted on a substrate P and a die D for picking up the die from the die feeder 1, A bonding unit 4 for bonding a substrate P or an already bonded die onto the die P; a collet cleaning device 60A (60) for cleaning the die attach surface of the collet 6; A substrate feeding portion 9K for feeding the substrate P to the carrying portion 5, a substrate carrying portion 9H for receiving the mounted substrate P, And a control unit 7 for monitoring and controlling the control unit.

우선, 다이 공급부(1)는 웨이퍼(11)를 보유 지지하는 웨이퍼 보유 지지 대(12)와 웨이퍼(11)로부터 다이(D)를 밀어올리는 점선으로 나타내는 밀어올림 유닛(13)을 갖는다. 다이 공급부(1)는 도시하지 않은 구동 수단에 의해 XY 방향으로 이동하고, 픽업하는 다이(D)를 밀어올림 유닛(13)의 위치로 이동시킨다.The die supply unit 1 has a wafer holding table 12 for holding a wafer 11 and a lifting unit 13 indicated by a dotted line for pushing the die D from the wafer 11. The die feeding section 1 is moved in the X and Y directions by driving means (not shown), and moves the pick-up die D to the position of the push-up unit 13. [

본딩부(4)는 웨이퍼(11)로부터 다이(D)를 픽업하고, 반송되어 온 기판(P)에 본딩하는 본딩 헤드(41)와, 본딩 헤드(41)를 Y 방향으로 이동시키는 Y 구동부(43)와, 반송되었던 기판(P)의 위치 인식 마크(도시하지 않음)를 촬상하고, 본딩해야 할 다이(D)의 본딩 위치를 인식하는 기판 인식 카메라(44)와, 웨이퍼(11)로부터 픽업한 다이(D)의 자세를 검출하는 다이 자세 인식 카메라(45)를 갖는다. 도 2에 도시하는 바와 같이, 본딩 헤드(41)는 그 선단에 콜릿(6)을 착탈 가능하게 보유 지지하는 콜릿 홀더(6h)를 갖는다. 도 5에 도시하는 바와 같이, 콜릿(6)은 본딩 헤드(41)를 통하여 흡인 펌프(도시하지 않음)에 접속되는 흡착 구멍(6a)을 갖고, 흡착 구멍을 통해 다이(D)를 흡착 보유 지지한다. The bonding section 4 picks up the die D from the wafer 11 and mounts the bonding head 41 for bonding to the transported substrate P and a Y driving section A substrate recognition camera 44 for picking up a position recognition mark (not shown) of the transferred substrate P and recognizing the bonding position of the die D to be bonded, And a die posture recognition camera 45 for detecting the posture of one die D. As shown in Fig. 2, the bonding head 41 has a collet holder 6h for detachably holding the collet 6 at the tip thereof. 5, the collet 6 has a suction hole 6a connected to a suction pump (not shown) through a bonding head 41, and the die D is held by suction through a suction hole do.

콜릿 클리닝 장치[60A(60)]는, 웨이퍼(11)로부터 다이(D)를 픽업하는 픽업 위치와, 다이를 적재하고 가압해서 본딩하는 본딩 위치와의 사이에 설치되고, 후술하는 바와 같이, 극세 금속 브러시(61)로 콜릿(6)의 다이(D)의 흡착면(6s)의 이물질을 제거하고, 클리닝한다. The collet cleaning device 60A (60) is provided between a pick-up position for picking up the die D from the wafer 11 and a bonding position for bonding and pressing the die, and as described later, The metal brush 61 removes foreign substances from the suction surface 6s of the die D of the collet 6 and carries out cleaning.

이와 같은 구성에 의해, 본딩 헤드(41)는 다이 자세 인식 카메라(45)의 촬상 데이터에 기초하여 다이(D)의 자세를 보정하고, 기판 인식 카메라(44)의 촬상 데이터에 기초하여 기판(P)에 다이를 본딩하고, 다시 웨이퍼(11)의 픽업 위치로 복귀되는, 도 2에 있어서 가는 파선으로 나타내는 본딩 동작을 행한다.With this configuration, the bonding head 41 corrects the posture of the die D based on the image pickup data of the die posture recognition camera 45, and corrects the posture of the die P based on the image pickup data of the substrate recognition camera 44 And the bonding operation shown by the thin broken line in Fig. 2, which is returned to the pickup position of the wafer 11, is performed.

또한, 본딩 헤드(41)는, 적절한 시기, 예를 들어, 일련의 본딩 동작을 개시 후, 동작 중 혹은 종료 후에, 콜릿 클리닝 장치(60A)의 위치에 가고, 콜릿(6)의 클리닝을 행하는 굵은 파선으로 나타내는 클리닝 동작을 행한다.The bonding head 41 is moved to the position of the collet cleaning device 60A at an appropriate time, for example, after the start of a series of bonding operations, during or after the operation, A cleaning operation indicated by a broken line is performed.

따라서, 콜릿 클리닝 장치[60A(60)]의 적합한 설치 위치는, 본딩 동작 중의 본딩 헤드(41)의 이동 루트에, 방해가 되지 않는 위치에 설치하는 것이 바람직하다. 그러나, 본딩 동작의 방해가 되거나, 혹은 설치 장소가 충분히 취해지지 않을 때는, 통상의 루트 양단 외측, 혹은 통상의 루트의 기판 반송 방향으로 오프셋한 위치이어도 좋다. 요컨대, 본딩 헤드(41)의 가동 범위에 설치되어 있으면 된다.Therefore, it is preferable that the proper installation position of the collet cleaning device 60A (60) is provided at a position where it does not disturb the movement route of the bonding head 41 during the bonding operation. However, when the bonding operation is obstructed or the mounting place is not sufficiently taken, the position may be offset outside the normal route, or offset in the substrate transport direction of a normal route. In other words, it may be provided in the movable range of the bonding head 41.

반송부(5)는, 1매 또는 복수매의 기판(도 1에서는 4매)을 적재한 기판 반송 팔레트(51)와, 기판 반송 팔레트(51)가 이동하는 팔레트 레일(52)을 구비하고, 병행해서 설치된 동일 구조의 제1, 제2 반송부를 갖는다. 기판 반송 팔레트(51)는, 기판 반송 팔레트(51)에 설치된 너트(도시하지 않음)를 팔레트 레일(52)을 따라서 설치된 볼 나사(도시하지 않음)로 구동함으로써 이동한다.The carrying section 5 is provided with a substrate carrying pallet 51 on which one or a plurality of substrates (four in Fig. 1) are mounted and a pallet rail 52 on which the substrate carrying pallet 51 moves, And has first and second transporting portions of the same structure installed in parallel. The substrate transport pallet 51 is moved by driving a nut (not shown) provided on the substrate transport pallet 51 by a ball screw (not shown) provided along the pallet rail 52.

이와 같은 구성에 의해, 기판 반송 팔레트(51)는 기판 공급부(9K)에서 기판(P)이 적재되고, 팔레트 레일(52)을 따라서 본딩 위치까지 이동하고, 본딩 후 기판 반출부(9H)까지 이동하여, 기판 반출부(9H)에 기판(P)을 전달한다. 제1, 제2 반송부는, 서로 독립하여 구동되고, 한쪽의 기판 반송 팔레트(51)에 적재된 기판(P)에 다이(D)를 본딩 중에, 다른 쪽의 기판 반송 팔레트(51)는 기판(P)을 반출하고, 기판 공급부(9K)로 복귀하고, 새로운 기판(P)을 적재하는 등의 준비를 행한다.With this arrangement, the substrate P is loaded on the substrate transporting pallet 51 from the substrate supply section 9K, moved to the bonding position along the pallet rail 52, moved to the substrate transporting section 9H after bonding, And transfers the substrate P to the substrate carrying-out section 9H. The first and second carry sections are driven independently from each other and while the die D is being bonded to the substrate P loaded on one of the substrate transport pallets 51 while the other substrate transport pallet 51 is mounted on the substrate P, and returns to the substrate supply unit 9K to prepare a new substrate P or the like.

제어부(7)는 기판 인식 카메라(44) 및 기판 인식 카메라(44)로부터의 화상 정보, 본딩 헤드(41)의 위치 등의 각종 정보를 도입하고, 본딩 헤드(41)의 본딩 동작, 클리닝 동작 및 콜릿 클리닝 장치(60)의 클리닝 동작 등 각 구성 요소의 각 동작을 제어한다.The control unit 7 introduces various kinds of information such as image information from the substrate recognition camera 44 and the substrate recognition camera 44 and the position of the bonding head 41 and controls the bonding operation of the bonding head 41, The cleaning operation of the collet cleaning device 60, and the like.

