JP2005155711A - 溶射ピストンリング及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 内燃機関のピストンリングの少なくとも摺動面に、硬質セラミクス相と金属相からなるサーメット溶射膜を有するピストンリングにおいて、相手材の摩耗を低減する。
【解決手段】 硬質セラミクス相が面積率で60〜90%あり、かつ粒径5μm以下であり、金属相がモリブデン、コバルト、ニッケル、もしくはクロム又はそれら1種以上を主成分とする合金相からなり、該サーメット溶射膜の気孔率が1%以下である。
【選択図】 図6

Description

本発明は、内燃機関用ピストンリングであって、少なくとも摺動面に溶射膜を有するピストンリング及びその製造方法に関する。ピストンリングの摺動面は、ピストンもしくはシリンダーライナーと摺動する圧力リングの外周面、ピストンのリング溝と摺動する圧力リングの上下面であり、組合せオイルリングの場合は上記外周面及び上下面に加えてスペーサーエキスパンダーと摺動するサイドレールの内周面である。以下、主として圧力リングについて説明を行う。
従来、ディーゼルエンジンやガソリンエンジンなどのピストンリングでは、その外周摺動面には硬質Cr皮膜を形成し使用されることが多かった。しかしながら、近年、エンジンの高効率化からピストンリングの摺動環境はより厳しいものとなってきており、Crめっきに変わって、耐摩耗性、耐焼付性に優れたサーメット溶射皮膜を有するピストンリングが使用されている。サーメットは一般にはセラミクスと金属の複合を意味するが、ピストンリングに適用されたサーメット溶射皮膜は、Mo、Ni、Crなどの金属やその合金とCr32、WCなどの硬質セラミクス粒子をからなる皮膜であって、金属や硬質セラミクスを変えることで種々の性質を付与することが可能であり、且つ、成膜速度に優れること、環境に与える影響がCrめっきより低いことから使われることが多くなった。
サーメット溶射皮膜の形成には、従来はプラズマ溶射皮膜が主に使われてきたが、溶射皮膜の密着性が悪いことから、密着性に優れた高速フレーム溶射法(以後「HVOF法」又は「HVAF法」という)が使われることが多くなってきている。HVOF溶射法やHVAF溶射法はプロピレンガス等の燃料ガスや灯油を高圧の酸素ガスや空気によって燃焼させて出来たフレームによって溶射粉末を溶融軟化させ堆積し皮膜を形成する溶射方法であり、従来のプラズマ溶射法に比べフレーム温度は低いが高圧ガスを使用するのでフレーム速度は高くなり、溶射粉末を高速で基材にたたきつけることが出来るので皮膜の密着性を高めることが出来るからである。
特許文献 1(特開平11−71664号「内燃機関用ピストンリング」)は、摺動面にCr30〜80重量%、Ni−Cr合金残部からなる炭化物サーメットの溶射皮膜をHVOF法により摺動面に形成させたピストンリングに関するものであり、Cr/NiCrサーメット皮膜の耐摩耗性が従来の硬質Crめっきに対し優れることを開示する。しかしながら、摺動相手材の摩耗は硬質Crめっきの場合より多くなっている。ピストンリング等の耐摩耗性皮膜は自己耐摩耗性に優れるばかりではなく、相手材を摩耗させないことも重要なことであり、自己耐摩耗性に優れ、かつ相手材を摩耗させない溶射皮膜の開発が望まれていた。
特許文献2(本出願人の特願2002−146409「ピストンリング及びその製造方法」)は、従来のCr/NiCrサーメット溶射皮膜が相手材を摩耗させる原因として、溶射皮膜を構成する炭化クロム及びNiCr合金の粒度に着目したもので、一次粒子である炭化クロム粒子及びNiCr合金の粒子が平均粒径15μm以下の造粒焼結粉を溶射材とし、又、気孔率が5面積%以下で炭化クロム粒子の面積%が45〜90%の溶射皮膜とすることによって相手材の摩耗を低減できることを開示する。
従来、HVOF又はHVAFによりサーメット皮膜を溶射する場合、例えば、炭化クロム−25%ニッケルクロム合金皮膜を溶射する場合は、10μm〜55μm程度の炭化クロム粉末とニッケルクロム合金粉末を混合した材料を溶射材料とし溶射膜を形成していた。このようなサーメット皮膜を摺動面に使用すると、先にニッケルクロム合金部分が摩耗し、突出した炭化クロムが相手材を摩耗させると言われている。そのため、特許文献2は、15μm以下の微細な炭化クロムとニッケルクロム合金粉末を造粒焼結し顆粒状にした溶射材料を用いている。この造粒焼結粉は、微細な炭化クロムとニッケルクロム合金粉末に溶媒とバインダーを添加しスラリー状にした後、スプレードライヤーを用いて球状の顆粒をつくる。その後、顆粒を焼結して、解砕、分級して、溶射材料とするものである。