JP2005150398A - 半導体装置の製造方法および半導体の表面処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体基板1にトレンチ4を形成し、トレンチ側壁41,42の保護膜を除去した後、ゲート絶縁膜を形成する前に、200Torr以上760Torr以下の水素雰囲気中でアニール処理をおこなう。あるいは、不活性ガスと水素からなり、かつ水素分圧が200Torr以上760Torr以下である混合ガス雰囲気中でアニール処理をおこなう。アニール処理中にシリコン原子のマイグレーションが起こり、トレンチ側壁41,42の表面粗さRmsが0.5以下となる。また、トレンチコーナー部43,44,45,46が丸まる。
【選択図】 図4
Description
4 トレンチ
7 ゲート絶縁膜
41,42 トレンチ側壁
43,44,45,46 トレンチのコーナー部
Claims (17)
- 基板の半導体表面を露出させる工程と、
水素圧力が200Torr以上760Torr以下の水素雰囲気中で1000℃以上1050℃以下の温度で前記基板のアニール処理をおこなうことにより、露出した前記半導体表面を平坦化する工程と、
平坦化した前記半導体表面にゲート絶縁膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 基板の半導体表面を露出させる工程と、
水素圧力が300Torr以上760Torr以下の水素雰囲気中で1000℃以上1050℃以下の温度で前記基板のアニール処理をおこなうことにより、露出した前記半導体表面を平坦化する工程と、
平坦化した前記半導体表面にゲート絶縁膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体基板にトレンチを形成する工程と、
水素圧力が200Torr以上760Torr以下の水素雰囲気中で1000℃以上1050℃以下の温度で前記半導体基板のアニール処理をおこなうことにより、前記トレンチのコーナー部を丸めるとともに、前記トレンチの側壁を平坦化する工程と、
コーナー部が丸まり、かつ側壁が平坦化した前記トレンチの内面にゲート絶縁膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体基板にトレンチを形成する工程と、
水素圧力が300Torr以上760Torr以下の水素雰囲気中で1000℃以上1050℃以下の温度で前記半導体基板のアニール処理をおこなうことにより、前記トレンチのコーナー部を丸めるとともに、前記トレンチの側壁を平坦化する工程と、
コーナー部が丸まり、かつ側壁が平坦化した前記トレンチの内面にゲート絶縁膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 基板の半導体表面を露出させる工程と、
不活性ガスと水素を混合した混合ガス雰囲気中で前記基板のアニール処理をおこなうことにより、露出した前記半導体表面を平坦化する工程と、
平坦化した前記半導体表面にゲート絶縁膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体基板にトレンチを形成する工程と、
不活性ガスと水素を混合した混合ガス雰囲気中で前記半導体基板のアニール処理をおこなうことにより、前記トレンチのコーナー部を丸めるとともに、前記トレンチの側壁を平坦化する工程と、
コーナー部が丸まり、かつ側壁が平坦化した前記トレンチの内面にゲート絶縁膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記不活性ガスは、アルゴン、ヘリウムおよびネオンのうちのいずれか一つまたは二つ以上を組み合わせたガスであることを特徴とする請求項5または6に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記アニール処理時の処理温度は、1000℃以上1050℃以下の温度であることを特徴とする請求項5〜7のいずれか一つに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記アニール処理時の水素分圧は、200Torr以上760Torr以下であることを特徴とする請求項5〜8のいずれか一つに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記アニール処理時の水素分圧は、300Torr以上760Torr以下であることを特徴とする請求項5〜8のいずれか一つに記載の半導体装置の製造方法。
- 水素圧力が200Torr以上760Torr以下の水素雰囲気中で1000℃以上1050℃以下の温度で、露出した半導体表面を有する基板のアニール処理をおこなうことにより、露出した前記半導体表面を平坦化することを特徴とする半導体の表面処理方法。
- 水素圧力が300Torr以上760Torr以下の水素雰囲気中で1000℃以上1050℃以下の温度で、露出した半導体表面を有する基板のアニール処理をおこなうことにより、露出した前記半導体表面を平坦化することを特徴とする半導体の表面処理方法。
- 不活性ガスと水素を混合した混合ガス雰囲気中で、露出した半導体表面を有する基板のアニール処理をおこなうことにより、露出した前記半導体表面を平坦化することを特徴とする半導体の表面処理方法。
- 前記不活性ガスは、アルゴン、ヘリウムおよびネオンのうちのいずれか一つまたは二つ以上を組み合わせたガスであることを特徴とする請求項13に記載の半導体の表面処理方法。
- 前記アニール処理時の処理温度は、1000℃以上1050℃以下の温度であることを特徴とする請求項13または14に記載の半導体の表面処理方法。
- 前記アニール処理時の水素分圧は、200Torr以上760Torr以下であることを特徴とする請求項13〜15のいずれか一つに記載の半導体の表面処理方法。
- 前記アニール処理時の水素分圧は、300Torr以上760Torr以下であることを特徴とする請求項13〜15のいずれか一つに記載の半導体の表面処理方法。
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