JP2001319846A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JP2001319846A JP2001319846A JP2000133527A JP2000133527A JP2001319846A JP 2001319846 A JP2001319846 A JP 2001319846A JP 2000133527 A JP2000133527 A JP 2000133527A JP 2000133527 A JP2000133527 A JP 2000133527A JP 2001319846 A JP2001319846 A JP 2001319846A
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- Japan
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- photomask
- substrate
- ccd camera
- exposure apparatus
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 １つの露光装置内において、同様または類似
の機能を有する構成要素の共有化を図ることにより、露
光装置の小型化、露光装置コストの低減を可能とする、
位置合わせ装置および間隙調節装置を備えた露光装置を
提供する。 【解決手段】 ＣＣＤカメラ１０５は、位置合わせマー
ク１０３および位置合わせマーク１０４の略上方に設け
られるとともに、フォトマスク面１０２ａおよび基板面
１０１ａを反射するレーザー光３０２ｂ，３０２ｃをＣ
ＣＤカメラ１０５に導入するための調整装置４００が設
けられる。
の機能を有する構成要素の共有化を図ることにより、露
光装置の小型化、露光装置コストの低減を可能とする、
位置合わせ装置および間隙調節装置を備えた露光装置を
提供する。 【解決手段】 ＣＣＤカメラ１０５は、位置合わせマー
ク１０３および位置合わせマーク１０４の略上方に設け
られるとともに、フォトマスク面１０２ａおよび基板面
１０１ａを反射するレーザー光３０２ｂ，３０２ｃをＣ
ＣＤカメラ１０５に導入するための調整装置４００が設
けられる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、露光装置に関
し、より特定的には、フォトマスクと基板との位置合わ
せ装置、および、フォトマスクと基板との間隙調節装置
を備える露光装置の構造に関する。
し、より特定的には、フォトマスクと基板との位置合わ
せ装置、および、フォトマスクと基板との間隙調節装置
を備える露光装置の構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、フォトマスクと基板とが接触せ
ず、わずかな間隙をもって、フォトマスクに描かれたパ
ターンを基板に露光する方法が広く用いられている。こ
のような露光方法は、オフコンタクト露光方法またはプ
ロキシミティ露光方法と呼ばれている。
ず、わずかな間隙をもって、フォトマスクに描かれたパ
ターンを基板に露光する方法が広く用いられている。こ
のような露光方法は、オフコンタクト露光方法またはプ
ロキシミティ露光方法と呼ばれている。
【０００３】このオフコンタクト露光方法およびプロキ
シミティ露光方法では、フォトマスクと基板との位置合
わせ、および、フォトマスクと基板との間隙調節を、信
頼性の高い方法で実現させる必要がある。たとえば、フ
ォトマスクと基板との間隙は、一般的には０．０５ｍｍ
〜０．５ｍｍに調節される。
シミティ露光方法では、フォトマスクと基板との位置合
わせ、および、フォトマスクと基板との間隙調節を、信
頼性の高い方法で実現させる必要がある。たとえば、フ
ォトマスクと基板との間隙は、一般的には０．０５ｍｍ
〜０．５ｍｍに調節される。
【０００４】ここで、従来のフォトマスクと基板との位
置合わせを行なうための位置合わせ装置と、フォトマス
