JP2005153082A - 研磨加工装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】全長2mm程度の短い光素子を研磨治具に短時間で安定して固定し、高精度なPC研磨を提供する。
【解決手段】フェルール4に光ファイバ27を挿入固定したスタブもしくはピグテイルの光素子を複数の貫通孔に固定する研磨治具1と、螺旋回転運動する研磨盤によって光素子の先端面29を研磨する光素子先端面研磨加工装置において、光素子の背面と側面を真空ポンプで上記貫通孔に吸着固定する。
【選択図】図1

Description

本発明は、光通信に使用する光素子を固定し先端面を加工するための研磨加工装置に関するものである。
光信号を電気信号に変換するための光モジュールは、半導体レーザーやフォトダイオード等の光素子をケース内に収納し、光ファイバを通じて光信号を導入又は導出するような構造となっている(特許文献1参照)。
上記光モジュールのうちコネクタを接続するようにしたレセプタクル型の光モジュールは、図5に示すような光レセプタクル18の一端に受発光素子22を備えるとともに、他端に光コネクタ(SCコネクタ)のプラグフェルール17を接続するものである。
上記光レセプタクル18は、図5に示すようにジルコニア、アルミナ等のセラミック材料からなるフェルール4と、該フェルール4の貫通孔に石英ガラス等からなる光ファイバ27を挿入固定して得られたスタブ13の後端部をホルダ20に圧入により固定し、先端部をスリーブ19の内孔に挿入するとともに、それらをスリーブケース21に圧入又は接着固定することによって構成されている。
近年、高密度実装の要求から光モジュールの小型化が求められており、光レセプタクル18の全長も短くすることが求められている。この光レセプタクル18の全長を短くするのに伴いスタブ13の全長も短くする必要性がある。
また、光レセプタクル18に接続されるコネクタもSCコネクタ等からLCコネクタ等のより小さなコネクタが使用されている。
上記光レセプタクル18に使用されるスタブ13は円柱形状であり、フェルール4の先端面29は光ファイバ27と同時に鏡面研磨されている。
前記フェルール4の外径公差は±1μm以下で、光ファイバ27の挿入穴の同心度は1μm程度の非常に精密な部品である。
光ファイバ27の中心部には光信号が伝搬するコアがあり、コアとコアを接続し、接続損失の少ない光コネクタを実現する為、フェルール4の先端面29を曲面に研磨し、曲面の頂点部に光ファイバ4のコアを有するPC研磨型の光コネクタが有効である。
このPC研磨は、粗研磨工程、中仕上げ研磨工程及び仕上げ研磨工程の3工程からなる研磨加工により、加工変質層の少ない高精能な仕上げ研磨がなされる。
ここで用いられるスタブ13の先端面29を研磨する研磨加工装置としては、螺旋回転する円盤状の研磨盤25に対して定位置に設けられた従来の研磨治具12にスタブ13を固定し、このスタブ13の先端面29を研磨盤25に接触させ、この状態で前記研磨盤25を螺旋回転することで、先端面29を研磨する構成が一般的である。
図4は、前述のような研磨加工装置に適用される研磨治具の一例を示している。
図4において、従来の研磨治具12は、プレート状の治具本体の外周面の複数箇所に固定板16によって、スタブ13を着脱自在に固定するようになっている。
固定板16は、ネジ部材14を従来の研磨治具本体15に向けて捩じ込むことで、従来の研磨治具本体15の外周面に形成された収納溝内に収納されたスタブ13を、収納溝内面に押圧固定するようになっている(特許文献2参照)。この押圧固定をする際、各スタブ13の先端面29の背面をセット台26に向けて押圧することにより先端面29の高さを均一に揃え研磨量のバラツキを制御していた。
特開2001−66468号公報 特開2003−181753号公報
