JP2005140564A - 検査ヘッド用位置調整装置及び非接触型抵抗率測定装置 - Google Patents
検査ヘッド用位置調整装置及び非接触型抵抗率測定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005140564A JP2005140564A JP2003375208A JP2003375208A JP2005140564A JP 2005140564 A JP2005140564 A JP 2005140564A JP 2003375208 A JP2003375208 A JP 2003375208A JP 2003375208 A JP2003375208 A JP 2003375208A JP 2005140564 A JP2005140564 A JP 2005140564A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inspection
- head
- sample
- position adjusting
- reflected light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000012360 testing method Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims abstract description 39
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 307
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 5
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 15
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 5
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R27/00—Arrangements for measuring resistance, reactance, impedance, or electric characteristics derived therefrom
- G01R27/02—Measuring real or complex resistance, reactance, impedance, or other two-pole characteristics derived therefrom, e.g. time constant
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/14—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R27/00—Arrangements for measuring resistance, reactance, impedance, or electric characteristics derived therefrom
- G01R27/02—Measuring real or complex resistance, reactance, impedance, or other two-pole characteristics derived therefrom, e.g. time constant
- G01R27/26—Measuring inductance or capacitance; Measuring quality factor, e.g. by using the resonance method; Measuring loss factor; Measuring dielectric constants ; Measuring impedance or related variables
- G01R27/2617—Measuring dielectric properties, e.g. constants
- G01R27/2682—Measuring dielectric properties, e.g. constants using optical methods or electron beams
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
【解決手段】検査ヘッド16と検査試料17の表面との間隔を調整するヘッド位置調整手段12と、検査ヘッド16に一体的にかつ検査試料17の表面と平行に設けられて検査ヘッド16と検査試料17の表面との間隔を間接的に示す透明の基準板13と、検査光を出射させると共に基準板13での反射光と検査試料17での反射光とを入射させそれらを比較して検査ヘッド16と検査試料17の表面との間隔を監視するヘッド間隔監視手段14と、ヘッド間隔監視手段14での検出値に基づいてヘッド位置調整手段12を駆動させて検査ヘッド16と検査試料17の表面との間隔を設定値に調整する制御手段15とを備えた。ヘッド間隔監視手段14は、反射光の入射位置を検出するリニアイメージセンサを備えた。
【選択図】 図1
Description
本発明の検査ヘッド用位置調整装置は、検査ヘッドを検査試料の表面に対して設定位置に調整するための装置である。抵抗率測定等のために、検査ヘッドを、検査試料の平坦面に対して、僅かな隙間を保った状態で走査させるときに、平坦面と検査ヘッドとの隙間を設定値に調整して保つための装置である。この検査ヘッド用位置調整装置を図1に基づいて説明する。
次に、上記構成の検査ヘッド用位置調整装置11を用いた非接触型抵抗率測定装置について説明する。
P=E×I=E(Ie+Io) ……(1)
但し、
P=高周波電力
E=高周波電圧
I=高周波電流
Io=試料なし時の高周波電流
Ie=試料を入れることにより増加した高周波電流
試料をギャップに入れることにより増加する高周波電力は、
Pe=E×Ie ……(2)
試料の導電率=σ 試料の厚さ=t コイルの結合係数=K とすると、
Pe=E×Ie=K×E2×σ×t ……(3)
上式より
Ie=K×E×σ×t=K×E×(t/ρ) ……(4)
従って、低抗率は、
ρ=K×(E/Ie)×t (Ω-cm) ……(5)
抵抗率(ρ)とシート抵抗(ρs)との関係は、
ρs=ρ/t=K×(E/Ie) (Ω/sq) ……(6)
試料とコイルの間の高周波結合係数が一定に保たれた状態で、高周波電圧Eを一定に保つように制御することにより、シート抵抗ρsと高周波電流Ieは、逆比例の関係となる。従って、あらかじめシート抵抗が既知の標準試料を使用して、シート抵抗と高周波電流との関係を図4のグラフのように作成する。
以上の原理に基づいて、非接触型抵抗率測定装置を構成する。なおここでは、各検査ヘッド22,23を1つにまとめ、1つの検査ヘッドを試料21の一側の表面のみに僅かな隙間を保った状態で走査させることで、抵抗率を測定する構成としている。
Claims (5)
- 検査試料の表面を僅かな隙間を隔てた状態で走査される検査ヘッドの、上記検査試料の表面との間隔を調整するヘッド位置調整手段と、
上記検査ヘッドに一体的にかつ上記検査試料の表面と平行に設けられ上記検査ヘッドと上記検査試料の表面との間隔を間接的に示す透明の基準板と、
当該基準板を介して上記検査試料の表面に検査光を出射させると共に上記基準板での反射光と検査試料での反射光とを入射させそれらを比較して上記検査ヘッドと上記検査試料の表面との間隔を監視するヘッド間隔監視手段と、
当該ヘッド間隔監視手段での検出値に基づいて上記ヘッド位置調整手段を駆動させて上記検査ヘッドと上記検査試料の表面との間隔を設定値に調整する制御手段とを備えたことを特徴とする検査ヘッド用位置調整装置。 - 請求項1に記載の検査ヘッド用位置調整装置において、
上記ヘッド間隔監視手段が、上記反射光の入射位置を検出するリニアイメージセンサを備え、