다음에, 도 3 및 도 4를 사용해서 픽업 장치(12)의 구성을 설명한다. 도 3은 픽업 장치(12)의 외관 사시도를 도시하는 도면이다. 도 4는 픽업 장치(12)의 주요부를 도시하는 개략 단면도이다. 도 3, 도 4에 도시하는 바와 같이, 픽업 장치(12)는 웨이퍼 링(14)을 보유 지지하는 익스팬드 링(15)과, 웨이퍼 링(14)에 보유 지지되어 복수의 다이(D)가 접착된 다이싱 테이프(16)를 수평하게 위치 결정하는 지지 링(17)과, 지지 링(17)의 내측에 배치되어 다이(D)를 상방으로 밀어올리기 위한 밀어올림 유닛(13)을 갖는다. 밀어올림 유닛(13)은, 도시하지 않은 구동 기구에 의해, 상하 방향으로 이동하도록 되어 있고, 수평 방향으로는 픽업 장치(12)가 이동하도록 되어 있다.Next, the configuration of the pickup device 12 will be described with reference to Figs. 3 and 4. Fig. Fig. 3 is a diagram showing an external perspective view of the pickup device 12. Fig. 4 is a schematic sectional view showing a main part of the pickup device 12. Fig. 3 and 4, the pickup device 12 includes an expander ring 15 for holding the wafer ring 14, a plurality of dies D held by the wafer ring 14, A support ring 17 for positioning the dicing tape 16 adhered horizontally and a pushing unit 13 disposed inside the support ring 17 for pushing up the die D upward. The push-up unit 13 is moved in the vertical direction by a drive mechanism (not shown), and the pickup device 12 is moved in the horizontal direction.

픽업 장치(12)는 다이(D)의 밀어올림 시에, 웨이퍼 링(14)을 보유 지지하고 있는 익스팬드 링(15)을 하강시킨다. 그 결과, 웨이퍼 링(14)에 보유 지지되어 있는 다이싱 테이프(16)가 연장되어 다이(D)의 간격을 넓히고, 밀어올림 유닛(13)에 의해 다이 하방으로부터 다이(D)를 밀어올려 행하여, 다이(D)의 픽업성을 향상시키고 있다. 또한, 박형화에 수반하여 접착제는 액상으로부터 필름 형상으로 되고, 다이(D)[웨이퍼(11)]와 다이싱 테이프(16) 사이에 다이 어태치 필름(이하, DAF로 약칭함)(18)이라고 불리는 필름 형상의 접착 재료를 부착하고 있다. DAF(18)를 갖는 웨이퍼(11)에서는, 다이싱은 웨이퍼(11)[다이(D)]와 DAF(18)에 대해 행해진다. 따라서, 박리 공정에서는, 웨이퍼(11)와 DAF(18)를 다이싱 테이프(16)로부터 박리한다.Up device 12 lowers the expander ring 15 holding the wafer ring 14 when the die D is lifted. As a result, the dicing tape 16 held in the wafer ring 14 is extended to widen the distance between the dies D, and the die D is pushed up from below the die by the push-up unit 13 , The pickup performance of the die D is improved. Adhesive is changed from a liquid phase to a film in accordance with the thinning and a die attach film (hereinafter abbreviated as DAF) 18 (hereinafter referred to as " DAF ") 18 is formed between the die D (wafer 11) and the dicing tape 16 A film-shaped adhesive material called " adhesive " In the wafer 11 having the DAF 18, dicing is performed on the wafer 11 (die D) and the DAF 18. Therefore, in the peeling step, the wafer 11 and the DAF 18 are peeled from the dicing tape 16.

다이싱 시에, 도 5의 (b)에 도시하는 바와 같이, 주로 웨이퍼(실리콘 Si)의 Si 부스러기의 이물질이 발생하고, 박리 공정 시에 콜릿(6)에 부착된다. 그 부착량이 소정의 양 이상이 되면 다이의 소자부나 보호막의 파괴, 혹은 배선이 단선될 가능성이 있다.During the dicing, as shown in Fig. 5 (b), foreign matter of the Si chip of the wafer (silicon Si) is generated and attached to the collet 6 at the peeling step. There is a possibility that breakage of the element portion or the protective film of the die or disconnection of the wiring occurs if the amount of adhesion is larger than a predetermined amount.

따라서, 종래 기술에서 설명한 바와 같이 에어 블로우하여 이물질을 불어 날리거나, 브러시로 이물질을 제거해 왔다. 최근, 도 5의 (a)에 도시하는 바와 같은 주변에 단차가 있는 압박부(6p)에서 다이(D)를 누르는 압박 콜릿(6)의 요구가 높아져, 특히 단차부(ii)에 있어서의 클리닝 능력이 문제로 되어 왔다. 클리닝 방식은 여러 가지 생각될 수 있는데, 평가 기준이 없어, 어느 것이 얼만큼 우수한 것인지 모른다. 따라서, 평가 방식을 먼저 규정했다.Therefore, as described in the related art, air blowing has blown off foreign matter, or foreign matter has been removed with a brush. In recent years, the demand of the pressing collet 6 for pressing the die D in the pressing portion 6p having a peripheral stepped portion as shown in Fig. 5 (a) has increased in recent years, Ability has become a problem. There are many ways to think about cleaning, but there is no evaluation criteria, and I do not know which is better. Therefore, the evaluation method was first defined.

구체적인 콜릿 클리닝 장치(60)를 설명하기 전에, 클리닝 툴, 평가 방식, 평가 결과를 순서대로 설명한다.Before describing the specific collet cleaning device 60, the cleaning tool, the evaluation method, and the evaluation result will be described in order.

클리닝 툴은, 크게 나눠서 에어 블로우, 비산 방지를 기대할 수 있는 브러시 및 점착 테이프의 2툴의 합계 3툴을 선택했다. 에어 블로우는, 0.15Mpa의 드라이 에어로 행했다. 브러시는 직경 30㎛의 SUS성의 와이어를 복수개 묶은 극세 금속 브러시(기따 세이사꾸쇼제 나노텍 브러시), 굵기 극세모, 나일론제의 경도 보통의 칫솔 및 나일론제의 경도 보통으로 16000st[st:스트로크(왕복)]/분의 음파 진동수를 갖는 전동 칫솔의 3툴로 행했다. 점착 테이프는, 다이의 접착에 사용하는 DAF를 사용해 왔다. 또한, 선 직경 ㎜ 정도의 금속 브러시로는, 콜릿(6)을 손상시키게 되므로 테스트의 후보로부터 제외했다.The cleaning tool was largely divided into three tools, namely, a brush and an adhesive tape, which can be expected to prevent air blowing and scattering. The air blow was performed with dry air of 0.15 MPa. The brush is made of a superfine metal brush (Nitec Brush, manufactured by Gitta Seisakusho Co., Ltd.), which is a bundle of a plurality of SUS-type wires each having a diameter of 30 占 퐉, a hardness standard toothbrush made of nylon and a nylon hardness of 16000st [st: stroke )]] / Minute. The adhesive tape has used a DAF used for bonding a die. In addition, since the metal brush having a line diameter of about mm would damage the collet 6, it was excluded from the test candidates.

평가 위치는, 도 5의 (a)에 도시하는 바와 같이, (i)로 나타내는 압박부(6p), (ii)로 나타내는 단차부, (iii)으로 나타내는 흡착 구멍 주위로 했다. 도 5의 (b)는 콜릿(6)의 흡착면(6s)에 부착된 Si 부스러기(8)의 실제 예를 나타낸 도면이다.As shown in Fig. 5 (a), the evaluation position was formed around the pressing portion 6p shown in (i), the step shown in (ii), and the suction hole shown in (iii). 5 (b) is a view showing an actual example of the Si chip 8 attached to the adsorption face 6s of the collet 6.

평가는, Si 부스러기(8)를 모의하는 시험용 분체로서, 도 6에 도시하는 일본 분체 공업 기술 협회의 시험용 분체 1의 2종(규사)을 선택하고, 도 7에 도시하는 시험 플로우에 기초하여 행했다. 또한, 도 6에 있어서, 예를 들어, 입경 5㎛ 내지 10㎛의 분체는, 88-76=8％±3％ 존재하는 것을 나타내고 있다.The evaluation was conducted based on the test flow shown in Fig. 7 by selecting two kinds (silica sand) of the test powder 1 of the Japanese Powder Technology Association shown in Fig. 6 as the test powder simulating the Si chip 8 . Further, in Fig. 6, for example, powder having a particle diameter of 5 탆 to 10 탆 shows that 88-76 = 8% 賊 3% exists.