クと基板との間隙を調節するための間隙調節装置とを備
えた露光装置３００の一例について、図３を参照して説
明する。なお、フォトマスクに描かれたパターンを基板
に転写するための光源等の構成については、一般的に用
いられている公知技術を適用することが可能であるた
め、ここでの説明は省略する。
置合わせを行なうための位置合わせ装置と、フォトマス
クと基板との間隙を調節するための間隙調節装置とを備
えた露光装置３００の一例について、図３を参照して説
明する。なお、フォトマスクに描かれたパターンを基板
に転写するための光源等の構成については、一般的に用
いられている公知技術を適用することが可能であるた
め、ここでの説明は省略する。
【０００５】位置合わせ装置としては、基板１０１とフ
ォトマスク１０２とにそれぞれ位置合わせ用の位置合わ
せマーク１０３および位置合わせマーク１０４が設けら
れ、この位置合わせマーク１０３および位置合わせマー
ク１０４を検出するための位置合わせ用ＣＣＤカメラ１
０５が用いられる。
ォトマスク１０２とにそれぞれ位置合わせ用の位置合わ
せマーク１０３および位置合わせマーク１０４が設けら
れ、この位置合わせマーク１０３および位置合わせマー
ク１０４を検出するための位置合わせ用ＣＣＤカメラ１
０５が用いられる。
【０００６】さらに、位置合わせ用ＣＣＤカメラ１０５
で検出された結果に基づいて、位置合わせマーク１０３
および位置合わせマーク１０４の相対位置を演算する位
置合わせ用演算装置１０６、位置合わせ用演算装置１０
６演算結果に基づいて、基板１０１とフォトマスク１０
２との位置合わせを行なうための位置合わせ置１０７と
を備える。
で検出された結果に基づいて、位置合わせマーク１０３
および位置合わせマーク１０４の相対位置を演算する位
置合わせ用演算装置１０６、位置合わせ用演算装置１０
６演算結果に基づいて、基板１０１とフォトマスク１０
２との位置合わせを行なうための位置合わせ置１０７と
を備える。
【０００７】間隙調節装置としては、距離Ｇ３の間隙を
あけて配置される基板１０１およびフォトマスク１０
２、基板１０１とフォトマスク１０２との間隙を測定す
るためのレーザー光３０２を照射するためのレーザー光
源３０１、基板面１０１ａとフォトマスク面１０２ａに
反射したレーザー光３０２ｃ，３０２ｂを検出するため
の光センサ３０３、光センサ３０３で検出された結果に
基づいて、基板１０１とフォトマスク１０２との間隙を
演算する間隙調節用演算装置３０４、間隙調節用演算装
置３０４の演算結果に基づいて、基板１０１とフォトマ
スク１０２との間隙を所定の値に調節するための間隙調
整装置３０５を備える。
あけて配置される基板１０１およびフォトマスク１０
２、基板１０１とフォトマスク１０２との間隙を測定す
るためのレーザー光３０２を照射するためのレーザー光
源３０１、基板面１０１ａとフォトマスク面１０２ａに
反射したレーザー光３０２ｃ，３０２ｂを検出するため
の光センサ３０３、光センサ３０３で検出された結果に
基づいて、基板１０１とフォトマスク１０２との間隙を
演算する間隙調節用演算装置３０４、間隙調節用演算装
置３０４の演算結果に基づいて、基板１０１とフォトマ
スク１０２との間隙を所定の値に調節するための間隙調
整装置３０５を備える。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た露光装置の場合、光センサーとして、フォトマスクと
基板との位置合わせを行なうために用いられる位置合わ
せ用ＣＣＤカメラ１０５と、フォトマスクと基板との間
隙を調節するために用いられる光センサ３０３との２つ
が設けられているため、露光装置の大型化、および露光
装置のコストの点で問題が生じる。
た露光装置の場合、光センサーとして、フォトマスクと
基板との位置合わせを行なうために用いられる位置合わ
せ用ＣＣＤカメラ１０５と、フォトマスクと基板との間
隙を調節するために用いられる光センサ３０３との２つ
が設けられているため、露光装置の大型化、および露光
装置のコストの点で問題が生じる。
