JP2005148582A - 液晶表示パネル用防塵基板及び液晶表示パネル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液晶層2を介して対向配置される駆動基板4及び対向基板3を備える液晶表示パネル1の駆動基板4及び対向基板3の少なくとも一方の外側に配置される液晶表示パネル用防塵基板5であって、該防塵基板5は透光性基板51上に反射防止膜52を有し、その上に透光性の表面平滑化層53を設け、該表面平滑化層53の外側の表面の表面粗さが、該表面平滑化層53を設けない場合の防塵基板の反射防止膜52表面の表面粗さよりも小さい。表面平滑化層53表面の表面粗さは例えばRaで1.0nm以下である。
【選択図】図2
Description
このような液晶表示パネルにおいて、上記厚さ1mm程度の対向基板や厚さ1mm程度の駆動基板の外面に付いた傷や異物が投射画像に映し出されると、表示品質が低下するため、厚さ約1mm程度のガラス製等の透光性基板を対向基板、駆動基板の外側に防塵基板として配置し、液晶表示パネルの基板の外面に傷や異物が付くのを防止することが一般に行われている(例えば特開2001−282134号公報)。
なお、このような防塵基板は、従来は一表面側に反射防止膜を形成した大型のガラス基板を所定の大きさに切り出すことにより製造している。そして大型のガラス基板から切り出す際には、防塵基板の表面にキズやガラス切断片の付着を防止するため、最上面に樹脂製の保護シートを貼り合せたり保護膜を形成していた。
ところが、上述のような反射防止膜を形成した基板の場合、保護シートや保護膜の剥離性が非常に悪く、作業の効率が悪いだけでなく、保護シートの粘着物や保護膜の一部が残査として基板上に残った場合には異物となり、投影像の品質低下を招くという問題が生じていた。
従来防塵基板の反射防止膜として知られている反射防止膜の場合、その多くは表面粗さが、中心線平均粗さ(Ra)で2.0nmから4.0 nm程度であった。特に上述の、Al2O3/ZrO2/MgF2の積層膜からなる反射防止膜のように、MgF2等のフッ素化合物の蒸着膜を最表面とする反射防止膜の表面粗さRaは3.2nmから4.5nmと比較的表面粗さの大きな表面であった。即ち、反射防止膜表面の凹凸によって、異物が接触するとそのまま捕捉されて物理的に付着した状態となりやすく、また、異物が一旦付着すると取れ難くなり、また一方、反射防止膜表面の凹凸による表面積の増大により、その上に設けられた保護シートや保護膜の樹脂との付着力が強くなり、後で保護シートや保護膜を剥離し難くなるものと考えられる。
本発明は以下の構成を有する。
なお、本発明における中心線平均粗さ(Ra)の測定方法に関しては、日本工業規格(JIS)B0601(1994)に記載されている。
従来の反射防止膜上への異物の付着や、保護シートや保護膜の剥離性の低下は、従来の反射防止膜表面の表面粗さが比較的大きいことに起因しているが、構成2のように、本発明は従来のような比較的表面粗さの大きい反射防止膜を有する防塵基板に適用すると特に有効である。
(構成3)前記表面平滑化層を構成する材料が、インジウムと錫の合金酸化物、又は酸化チタン(TiO2)、或いは酸化珪素(SiO2)であることを特徴とする構成1又は2に記載の液晶表示パネル用防塵基板。
構成3のように、これらの材料は何れも可視光領域(本発明では380nm〜680nmの波長領域の光を言う)において透明性の高い材料であり、このような材料で形成された表面平滑化層を設けても防塵基板を通過する光の損失を抑えることができるので好適である。
特に、インジウムと錫の合金酸化物(Indium Tin Oxide:以下、ITOと称する)を用いると、表面平滑化層に帯電防止機能を持たせることにより、静電気による異物の付着が防止できる。例えば、従来のAl2O3/ZrO2/MgF2の積層膜のように、反射防止膜の最上層に用いられているMgF2等のフッ素化合物は絶縁性が高く帯電しやすいため、帯電防止機能のある表面平滑化層を設けることは特に有効である。
また、酸化チタン(TiO2)のような光触媒反応により付着有機物を分解する物質を表面平滑化層に用いると、防塵基板の表面に異物が付着しても、液晶プロジェクター使用時の光源の光により、付着した異物が酸化分解され、防塵基板の表面が清浄化されるため極めて有効である。
また、酸化珪素(SiO2)を用いると、化学的に安定で、例えばスパッタ法による成膜で表面平滑性に優れた薄膜を形成できるため、防塵基板への異物付着の抑制、保護シートや保護膜の剥離性向上という本発明の作用を有効に発揮できる。