当該リニアイメージセンサで、上記基準板での反射光の入射位置と、上記検査試料での反射光の入射位置との間隔を検出することを特徴とする検査ヘッド用位置調整装置。 - 請求項1又は2に記載の検査ヘッド用位置調整装置において、
上記制御手段が、上記ヘッド間隔監視手段を介して上記基準板での反射光を常時監視し、当該基準板での反射光に異常が生じた場合は、上記ヘッド位置調整手段を駆動させて上記検査ヘッドを上記検査試料の表面から離すことを特徴とする検査ヘッド用位置調整装置。 - 請求項1又は2に記載の検査ヘッド用位置調整装置において、
上記制御手段が、上記ヘッド間隔監視手段を介して上記基準板の表面での反射光と裏面での反射光とを常時監視し、当該基準板の表裏面での2つの反射光に異常が生じた場合は、上記ヘッド位置調整手段を駆動させて上記検査ヘッドを上記検査試料の表面から離すことを特徴とする検査ヘッド用位置調整装置。 - 検査ヘッドを、検査試料の一側の表面で僅かな隙間を保った状態で走査させて抵抗率を測定する非接触型抵抗率測定装置において、
検査試料を支持する支持台部と、
当該支持台部に支持された上記検査試料の一側の表面に接触しないように架け渡して設けられ、上記検査ヘッドを上記検査試料の表面に僅かな隙間を保った状態で支持して移動させる検査ヘッド走査手段とを備え、
当該検査ヘッド走査手段に、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の検査ヘッド用位置調整装置を設けたことを特徴とする非接触型抵抗率測定装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003375208A JP4117353B2 (ja) | 2003-11-05 | 2003-11-05 | 検査ヘッド用位置調整装置及び非接触型抵抗率測定装置 |
KR1020040088924A KR101116984B1 (ko) | 2003-11-05 | 2004-11-03 | 측정헤드용 위치조정장치 및 비접촉형 저항률 측정장치 |
CNB200410088575XA CN100424510C (zh) | 2003-11-05 | 2004-11-05 | 测量头用位置调整器和非接触型电阻率测定装置 |
TW093133796A TWI327647B (en) | 2003-11-05 | 2004-11-05 | Position adjusting device for measuring head and non-contact type resistivity measuring device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003375208A JP4117353B2 (ja) | 2003-11-05 | 2003-11-05 | 検査ヘッド用位置調整装置及び非接触型抵抗率測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005140564A true JP2005140564A (ja) | 2005-06-02 |
JP4117353B2 JP4117353B2 (ja) | 2008-07-16 |
Family
ID=34686638
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003375208A Expired - Lifetime JP4117353B2 (ja) | 2003-11-05 | 2003-11-05 | 検査ヘッド用位置調整装置及び非接触型抵抗率測定装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4117353B2 (ja) |
KR (1) | KR101116984B1 (ja) |
CN (1) | CN100424510C (ja) |
TW (1) | TWI327647B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009516177A (ja) * | 2005-11-14 | 2009-04-16 | リハイトン エレクトロニクス | シート伝導度/シート抵抗測定システム |
CN103513111A (zh) * | 2013-09-06 | 2014-01-15 | 国家电网公司 | 一种金属导线的导电率测试系统及测试方法 |
JP2015162622A (ja) * | 2014-02-28 | 2015-09-07 | 株式会社サイオクス | 基板評価装置及び基板評価方法 |
CN105044463A (zh) * | 2015-06-29 | 2015-11-11 | 上海大学 | 在线式电阻率测试系统 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4427594B2 (ja) * | 2008-08-11 | 2010-03-10 | 三菱重工業株式会社 | 抵抗率検査方法及びその装置 |
CN107768265B (zh) * | 2017-10-16 | 2021-01-26 | 德淮半导体有限公司 | 晶圆测试系统和方法 |
CN110562953B (zh) * | 2019-10-15 | 2021-05-14 | 浙江卡波恩新材料有限公司 | 高密度碳素生产制造技术 |
CN111413546A (zh) * | 2020-04-07 | 2020-07-14 | 宁波市重强电器有限公司 | 一种电连接器的接触电阻分析方法 |
CN113252992B (zh) * | 2021-07-05 | 2021-11-05 | 山东国瓷功能材料股份有限公司 | 材料介电性能测试设备 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4681451A (en) | 1986-02-28 | 1987-07-21 | Polaroid Corporation | Optical proximity imaging method and apparatus |
JPS63128211A (ja) | 1986-11-19 | 1988-05-31 | Hitachi Ltd | スペ−シング測定方法 |
JPH0252205A (ja) * | 1988-08-17 | 1990-02-21 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 膜厚測定方法 |
JP2533664B2 (ja) * | 1990-01-17 | 1996-09-11 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録装置 |
US5473431A (en) * | 1993-04-29 | 1995-12-05 | Conner Peripherals, Inc. | Interferometric flying height measuring device including an addition of a spacer layer |
JPH09298175A (ja) * | 1996-05-09 | 1997-11-18 | Canon Inc | 研磨方法及びそれを用いた研磨装置 |
DE19752576A1 (de) * | 1997-11-27 | 1999-06-02 | Terolab Services Management S | Verfahren und dessen Verwendung zum Prüfen der Eigenschaften einer Beschichtung |
US6166819A (en) * | 1998-06-26 | 2000-12-26 | Siemens Aktiengesellschaft | System and methods for optically measuring dielectric thickness in semiconductor devices |