우선, 시험용 분체를 넣은 용기에 콜릿(6)의 흡착면(6s)을 가압해서 전체면에 분체를 부착시킨다(스텝 S1). 도 8의 (a), 도 9의 (a)는 시험용 분체가 부착된 평가 위치 표면의 화상예를 나타낸다. 분체가 부착된 부분은 희게 보인다. 평가 위치(iii)의 흑색 동그라미는 흡착 구멍(6a)이다. 각 평가 위치에 있어서의 화상을 2치화하고, 부착 시의 흑백의 면적비를 측정한다(스텝 S2).First, the adsorption face 6s of the collet 6 is pressed against the vessel containing the test powder to attach the powder to the entire surface (step S1). Figures 8 (a) and 9 (a) show examples of images of evaluation surface surfaces to which test powder is attached. Part where powder is attached looks white. The black circles in the evaluation position (iii) are the suction holes 6a. The image at each evaluation position is binarized and the area ratio of black and white at the time of attachment is measured (step S2).

다음에, 콜릿(6)의 흡착면(6s)을, 툴을 5초간 5왕복시켜 분체를 제거했다(스텝 S3). 툴을 왕복시키는 것은, 툴의 진행 방향의 양측에 있는 2개의 단차부(ii)를 확실하게 클리닝하기 위해서이다. 그 후, 스텝 S2와 마찬가지로 각 평가 위치의 화상을 2치화하고, 제거 후의 흑백의 면적비를 측정한다(스텝 S4). 도 8의 (b), 도 9의 (b)의 제거 후의 화상예이고, 도 8의 (b)는 극세 금속(SUS) 브러시(61)의 예를, 도 9의 (b)는 칫솔의 예를 나타낸다. 2개의 예의 사이에는, 명백하게 극세 금속 브러시(61)가 제거 능력이 높은 것을 알 수 있다.Next, the adsorption face 6s of the collet 6 was reciprocated five times for 5 seconds to remove the powder (step S3). The reciprocation of the tool is for surely cleaning the two stepped portions (ii) on both sides of the advancing direction of the tool. Thereafter, as in step S2, the image of each evaluation position is binarized, and the area ratio of black and white after removal is measured (step S4). FIG. 8B shows an example of a superfine metal (SUS) brush 61, FIG. 9B shows an example of a toothbrush . Between the two examples, it is evident that the superfine metal brush 61 has a high removal capability.

마지막으로, 부착 시와 제거 후의 흑백의 면적비의 비율을 구해, 제거율을 평가한다.Finally, the ratio of the black and white area ratio at the time of adhesion and after removal is determined, and the removal rate is evaluated.

도 10 내지 도 12에 각 툴의 평가 결과를 도시한다. 각 도면은, 도 7에 도시하는 플로우를 1회의 측정으로 하고, 측정 횟수에 대한 이물질 잔존율의 변이를 나타내고 있다. 이물질 잔존율이란, 부착 시의 분체의 면적비를 100％로 하여, 측정 후에 얻어진 분체 즉 이물질의 잔존율이다. 도 10은 극세 금속 브러시의 결과를, 도 11은 에어 블로우의 결과를, 도 12는 DAF, 칫솔, 전동 칫솔의 각 결과를 나타낸다. 10 to 12 show the evaluation results of the respective tools. Each drawing shows the variation of the foreign matter remaining ratio with respect to the number of times of measurement by taking the flow shown in Fig. 7 as one measurement. The residual ratio of foreign matter refers to the residual ratio of the powder obtained after the measurement, that is, the foreign matter, assuming that the area ratio of the powder at the time of adhesion is 100%. Fig. 10 shows the results of the superfine metal brush, Fig. 11 shows the results of the air blow, and Fig. 12 shows the results of the DAF, the toothbrush and the electric toothbrush.

이들 결과, 도 10에 도시하는 극세 금속 브러시(61)는 평가 위치에 관계없이 1회째에서 이물질 잔상률이 1％, 즉 제거율 99％이었다. 도 11에 도시하는 에어 블로우는, 평가 위치에서 다소의 차이가 있지만, 1회째에서 단차부(ii)에 있어서 이물질 잔존율이 3％, 즉 제거율 97％이다. 도 12에 도시하는 3툴을 특히 문제가 되는 단차부(ii)에서 평가하면, 전동 칫솔이 좋고 3회째에서 이물질 잔존율이 6％이지만, DAF는 DAF가 접촉하는 압박부(i)에서도, 8회째에서 이물질 잔존율이 45％로 나쁘다. As a result, the superfine metal brush 61 shown in Fig. 10 had a foreign matter retention rate of 1%, that is, a removal rate of 99% at the first time regardless of the evaluation position. In the air blow shown in Fig. 11, there is a slight difference in evaluation position, but the foreign substance remaining ratio is 3%, that is, the removal rate is 97% in the step (ii) in the first time. 12 is evaluated by the stepped portion (ii) which is a problem in particular, the electric toothbrush is good and the foreign matter remaining ratio is 6% in the third time. However, The residual rate of foreign matter is as bad as 45%.

이상으로 설명한 바와 같이, 극세 금속 브러시(61)가 가장 좋고, 이물질을 불어 날리는 에어 블로우에 비해서도 좋은 것을 알 수 있었다. 또한, 도 10에 도시하는 바와 같이, 극세 금속 브러시(61)는 이물질 잔존율, 즉 제거율이 측정 위치에 의존하지 않기 때문에, 압박부(6p)가 없는 평탄한 콜릿에도 적용할 수 있다. 또한 상기 실험 결과가 나타내는 바와 같이, 상기 극세 금속 브러시(61)는, 단차가 있는 콜릿에 대해서도, 이물질 제거의 효과가 높은 것을 발명자는 발견했다. 특히, 상기 극세 금속 브러시(61)는, 주변에 단차가 있는 콜릿에 대해서도, 이물질 제거의 효과가 높은 것을 발명자는 발견했다. As described above, it was found that the superfine metal brush 61 is the best and is better than the air blow blowing foreign matter. Further, as shown in Fig. 10, the extra fine metal brush 61 can be applied to a flat collet without the pressing portion 6p because the foreign matter remaining ratio, i.e., the removal ratio does not depend on the measurement position. Further, as shown in the above experimental results, the inventors of the present invention have found that the ultra fine metal brush 61 has a high effect of removing foreign matter even for a collet having a step. Particularly, the inventors of the present invention have found that the ultra fine metal brush 61 has a high effect of removing foreign matter even for a collet having a peripheral step.

또한, 1회의 5초라고 하는 측정 시간, 5왕복이라고 하는 왕복 횟수는, 평가를 위해 정한 것이며, 실제의 클리닝 처리에 있어서, 콜릿의 치수, 단차부(ii)의 단차 높이, 요구되는 제거율 등을 고려해서 행한다. 예를 들어, 실험적으로 측정 시간(측정 속도), 편도인지 왕복인지, 왕복이면 왕복 횟수 등의 여러 조건을 정한다. The measurement time of 5 seconds and the number of reciprocations of 5 reciprocations are determined for evaluation. In the actual cleaning process, the size of the collet, the step height of the stepped portion (ii), the required removal rate and the like . For example, experimentally, several conditions such as measurement time (measurement speed), one-way or reciprocation, and round-trip frequency are determined.

극세 금속 브러시는, 콜릿(6)의 다이(D)의 흡착면(6s)에 가압해도 제거율이 향상되지 않고, 가볍게 접촉하는 정도가 바람직하다. 금속으로서는, SUS(스테인리스강)와 같은 유연성이 있는 것이 바람직하다. 또한, 극세 금속 브러시의 직경으로서는, 어느 정도 탄력을 유지할 수 있는 직경이 바람직하다. 실험은, SUS로 선 직경이 30㎛, 50㎛로 행하여 그 효과를 확인했지만, 논리적으로는, SUS와 같은 유연성이 있으면, 선 직경이 10㎛내지 수백㎛ 정도이어도 좋다. 도전성의 금속이면, 제전을 할 수 있어 이 점에서도 우수하다. It is preferable that the superfine metal brush be lightly contacted without increasing the removal rate even when pressed against the adsorption face 6s of the die D of the collet 6. As the metal, it is preferable to have flexibility such as SUS (stainless steel). The diameter of the extra fine metal brush is preferably such that the elasticity can be maintained to some extent. The experiment was carried out by using SUS with wire diameters of 30 占 퐉 and 50 占 퐉, and the effect was confirmed. Logically, however, if the flexibility is the same as that of SUS, the wire diameter may be about 10 占 퐉 to several hundred 占 퐉. If the conductive metal is used, it is possible to perform charge elimination and is excellent in this respect.

다음에, 콜릿 클리닝 장치(60A)에 대해 설명한다. Next, the collet cleaning device 60A will be described.