構成4によると、構成1乃至3の何れかに記載の液晶表示パネル用防塵基板を備えることにより、防塵基板表面への異物の付着を抑制できるので、液晶プロジェクター使用時の投影品質の低下を招かない液晶表示パネルを提供できる。
また、このような防塵基板を備えた液晶表示パネルによれば、防塵基板表面への異物の付着を抑制できるので、液晶プロジェクター使用時の投影品質の低下を招かない液晶表示パネルを提供できる。
まず、本発明の液晶表示パネル用防塵基板について説明する。図1は、本発明の液晶表示パネル用防塵基板の一実施の形態を示す概略的断面図である。
本発明の液晶表示パネル用防塵基板は、図1に示す一実施の形態によれば、透光性基板51上(主表面上)に、反射防止膜52が形成され、更に、該反射防止膜52上に表面平滑化層53が形成された構造をしている。なお、本実施の形態では、反射防止膜52は、例えば従来知られているAl2O3/ZrO2/MgF2の積層膜のような3層52a,52b,52cからなる積層膜としている。
本発明者の検討によると、前述の反射防止膜上への異物の付着、及び、防塵基板上に設ける保護シートや保護膜の剥離性の低下は、反射防止膜(反射防止膜が積層膜からなる場合はその最上層)の表面粗さがRaで3.0nm以上であると、特に顕著となるため、本発明はそのような表面粗さを有する反射防止膜を設けた防塵基板に適用すると特に有効である。
一般に、蒸着法で形成される膜は、蒸着される粒子のエネルギーが低いため表面粗さは大きくなる。従って、本発明は、最上層が蒸着法で形成された膜である防塵基板に適用すると特に有用である。
例えば、可視光領域の反射防止膜としては、Al2O3/ZrO2/MgF2の積層膜が挙げられるが、最上層のMgF2は、屈折率が低く、低反射の反射防止膜としては最適である。しかし、MgF2等のフッ素化合物は例えばスパッタ法で形成すると、F原子とMg等の金属原子が成膜中に乖離して安定して形成することが困難であるため、表面粗さは大きくなるものの、通常は蒸着法で形成される。従ってこのような最上層の表面粗さが比較的大きな反射防止膜を防塵基板に設ける場合、防塵基板の表面を平滑化できる本発明は特に有用である。
一般に、可視光領域の反射防止膜(積層膜の場合)の最上層として形成される物質としては、屈折率ndが1.4以下であるのが好ましく、このような低屈折率の物質としては、上記MgF2以外に、NaF、CaF等のフッ素化合物が知られている。なお、最上層として屈折率ndが1.4よりも大きい物質を用いると、低屈折率物質と高屈折率物質を交互に6層以上の積層構成としないと反射率の低い膜が形成できず、かつ各層の屈折率と厚みの制御が困難で、反射率の低い反射防止膜を安定して作製できない。
反射防止膜は、可視光領域において、反射率が低い方が光の透過率がよく、また反射光による迷光を防止できるので、可視光領域における反射防止膜の反射率は0.5%以下であることが好ましく、更には0.2%以下になるのが好ましい。
本実施の形態の防塵基板5は、反射防止膜52上に表面平滑化層53を設けている。この表面平滑化層53を設けることにより、防塵基板5の反射防止膜52が形成された側の表面は、表面粗さの小さい平滑な表面となる。従って、表面粗さの比較的大きな反射防止膜を有する場合でも、防塵基板の反射防止膜側の表面は、平滑な表面が得られるため、防塵基板への異物の付着防止及び、防塵基板上に形成される保護シートや保護膜の剥離性向上の効果が得られる。
表面平滑化層は、このような異物の付着防止及び保護シートや保護膜の剥離性向上の効果を得るために、外側(本実施の形態では反射防止膜52に接する側とは反対側)の表面の表面粗さがRaで1nm以下であることが好ましく、更に好ましくは0.8nm以下である。
一般に、種々の薄膜成膜法の中でもスパッタ法で形成した膜は平滑性に優れるため、本発明における表面平滑化層はスパッタ法で形成するのが好ましい。スパッタ法で形成することにより、上記のようにRaで1nm以下という表面粗さの小さな表面平滑化層を得ることができる。
表面平滑化層として、帯電防止性を有する材料のITO膜を用いると、異物が静電的要因で防塵基板に付着することも防止できるので異物の付着防止効果に優れる。ITO膜は、スパッタ法で形成でき、その表面平坦性も優れた有用な材料である。
又、表面平滑化層として、光触媒活性を有する材料を用いると、光触媒作用によって、異物の分解洗浄効果が得られるという利点がある。例えば、酸化チタンのような可視光領域での光触媒活性を有する物質であれば、液晶表示パネルの使用時に防塵基板に付着した異物が酸化分解され、防塵基板の表面を清浄化できる。
