JP2005150468A - 基板乾燥装置及び基板研磨装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アーム10の上面に取り付けられた基板保持部材20で基板(ウエハWf)を保持し回転する基板保持機構を具備し、該基板の表面に付着した液を基板回転による遠心力で吹き飛ばし乾燥させる基板乾燥装置において、該基板保持部材の基板保持部(接触部25)に真空を供給する真空供給手段を具備し、基板保持部材の基板保持部分と基板の間及びその近傍に付着する液を供給する真空で吸引除去する。
【選択図】図1
Description
1−2 基板乾燥装置
1−3 基板乾燥装置
2 ケース
10 アーム
11 回転軸
12 管路
13 駆動機
14 軸部
15 プーリー
16 ベルト
17 ロータリーコネクター
20 保持手段
21 本体部
21a,b 側板部
22 爪部
23 ピン
24 支軸
25 接触部
26 接触部
27 配管
28 配管
29 コーティング材
31 ロードチャック
32 コイルバネ
33 押圧部材
35 駆動部
35a シリンダ室
35b シリンダ室
41 ヒーター
42 ヒーター
43 導線
44 導線
50 ノズル
51 洗浄ノズル
52 揺動アーム
80 研磨部
81 搬送機
82 搬送機
83 反転機
84 ロード・アンロード部
85 一次洗浄用ウエハ洗浄装置
86 研磨機
91 クロス
92 研磨テーブル
93 トップリング
94 砥液ノズル
100 ローラー
102 保持溝
104 軸体
106 洗浄部材
108 洗浄具
110 ノズル
Claims (11)
- 基板を保持する基板保持機構を具備し、該基板の表面に付着した液を除去し乾燥させる基板乾燥装置において、
前記基板保持機構は基板の外周部を保持する基板保持部材を有すると共に、該基板保持部材の基板保持部は真空を供給する真空供給手段と接続され、
前記基板保持部材の基板保持部と前記基板の間及びその近傍に付着する液を、前記真空供給手段により供給する真空で吸引除去することを特徴とする基板乾燥装置。 - 基板を保持する基板保持機構を具備し、該基板の表面に付着した液を除去し乾燥させる基板乾燥装置において、
前記基板保持機構は基板の外周部を保持する基板保持部材を有すると共に、該基板保持部材の基板保持部は気体を供給する気体供給手段と接続され、
前記基板保持部材の基板保持部と前記基板の間及びその近傍に付着する液を、前記気体供給手段により供給する気体で吹き飛ばして除去することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項2に記載の基板乾燥装置において、
前記気体供給手段から供給される気体は窒素ガス、又はその他の不活性ガス、又は加温気体であることを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項1又は2又は3に記載の基板乾燥装置において、
前記基板保持部材の基板保持部は多孔質材からなり、該多孔質材を通して前記真空供給手段又は気体供給手段により前記基板保持部と前記基板の間及びその近傍に付着する液を吸引又は吹き飛ばして除去することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項4に記載の基板乾燥装置において、
前記基板保持部材の基板保持部は多孔質材で構成され、前記基板と接触する部分及び前記真空供給手段又は気体供給手段に連通する部分以外の表面は非多孔質材又は非通気性材で被覆されていることを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項4又は5に記載の基板乾燥装置において、
前記多孔質材がセラミックであることを特徴とする基板乾燥装置。 - 基板を保持する基板保持機構を具備し、該基板の表面に付着した液を除去し乾燥させる基板乾燥装置において、
前記基板保持機構は基板の外周部を保持する基板保持部材を有すると共に、該基板保持部材は基板保持部を加熱する加熱手段を具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項7に記載の基板乾燥装置において、
前記加熱手段は加熱媒体を流通させるヒーター、又は加熱電流を通電させる電気ヒーターであることを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項8に記載の基板乾燥装置において、
前記ヒーターは制御手段で所定の設定温度に制御できることを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項1乃至9のいずれか1項に記載の基板乾燥装置において、
前記基板保持機構に保持された基板を洗浄する洗浄機構を具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 基板を研磨する研磨部、基板を洗浄及び/又は乾燥する洗浄・乾燥部及び基板を搬送する基板搬送部等を具備する基板研磨装置において、
前記洗浄・乾燥部の少なくとも一部に請求項1乃至10のいずれか1項に記載の基板乾燥装置を用いることを特徴とする基板研磨装置。
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JP2003386959A JP2005150468A (ja) | 2003-11-17 | 2003-11-17 | 基板乾燥装置及び基板研磨装置 |
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JP (1) | JP2005150468A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102110634A (zh) * | 2010-11-22 | 2011-06-29 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 可旋转加热的吸附装置 |
US8014918B2 (en) | 2005-10-26 | 2011-09-06 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Vehicular drive assist system and vehicular drive assist method |
JP2013038442A (ja) * | 2004-09-30 | 2013-02-21 | Lam Research Corporation | エッジホイール構造 |
JP2020057763A (ja) * | 2018-09-27 | 2020-04-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
CN116007311A (zh) * | 2023-01-04 | 2023-04-25 | 江苏迪丞光电材料有限公司 | 一种陶瓷生产用陶瓷胚体的干燥装置 |
-
2003
- 2003-11-17 JP JP2003386959A patent/JP2005150468A/ja active Pending
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