JP2005166350A - フラットパネルディスプレイ用透明電極、透明導電膜形成用塗布液および透明電極の形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】インジウムと錫とを必須成分とするITO複合酸化物を350〜800℃で焼成して結晶粒界を成長させたITO超微粒子粉末を有機溶媒に溶解してなる塗布液。透明基板上にITO超微粒子粉末から成る透明導電膜を形成し、その上にオーバーコート膜を形成し、この2層構造の透明導電性膜を300℃以下で焼成してなるFPD用透明電極およびその形成方法。
【選択図】図2
Description
このことから、本発明の透明導電膜形成用塗布液およびオーバーコート膜形成用塗布液を用いれば、導電性、透過率も十分確保された透明導電性膜である透明電極が得られていることが分かる。
3 ゲート絶縁膜 4 a−Si膜
5 n+a−Si膜 6 ソース電極
7 ドレイン電極 8 チャンネル部
9 層間絶縁膜(平坦化膜) 10 コンタクトホール部
11 画素電極
Claims (8)
- フラットパネルディスプレイの画素電極に使用される透明電極であって、透明基板上に形成されたITO超微粒子粉末から成る透明導電膜と、その上に形成されたオーバーコート膜との2層構造の膜を300℃以下で焼成し、表面抵抗値が3,000Ω/□以下、可視光透過率が90%以上の特性を有するものであることを特徴とする透明電極。
- 前記オーバーコート膜がアルコキシシランの加水分解物を含有するオーバーコート膜形成用塗布液により形成されものであることを特徴とする請求項1記載の透明電極。
- インジウムと錫とを必須成分とするITO複合酸化物を350〜800℃で焼成して結晶粒界を成長させたITO超微粒子粉末を有機溶媒に分散させてなることを特徴とするフラットパネルディスプレイの画素透明電極形成に使用される透明導電膜形成用塗布液。
- 前記有機溶媒が、メタノール、エタノール、イソプロパノール、およびブタノールから選ばれたアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、および4−ヒドロキシ−4メチル−2ペンタノンから選ばれたケトン類、トルエン、キシレン、ヘキサン、およびシクロヘキサンから選ばれた炭化水素類、N, N−ジメチルホルムアミド、およびN, N−ジメチルアセトアミドから選ばれたアミド類、メチルカルビトール、およびブチルカルビトールから選ばれたアルキルエーテル類、またはジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類であることを特徴とする請求項3記載の透明導電膜形成用塗布液。
- 請求項3または4記載の透明導電膜形成用塗布液を透明基板上に塗布した後、請求項2記載のオーバーコート膜形成用塗布液を塗布し、次いで200〜300℃で焼成してフラットパネルディスプレイの画素電極に使用される透明電極を形成することを特徴とする透明電極の形成方法。
- 前記透明電極が、表面抵抗値が3,000Ω/□以下、可視光透過率が90%以上の特性を有するものであることを特徴とする請求項5記載の透明電極の形成方法。
- 前記塗布が、ディップ法、印刷法、スプレー法、スピンコート法またはインクジェット法により行われることを特徴とする請求項5または6記載の透明電極の形成方法。
- 前記透明基板が、ガラスまたは合成樹脂からなる基板であることを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載の透明電極の形成方法。
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2003
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