(실시예 1) (Example 1)

도 13은, 도 1에 도시한 실시 형태 1에 있어서의 콜릿 클리닝 장치(60)의 제1 실시예(60A)를 도시하는 도면이다. 도 13의 (a)는 콜릿 클리닝 장치(60A)를 도 1에 있어서 화살표 A의 방향에서 본 도면이다. 도 13의 (b)는, 도 13의 (a)에 있어서, 콜릿 클리닝 장치(60A)를 화살표 B의 방향에서 본 도면이다. 도 13의 (c), 도 13의 (d)는, 각각 도 13의 (a), 도 13의 (b)에 대응하는 도면으로, 본딩 헤드(41)가 강하하고, 극세 금속 브러시(61)에 접촉하고, 클리닝 동작의 상태를 도시하는 도면이다. 13 is a view showing a first embodiment 60A of the collet cleaning device 60 in the first embodiment shown in Fig. Fig. 13A is a view of the collet cleaning device 60A viewed from the direction of arrow A in Fig. 1. Fig. FIG. 13B is a view of the collet cleaning device 60A viewed from the direction of arrow B in FIG. 13A. 13A and 13B correspond to Figs. 13A and 13B, respectively, in which the bonding head 41 is lowered and the superfine metal brush 61 is lowered, And shows the state of the cleaning operation.

콜릿 클리닝 장치(60A)는 콜릿(6)의 다이(D)의 흡착면(6s)을 클리닝하는 극세 금속 브러시(61), 극세 금속 브러시의 하부에 설치된 극세 금속 브러시 내의 실리콘(Si) 부스러기(8) 등이 제거된 이물질을 흡인하는 흡인부(63), 극세 금속 브러시 및 흡인부(63)를 고정하고, 내부에 너트(62n)를 갖는 이동 프레임부(62)와, 극세 금속 브러시(61)를 이동하는 구동부(65)와, 이들 구성 요소를 다이 본더(10A)의 기구부(도시하지 않음)에 고정하는 고정부(66)를 갖는다.The collet cleaning device 60A includes a superfine metal brush 61 for cleaning the adsorption face 6s of the die D of the collet 6, a silicon (Si) debris 8 in a superfine metal brush provided under the superfine metal brush A movable frame portion 62 having a nut 62n therein and a superfine metal brush 61 which are fixed to the superfine metal brush and the suction portion 63. The superfine metal brush 61 is fixed to the superfine metal brush 61, And a fixing portion 66 for fixing these components to a mechanism portion (not shown) of the die bonder 10A.

극세 금속 브러시(61)는, 예를 들어, 선 직경 30㎛, 길이 6㎜의 SUS제의 와이어를 직사각 형상으로 묶은 것이다. 직사각 형상은, 각이 라운딩을 띄고, 적어도 긴 변이 콜릿(6)의 폭 형상을 갖는다. 요컨대, 전술한 바와 같이 와이어의 소정의 탄력을 갖도록 와이어의 선 직경, 길이 및 직사각형의 짧은 변의 길이를 결정한다. 소정의 탄력은, 또는 와이어의 선 직경, 길이 및 직사각 형상의 짧은 변의 길이는, 미리 실험적으로 구해 둠으로써 결정할 수 있다.The superfine metal brush 61 is, for example, a wire made of SUS and having a wire diameter of 30 mu m and a length of 6 mm. The rectangular shape has rounded corners, and at least the long side has a width shape of the collet 6. In short, the wire diameter, the length, and the length of the short side of the rectangle are determined so as to have a predetermined elasticity of the wire as described above. The predetermined elasticity or the wire diameter, the length of the wire, and the length of the short side of the rectangular shape can be determined by experimentally obtaining in advance.

직사각 형상의 긴 변의 길이를 한번에 콜릿(6)의 폭으로 형성할 수 없는 경우는, 긴 변의 길이 방향으로 복수로 분할한 분할 브러시를 설치해도 좋다. 그 경우는, 분할의 경계선에 클리닝의 틈새가 생기지 않도록 경계선을 오버랩해서 클리닝하도록, 예를 들어, 서로 전후에 배치한다. 또한, 브러시의 형상을 원형으로 하여 브러시를 회전시켜도 좋다. 그 경우는, 회전 방향을 반전시켜도 좋다. In the case where the length of the long side of the rectangular shape can not be formed by the width of the collet 6 at a time, it is also possible to provide a plurality of divided brushes divided in the longitudinal direction of the long side. In this case, for example, they are arranged in front of and behind each other so as to overlap and clean the boundary lines so as not to cause clearance in the boundary of the division. Further, the brush may be rotated by making the shape of the brush circular. In this case, the direction of rotation may be reversed.

흡인부(63)는 이동 프레임부(62) 내에 형성되고, 구동용의 볼 조인트(65b)의 양측에 설치된 흡인 구멍부(63a)와, 2개의 흡인 구멍부(63a)를 연결하는 연결부(63b)와, 흡인 펌프(도시하지 않음)로부터 배치된 유연한 접속 배관(63h)과, 접속 배관이 접속되는 접속 마개(63s)를 갖는다. The suction portion 63 is formed in the moving frame portion 62 and includes a suction hole portion 63a provided on both sides of the ball joint 65b for driving and a connecting portion 63b for connecting the two suction hole portions 63a A flexible connection pipe 63h disposed from a suction pump (not shown), and a connection plug 63s to which the connection pipe is connected.

구동부(65)는 이동 프레임부(62)에 고정된 너트(62n)와 걸림 결합하고, 고정부(66)에 지지된 볼 조인트(65b)와, 볼 조인트를 회전시키는 모터(65m)와, 이동 프레임부(62)에 형성된 오목 형상부가 미끄럼 이동하는 고정부(66)의 양측에 설치된 2개의 가이드 레일(65g)을 갖는다.The driving part 65 includes a ball joint 65b which is engaged with a nut 62n fixed to the moving frame part 62 and is supported by the fixing part 66, a motor 65m which rotates the ball joint, And two guide rails 65g provided on both sides of the fixing portion 66 in which the concave portion formed in the frame portion 62 slides.

다이 본더의 실시 형태 1에 있어서의 본딩 헤드(41)에 의한 기판(P)에의 본딩 동작 및 콜릿(6)의 클리닝 동작을 도 2 및 이들 동작 플로우를 도시하는 도 14를 사용해서 설명한다. The bonding operation of the die bonder to the substrate P by the bonding head 41 and the cleaning operation of the collet 6 in the first embodiment of the die bonder will be described with reference to Fig. 2 and Fig. 14 showing these operational flows.

통상은, 도 2에 있어서 가는 파선으로 나타내는 본딩 동작 시가 반복해서 행해진다. 본딩 동작에서는, 제어부(7)는 웨이퍼(11)로부터 밀어올림 유닛(13)에 의해 밀어올려진 다이(D)를 본딩 헤드(41)의 선단에 장착된 콜릿(6)에 의해 흡착하고, 픽업한다(스텝 B1). 픽업된 다이(D)가 본딩 위치에 가는 도중에, 제어부(7)는 다이 자세 인식 카메라(45)에 의해 다이(D)의 자세를 인식하고, 인식 결과에 기초하여 다이(D)의 자세를 보정한다(스텝 B2). 제어부(7)는 팔레트 레일로 반송된 기판(P)에 다이(D)를 본딩한다(스텝 B3). 제어부(7)는 본딩 헤드(41)를 웨이퍼(11)로부터 다이(D)의 픽업 위치로 복귀시킨다(스텝 B4). Normally, the bonding operation shown by the thin broken line in Fig. 2 is repeated. In the bonding operation, the control unit 7 sucks the die D pushed up by the push-up unit 13 from the wafer 11 by the collet 6 mounted on the tip of the bonding head 41, (Step B1). The control unit 7 recognizes the posture of the die D by the die posture recognition camera 45 and corrects the posture of the die D based on the recognition result (Step B2). The control section 7 bonds the die D to the substrate P conveyed by the pallet rail (step B3). The control unit 7 returns the bonding head 41 from the wafer 11 to the pickup position of the die D (step B4).

상술한 본딩 동작 시에서, 소정의 본딩 횟수마다, 스텝 B4의 픽업 위치로 복귀되는 동작을 향하는 도중에 있어서, 제어부(7)는 콜릿(6)의 흡착면(6s)을 다이 자세 인식 카메라(45)에 의해 촬상하고, 클리닝의 필요 여부를 판단한다(스텝 J1, J2). 필요 여부의 판단은, 흡착면(6s) 중 일부 소정의 영역에서의 Si 부스러기(8) 등의 이물질의 수 또는 크기 등을 판단해서 행한다. 소정의 영역이란, 예를 들어, 단차가 있는 오염되기 쉬운 영역을 지정한다. 물론 흡착면(6s)의 전체 영역에서 판단해도 좋다. 화상 처리에 시간이 걸리는 경우는, 일단 촬상하고, 다음의 본딩 처리 후 또는 다 다음의 본딩 처리 후 등까지 화상 처리를 행하고, 클리닝 필요 여부를 판단해도 좋다. 제어부(7)는 클리닝 불필요라고 판단하면, 스텝 B4로 이행한다. The controller 7 moves the attraction surface 6s of the collet 6 to the die position recognition camera 45 in the middle of the operation for returning to the pickup position of step B4 for each predetermined number of bonding times in the above- And determines whether cleaning is necessary (steps J1, J2). The determination of necessity is made by judging the number or size of foreign substances such as Si chips 8 in a predetermined region of the adsorption surface 6s. The predetermined region designates, for example, a contamination-susceptible region having a step. Of course, it may be determined in the entire region of the adsorption surface 6s. In the case where the image processing takes time, the image processing may be performed once until the image is picked up, after the next bonding process, or after the next bonding process, to determine whether cleaning is necessary or not. If the control unit 7 determines that cleaning is not required, the process proceeds to step B4.