球状の顆粒にするのは粉末の溶射ガンへの供給をスムーズにさせるためであり、又、溶射膜組成の均一性(バラツキ)を押さえる効果を持つ。このような、造粒焼結粉を溶射材料に用いることによって、皮膜の均一性が上がること、個々の硬質セラミクス相及び金属相が小さくなることから、自己耐摩耗及び相手材の摩耗を低減することは出来るが、これらの摩耗は溶射層の空孔の形態により影響され、また単に全体の組織が微細化するだけではこれらの摩耗は改良されないので、従来達成された耐摩耗性のレベルは未だ十分ではない。特許文献2の比較材はCr75重量%、Ni−Cr合金残部からなる混合粉末をHVOF溶射した炭化物サーメットの溶射皮膜であり、相手材の摩耗が硬質Crめっき同様に少ないとは言えない。
特開平11-71664号 特願2002-146409号
以上のように、ピストンリング等の耐摩耗性皮膜は、自己耐摩耗性に優れるばかりではなく、相手材を極力摩耗させない皮膜であることが必要である。従来もこの要請に沿ってピストンリング及び相手材の摩耗を少なくしており、達成された最高レベルは造粒焼結サーメットを溶射した溶射膜であるが、この溶射膜の組織中の空孔及びその周辺に存在する硬質物が相手材の摩耗させる問題があることが分かった。従って、本発明の目的は、耐摩耗性に優れ、且つ、相手材の摩耗が硬質Crめっき皮膜と同等以下である、サーメット溶射皮膜を有するピストンリングを提供することである。
上記目的に鑑み鋭意研究した結果、本発明者は、平均粒径が5μm以下の硬質セラミクス粒子と平均粒径が10μm以下のMo、Co,Ni、Cr又はその合金を主成分とする粉末を溶射用原料粉末としてピストンリングの摺動面に溶射することによって、自己の耐摩耗性に優れ、且つ相手材の摩耗をも低減できるピストンリングが得られることを発見し、本発明を完成した。
即ち、本第一発明のピストンリングは、ピストンリングの少なくとも摺動面に、硬質セラミクス相と金属相からなるサーメット溶射膜を有するピストンリングであって、該硬質セラミクス相が平均粒径5μm以下の硬質セラミクスからなり、金属相がMo、Co,Ni、Cr又はそのそれを主成分とする合金相からなり、該溶射膜の気孔率が1体積%以下であり、該硬質セラミクス相の面積%が60〜90%でなるサーメット溶射皮膜を有することを特徴とするピストンリングであり、
本第二の発明は該溶射膜の硬質セラミクスが炭化クロムを主とし残部の金属相がNi又はNiCr合金であることを特徴とする第一発明のピストンリングであり、第三の発明は該溶射膜の硬質セラミクス相が炭化タングステンを主とし、残部の金属相がCo又はCo−Cr合金を主とすることを特徴とする第一発明のピストンリングであり、第四発明は第一から第三の発明の製造方法であって粒径が5μm以下の硬質セラミクスと粒径が10μm以下の金属粉末とからなる10μm以下の造粒焼結粉又は混合粉末をHVOF溶射法又はHVAF溶射法によりすることを特徴とするピストンリングの製造方法である。
本発明において、硬質セラミクスとは上記した金属もしくは合金より硬いWC,Crなどの化合物である。硬質セラミクスと金属もしくは合金の比率は40〜95重量%対5〜60重量%の範囲であり、好ましくは50〜90重量%対50〜10重量%の範囲である。
溶射皮膜の厚さは50〜300μmであり、好ましくは50〜150μmである。
本発明が特徴とする溶射膜の空孔率は1000倍以上の顕微鏡で検出することができる、微細なものである。検出される空孔を円換算面積に換算し、50視野以上につき同様の観察と計算を行い、空孔の面積比率を計算する。これを体積比率の値としたものが1体積%以下という非常に小さい値であることが必要である。
本願発明者らはサーメット溶射皮膜の相手攻撃性(相手材を摩耗させる性質)について鋭意研究した結果、微粒子の硬質セラミクスや金属粉末を用いた場合には、粒子の大きさよりも皮膜の気孔率が摩耗に大きく影響するとの知見を得た。すなわち、溶射原材料として、セラミクスと金属の全体を造粒焼結した粉末を用いた場合に、造粒焼結粉は真密度に対する実際の密度が75〜95%であり、その球状顆粒内部には空洞を有する。又、顆粒内部の空洞が多いほどHVOF又はHVAF溶射皮膜の気孔率も高くなりやすい。その結果、硬質粒子分が多いサーメット皮膜では、該気孔の周辺は硬質粒子が存在する確率は高く、空孔と隣接して密集する硬質粒子が相手材を摩耗させる。従って、更に相手材の摩耗を押さえるには、皮膜の気孔率を1体積%以下に低減することが重要である。