US6582619B1 (en) * | 1999-09-30 | 2003-06-24 | Lam Research Corporation | Methods and apparatuses for trench depth detection and control |
JP2001319846A (ja) * | 2000-05-02 | 2001-11-16 | Sanee Giken Kk | 露光装置 |
-
2003
- 2003-11-05 JP JP2003375208A patent/JP4117353B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-11-03 KR KR1020040088924A patent/KR101116984B1/ko active IP Right Grant
- 2004-11-05 CN CNB200410088575XA patent/CN100424510C/zh active Active
- 2004-11-05 TW TW093133796A patent/TWI327647B/zh active
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009516177A (ja) * | 2005-11-14 | 2009-04-16 | リハイトン エレクトロニクス | シート伝導度/シート抵抗測定システム |
US8428706B2 (en) | 2005-11-14 | 2013-04-23 | Austin Blew | Sheet conductance/resistance measurement system |
US8996103B2 (en) | 2005-11-14 | 2015-03-31 | Lehighton Electronics, Inc. | Sheet conductance/resistance measurement system |
CN103513111A (zh) * | 2013-09-06 | 2014-01-15 | 国家电网公司 | 一种金属导线的导电率测试系统及测试方法 |
JP2015162622A (ja) * | 2014-02-28 | 2015-09-07 | 株式会社サイオクス | 基板評価装置及び基板評価方法 |
CN105044463A (zh) * | 2015-06-29 | 2015-11-11 | 上海大学 | 在线式电阻率测试系统 |
CN105044463B (zh) * | 2015-06-29 | 2018-01-02 | 上海大学 | 在线式电阻率测试系统 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101116984B1 (ko) | 2012-03-14 |
CN100424510C (zh) | 2008-10-08 |
CN1614427A (zh) | 2005-05-11 |
TW200521453A (en) | 2005-07-01 |
KR20050043650A (ko) | 2005-05-11 |
JP4117353B2 (ja) | 2008-07-16 |
TWI327647B (en) | 2010-07-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10352687B2 (en) | Online thickness detection platform | |
JP4322380B2 (ja) | シート厚み又はうねり計測方法及び装置 | |
JP4117353B2 (ja) | 検査ヘッド用位置調整装置及び非接触型抵抗率測定装置 | |
TWI313751B (ja) | ||
JP2012508456A5 (ja) | ||
JP2008524631A (ja) | 薄薄膜の厚さを測定する方法及び装置 | |
JP5986321B2 (ja) | 鋼板のスケール厚さ測定装置 | |
EP0811826B1 (en) | Non-contact thickness gauge for non-metallic materials in the form of film, foil, tape and the like | |
US20120225366A1 (en) | Identifying fuel cell defects | |
JP6606441B2 (ja) | 検査システムおよび検査方法 | |
JP5596519B2 (ja) | ロール変位測定方法、及びそれを用いたロール変位測定装置、並びにフィルム厚測定方法、及びそれを用いたフィルム厚測定装置 | |
US9562863B2 (en) | Method for determining layer direction of conductor layers in a multilayer electronic component | |
US8527215B2 (en) | Automated inspection system and method for nondestructive inspection of a workpiece using induction thermography | |
TWI805685B (zh) | 用於判定雷射光束之特性的系統與方法、輻射系統、微影系統及光學組件 | |
JP6642392B2 (ja) | 表面粗さ測定方法及び表面粗さ測定装置 | |
KR20100071340A (ko) | 판재의 미세한 열특성 측정장치 및 그의 측정방법 | |
CN107077073B (zh) | 用于监测辐射源的装置、辐射源、监测辐射源的方法、器件制造方法 | |
JP4007067B2 (ja) | 基材表面層の強度の測定方法及び装置 | |
JP2006189399A (ja) | 接触式測定機 | |
US20140184782A1 (en) | System of measuring warpage and method of measuring warpage | |
CN215727755U (zh) | 目视检查机 | |
CN214516057U (zh) | 一种硅片检测装置及硅片分选设备 | |
JP2013107119A (ja) | 測定装置及び測定方法 | |
JP2007120954A (ja) | 厚み測定装置及び厚み測定方法 | |
JP2009181683A (ja) | バネ部品の製造装置および製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060519 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080214 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080219 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080319 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080319 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20080319 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4117353 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110502 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110502 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |