JP2005128341A - 液晶装置の製造方法、液晶装置、電子機器、投射型表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 一対の基板間10,20に液晶層50を挟持してなる液晶装置の製造方法であって、第1基板10上に液滴吐出法を用いて液晶を滴下する工程と、該液晶が滴下された第1基板10とこれに対向する第2基板20とを貼り合せる工程と、を含み、前記第1基板10の表面であって、当該液晶装置の光出射領域内に形成される段差dを1800Å以下としたことを特徴とする。
【選択図】 図3
Description
[液晶装置]
以下に示す本実施の形態の液晶装置は、スイッチング素子としてTFT(Thin Film Transistor)素子を用いたアクティブマトリクスタイプの透過型液晶装置である。図1は本実施形態の透過型液晶装置のマトリクス状に配置された複数の画素におけるスイッチング素子、信号線等の等価回路図である。図2はデータ線、走査線、画素電極等が形成されたTFTアレイ基板の相隣接する複数の画素群の構造を示す要部平面図である。図3は図2のA−A’線断面図である。なお、各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
次に、本実施の形態に示した上記液晶装置の製造方法について、その例を図面を参照しつつ説明する。
図4は、本実施形態の液晶装置の製造方法について、そのプロセスフローを示す説明図である。すなわち、本製造方法は、基板本体10A(第1基板)上に画素電極9を配設した後、該画素電極9上に配向膜40を形成し、さらに枠状シール材を形成して、該枠状シール材の内側に液晶を滴下する工程と、基板本体20A(第2基板)上に対向電極21を配設した後、該対向電極21上に配向膜60を形成する工程と、TFTアレイ基板10と対向基板20とを貼り合せる工程とを含んでいる。以下、各フローについて詳細を説明する。
次に、上記実施形態で示した液晶装置を備えた電子機器の具体例について説明する。図7は携帯電話の一例を示した斜視図である。図7において、符号500は携帯電話本体を示し、符号501は上記実施の形態の液晶装置を備えた液晶表示部を示している。このように、図7に示すそれぞれの電子機器は、上記実施形態の液晶装置を備えたものであるので、表示品位に優れた表示部を有する電子機器となる。また、上記実施形態で示した液晶装置を備えた電子機器としては、車載用ナビゲーションモニター、携帯型液晶TVなどが挙げられ、視認性の良い、表示品位に優れた表示部を備えた電子機器となる。
次に、上記実施形態で示した液晶装置を備えた投射型表示装置の具体例について説明する。図8は、上記実施の形態の液晶装置を液晶ライトバルブ(光変調手段)として用いた投射型表示装置の要部を示す概略構成図である。図8において、符号810は光源、813、814はダイクロイックミラー、815、816、817は反射ミラー、818は入射レンズ、819はリレーレンズ、820は出射レンズ、822、823、824は液晶ライトバルブ、825はクロスダイクロイックプリズム、826は投射レンズを示す。
Claims (7)
- 一対の基板間に液晶層を挟持してなる液晶装置の製造方法であって、
第1基板上に液滴吐出法を用いて液晶を滴下する工程と、
該液晶が滴下された第1基板とこれに対向する第2基板とを貼り合せる工程と、を含み、
前記第1基板の表面であって、当該液晶装置の光出射領域内に形成される段差を1800Å以下としたことを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 前記第1基板上に液晶を滴下する工程の前に、第1基板上に、マトリクス状の遮光部によって区画された複数の画素電極を形成する工程と、該画素電極上に配向膜を形成する工程とを含み、
前記第1基板の表面に形成される段差が、前記遮光部上の基板表面と、前記画素電極上の基板表面との高さの差にて形成されるものであることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。 - 前記基板表面に形成される段差を1300Å以下としたことを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶装置。
- 前記基板表面に形成される段差を、前記光出射領域の外側ほど相対的に大きく、前記光出射領域の内側ほど相対的に小さくしたことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の液晶装置。
- 請求項1ないし4のいずれか1項に記載の製造方法により得られたことを特徴とする液晶装置。
- 請求項5に記載の液晶装置を表示部として備えることを特徴とする電子機器。
- 光源装置と、該光源装置から出射された光を変調する光変調装置と、該光変調装置により変調された光を投射する投射装置とを含み、
前記光変調装置が、請求項5に記載の液晶装置にて構成されてなることを特徴とする投射型表示装置。
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JP2003195353A (ja) * | 2001-10-04 | 2003-07-09 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 |
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