【０００９】さらに上述した露光装置の場合、演算装置
として、フォトマスクと基板の位置合わせを行うために
用いられる演算装置１０６と、フォトマスクと基板の間
隙を調節するために用いられる演算装置３０４を別々に
設けられているため、露光装置の大型化、および露光装
置のコストの点で問題が生じる。
として、フォトマスクと基板の位置合わせを行うために
用いられる演算装置１０６と、フォトマスクと基板の間
隙を調節するために用いられる演算装置３０４を別々に
設けられているため、露光装置の大型化、および露光装
置のコストの点で問題が生じる。
【００１０】したがって、この発明の目的は、１つの露
光装置内において、同様または類似の機能を有する構成
要素の共有化を図ることにより、露光装置の小型化、露
光装置コストの低減を可能とする、位置合わせ装置およ
び間隙調節装置を備えた露光装置を提供することにあ
る。
光装置内において、同様または類似の機能を有する構成
要素の共有化を図ることにより、露光装置の小型化、露
光装置コストの低減を可能とする、位置合わせ装置およ
び間隙調節装置を備えた露光装置を提供することにあ
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この発明に基づいた露光
装置においては、フォトマスクと基板との位置合わせを
行なうための位置合わせ装置と、上記フォトマスクと上
記基板との間隙を所定の値に調節するための間隙調節装
置とを備えた露光装置であって、上記フォトマスクの上
方方向よりレーザー光を照射するための光照射手段と、
上記フォトマスクと上記基板との位置合わせ、および、
間隙調節に用いられるＣＣＤカメラと、上記ＣＣＤカメ
ラに上記フォトマスク面および上記基板面で反射する上
記レーザー光を導入するための調整手段とを備える。
装置においては、フォトマスクと基板との位置合わせを
行なうための位置合わせ装置と、上記フォトマスクと上
記基板との間隙を所定の値に調節するための間隙調節装
置とを備えた露光装置であって、上記フォトマスクの上
方方向よりレーザー光を照射するための光照射手段と、
上記フォトマスクと上記基板との位置合わせ、および、
間隙調節に用いられるＣＣＤカメラと、上記ＣＣＤカメ
ラに上記フォトマスク面および上記基板面で反射する上
記レーザー光を導入するための調整手段とを備える。
【００１２】これにより、上記フォトマスクと上記基板
との位置合わせ時には、上記ＣＣＤカメラを上記フォト
マスクと上記基板とに設けられる位置合わせマークの上
方に位置させることにより、上記フォトマスクと上記基
板に設けられる位置合わせマークを確認することがで
き、上記フォトマスクと上記基板との位置合わせが可能
になる。
との位置合わせ時には、上記ＣＣＤカメラを上記フォト
マスクと上記基板とに設けられる位置合わせマークの上
方に位置させることにより、上記フォトマスクと上記基
板に設けられる位置合わせマークを確認することがで
き、上記フォトマスクと上記基板との位置合わせが可能
になる。
【００１３】また、上記フォトマスクと上記基板との間
隙調節時には、上記調整手段をもちいることにより上記
フォトマスク面および上記基板面に反射する上記レーザ
ー光を上記ＣＣＤカメラで検出することができ、その検
出結果をもとに上記フォトマスクと上記基板の間隙を所
定の値に調節することができる。その結果、一つのＣＣ
Ｄカメラを上記フォトマスクと上記基板との位置合わ
せ、および、上記フォトマスクと上記基板との間隙調節
に用いることができるため、露光装置の小型化、露光装
置コストの低減を図ることが可能になる。
隙調節時には、上記調整手段をもちいることにより上記
フォトマスク面および上記基板面に反射する上記レーザ
ー光を上記ＣＣＤカメラで検出することができ、その検
出結果をもとに上記フォトマスクと上記基板の間隙を所
定の値に調節することができる。その結果、一つのＣＣ
Ｄカメラを上記フォトマスクと上記基板との位置合わ
せ、および、上記フォトマスクと上記基板との間隙調節