제어부(7)는 클리닝 필요라고 판단하면, 도 2에 도시하는 굵은 파선으로 나타내는 클리닝 동작으로 들어간다. 제어부(7)는 콜릿(6)[본딩 헤드(41)]을 콜릿 클리닝 장치(60A)의 상부로 이동하여 강하시켜, 도 13의 (c)에 도시하는 바와 같이, 극세 금속 브러시(61)에 접촉시킨다(스텝 C1). 본 예에서는, 클리닝하기 위한 접촉 수단은, 콜릿을 이동시키는 수단이 된다. 그 후, 제어부(7)는 모터(65m)를 제어하여 극세 금속 브러시(61)를, 예를 들어, 화살표 C로 나타내는 바와 같이, 예를 들어, 1초간 1왕복의 속도로 1왕복, 필요하면 수회 왕복 이동시켜 콜릿의 흡착면(6s)을 클리닝한다(스텝 C2). 본 예의 경우의 클리닝하기 위한 이동 수단은, 극세 금속 브러시(61)를 이동시키는 수단이다. 극세 금속 브러시(61)를 이동시키는 수단으로 함으로써, 클리닝 목적의 미세한 좌우 방향의 움직임 기능을 본딩 헤드에 부여할 필요가 없으므로, 고정밀도 또한 안정적인 본딩을 실현할 수 있다. 또한, 편도 동작만 소정의 클린도가 얻어지면 편도 동작만이어도 좋다. 그 후, 제어부(7)는 본딩 헤드(41)를 상승시켜, 다이(D)의 픽업 위치로 복귀되고(스텝 C3), 본딩 동작으로 복귀된다. When the controller 7 determines that cleaning is necessary, the controller 7 enters a cleaning operation indicated by a thick broken line shown in Fig. The control unit 7 moves the collet 6 (the bonding head 41) to the upper portion of the collet cleaning device 60A to drop the collet 6 to the microfine metal brush 61 as shown in FIG. 13 (c) (Step C1). In this example, the contact means for cleaning is a means for moving the collet. Thereafter, the control unit 7 controls the motor 65m to rotate the ultra-fine metal brush 61 one turn at a speed of one reciprocation for one second, for example, as shown by the arrow C The adsorption face 6s of the collet is cleaned by reciprocating several times (step C2). The moving means for cleaning in the case of this embodiment is means for moving the extra fine metal brush 61. By using the means for moving the superfine metal brush 61, it is not necessary to impart a fine moving function for cleaning in the left and right direction to the bonding head, so that high-precision and stable bonding can be realized. Further, only a one-way operation may be performed if a predetermined degree of cleanliness is obtained for only the one-way operation. Thereafter, the control section 7 raises the bonding head 41 to return to the pickup position of the die D (step C3), and returns to the bonding operation.

제어부(7)는 상기의 플로우를 예정하고 있는 다이수를 본딩할 때까지 반복한다(스텝 J3). The control unit 7 repeats this process until the number of the die scheduled for the flow is bonded (step J3).

상기 플로우에 있어서, 소정의 본딩 횟수마다, 바꿔 말하면 웨이퍼(11)로부터 다이(D)의 소정의 픽업 횟수마다, 촬상 데이터를 기초로 클리닝의 필요 여부를 판단했지만, 판단하지 않고 소정의 픽업 횟수마다 정기적으로 행해도 좋다. 또한, 상기 플로우에 있어서 촬상 데이터를 기초로 소정의 본딩 횟수마다 클리닝의 필요 여부를 판단했지만, 그 후 매회 클리닝의 필요 여부를 판단하지 않고, 안전 사이드, 택트 타임의 향상의 관점에서, 그 후의 판단 사이클을 소정의 본딩 횟수보다 짧게 해도 좋다. In the above flow, the necessity of cleaning is determined on the basis of the imaging data every predetermined number of times of bonding, in other words, the predetermined number of pick-ups of the die D from the wafer 11. However, It may be done regularly. Further, in the above flow, it is judged whether or not the cleaning is necessary for each predetermined number of bonding based on the image pickup data. However, from the viewpoint of improvement of the safety side and tact time, The cycle may be shorter than the predetermined number of bonding.

또한, 클리닝을 행하는 타이밍으로서는, 다이가 복수행에 걸쳐 보유 지지되고 있는 웨이퍼(11) 상의 다이의 행이 바뀔 때마다, 혹은 2행 간격으로 콜릿 클리닝을 자동으로 실행하도록 해도 좋다. 또한, 작업자가, 필요할 때에 다이 본더를 조작해서 수시로 실행하도록 해도 좋다. Further, as the timing of performing the cleaning, the collet cleaning may be automatically performed every time the rows of dies on the wafer 11 held by the dies are changed or at intervals of two rows. Further, the operator may operate the die bonder at any time when necessary.

또한, 상기 설명에서는, 클리닝 동작 시에 본딩 헤드(41)을 강하시켜 클리닝시켰지만, 콜릿 클리닝 장치(60A)를 상승시켜 클리닝해도 좋다.In the above description, the bonding head 41 is lowered during the cleaning operation, but the collet cleaning device 60A may be raised to perform cleaning.

이상 설명한 콜릿 클리닝 장치의 실시예 1에 의하면, 극세 금속 브러시(61)를 사용함으로써, 이물질을 주위에 비산시키지 않고, 확실하게 이물질을 제거할 수 있다. According to the first embodiment of the collet cleaning apparatus described above, by using the extra fine metal brush 61, it is possible to reliably remove the foreign matter without scattering the foreign matter around.

또한, 이상 설명한 콜릿 클리닝 장치의 실시예 1에 의하면, 흡인부(63)를 설치함으로써, 제거한 이물질을 회수할 수 있어, 안전하게 기판에 다이를 본딩할 수 있다. Further, according to the first embodiment of the collet cleaning apparatus described above, the removed foreign material can be recovered by providing the suction portion 63, and the die can be securely bonded to the substrate.

또한, 이상 설명한 콜릿 클리닝 장치의 실시예 1에 의하면, 극세 금속 브러시(61)를 사용함으로써 콜릿(6)을 제전할 수 있어, 다이의 정전 파괴를 방지할 수 있다. Further, according to the first embodiment of the collet cleaning apparatus described above, the collet 6 can be discharged by using the extra fine metal brush 61, and the electrostatic destruction of the die can be prevented.

(실시 형태 2) (Embodiment 2)

도 15는 다이 본더(10)의 제2 실시 형태(10B)를 도시하는 도면이다. 다이 본더(10B)는, 다이 본더(10A)에, 본딩 헤드(41)와는 별도로 웨이퍼(11)로부터 픽업하는 픽업부(2)와, 픽업한 다이(D)를 일단 적재하는 중간 스테이지(31)를 더 설치한 구성을 갖는다. 또한, 다이 본더(10B)는 콜릿 클리닝 장치(60)의 제2 실시예(60B)를 중간 스테이지(31)와 다이(D)의 픽업 위치 사이에 갖는다.15 is a view showing a second embodiment 10B of the die bonder 10. Fig. The die bonder 10B is provided with a pick-up section 2 for picking up the wafer 11 from the die bonder 10A separately from the bonding head 41 and an intermediate stage 31 for temporarily picking up the picked- As shown in Fig. The die bonder 10B also has the second embodiment 60B of the collet cleaning device 60 between the pickup position of the intermediate stage 31 and the die D.

픽업부(2)는 웨이퍼(11)로부터 다이(D)를 픽업하고, 중간 스테이지(31)에 적재하는 픽업 헤드(21)와, 픽업 헤드(21)를 Y 방향으로 이동시키는 픽업 헤드의 Y 구동부(23)를 갖는다. 픽업 헤드(21)는 본딩 헤드(41)와 동일 구조를 갖고, Y 구동부(23) 외에 콜릿(6)을 승강, 회전 및 X 방향 이동시키는 도시하지 않은 각 구동부를 갖는다. The pick-up section 2 picks up the dies D from the wafer 11 and picks up the picked-up images on the pick-up head 21 mounted on the intermediate stage 31, (23). The pick-up head 21 has the same structure as the bonding head 41 and has driving sections (not shown) for lifting, rotating, and moving the collet 6 in the X direction in addition to the Y driving section 23.