又、酸化珪素膜は可視光で透明性が高く、屈折率も低く、化学的に安定でスパッタ法による成膜で表面平滑性に優れた薄膜を形成できる。
表面平滑化層の材料としては、これらの材料に限られる訳ではなく、これらの材料の他にも例えば、Al2O3,MgO,Nd2O3,Gd2O3,ThO2,Y2O3,Sc2O3,La2O3,ZrO2,HfO2,Ta2O5,ZnO,CeO2,TlO2などが使用可能である。
また、表面平滑層の光学厚みを考慮し、反射防止膜の特性を適宜設計することにより、極めて反射率の低い防塵基板が得られる。
表面平滑層の膜厚は反射率を増大させない光学膜厚を設定する必要がある。また、可視光の範囲の反射率を低下させるためには、使用する波長の光の波長をλとした時、表面平滑層の膜厚がλ/8以下で反射率を増大させない光学膜厚を設定する必要がある。また、光学膜厚みを薄くすることにより実質的に反射率を増大させないことができ、好ましくはλ/16となるようにすればよい。可視光を使用する場合、70nm以下、更に好ましくは30nm以下とすればよい。
図2に示す液晶表示パネル1は、液晶層2と、該液晶層2を挟んで互いに対向して配置された、該液晶層2を保持・駆動するための駆動基板4及び対向基板3とを有しており、従来公知の液晶表示パネルと同様の構造である。ここで、駆動基板4は、石英ガラス等からなる透光性基板41と、該透光性基板41上に設けられた画素電極42と該画素電極42に接続されたスイッチング素子43とを有している。スイッチング素子43としては、例えばポリシリコンTFTが用いられる。また、対向基板3は、石英ガラスや低膨張無アルカリガラス等からなる透光性基板31と、この透光性基板31上の前記画素電極42と対向する位置に設けられた対向電極32とを備えている。又、必要に応じて、前記駆動基板4に形成されたスイッチング素子43に入射光が入射するのを防止するための遮光層33が、上記透光性基板31上の前記スイッチング素子43と対向する位置に設けられる。
液晶層2は、これらの駆動基板4と対向基板3の間に配向膜を介して保持され、画素電極42と対向電極32との間に印加される電圧により駆動される。
ここで、対向基板3側から液晶表示パネル1へ入射した光は、前記画素電極42及び対向電極32により制御される液晶層2の配向によって、各画素ごとに透過率が制御され、所定の画像を形成する。
本発明の液晶表示パネル1においては、防塵基板5の外側に異物が付着するのを抑制できるため、液晶表示パネルに塵などが付着した場合に起こる投影像のぼやけ等の投影品質の低下を防止することができる。
本発明は、防塵基板の外側最上層が蒸着法で形成された反射防止膜である場合のように、最上層の表面粗さが比較的粗い膜を有する防塵基板に効果を発揮する。
なお、駆動基板のスイッチング素子を駆動する配線への光の入射を防止するため、防塵基板の外周部に所定の幅の遮光膜を設けることができる。
また、本発明の液晶表示パネル用防塵基板は、反射型プロジェクター等に使用される反射型の液晶表示パネルにも使用することができる。
(実施例1)
大きさ360mm×470mmで厚み1.1mmの無アルカリガラスからなる透光性基板上に、Al2O3/ZrO2/MgF2の積層膜からなる3層構造の反射防止膜を形成した。反射防止膜は蒸着法を用い、透光性基板上にAl2O3を83nmの厚さに蒸着後、ZrO2を132nmの厚さに蒸着し、さらにMgF2を98nmの厚さに蒸着して形成した。さらに、反射防止膜を形成した透光性基板上にスパッタ法によりSiO2からなる膜厚30nmの表面平滑化層を形成した。成膜後の表面平滑化層の表面粗さはRaで0.4nmであった。この基板の表面平滑化層を形成した面に、保護シートとしてダイシングテープを貼り、20mm×10mmの形状にダイシングし、保護シートを剥がして本実施例の防塵基板を得た。
(実施例2及び3)
実施例1において、スパッタ法によりITOからなる膜厚25nmの表面平滑化層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして実施例2の防塵基板を得た。成膜後の表面平滑化層の表面粗さはRaで0.7nmであった。
また、実施例1において、スパッタ法によりTiO2からなる膜厚60nmの表面平滑化層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして実施例3の防塵基板を得た。成膜後の表面平滑化層の表面粗さはRaで0.9nmであった。
実施例1の表面平滑化層を形成していない防塵基板を比較例1とした。この場合、透光性基板上に形成した反射防止膜の最上層(MgF2)の表面粗さはRaで3.6nmであった。