に用いることができるため、露光装置の小型化、露光装
置コストの低減を図ることが可能になる。
【００１４】また、上記発明において好ましくは、上記
調整手段は、上記ＣＣＤカメラが上記フォトマスク面と
なす角度を調節可能な機構を備える。また、好ましく
は、上記調整手段は、上記ＣＣＤカメラによって上記フ
ォトマスク面に反射する上記レーザー光及び上記基板面
に反射する上記レーザー光を検出するための光学系に、
少なくとも１つの鏡を有する。
調整手段は、上記ＣＣＤカメラが上記フォトマスク面と
なす角度を調節可能な機構を備える。また、好ましく
は、上記調整手段は、上記ＣＣＤカメラによって上記フ
ォトマスク面に反射する上記レーザー光及び上記基板面
に反射する上記レーザー光を検出するための光学系に、
少なくとも１つの鏡を有する。
【００１５】これらの機構を採用することにより、上記
ＣＣＤカメラに上記フォトマスク面および上記基板面で
反射する上記レーザー光を導入することが可能になる。
ＣＣＤカメラに上記フォトマスク面および上記基板面で
反射する上記レーザー光を導入することが可能になる。
【００１６】また、好ましくは、上記ＣＣＤカメラは、
上記フォトマスク面のＸ、Ｙ方向に移動可能な機構を備
える。また、好ましくは、上記ＣＣＤカメラは、上記フ
ォトマスク面に対して、鉛直方向に移動可能な機構を備
える。また、好ましくは、位置合わせのための演算およ
び間隙測定のための演算に同一の演算装置が利用され
る。
上記フォトマスク面のＸ、Ｙ方向に移動可能な機構を備
える。また、好ましくは、上記ＣＣＤカメラは、上記フ
ォトマスク面に対して、鉛直方向に移動可能な機構を備
える。また、好ましくは、位置合わせのための演算およ
び間隙測定のための演算に同一の演算装置が利用され
る。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、この発明に基づいた位置合
わせ装置および間隙調節装置を備えた露光装置の実施の
形態について、図を参照して説明する。なお、フォトマ
スクに描かれたパターンを基板に転写するための光源等
の構成については、一般的に用いられている公知技術を
適用することが可能であるため、ここでの説明は省略す
る。
わせ装置および間隙調節装置を備えた露光装置の実施の
形態について、図を参照して説明する。なお、フォトマ
スクに描かれたパターンを基板に転写するための光源等
の構成については、一般的に用いられている公知技術を
適用することが可能であるため、ここでの説明は省略す
る。
【００１８】（実施の形態１：露光装置１００の概略構
成）図１に、実施の形態１における露光装置１００の概
略構成を示す。本実施の形態における露光装置１００
は、位置合わせ装置と間隙調節装置とを備える。
成）図１に、実施の形態１における露光装置１００の概
略構成を示す。本実施の形態における露光装置１００
は、位置合わせ装置と間隙調節装置とを備える。
【００１９】位置合わせ装置としては、基板１０１とフ
ォトマスク１０２とにそれぞれ位置合わせ用の位置合わ
せマーク１０３および位置合わせマーク１０４が設けら
れ、この位置合わせマーク１０３および位置合わせマー
ク１０４を検出するための光センサーとしてのＣＣＤカ
メラ１０５、このＣＣＤカメラ１０５の検出結果に基づ
いて、位置合わせマーク１０３および位置合わせマーク
１０４の相対位置を演算する演算装置１０６Ａ、この演
算装置１０６Ａの演算結果に基づいて、基板１０１とフ
ォトマスク１０２との位置合わせを行なうための位置合
わせ用調整装置１０７とを備える。
ォトマスク１０２とにそれぞれ位置合わせ用の位置合わ
せマーク１０３および位置合わせマーク１０４が設けら
れ、この位置合わせマーク１０３および位置合わせマー
ク１０４を検出するための光センサーとしてのＣＣＤカ
メラ１０５、このＣＣＤカメラ１０５の検出結果に基づ
いて、位置合わせマーク１０３および位置合わせマーク
１０４の相対位置を演算する演算装置１０６Ａ、この演
算装置１０６Ａの演算結果に基づいて、基板１０１とフ
ォトマスク１０２との位置合わせを行なうための位置合
わせ用調整装置１０７とを備える。
【００２０】間隙調節装置としては、距離Ｇ３の間隙を
あけて配置される基板１０１およびフォトマスク１０
２、基板１０１とフォトマスク１０２との間隙を測定す
るためのレーザー光３０２を照射するためのレーザー光
源３０１、基板１０１の基板面１０１ａとフォトマスク
１０２のフォトマスク面１０２ａとを反射したレーザー
光３０２ｃ，３０２ｂを検出するための光センサーとし
てのＣＣＤカメラ１０５、このＣＣＤカメラ１０５の検
出結果に基づいて、基板１０１とフォトマスク１０２と
の間隙を計算する演算装置１０６Ａ、この演算装置１０
６Ａの演算結果に基づいて、基板１０１とフォトマスク
１０２との間隙を所定の値に調節するための間隙調整装
置３０５を備える。
あけて配置される基板１０１およびフォトマスク１０
２、基板１０１とフォトマスク１０２との間隙を測定す
るためのレーザー光３０２を照射するためのレーザー光
源３０１、基板１０１の基板面１０１ａとフォトマスク
１０２のフォトマスク面１０２ａとを反射したレーザー
光３０２ｃ，３０２ｂを検出するための光センサーとし
てのＣＣＤカメラ１０５、このＣＣＤカメラ１０５の検
出結果に基づいて、基板１０１とフォトマスク１０２と
の間隙を計算する演算装置１０６Ａ、この演算装置１０
６Ａの演算結果に基づいて、基板１０１とフォトマスク
１０２との間隙を所定の値に調節するための間隙調整装
置３０５を備える。
【００２１】ここで、基板１０１とフォトマスク１０２
との位置合わせにおいては、位置合わせマーク１０３お
よび位置合わせマーク１０４をその上方からＣＣＤカメ
ラ１０５を用いて検出する。一方、基板１０１とフォト
マスク１０２との間隙調節においては、基板面１０１ａ
とフォトマスク面１０２ａとで反射したレーザー光３０
２ｂ，３０２ｃをＣＣＤカメラ１０５を用いて検出す
る。そのために、本実施の形態におけるＣＣＤカメラ１
０５は、位置合わせマーク１０３および位置合わせマー
ク１０４の略上方に設けられるとともに、ＣＣＤカメラ
１０５にフォトマスク面１０２ａおよび基板面１０１ａ
で反射するレーザー光３０２ｂ、３０２ｃを導入するた
めの調整装置４００が設けられ、フォトマスク面１０２
ａとなす角度を調節可能な機構が採用されている。
との位置合わせにおいては、位置合わせマーク１０３お
よび位置合わせマーク１０４をその上方からＣＣＤカメ
ラ１０５を用いて検出する。一方、基板１０１とフォト
マスク１０２との間隙調節においては、基板面１０１ａ
とフォトマスク面１０２ａとで反射したレーザー光３０
２ｂ，３０２ｃをＣＣＤカメラ１０５を用いて検出す
る。そのために、本実施の形態におけるＣＣＤカメラ１
０５は、位置合わせマーク１０３および位置合わせマー
ク１０４の略上方に設けられるとともに、ＣＣＤカメラ
１０５にフォトマスク面１０２ａおよび基板面１０１ａ
で反射するレーザー光３０２ｂ、３０２ｃを導入するた
めの調整装置４００が設けられ、フォトマスク面１０２
ａとなす角度を調節可能な機構が採用されている。
【００２２】このような構成を採用することにより、一
つのＣＣＤカメラをフォトマスクと基板との位置合わ
せ、および、フォトマスクと基板との間隙調節に用いる
ことができるため、露光装置の小型化、露光装置コスト
の低減を図ることが可能になる。なお、調整装置４００
の具体的な機構については、駆動装置、歯車機構および
制御装置を組合せた公知の技術を適用することにより実
現される。
つのＣＣＤカメラをフォトマスクと基板との位置合わ
せ、および、フォトマスクと基板との間隙調節に用いる
ことができるため、露光装置の小型化、露光装置コスト
の低減を図ることが可能になる。なお、調整装置４００
の具体的な機構については、駆動装置、歯車機構および
制御装置を組合せた公知の技術を適用することにより実
現される。
【００２３】（実施の形態２：露光装置２００の概略構
成）図２に、実施の形態２における露光装置２００の概
略構成を示す。本実施の形態における露光装置２００と