溶射層の断面組織では500〜2500倍の組織観察では濃淡を呈する波状のラメラー層が積層しているか、あるいは方向性が顕著でない粒状結晶からなる。何れの組織でもセラミク粒子が点状粒子として分散している。本発明では、溶射原料粉末に約10μm以下の微粉末造粒焼結粒子あるいはアトマイズ粒子を用いることにより、空孔を少なくすることに成功した。溶射原料粉に微粉末を用い溶射膜を形成すれば溶射皮膜の気孔率を少なくすることが出来る。その結果、硬質粒子エッジが直接相手材と接触する確率が低くなるので相手材を摩耗させることは少ない。硬質粒子分が多くなれば摩耗しやすい金属分が少なくなるので、硬質粒子が突出することはなく、硬質粒子分を多くしても相手材を摩耗させることはない。
以下、実施例に基づき本発明を詳述する。
比較例〜3、実施例1〜4
摩耗試験
5mm×5mm×20mmで先端が10Rに加工されたマルテンサイトステンレス鋼材の摩耗テスト用試料片の10R部分を母材と溶射層の密着性をよくするため、通常行なわれるアルミナ#60でのグリットブラストを施し表面を粗面化した。この後、耐摩耗性、耐焼付き性に優れているCrC/25NiCrのサーメット(すなわち25%NiCr合金、残部Crカーバイドの組成をもつサーメット)の微細造粒粉(実施例1)、混合粉(比較例1)及び粗粒造粒粉(比較例2)の溶射皮膜を作成した。表1に溶射原料と溶射方法及び作成された皮膜の特徴を記載する。
図1に実施例1の二次電子像写真(倍率2500倍)、図2に比較例2の組成写真(倍率1000倍)を示す。図2において、白色はNi,薄灰色はNiCr、濃灰色はCr3C2, 黒色は気孔である。この組織から、炭化物と空孔は隣接しており、空孔が写真で「く」の字を逆にしたように空孔が分布し、この分布に沿って炭化物が密集している。
WC/10Co4Cr(すなわち、10%Co.4%Crの金属成分、残部WCからなるサーメット)の微細造粒粉(実施例2)、実施例1と同じCrC/25NiCrのサーメットの微細混合粉(実施例3、すなわち、サーメットアトマイズ粉を篩い分けして微細粉のみを取り出したもの)、WC/10Co4Crの租粒造粒粉(比較例3)の溶射皮膜を作成した。表2に溶射原料と溶射方法及び作成された皮膜の特徴を記載する。
図3に実施例2のEMPA写真(1000倍)を示す。この写真からWCと気孔の存在場所は離れていることが解る。
Figure 2005155711
Figure 2005155711
この試料片の先端10R部分を研磨、ラッピング仕上げを行い表面粗さ約Rz0.3に仕上げ、図4に示すピン−ドラム摩耗試験にて摩耗テストを行った。鋳鉄からなるライナ材1を内蔵された電熱器2により約180℃に加熱しつつ、60rpmで回転させ、その表面にリング材4を荷重40で押し付けた。潤滑剤としてはISOVG100を使用した。その結果を図5のグラフに示す。このグラフからも解るように、同じ組成の溶射粉末を用いたものでも、溶射材料粉末の大きさが自己摩耗や相手材摩耗に大きく影響すること、同じ大きさの粉末材料を用いた場合でも、その皮膜の気孔率が自己摩耗、相手材摩耗に大きく影響することが解る。特に、通常の造粒焼結粉粉末を用いたHVOF溶射皮膜に対し、本願発明の微粉を用いたHVOF溶射皮膜が、相手材摩耗を大幅に低減することが解る。
実機試験
ピストンリング外周面に溶射皮膜を形成し、実機エンジンによりその摺動特性を評価した。
外径が122mm、高さが3mmのマルテンサイトステンレス鋼製ピストンリングに、その外周面中央部に沿って深さ約0.05mmの溝を形成した。このリング50本を重ね合わせ、締め板を用いて両側面を固定して、径約122mm長さ170mmの筒状体とした。次に母材と溶射層の密着性をよくするため、前述通りのグリットブラストを施して、その筒状体の外周表面を粗面化した。こののち、フジミ社製CNC25D粉末(造粒焼結粉末)をDJガン(スルザーメテコ社)を用いHVOF溶射した。その後、この筒状体の外周をダイヤモンド砥石によりピストンリングの外周面両端部の母材が出るように研磨後ピストンリングを解体した。次に、砥石によりピストンリング外周表面をBF状に仕上げた。更に、カーボランダム砥粒を用いたラッピング研磨を行い、表面溶射膜粗さ0.35Rzのインレイド溶射ピストンリングを得た。このような方法で表1の外周面溶射皮膜が異なる6種類のピストンリングを製造した後、このピストンリングを用い実機エンジンによる耐久試験を行った。エンジンは6気筒、10500CCのディーゼルエンジンである。相手ライナー材はボロン鋳鉄(商品名 ターカロイ)であった。6種類の溶射膜を表2に示す。又、この実機エンジン試験結果を図6に示す。この結果は図5と同様の傾向であり、本発明実施例が優れていることを示す。
以上説明したように、本発明はピストンリング自体の耐摩耗性が優れるばかりでなく、相手材の摩耗を招き難いために、高性能内燃機関用ピストンリングに適している。