しかしながら、このような従来の研磨加工においては、研磨治具の厚みより全長の短い光素子の先端面を研磨加工する場合、研磨治具と光素子の固定面積が不充分であることから、研磨治具の固定板をネジ部材によって研磨治具本体に向けて捩じ込む際に、光素子が傾いた状態で固定される場合があり、曲面の頂点ずれの原因となっていた。
また、研磨治具の厚みより全長の短い光素子の先端面の高さを均一に揃えて研磨治具に固定する際、光素子の背面が研磨治具に埋もれてしまうため、セット台に向けて光素子の背面を押圧することができなかった。
上記問題点に鑑みて本発明の光素子先端面研磨加工装置は、フェルールに光ファイバを挿入固定したスタブもしくはピグテイルの光素子を固定する複数の貫通孔を備えた研磨治具と、螺旋回転運動する研磨盤とを有し、該研磨盤によって上記光素子の先端面を研磨する研磨加工装置において、上記光素子の背面及び/又は側面を真空ポンプで上記貫通孔に吸着固定するようにしたことを特徴とするものである。
また、上記真空ポンプが30kPa以下の真空度で上記光素子を吸着固定することを特徴とするものである。
また、上記貫通孔の光素子挿入部の内径が、上記光素子の外径よりも0.005mm〜0.010mm大きく、上記光素子挿入部以外の内径が、上記光素子の外径よりも小さく、上記光ファイバの外径よりも大きいことを特徴とするものである。
また、上記貫通孔の内壁が1250HV以上の硬度を有している部材で形成されていることを特徴とするものである。
また、上記研磨治具の中心から上記各貫通孔までの距離がそれぞれ異なることを特徴とするものである。
また、上記貫通孔が研磨治具に同心円状に配置されたことを特徴とするものである。
このように本発明によれば、曲面の頂点ずれが起こらず、より高精度な光素子のPC研磨を実現することができる。
また、従来のようなネジ部材を捩じ込む作業が省かれるので、光素子の研磨治具への固定がより短時間で済む。
また、各貫通孔の位置を治具の中心から異なる距離としたことによって、光素子の先端面が研磨盤25上に描く軌跡が同一の円軌跡上とならないので、研磨部材の効率的な使用でコスト削減が可能となる。
ここで、本発明の実施形態を説明する。
図1(a)は、本発明の研磨加工装置の一実施形態を示す断面図である。
本発明の研磨加工装置の研磨治具1には段形状の貫通孔3が複数あり、該貫通孔3に光素子を裁置し、その先端面29の背面を真空ポンプにて吸着固定するものである。
スタブ13を吸着固定する方法としては、図2(b)に示すように、スタブ13を貫通孔3に裁置し、その先端面29の背面側に吸気口の役目をなすホース6を接続し、スタブ13を吸着固定する。
また、ピグテイル30の先端面29を研磨する方法としては、図2(c)に示すように、貫通孔3にピグテイル30を裁置し、貫通孔3の側面に吸気口の役目をなすホース6を接続し、ピグテイル30を吸着固定する。
本発明に用いるスタブ13は、円筒状のフェルール4に光ファイバ27を接着剤にて接着固定する構成からなる。
このフェルール4の材質は、接着剤との硬度差を利用するため、ジルコニア、アルミナ等のセラミック製が最もよく、次に金属、ガラス製と続くが、樹脂製フェルールは推奨しない。
研磨治具1の貫通孔3において、光素子挿入部32の内径D2は、光素子の外径D3よりも0.005mm〜0.010mm大きな範囲であることが好ましい。
0.005mmより小さな寸法差では、光素子を貫通孔3に裁置する際に、光素子が貫通孔3に引っ掛かり光素子の側面及び先端面に傷が発生する。
一方、寸法差が0.010mm以上では光素子と貫通孔3に隙間が生じ、その状態でPC研磨を行うと先端面29の曲面の頂点ずれが発生する。この頂点ずれが大きいと、コネクタ同士を接続した際、光信号が伝搬するコア同士が充分に接続することができなく、接続損失が大きくなってしまう。