(실시예 2) (Example 2)

도 16은 콜릿 클리닝 장치(60B)를 도시하는 도면이다. 도 16의 (a)는 콜릿 클리닝 장치(60B)를 도 15에 있어서 화살표 G의 방향에서 본 도면이다. 도 16의 (b)는, 도 16의 (a)에 있어서, 콜릿 클리닝 장치(60B)를 화살표 E의 방향에서 본 도면이다. 도 16의 (c), 도 16의 (d)는, 각각 도 16의 (a), 도 16의 (b)에 대응하는 도면이고, 콜릿 클리닝 장치(60B)의 본체를 상승시켜 픽업 헤드(21)에 접촉시키고, 클리닝 동작의 상태를 도시하는 도면이다. 16 is a view showing the collet cleaning device 60B. 16 (a) is a view of the collet cleaning device 60B as viewed in the direction of arrow G in Fig. 15. Fig. Fig. 16B is a view of the collet cleaning device 60B in the direction of the arrow E in Fig. 16A. 16C and 16D correspond to Figs. 16A and 16B, respectively, and the main body of the collet cleaning device 60B is raised to move the pickup head 21 , And shows the state of the cleaning operation.

실시예 2의 콜릿 클리닝 장치(60B)의 실시예 1과 다른 점은, 다음의 4점이다. The collet cleaning apparatus 60B of the second embodiment differs from the first embodiment in the following four points.

첫번째, 픽업 헤드(21)의 콜릿(6)에 웨이퍼(11)로부터 이물질 등이 부착되므로, 상술한 바와 같이 콜릿 클리닝 장치(60B)는 중간 스테이지(31)와 다이(D)의 픽업 위치 사이에 설치되어 있는 점이다. 또한, 중간 스테이지(31)가 존재하는 다이 본더에 있어서, 본딩 헤드에 관해서도, 마찬가지로 콜릿 클리닝을 행할 필요가 있는 경우에는, 중간 스테이지(31)와 다이(D)의 본딩의 위치 사이에 설치해도 좋다.As described above, the collet cleaning device 60B is disposed between the pickup position of the intermediate stage 31 and the pickup position of the die D as foreign substances or the like are attached to the collet 6 of the pick-up head 21 from the wafer 11, It is installed. In the die bonder in which the intermediate stage 31 is present, the bonding head may also be provided between bonding positions of the intermediate stage 31 and the die D when it is necessary to perform collet cleaning similarly .

두번째, 실시예 1에서는 극세 금속 브러시(61)를 이동시켜 흡착면(6s)의 이물질을 제거한 것에 반해, 실시예 2에서는 본딩 헤드(41)를 도 16의 (c)에 도시하는 화살표 J 방향으로 좌우로 이동시켜 흡착면(6s)의 이물질을 제거하고 있는 점이다. 즉, 실시예 2에서는, 클리닝하기 위한 이동 수단은 콜릿을 이동시키는 수단이다. 본딩 헤드가 클리닝 목적과는 별도의 다른 목적으로 좌우 이동에 관한 특수한 기능이 있는 경우에는, 그 기능을 사용해서, 클리닝을 실시함으로써, 불필요한 기능을 부여할 필요없이 콜릿 클리닝을 실현할 수 있는 이점이 있다.Second Embodiment In the first embodiment, the ultra-fine metal brush 61 is moved to remove foreign matter on the adsorption surface 6s. In contrast, in the second embodiment, the bonding head 41 is moved in the direction of the arrow J shown in FIG. So that foreign matter on the adsorption surface 6s is removed. In other words, in the second embodiment, the moving means for cleaning is a means for moving the collet. In the case where the bonding head has a special function relating to the left-right movement for the purpose other than the cleaning purpose, the cleaning is performed by using the function, and there is an advantage that the collet cleaning can be realized without giving an unnecessary function .

세번째, 실시예 1에서는 본딩 헤드(41)가 강하하여 콜릿(6)의 흡착면(6s)을 극세 금속 브러시(61)에 접촉시킨 것에 반해, 실시예 2에서 H 방향으로 승강 기능을 갖는 승강 장치(67)에 의해 극세 금속 브러시(61)를 상승시켜 콜릿(6)의 흡착면(6s)에 극세 금속 브러시(61)를 접촉시키고 있는 점이다. 이 경우의 클리닝하기 위한 접촉 수단은, 극세 금속 브러시(61)를 승강시키는 수단이다. 극세 금속 브러시(61)에 승강 기능을 부여함으로써, 본딩 헤드(41)가 극세 금속 브러시(61)의 상방으로 이동한 것에 맞춰서, 극세 금속 브러시(61)의 승강을 실시해서 본딩 헤드(41)에 접촉시킬 수 있어, 스루풋의 향상이 가능하다. 또한, 제3 점은, 실시예 2에 있어서 구동축을 저감시키기 위해, 실시예 1과 마찬가지로 본딩 헤드(41)를 강하시켜도 좋다. Third Embodiment In the first embodiment, the bonding head 41 is lowered and the attracting surface 6s of the collet 6 is brought into contact with the superfine metal brush 61. On the other hand, in the second embodiment, The fine metal brush 61 is brought up by the fine metal brush 61 and the fine metal brush 61 is brought into contact with the attracting surface 6s of the collet 6. In this case, the contact means for cleaning is means for lifting up the ultra fine metal brush 61. The microfine metal brush 61 is lifted and lowered in accordance with the movement of the bonding head 41 to the upper side of the microfine metal brush 61 so that the microfine metal brush 61 is lifted and lowered to the bonding head 41 So that the throughput can be improved. The third point is that the bonding head 41 may be lowered in the second embodiment in the same manner as in the first embodiment in order to reduce the drive shaft.

네번째, 실시예 1에서는 다이 자세 인식 카메라를 사용해서 이물질의 정도를 감시했지만, 실시 형태 2에서는 중간 스테이지(31)에 다이(D)를 적재할 때는, 본딩할 때와 같이 정확한 다이의 자세를 얻을 필요가 없으므로, 실시예 2에서는, 이물질 정도를 화상으로서 감시하지 않고, 이물질 정도의 감시를 픽업 헤드(21)에 의한 웨이퍼(11)로부터의 다이(D)의 픽업 횟수로 행한다. 물론, 실시예 1과 마찬가지로, 픽업 헤드의 콜릿(6)의 흡착면(6s)을 촬상하는 수단을 설치하여, 촬상 결과에 기초하여 클리닝의 필요 여부를 판단해도 좋다. Fourth Embodiment In the first embodiment, the degree of foreign matter is monitored by using a die posture recognition camera. However, in the second embodiment, when the die D is loaded on the intermediate stage 31, The degree of foreign matter is monitored by the pickup number of the die D from the wafer 11 by the pick-up head 21 without monitoring the degree of foreign matter as an image in the second embodiment. Of course, as in the first embodiment, means for picking up the suction surface 6s of the collet 6 of the pick-up head may be provided, and the necessity of cleaning may be determined based on the image pickup result.

이상 설명한 콜릿 클리닝 장치의 실시예 2에 의하면, 극세 금속 브러시(61)를 사용함으로써, 이물질을 주위에 비산시키지 않고, 확실하게 이물질을 제거할 수 있다. According to the second embodiment of the collet cleaning apparatus described above, by using the extra fine metal brush 61, it is possible to reliably remove the foreign matter without scattering the foreign matter around.

이상의 설명에 있어서, 실시 형태 1에서 설명한 콜릿 클리닝 장치의 실시예 1을 실시 형태 2에, 반대로 실시 형태 2에서 설명한 콜릿 클리닝 장치의 실시 형태 2를 실시 형태 1에 적용할 수 있다. In the above description, the first embodiment of the collet cleaning apparatus described in the first embodiment can be applied to the second embodiment, and the second embodiment of the collet cleaning apparatus described in the second embodiment can be applied to the first embodiment.

또한, 이상 설명한 콜릿 클리닝 장치의 실시예 2에 의하면, 흡인부(63)를 설치함으로써, 제거한 이물질을 회수할 수 있어, 안전하게 기판에 다이를 본딩할 수 있다. Further, according to the second embodiment of the collet cleaning apparatus described above, the removed foreign material can be recovered by providing the suction portion 63, and the die can be securely bonded to the substrate.

또한, 이상 설명한 콜릿 클리닝 장치의 실시예 2에 의하면, 극세 금속 브러시(61)를 사용함으로써 콜릿(6)을 제전할 수 있어, 다이의 정전 파괴를 방지할 수 있다. Further, according to the second embodiment of the collet cleaning apparatus described above, the collet 6 can be discharged by using the extra fine metal brush 61, so that the electrostatic breakdown of the die can be prevented.

이상 설명한 다이 본더의 실시 형태 1, 2에 의하면, 극세 금속 브러시(61)를 사용하고, 이물질을 주위에 비산시키지 않고 확실하게 이물질을 제거함으로써, 신뢰성이 높은 다이 본더를 제공할 수 있다. According to Embodiments 1 and 2 of the die bonder described above, it is possible to provide a highly reliable die bonder by using the extra fine metal brush 61 and reliably removing foreign matter without scattering the foreign matter around.