上述した実施の形態１における露光装置１００の相違点
は、基板面１０１ａとフォトマスク面１０２ａとを反射
したレーザー光３０２ｃ，３０２ｂをＣＣＤカメラ１０
５へ導く手段が異なっている。したがって、ここでは、
同一の機能を有する構成については同一の参照符号を付
し、反射したレーザー光３０２ｂ，３０２ｃをＣＣＤカ
メラ１０５へ導く調整手段の構成についてのみ説明す
る。
成）図２に、実施の形態２における露光装置２００の概
略構成を示す。本実施の形態における露光装置２００と
上述した実施の形態１における露光装置１００の相違点
は、基板面１０１ａとフォトマスク面１０２ａとを反射
したレーザー光３０２ｃ，３０２ｂをＣＣＤカメラ１０
５へ導く手段が異なっている。したがって、ここでは、
同一の機能を有する構成については同一の参照符号を付
し、反射したレーザー光３０２ｂ，３０２ｃをＣＣＤカ
メラ１０５へ導く調整手段の構成についてのみ説明す
る。
【００２４】ＣＣＤカメラ１０５は、基板位置合わせマ
ーク１０３およびフォトマスク位置合わせマーク１０４
の略上方に設けられ、このＣＣＤカメラ１０５へ反射し
たレーザー光３０２ｂ，３０２ｃを導くための鏡５０
１，５０２が設けられている。基板面１０１ａとフォト
マスク面１０２ａとを反射したレーザー光３０２ｃ，３
０２ｂは、鏡５０１により鏡５０２へ反射され、さらに
鏡５０２によりＣＣＤカメラ１０５へ反射される。な
お、ＣＣＤカメラ１０５へ反射したレーザー光３０２
ｂ，３０２ｃを導くための鏡の個数については、本実施
の個数に限られず、設計において適宜選択される。
ーク１０３およびフォトマスク位置合わせマーク１０４
の略上方に設けられ、このＣＣＤカメラ１０５へ反射し
たレーザー光３０２ｂ，３０２ｃを導くための鏡５０
１，５０２が設けられている。基板面１０１ａとフォト
マスク面１０２ａとを反射したレーザー光３０２ｃ，３
０２ｂは、鏡５０１により鏡５０２へ反射され、さらに
鏡５０２によりＣＣＤカメラ１０５へ反射される。な
お、ＣＣＤカメラ１０５へ反射したレーザー光３０２
ｂ，３０２ｃを導くための鏡の個数については、本実施
の個数に限られず、設計において適宜選択される。
【００２５】本実施の形態においても、一つのＣＣＤカ
メラをフォトマスクと基板との位置合わせ、および、フ
ォトマスクと基板との間隙調節に用いることができるた
め、露光装置の小型化、露光装置コストの低減を図るこ
とが可能になる。
メラをフォトマスクと基板との位置合わせ、および、フ
ォトマスクと基板との間隙調節に用いることができるた
め、露光装置の小型化、露光装置コストの低減を図るこ
とが可能になる。
【００２６】なお、上記各実施の形態において、演算装
置１０６Ａに、位置合わせマーク１０３および位置合わ
せマーク１０４の位置を計算する機能と、基板１０１と
フォトマスク１０２との間隙を計算する機能とを兼ね備
えるようにしているが、それぞれの機能を別々に設ける
構成を採用することも可能である。
置１０６Ａに、位置合わせマーク１０３および位置合わ
せマーク１０４の位置を計算する機能と、基板１０１と
フォトマスク１０２との間隙を計算する機能とを兼ね備
えるようにしているが、それぞれの機能を別々に設ける
構成を採用することも可能である。
【００２７】また、ＣＣＤカメラ１０５に、フォトマス
ク面１０２ａのＸ、Ｙ方向（フォトマスク面に平行な
面）に移動可能な機構を付加したり、フォトマスク面１
０２ａに対して、鉛直方向に移動可能な機構を付加した
りすることが可能である。
ク面１０２ａのＸ、Ｙ方向（フォトマスク面に平行な
面）に移動可能な機構を付加したり、フォトマスク面１
０２ａに対して、鉛直方向に移動可能な機構を付加した
りすることが可能である。
【００２８】また、光センサとしてＣＣＤカメラを用い
た場合について説明しているが、同様の機能を有する光
センサであれば、どのような光電素子を用いてもかまわ
ない。
た場合について説明しているが、同様の機能を有する光
センサであれば、どのような光電素子を用いてもかまわ
ない。
【００２９】以上、今回開示した上記各実施の形態はす
