JP2005142570A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】投影放射ビームを供給する照明系と、投影放射ビームのビーム経路中に配置される平坦な物品を支持する物品支持体であって、平坦な支持平面を形成する支持領域を画成する複数の支持突起を含む物品支持体と、物品支持体に支持された物品の裏側に充填ガスを供給して物品と物品支持体との間の熱伝導を改善する、支持領域内に形成された充填ガス放出領域を含む充填ガス供給部とを含むリソグラフィ装置である。本発明によれば、充填ガス放出領域が支持領域を実質的に包囲している。
【選択図】図5
Description
リソグラフィ投影技術を用いる製造装置で処理される基板、或いは
リソグラフィ投影装置、マスク検査装置やマスク洗浄装置などのマスク処理装置、若しくはマスク製造装置におけるリソグラフィ投影マスク若しくはマスク・ブランク、又は放射系の光路中に固定されるその他任意の物品若しくは光学素子など、より具体的な用語のいずれかとすることができる。
放射線(例えばUVやEUV)の投影ビームPBを提供する照明系(照明器)ILと、
パターン形成手段を部品PLに対して正確に位置決めするための第1の位置決め手段PMに接続された、パターン形成手段(例えばマスク)MAを支持する第1の支持構造(例えばマスク・テーブル)MTと、
基板を部品PLに対して正確に位置決めするための第2の位置決め手段PWに接続された、基板(例えばレジスト被覆ウェハ)Wを保持する基板テーブル(例えばウェハ・テーブル)WTと、
パターン形成手段MAによって投影ビームPBに付与されたパターンを基板Wの目標部分(例えば1つ又は複数のダイスを含む部分)Cに結像する投影系(例えば反射投影レンズ)PLとを含む。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは基本的に静止状態に保たれ、投影ビームに付与されたパターン全体を1回で目標部分Cに投影する(すなわち1回の静止露光)。次いで、別の目標部分Cの露光を行うことができるように、基板テーブルWTをX方向及び/又はY方向に変移させる。ステップ・モードでは露光フィールドの最大サイズが1回の静止露光に結像された目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードでは、投影ビームに付与されたパターンを目標部分Cに投影(すなわち1回の動的露光)しながら、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTを同時に走査する。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影系PLの倍率(縮小率)及び像反転特性によって決まる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の動的露光の目標部分の幅(非走査方向)が制限され、走査運動の距離によって目標部分の高さ(走査方向)が決まる。
3.別のモードでは、マスク・テーブルMTはプログラム可能なパターン形成手段を保持して基本的に静止状態に保たれ、投影ビームに付与されたパターンを目標部分Cに投影しながら、基板テーブルWTを移動させる、又は走査する。このモードでは、一般に、パルス式放射線源を利用し、基板テーブルWTを移動させるたびに、又は走査中の連続した放射線パルスの合間に、必要に応じてプログラム可能なパターン形成手段を更新する。この動作モードは、上述のタイプのプログラム可能なミラー・アレイなどのプログラム可能なパターン形成手段を利用するマスクレス・リソグラフィにも容易に適用することができる。
2 突起
3 支持領域
5 ガス供給部
6 漏れシール
7 ガス供給部
8 外側溝
9 連結経路(溝)
11 溝
12 ウェハ
15 吸引ポンプ
Claims (15)
- 投影放射ビームを供給する照明系と、
平坦な物品を支持する物品支持体であって、前記物品支持体の上に前記投影放射ビームのビーム経路中で前記平坦な物品が配置されて、かつ平坦な支持平面を形成する支持領域を画成する複数の支持突起を含む物品支持体と、
前記物品支持体に支持された前記物品の裏側に充填ガスを供給して前記物品と前記物品支持体との間の熱伝導を改善する、前記支持領域内に形成された充填ガス放出領域を含む充填ガス供給部とを含むリソグラフィ装置であって、
前記充填ガス放出領域が前記支持領域を実質的に包囲していることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前期放出領域が、前記物品と前記物品支持体の間のガス流動抵抗より低いガス流動抵抗を有する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放出領域が、同心状のガス供給溝によって形成される、請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放出領域が、複数の離間したガス供給部を含む、請求項1から3までのいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記支持領域の中心に別の充填ガス放出領域が設けられた、請求項1から4までのいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記支持領域を包囲する前記充填ガス放出領域と、前記支持領域の中心にある前記別の充填ガス放出領域とが、ガス流経路又はガス流溝を介して接続される、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記支持領域がハード・リム・シールで境界を形成されない、請求項1から6までのいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記支持領域の境界が境界壁面で形成されない、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記支持領域が、前記支持平面より低い境界壁面高さを画成する境界壁面で境界を形成される、請求項1から8までのいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記境界壁面のすぐ隣に溝が設けられた、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置を真空圧状態で動作させるための真空圧を提供する真空ポンプ・システムをさらに含み、前記真空ポンプが、前記物品の裏側から流れる充填ガスを除去するように動作する、請求項1から10までのいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記真空ポンプ・システムが、前記支持領域を包囲する吸引領域を含む、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記物品支持体が、パターン形成手段を支持するための支持体であり、前記パターン形成手段が、投影ビームの断面にパターンを付与する働きをする、請求項1から12までのいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記物品支持体が、パターン形成されたビームによって基板の目標部分にパターン形成される前記基板を保持するための基板テーブルである、請求項1から12までのいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 平坦な支持平面を提供する支持領域を画成する複数の支持突起と、
前記物品支持体に支持された前記物品の裏側に充填ガスを供給して前記物品と前記物品支持体との間の熱伝導を改善する、前記支持領域内に形成された充填ガス放出領域とを含む、請求項1から14までのいずれか1項に記載のリソグラフィ装置の物品支持体であって、
前記充填ガス放出領域が前記支持領域を実質的に包囲している物品支持体。
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