다른 다이 본더의 실시 형태로서, 픽업한 다이를 반전하여, 본딩 헤드에 전달하는 플립 칩 본더에도 적용 가능하다. 실시 형태 1, 2에서는, 클리닝하는 흡착면은 아래를 향하고 있으므로, 클리닝 장치(60)는 다이를 픽업하는 헤드의 가동 범위의 하측에 설치되어 있다. 그러나, 다이(3)의 실시 형태에서는, 흡착면이 위를 향하는 경우가 있으므로, 픽업하는 헤드의 가동 범위의 상측에 설치해도 좋다. 즉, 클리닝 장치(60)는 흡착면에 대면하도록 설치된다. As another embodiment of the die bonder, the present invention is also applicable to a flip chip bonder in which a picked-up die is inverted and transferred to a bonding head. In Embodiments 1 and 2, since the suction surface to be cleaned faces downward, the cleaning device 60 is provided below the movable range of the head for picking up the die. However, in the embodiment of the die 3, since the suction surface faces upward, it may be provided above the movable range of the pick-up head. That is, the cleaning device 60 is provided so as to face the attraction surface.

이상과 같이 본 발명의 다이 본더, 콜릿 클리닝 장치의 실시 형태에 대해 설명했지만, 상술한 설명에 기초하여 당업자에 있어서 다양한 대체예, 수정 또는 변형이 가능하고, 본 발명은 그 취지를 일탈하지 않는 범위에서 전술한 다양한 대체예, 수정 또는 변형을 포함하는 것이다.As described above, the embodiments of the die bonder and the collet cleaning device of the present invention have been described. However, various alternatives, modifications, and variations can be made by those skilled in the art based on the above description, And variations and / or modifications described above in connection with the appended claims.

1 : 다이 공급부
2 : 픽업부
21 : 픽업 헤드
31 : 중간 스테이지
4 : 본딩부
41 : 본딩 헤드
44 : 기판 인식 카메라
45 : 다이 자세 인식 카메라
6 : 콜릿
6a : 콜릿의 흡착 구멍
6p : 콜릿의 압박부
6s : 콜릿의 다이의 흡착면
7 : 제어부
10, 10A, 10B : 다이 본더
11 : 웨이퍼
12 : 픽업 장치
13 : 밀어올림 유닛
18 : 다이 어태치 필름(DAF)
60, 60A, 60B : 콜릿 클리닝 장치
61 : 극세 금속 브러시
62 : 이동 프레임부
63 : 흡인부
65 : 구동부
67 : 승강 장치
D : 다이
P : 기판 1:
2: Pickup section
21: Pickup head
31: Intermediate stage
4:
41: bonding head
44: Substrate recognition camera
45: Die position recognition camera
6: Collet
6a: The suction hole of the collet
6p: the pressing portion of the collet
6s: the adsorption side of the die of the collet
7:
10, 10A, 10B: die bonder
11: wafer
12: Pickup device
13: Push-up unit
18: Die attach film (DAF)
60, 60A, 60B: Collet cleaning device
61: Fine metal brush
62:
63: suction portion
65:
67: lifting device
D: Die
P: substrate

Claims (16)