実施例1の二次電子像写真(倍率2500倍)である。 比較例2の組成写真(倍率1000倍)である。 実施例2のEMPA写真(1000倍)である。 ピンードラム試験機の図である。 摩耗試験結果を示すグラフである。 実機試験結果を示すグラフである。

Claims (4)

  1. 内燃機関のピストンリングの少なくとも摺動面に、硬質セラミクス相と金属相からなるサーメット溶射膜を有するピストンリングであって、前記硬質セラミクス相が面積率で60〜90%あり、かつ粒径5μm以下であり、前記金属相がモリブデン、コバルト,ニッケル、もしくはクロム又はそれら1種以上を主成分とする合金相からなり、該サーメット溶射膜の気孔率が1%以下であることを特徴とするピストンリング。
  2. 前記硬質セラミクスが炭化クロム又は炭化タングステンを主とし、残部の金属相がニッケル又はニクロム合金を主とすることを特徴とする請求項1記載のピストンリング。
  3. 前記硬質セラミクスが炭化クロム又は炭化タングステンを主とし、残部の金属相がコバルト又はコバルトクロム合金を主とすることを特徴とする請求項1記載のピストンリング。
  4. 粒径が5μm以下の硬質セラミクスと粒径が10μm以下の金属粉末とからなる10μm以下の造粒焼結粉又は混合粉末をHVOF溶射法又はHVAF溶射法溶射することによりサーメット溶射皮膜を形成することを特徴とする請求項1から3項記載のピストンリングの製造方法
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060035068A1 (en) * 2002-09-24 2006-02-16 Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. Method for coating sliding surface of high-temperature member, high-temperature member and electrode for electro-discharge surface treatment
JP2007136466A (ja) * 2005-11-15 2007-06-07 Nippon Steel Corp 鉄系合金の半溶融・半凝固鋳造用の金型
WO2010098382A1 (ja) 2009-02-26 2010-09-02 日本ピストンリング株式会社 ピストンリング
WO2012002475A1 (ja) * 2010-07-02 2012-01-05 株式会社 フジミインコーポレーテッド 溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法
EP2413006A1 (en) 2010-07-29 2012-02-01 Nippon Piston Ring Co., Ltd. Piston ring
WO2013062045A1 (ja) 2011-10-25 2013-05-02 株式会社Ihi ピストンリング
WO2014091831A1 (ja) 2012-12-11 2014-06-19 株式会社リケン ピストンリング用溶射被膜、ピストンリング、及びピストンリング用溶射被膜の製造方法
US9284647B2 (en) 2002-09-24 2016-03-15 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method for coating sliding surface of high-temperature member, high-temperature member and electrode for electro-discharge surface treatment
JP2016102233A (ja) * 2014-11-28 2016-06-02 日本ピストンリング株式会社 ピストンリング及びその製造方法
KR20160145145A (ko) 2014-05-08 2016-12-19 가부시끼가이샤 리켄 접동 부재 및 피스톤 링

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060035068A1 (en) * 2002-09-24 2006-02-16 Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. Method for coating sliding surface of high-temperature member, high-temperature member and electrode for electro-discharge surface treatment