べての点で例示であって制限的なものではない。本発明
の技術的範囲は上記各実施の形態に限定されるものでは
なく、特許請求の範囲によって画定され、特許請求の範
囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれ
ることが意図される。
べての点で例示であって制限的なものではない。本発明
の技術的範囲は上記各実施の形態に限定されるものでは
なく、特許請求の範囲によって画定され、特許請求の範
囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれ
ることが意図される。
【００３０】
【発明の効果】この発明に基づいた露光装置によれば、
ＣＣＤカメラにフォトマスク面および基板面で反射する
レーザー光を導入するための調整手段を備えることによ
り、フォトマスクと基板との位置合わせ時には、ＣＣＤ
カメラをフォトマスクと基板とに設けられる位置合わせ
マークの上方に位置させることにより、フォトマスクお
よび基板の位置合わせマークのを確認することができ、
位置合わせが可能になる。また、フォトマスクと基板と
の間隙調節時には、フォトマスク面および基板面に反射
するレーザー光をＣＣＤカメラで検出することができ、
その検出結果をもとにフォトマスクと基板の間隙を所定
の値に調節することができる。その結果、一つのＣＣＤ
カメラをフォトマスクと基板との位置合わせ、および、
フォトマスクと基板との間隙調節に用いることができる
ため、露光装置の小型化、露光装置コストの低減を図る
ことが可能になる。
ＣＣＤカメラにフォトマスク面および基板面で反射する
レーザー光を導入するための調整手段を備えることによ
り、フォトマスクと基板との位置合わせ時には、ＣＣＤ
カメラをフォトマスクと基板とに設けられる位置合わせ
マークの上方に位置させることにより、フォトマスクお
よび基板の位置合わせマークのを確認することができ、
位置合わせが可能になる。また、フォトマスクと基板と
の間隙調節時には、フォトマスク面および基板面に反射
するレーザー光をＣＣＤカメラで検出することができ、
その検出結果をもとにフォトマスクと基板の間隙を所定
の値に調節することができる。その結果、一つのＣＣＤ
カメラをフォトマスクと基板との位置合わせ、および、
フォトマスクと基板との間隙調節に用いることができる
ため、露光装置の小型化、露光装置コストの低減を図る
ことが可能になる。
【図１】 実施の形態１における露光装置１００の概略
構成を示す模式図である。
構成を示す模式図である。
【図２】 実施の形態２における露光装置２００の概略
構成を示す模式図である。
構成を示す模式図である。
【図３】 従来の技術における露光装置３００の概略構
成を示す模式図である。
成を示す模式図である。
１００，２００，３００ 露光装置、１０１ 基板、１
０１ａ 基板面、１０２ フォトマスク、１０２ａ フ
ォトマスク面、１０３ 基板位置合わせマーク、１０４
フォトマスク位置合わせマーク、１０５ ＣＣＤカメ
ラ、１０６Ａ演算装置、１０７ 位置合わせ装置、３０
１ レーザー光源、３０２ レーザー光、３０２ｂ，３
０２ｃ 反射レーザー光、３０５ 間隙調整装置、４０
０ 調整装置、５０１，５０２ 鏡。
０１ａ 基板面、１０２ フォトマスク、１０２ａ フ
ォトマスク面、１０３ 基板位置合わせマーク、１０４
フォトマスク位置合わせマーク、１０５ ＣＣＤカメ
ラ、１０６Ａ演算装置、１０７ 位置合わせ装置、３０
１ レーザー光源、３０２ レーザー光、３０２ｂ，３
０２ｃ 反射レーザー光、３０５ 間隙調整装置、４０
０ 調整装置、５０１，５０２ 鏡。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１０
Claims (6)
- 【請求項１】 フォトマスクと基板との位置合わせを行
なうための位置合わせ装置と、前記フォトマスクと前記
基板との間隙を所定の値に調節するための間隙調節装置
とを備えた、露光装置であって、 前記フォトマスクの上方方向よりレーザー光を照射する