また、上記貫通孔3の光素子挿入部32以外の内径D1は、光素子の先端面29の背面を真空ポンプによる空気圧にて吸着固定する際の吸気口の役目をなしており、内径は光素子の外径D3よりも小さく光ファイバの外径D4より大きければ良い。
上記貫通孔3の光素子挿入部32は、研磨最中に応力がかかるため1250HV以上の硬度を有する部材で形成されることが好ましい。
光素子挿入部32が磨耗することによって、光素子挿入部32の内径D2が広がってしまい、光素子の外径D3との寸法差が大きくなり、上記に示した通り先端面29の曲面の頂点ずれが発生する。光素子挿入部32の材質は、金属やジルコニアセラミックなどが良い。
上記真空ポンプによる真空度は光素子を研磨治具1の貫通孔3に裁置した際、光素子が研磨治具1から落下しない程度の真空度で充分であり30kPa以下が好ましい。
ここで、スタブのPC研磨方法について述べる。
PC研磨は一般的に研磨機7を用い、研磨機7には図3に示すような螺旋回転する研磨盤25を具備する。研磨盤25上にはスタブ13の先端面29を研磨する研磨部材11が脱着可能に取り付けられている。この研磨部材11は研磨盤25の上面に固定される弾性部材9の上面に裁置される。弾性部材9の硬度は55±10Hs程度が適当であり、この硬度より硬度が大きい場合は、弾性部材9の厚み方向への弾性変形が少ない為、先端面29の曲率半径が大きくなり、また、前記硬度より小さい場合は、弾性部材9の厚み方向への弾性変形が大きくなる為、スタブ13の曲率半径が小さくなり、コネクタ同士を接続させた際に接続損失が大きくなってしまう。
また、研磨部材11は、荒研磨工程から仕上げ研磨工程毎に研磨部材11の研磨砥粒を高硬度から低硬度に順次交換して研磨することになる。この研磨砥粒は例えばダイヤモンド、炭化ケイ素、シリカ等がある。
この研磨部材11の上にスタブ13が吸着固定された研磨治具1を裁置した後、研磨機7に具備されている加圧ピン10を研磨治具1の加圧孔2に挿入することによって、スタブ13の先端面29が研磨部材11に押し付ける構造になっており、研磨盤25が螺旋回転することにより研磨を行うが、このとき荒研磨工程から仕上げ研磨工程毎に研磨砥粒を高硬度から低硬度の研磨部材へ順次交換して研磨することによって、スタブ13の先端面29を鏡面に仕上げていく。
さらに、研磨冶具1は、図1(b)のように貫通孔3から研磨治具1の中心までの距離Lをそれぞれ異ならせることで軌跡をずらしたり、(c)のように同心円状に貫通孔3を配分することで、各貫通孔3の軌跡が極力重ならない設計にすることが研磨部材11の消耗を防止するうえで好ましい。
次に、本発明の実施例を示す。
ここで、以下に示す方法で実験を行った。
PC研磨するスタブとして全長2.2mmのJIS C 5973に制定されるSC形光コネクタ(SC:Single fiber Coupling optical fiber connector)を用い、本発明実施例として図2(a)、(b)に示すように、真空度が30kPaの真空ポンプと研磨治具1の貫通孔3とをホース6で接続して、光素子挿入部32の内径D2がスタブ13の外径D3より0.005mm大きい貫通孔3にスタブ13を12個裁置し、吸着固定してPC研磨を行った。
研磨治具の材質は、ステンレス SUS420を使用した。
また、比較例として図4に示すような従来の研磨治具本体15の外周面に形成された収納溝内にスタブ13を裁置し、固定板16をネジ部材14によってセット台26に向けて押圧固定し、PC研磨を行った。
各研磨工程は、荒研磨工程及び中仕上げ研磨工程では、ダイヤモンドが印刷された研磨部材を用い、仕上げ研磨工程では、シリカが印刷された研磨部材を用いて研磨を行い、本発明実施例と比較例の方法でのスタブ13の研磨治具1への固定作業時間と先端面29の曲面の頂点ずれを測定した。