(比較例2)
実施例1において、蒸着法によりZrO2からなる膜厚30nmの表面平滑化層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして比較例2の防塵基板を得た。成膜後の表面平滑化層の表面粗さはRaで1.2nmであった。
以上得られた実施例1〜3、比較例1、及び比較例2の防塵基板から各サンプル120枚を抜き取り、波長550nmでの防塵基板の透過率を測定し、更に集光光下で保護シートの粘着物の残りを目視検査した。この結果を下記表1に纏めて示した。その結果、表面平滑化層を形成していない比較例1の防塵基板では、保護シートの粘着物残りが120枚中12枚と多く粘着物が残ったが、表面平滑化層を形成した実施例1〜3の防塵基板は、いずれも保護シートの粘着物残りが120枚中3枚以下と良好であった。また、表面平滑化層を形成したが、その表面粗さがRaで1.2nmと若干大きい比較例2の防塵基板では、保護シートの粘着物残りが120枚中5枚とやや多かった。
石英基板上にCr膜からなるパターン状の遮光膜とITO膜からなる対向電極が形成された対向基板と、石英基板上に複数のTFT素子が形成された駆動基板を用意した。配向膜を形成後、これらの基板間に液晶層が保持されるように組み立てた。その後、実施例1で得られた防塵基板の表面平滑化層が形成されていない面を、対向基板及び駆動基板の外側にシリコン接着剤で接着し、対向基板の外側及び駆動基板の外側の両方に防塵基板が接合された本実施例の液晶表示パネルを得た。
(実施例5及び6)
実施例2で得られた防塵基板を用いたこと以外は、実施例4と同様にして実施例5の液晶表示パネルを得た。また、実施例3で得られた防塵基板を用いたこと以外は、実施例4と同様にして実施例6の液晶表示パネルを得た。
(比較例3)
比較例1で得られた防塵基板を用いたこと以外は、実施例4と同様にして液晶表示パネル(比較例3)を得た。
(比較例4)
比較例2で得られた防塵基板を用いたこと以外は、実施例4と同様にして液晶表示パネル(比較例4)を得た。
この結果、比較例3では12個と多いが、前記実施例1〜3の防塵基板を装着した液晶表示パネル(実施例4〜6)では、異物による明るさの揺らぎ個数が少なく、異物の付着が少ない。また、こうして浮遊粉塵暴露後、更に24時間点灯後の100mm×100mmエリア内での異物による明るさの揺らぎは、下記表2に示すように、比較例3では減少しなかったが、実施例4〜6の液晶表示パネルでは、何れも異物による明るさの揺らぎ個数が減少し、一度付着した異物の脱落が容易に起こり優れていることが分かった。特に、表面平滑化層として酸化チタンを用いた実施例3の防塵基板を装着した液晶表示パネル(実施例6)は、異物脱落個数が多く、異物による投影画像品質の劣化が少ない優れた液晶表示用防塵基板であった。また、比較例4の液晶表示パネルでは、異物による明るさの揺らぎ個数の減少は見られなかった。
2 液晶層
3 対向基板
4 駆動基板
5 防塵基板
32 対向電極
42 画素電極
51 透光性基板
52 反射防止膜
53 表面平滑化層
Claims (4)
- 液晶層を介して対向配置される駆動基板及び対向基板を備える液晶表示パネルの前記駆動基板及び対向基板の少なくとも一方の外側に配置される透光性基板からなる液晶表示パネル用防塵基板であって、
該防塵基板の前記駆動基板或いは対向基板に接する側とは反対側の表面に透光性の表面平滑化層を設け、該表面平滑化層の防塵基板に接する側とは反対側の表面の表面粗さを、中心線平均粗さ(Ra)で1.0nm以下としたことを特徴とする液晶表示パネル用防塵基板。 - 前記防塵基板は透光性基板上に反射防止膜を有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル用防塵基板。
- 前記表面平滑化層を構成する材料が、インジウムと錫の合金酸化物、又は酸化チタン(TiO2)、或いは酸化珪素(SiO2)であることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示パネル用防塵基板。
- 画素電極を有する駆動基板と、該駆動基板と所定の間隙を介して対向配置された対向基板と、前記駆動基板と対向基板の所定の間隙に保持された液晶層とを有する液晶表示パネルであって、
前記駆動基板及び対向基板の少なくとも一方の外側に、請求項1乃至3の何れかに記載の液晶表示パネル用防塵基板を備えていることを特徴とする液晶表示パネル。
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