ための光照射手段と、 前記フォトマスクと前記基板との位置合わせ、および、
前記フォトマスクと前記基板との間隙を所定の値に調節
する間隙調節に用いられるＣＣＤカメラと、 前記ＣＣＤカメラに前記フォトマスク面および前記基板
面で反射する前記レーザー光を導入するための調整手段
と、 前記位置合わせのための演算、または、前記間隙調節の
ための演算に用いられる少なくとも１つの演算装置と、
を備える露光装置。 - 【請求項２】 前記調整手段は、前記ＣＣＤカメラが前
記フォトマスク面となす角度を調節可能な機構を備え
る、請求項１に記載の露光装置。 - 【請求項３】 前記調整手段は、前記ＣＣＤカメラによ
って前記フォトマスク面に反射する前記レーザー光及び
前記基板面に反射する前記レーザー光を検出するための
光学系に、少なくとも１つの鏡を有する、請求項１また
は２に記載の露光装置。 - 【請求項４】 前記ＣＣＤカメラは、前記フォトマスク
面のＸ、Ｙ方向に移動可能な機構を備える、請求項１〜
３のいずれかに記載の露光装置。 - 【請求項５】 前記ＣＣＤカメラは、前記フォトマスク
面に対して、鉛直方向に移動可能な機構を備える、請求
項１〜４のいずれかに記載の露光装置。 - 【請求項６】 前記位置合わせのための演算および前記
間隙調節のための演算に同一の演算装置が利用される、
請求項１〜５のいずれかに記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000133527A JP2001319846A (ja) | 2000-05-02 | 2000-05-02 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000133527A JP2001319846A (ja) | 2000-05-02 | 2000-05-02 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001319846A true JP2001319846A (ja) | 2001-11-16 |
Family
ID=18642003
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000133527A Withdrawn JP2001319846A (ja) | 2000-05-02 | 2000-05-02 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001319846A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101116984B1 (ko) * | 2003-11-05 | 2012-03-14 | 나프손 카부시키가이샤 | 측정헤드용 위치조정장치 및 비접촉형 저항률 측정장치 |
| CN108701679A (zh) * | 2016-02-25 | 2018-10-23 | Eo科技股份有限公司 | 标记位置校正装置及方法 |
-
2000
- 2000-05-02 JP JP2000133527A patent/JP2001319846A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101116984B1 (ko) * | 2003-11-05 | 2012-03-14 | 나프손 카부시키가이샤 | 측정헤드용 위치조정장치 및 비접촉형 저항률 측정장치 |
| CN108701679A (zh) * | 2016-02-25 | 2018-10-23 | Eo科技股份有限公司 | 标记位置校正装置及方法 |
| CN108701679B (zh) * | 2016-02-25 | 2021-10-29 | Eo科技股份有限公司 | 标记位置校正装置及方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070703 |