結果は表1に示す通りである。
Figure 2005153082
表1よりスタブ13の研磨治具1への固定時間は、90秒から27秒と従来の研磨治具12よりも約1/3の時間短縮となった。
また、頂点ずれは平均値が48.25μmから23.20μmと約1/2の頂点ずれ量となり、安定した固定ができていることがわかる。
(a)は本発明の光素子の研磨治具の一実施形態を示す断面図、(b)は各貫通孔がいずれも研磨治具の中心からの距離が異なっている本発明の研磨治具を上方から見た平面図、(c)は各貫通孔が複数の同心円上に位置する本発明の研磨治具を上方から見た平面図である。 (a)は本発明の研磨加工装置の一実施形態を示す全体図、(b)は本発明の研磨加工装置の研磨治具にスタブを固定した拡大断面図、(c)は本発明の研磨加工装置の研磨治具にピグテイルを固定した拡大断面図である。 研磨盤の螺旋回転運動による貫通孔の軌跡を上方から見た平面図である。 (a)は従来の研磨治具を上方から見た平面図、(b)は従来の研磨治具全体とセット台を示す断面図である。 光モジュールを示す断面図である。
符号の説明
1:研磨治具
2:加圧ピン孔
3:貫通孔
4:フェルール
5:研磨治具本体
6:ホース
7:研磨機
8:駆動装置
9:弾性部材
10:加圧ピン
11:研磨部材
12:従来の研磨治具
13:スタブ
14:ネジ部材
15:従来の研磨治具本体
16:固定板
17:プラグフェルール
18:光レセプタクル
19:スリーブ
20:ホルダ
21:スリーブケース
22:受発光素子
23:レンズ
24:ケース
25:研磨盤
26:セット台
27:光ファイバ
28:研磨加工装置
29:先端面
30:ピグテイル
31:螺旋回転運動
32:光素子挿入部
D1:光素子挿入部以外の内径
D2:光素子挿入部の内径
D3:光素子の外径
D4:光ファイバの外径
L:貫通孔から研磨治具の中心までの距離

Claims (6)

  1. フェルールに光ファイバを挿入固定したスタブもしくはピグテイルの光素子を固定する複数の貫通孔を備えた研磨治具と、螺旋回転運動する研磨盤とを有し、該研磨盤によって上記光素子の先端面を研磨する研磨加工装置において、上記光素子の背面及び/又は側面を真空ポンプで上記貫通孔に吸着固定するようにしたことを特徴とする研磨加工装置。
  2. 上記真空ポンプが30kPa以下の真空度で上記光素子を吸着固定することを特徴とする請求項1記載の研磨加工装置。
  3. 上記貫通孔の光素子挿入部の内径が、上記光素子の外径よりも0.005mm〜0.010mm大きく、上記光素子挿入部以外の内径が、上記光素子の外径よりも小さく、上記光ファイバの外径よりも大きいことを特徴とする請求項1記載の研磨加工装置。
  4. 上記貫通孔の内壁が1250HV以上の硬度を有している部材で形成されていることを特徴とする請求項1記載の研磨加工装置。
  5. 上記研磨治具の中心から上記各貫通孔までの距離がそれぞれ異なることを特徴とする請求項1記載の研磨加工装置。
  6. 上記貫通孔が研磨治具に同心円状に配置されたことを特徴とする請求項1記載の研磨加工装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015519209A (ja) * 2012-04-27 2015-07-09 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 光ファイバコネクタ研磨装置及び方法
JP6043848B1 (ja) * 2015-08-26 2016-12-14 株式会社フジクラ 研磨装置および研磨方法

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