선단에 설치한 콜릿의 흡착면에 다이를 흡착시켜 웨이퍼로부터 상기 다이를 픽업하는 픽업 헤드와,
픽업한 상기 다이를 기판 또는 이미 본딩된 다이 위에 본딩하는 본딩 헤드와,
10㎛ 내지 50㎛의 선 폭을 갖는 금속의 브러시를 복수개 묶은 극세 금속 브러시로 상기 흡착면의 이물질을 제거하는 클리닝 장치와,
상기 극세 금속 브러시와 상기 흡착면을 접촉시키는 접촉 수단과,
상기 극세 금속 브러시와 상기 흡착면을 접촉시킨 상태에서 상기 흡착면을 따라서 상기 극세 금속 브러시와 상기 흡착면을 상대적으로 이동시키는 이동 수단과,
상기 접촉 수단과 상기 이동 수단을 제어하는 제어부와,
상기 콜릿의 흡착면을 촬상하는 카메라
를 갖고,
상기 흡착면은 평면시에서 직사각형이고, 상기 콜릿은 상기 흡착면에 복수의 흡착 구멍과 주변에 단차가 있는 압박부를 가지며,
상기 제어부는 상기 카메라로 촬상한 이물질의 수 또는 크기에 기초해서 클리닝 필요 여부를 판단하고, 만일 클리닝이 불필요하다고 판단한 경우에는 상기 콜릿의 흡착면의 클리닝을 행하지 않고 상기 본딩 헤드를 상기 다이의 픽업 위치로 복귀시키고, 클리닝이 필요하다고 판단한 경우에는 상기 클리닝 장치에 의해 상기 콜릿의 흡착면의 클리닝을 행하는 것을 특징으로 하는 다이 본더.A pick-up head for picking up the die from the wafer by adsorbing the die on the adsorption face of the collet provided at the tip,
A bonding head for bonding the picked up die onto a substrate or an already bonded die,
A cleaning device for removing foreign matter on the adsorption surface by using a superfine metal brush having a plurality of brushes of metal having a line width of 10 mu m to 50 mu m,
Contact means for bringing the superfine metal brush into contact with the attracting surface,
Moving means for relatively moving the superfine metal brush and the attracting surface along the attracting surface in a state in which the superfine metal brush and the attracting surface are in contact with each other,
A control unit for controlling said contact means and said moving means,
A camera for picking up an adsorption surface of the collet
Lt; / RTI &
Wherein the adsorption surface is rectangular in plan view and the collet has a plurality of adsorption holes on the adsorption surface and a pressing portion having a step in the periphery,
The controller determines whether cleaning is necessary based on the number or size of foreign substances picked up by the camera. If it is determined that cleaning is unnecessary, the controller controls the bonding head to move the pickup head And when it is determined that cleaning is necessary, cleaning of the adsorption face of the collet is performed by the cleaning device. 제1항에 있어서,
상기 클리닝 장치는, 상기 픽업 헤드의 가동 범위에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 다이 본더. The method according to claim 1,
Wherein the cleaning device is provided in a movable range of the pick-up head. 제2항에 있어서,
상기 클리닝 장치는, 상기 다이의 상기 웨이퍼로부터 픽업하는 픽업 위치와 상기 다이를 적재하는 위치와의 사이이며, 상기 흡착면의 이물질을 제거할 때에 상기 흡착면에 대면하는 위치에 설치되는 것을 특징으로 하는 다이 본더.3. The method of claim 2,
Wherein the cleaning device is provided at a position between a pick-up position for picking up the wafer from the die and a position for loading the die, and a position facing the attracting surface when the foreign substance on the attracting surface is removed Die bonder. 제1항에 있어서,
상기 접촉 수단은, 상기 콜릿 또는 상기 극세 금속 브러시가 승강해서 상기 흡착면에 접촉시키는 수단인 것을 특징으로 하는 다이 본더.The method according to claim 1,
Wherein the contact means is means for bringing the collet or the ultra fine metal brush up and coming into contact with the attracting surface. 제1항에 있어서,
상기 이동 수단은, 상기 콜릿 또는 상기 극세 금속 브러시를 이동시키는 수단인 것을 특징으로 하는 다이 본더. The method according to claim 1,
Wherein the moving means is means for moving the collet or the ultra fine metal brush. 제1항에 있어서,
상기 극세 금속 브러시는, 상기 흡착면에 1변의 길이를 긴 변으로 하는 브러시부를 갖거나, 또는, 상기 1변의 길이를 복수로 분할한 분할 브러시부를 갖고, 인접하는 상기 분할 브러시부는 서로 클리닝 개소를 오버랩하고 있는 것을 특징으로 하는 다이 본더.The method according to claim 1,
Wherein the superfine metal brush has a brush portion having a long side on one side of the adsorption surface or a split brush portion in which a length of one side is divided into a plurality of portions and adjacent brush portions overlap each other, And the die bonder. 제1항에 있어서,
상기 본딩 헤드는, 상기 픽업 헤드를 겸하고, 상기 웨이퍼로부터 상기 다이를 직접 상기 기판에 본딩하는 것을 특징으로 하는 다이 본더.The method according to claim 1,
Wherein the bonding head also serves as the pick-up head, and the die is directly bonded to the substrate from the wafer. 제1항에 있어서,
상기 픽업 헤드로 픽업된 다이가 적재되는 중간 스테이지
를 더 포함하고,
상기 클리닝 장치는, 상기 픽업 헤드의 가동 범위에 설치되고, 상기 다이의 상기 웨이퍼로부터 픽업하는 픽업 위치와 상기 중간 스테이지 사이이며, 상기 흡착면의 이물질을 제거할 때 상기 흡착면에 대면하는 위치에 설치되는 것을 특징으로 하는 다이 본더.The method according to claim 1,
An intermediate stage on which a die picked up by the pick-
Further comprising:
The cleaning apparatus is installed in a movable range of the pick-up head, and is installed at a position between the pick-up position for picking up the wafer from the die and the intermediate stage, And the die bonder. 웨이퍼로부터 다이를 픽업하고, 상기 다이를 기판 또는 이미 본딩된 다이 위에 본딩하는 제1 스텝과,
상기 다이를 흡착하는 콜릿의 흡착면을 10㎛ 내지 50㎛의 선 폭을 갖는 금속을 복수개 묶은 극세 금속 브러시를 상기 흡착면에 접촉시켜, 상기 흡착면을 따라서 상기 흡착면과 상대적으로 이동시켜 상기 흡착면을 클리닝하는 제2 스텝
을 갖고,
상기 흡착면은 평면시에서 직사각형이고, 상기 콜릿은 상기 흡착면에 복수의 흡착 구멍과 주변에 단차가 있는 압박부를 가지며,
상기 제2 스텝은, 상기 본딩 후의 상기 흡착면을 촬상하고, 상기 촬상한 이물질의 수 또는 크기에 기초해서 행해지는데, 만일 클리닝이 불필요하다고 판단한 경우에는 상기 제2 스텝을 행하지 않고 상기 제1 스텝으로 복귀시키고, 클리닝이 필요하다고 판단한 경우에는 상기 제2 스텝을 행하는 것을 특징으로 하는 본딩 방법.A first step of picking up a die from a wafer and bonding the die onto a substrate or an already bonded die,
A superfine metal brush having a plurality of metal wires having a line width of 10 to 50 mu m is brought into contact with the adsorption face of the collet for adsorbing the die to relatively move the adsorption face along the adsorption face, A second step of cleaning the surface
Lt; / RTI &
Wherein the adsorption surface is rectangular in plan view and the collet has a plurality of adsorption holes on the adsorption surface and a pressing portion having a step in the periphery,
And the second step is carried out based on the number or size of the foreign substances picked up by the image pickup of the bonding surface after the bonding. If it is determined that cleaning is unnecessary, the first step And when it is determined that cleaning is necessary, the second step is performed. 제9항에 있어서,
상기 제1 스텝은,
상기 웨이퍼로부터 상기 다이를 픽업 헤드로 픽업하고, 중간 스테이지에 적재하는 픽업 스텝과,
상기 중간 스테이지에 적재된 상기 다이를 기판 또는 이미 본딩된 다이 위에 본딩하는 본딩 스텝
을 포함하는 것을 특징으로 하는 본딩 방법.10. The method of claim 9,
In the first step,
A pick-up step of picking up the die from the wafer with the pick-up head and stacking the die on the intermediate stage,
A bonding step of bonding the die loaded on the intermediate stage onto a substrate or an already bonded die
And bonding the first and second substrates to each other. 제10항에 있어서,
상기 제2 스텝은, 상기 픽업 헤드의 가동 범위에 설치되고, 상기 다이의 상기 웨이퍼로부터 픽업하는 픽업 위치와 상기 중간 스테이지 사이이며, 상기 흡착면의 이물질을 제거할 때에 상기 흡착면에 대면하는 위치에 설치되는 클리닝 장치에서 행해지는 것을 특징으로 하는 본딩 방법.11. The method of claim 10,
Wherein the second step is a step of moving the pick-up head between a pick-up position for picking up from the wafer of the die and the intermediate stage, which is provided in a movable range of the pick-up head, Wherein the cleaning step is performed in a cleaning apparatus to be installed. 선단에 설치한 콜릿의 흡착면에 다이를 흡착시켜 웨이퍼로부터 상기 다이를 픽업하는 픽업 헤드와,
픽업한 상기 다이를 기판 또는 이미 본딩된 다이 위에 본딩하는 본딩 헤드와,
10㎛ 내지 50㎛의 선 폭을 갖는 금속의 브러시를 복수개 묶은 극세 금속 브러시로 상기 흡착면의 이물질을 제거하는 클리닝 장치와,
상기 극세 금속 브러시와 상기 흡착면을 접촉시키는 접촉 수단과,
상기 극세 금속 브러시와 상기 흡착면을 접촉시킨 상태에서 상기 흡착면을 따라서 상기 극세 금속 브러시와 상기 흡착면을 상대적으로 이동시키는 이동 수단과,
상기 접촉 수단과 상기 이동 수단을 제어하는 제어부와,
상기 콜릿의 흡착면을 촬상하는 카메라
를 갖고,
상기 극세 금속 브러시는 와이어를 직사각 형상으로 묶은 것으로서, 직사각 형상은 각이 라운딩을 띄고, 적어도 긴 변이 콜릿의 폭 형상을 가지며,
상기 이동 수단은 흡인부를 갖고,
상기 흡착면은 평면시에서 직사각형이고, 상기 콜릿은 상기 흡착면에 복수의 흡착 구멍과 주변에 단차가 있는 압박부를 가지며,
상기 제어부는 상기 카메라로 촬상한 이물질의 수 또는 크기에 기초해서 클리닝 필요 여부를 판단하고, 만일 클리닝이 불필요하다고 판단한 경우에는 상기 콜릿의 흡착면의 클리닝을 행하지 않고 상기 본딩 헤드를 상기 다이의 픽업 위치로 복귀시키고, 클리닝이 필요하다고 판단한 경우에는 상기 클리닝 장치에 의해 상기 콜릿의 흡착면의 클리닝을 행하는 것을 특징으로 하는 다이 본더.A pick-up head for picking up the die from the wafer by adsorbing the die on the adsorption face of the collet provided at the tip,
A bonding head for bonding the picked up die onto a substrate or an already bonded die,
A cleaning device for removing foreign matter on the adsorption surface by using a superfine metal brush having a plurality of brushes of metal having a line width of 10 mu m to 50 mu m,
Contact means for bringing the superfine metal brush into contact with the attracting surface,
Moving means for relatively moving the superfine metal brush and the attracting surface along the attracting surface in a state in which the superfine metal brush and the attracting surface are in contact with each other,
A control unit for controlling said contact means and said moving means,
A camera for picking up an adsorption surface of the collet
Lt; / RTI &
The ultra fine metal brush is formed by bundling wires in a rectangular shape, wherein the rectangular shape has rounded corners, at least the long side has a width shape of the collet,
Wherein the moving means has a suction portion,
Wherein the adsorption surface is rectangular in plan view and the collet has a plurality of adsorption holes on the adsorption surface and a pressing portion having a step in the periphery,
The controller determines whether cleaning is necessary based on the number or size of foreign substances picked up by the camera. If it is determined that cleaning is unnecessary, the controller controls the bonding head to move the pickup head And when it is determined that cleaning is necessary, cleaning of the adsorption face of the collet is performed by the cleaning device. 제12항에 있어서,
상기 접촉 수단은, 상기 콜릿 또는 상기 극세 금속 브러시가 승강해서 상기 흡착면에 접촉시키는 수단인 것을 특징으로 하는 다이 본더. 13. The method of claim 12,
Wherein the contact means is means for bringing the collet or the ultra fine metal brush up and coming into contact with the attracting surface. 제13항에 있어서,
상기 이동 수단은, 상기 콜릿 또는 상기 극세 금속 브러시를 이동시키는 수단인 것을 특징으로 하는 다이 본더. 14. The method of claim 13,
Wherein the moving means is means for moving the collet or the ultra fine metal brush. 제14항에 있어서,
상기 콜릿의 흡착면을 촬상하는 카메라
를 갖고,
상기 제어부는 상기 카메라로 촬상한 이물질의 수 또는 크기에 기초해서 클리닝 필요 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는 다이 본더.15. The method of claim 14,
A camera for picking up an adsorption surface of the collet
Lt; / RTI &
Wherein the control unit determines whether or not cleaning is necessary based on the number or size of foreign substances picked up by the camera. 제15항에 있어서,
상기 픽업 헤드로 픽업된 다이가 적재되는 중간 스테이지
를 더 포함하고,
상기 클리닝 장치는, 상기 픽업 헤드의 가동 범위에 설치되고, 상기 다이의 상기 웨이퍼로부터 픽업하는 픽업 위치와 상기 중간 스테이지 사이이며, 상기 흡착면의 이물질을 제거할 때 상기 흡착면에 대면하는 위치에 설치되는 것을 특징으로 하는 다이 본더.16. The method of claim 15,
An intermediate stage on which a die picked up by the pick-
Further comprising:
The cleaning apparatus is installed in a movable range of the pick-up head, and is installed at a position between the pick-up position for picking up the wafer from the die and the intermediate stage, And the die bonder.
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