US9284647B2 (en) 2002-09-24 2016-03-15 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method for coating sliding surface of high-temperature member, high-temperature member and electrode for electro-discharge surface treatment
US9187831B2 (en) * 2002-09-24 2015-11-17 Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. Method for coating sliding surface of high-temperature member, high-temperature member and electrode for electro-discharge surface treatment
JP2007136466A (ja) * 2005-11-15 2007-06-07 Nippon Steel Corp 鉄系合金の半溶融・半凝固鋳造用の金型
EP2402474A4 (en) * 2009-02-26 2013-02-20 Nippon Piston Ring Co Ltd PISTON TRIM
WO2010098382A1 (ja) 2009-02-26 2010-09-02 日本ピストンリング株式会社 ピストンリング
EP2402474A1 (en) * 2009-02-26 2012-01-04 Nippon Piston Ring Co., Ltd. Piston ring
WO2012002475A1 (ja) * 2010-07-02 2012-01-05 株式会社 フジミインコーポレーテッド 溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法
JP2012012686A (ja) * 2010-07-02 2012-01-19 Fujimi Inc 溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法
US9394598B2 (en) 2010-07-02 2016-07-19 FUJIFILM Incorporated Powder for thermal spraying and process for formation of sprayed coating
EP2413006A1 (en) 2010-07-29 2012-02-01 Nippon Piston Ring Co., Ltd. Piston ring
WO2013062045A1 (ja) 2011-10-25 2013-05-02 株式会社Ihi ピストンリング
US10689743B2 (en) 2011-10-25 2020-06-23 Ihi Corporation Piston ring
WO2014091831A1 (ja) 2012-12-11 2014-06-19 株式会社リケン ピストンリング用溶射被膜、ピストンリング、及びピストンリング用溶射被膜の製造方法
JP5793205B2 (ja) * 2012-12-11 2015-10-14 株式会社リケン ピストンリング用溶射被膜、ピストンリング、及びピストンリング用溶射被膜の製造方法
KR101731746B1 (ko) 2012-12-11 2017-04-28 가부시끼가이샤 리켄 피스톤 링용 용사 피막, 피스톤 링 및 피스톤 링용 용사 피막의 제조 방법
US9664281B2 (en) 2012-12-11 2017-05-30 Kabushiki Kaisha Riken Piston ring sprayed coating, piston ring, and method for producing piston ring sprayed coating
KR20160145145A (ko) 2014-05-08 2016-12-19 가부시끼가이샤 리켄 접동 부재 및 피스톤 링
JP2016102233A (ja) * 2014-11-28 2016-06-02 日本ピストンリング株式会社 ピストンリング及びその製造方法

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