JP2005120392A - 金属部品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】鋳型の成形面上に金属材を電鋳させることにより金属部品を製造する方法であって、型形成工程にて、鋳型の成形面上に離型剤としてアミノ系シランカップリング剤を用いて離型剤膜を成膜し、この離型剤膜に無電解めっき用触媒を付与し、無電解めっきにより電鋳用通電膜を成膜し、次いで、電鋳工程にて、上記の電鋳用通電膜に通電することにより電鋳用通電膜上に金属材を析出させ、その後、剥離工程にて、金属材を鋳型から剥離して金属部品を得るような構成とする。
【選択図】 なし
Description
一方、シランカップリング剤は、無電解めっき析出の均一化(特許文献1)や、無電解めっき密着性の向上(特許文献2)を目的として用いられてきた。
電鋳技術と応用 (槇書店発行、伊勢秀夫著)
また、無電解めっき被膜の均一化、密着性向上を可能とする公知のシランカップリング剤は、良好な離型性が得られないものであった。
本発明は、上述のような実情に鑑みてなされたものであり、良好な型再現性によりナノメートルオーダーの微細形状部位を有する金属部品の製造が可能な方法を提供することを目的とする。
本発明の好ましい態様として、前記離型剤膜の成膜は、含有濃度が0.1〜100g/Lの範囲である離型剤水溶液を使用するような構成とした。
本発明の好ましい態様として、前記鋳型はナノメートルオーダーの微細形状部位を有するような構成とした。
NH2−R1−Si−(O−R2)3 … 一般式(1)
(ただし、R1は炭素数2〜3のアルキル基、R2は炭素数1〜2のアルキル基)
本発明の好ましい態様として、前記アミノ系シランカップリング剤は、γ−アミノプロピルトリエトキシシランであるような構成とした。
本発明の好ましい態様として、前記鋳型の材質は、金属、ガラス、無機酸化物、有機樹脂のいずれかであるような構成とした。
本発明の金属部品の製造方法は、鋳型の成形面上に金属材を電鋳させることにより金属部品を製造する方法であり、型形成工程と、電鋳工程と、剥離工程と、を有するものである。
型形成工程では、まず、鋳型の成形面上に離型剤としてアミノ系シランカップリング剤を用いて離型剤膜を成膜し、この離型剤膜に無電解めっき用触媒を付与し、その後、無電解めっきにより電鋳用通電膜を成膜する。
上記の離型剤膜の成膜は離型剤水溶液を使用して行うことができ、浸漬法、塗布法、スプレー法等、公知のいずれの方法を用いてもよい。形成された離型剤膜は、単分子層膜あるいはこれに近い薄膜であり、膜厚は数百〜数千ピコメートル程度である。このため、鋳型の成形面形状に対する追随性が極めて高いものとなる。
離型剤として使用するアミノ系シランカップリング剤は、下記の一般式(1)で表されるものを挙げることができ、具体的には、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルメトキシシラン、3−アミノエチルエトキシシラン、3−アミノエチルメトキシシラン等を挙げることができる。
NH2−R1−Si−(O−R2)3 … 一般式(1)
(ただし、R1は炭素数2〜3のアルキル基、R2は炭素数1〜2のアルキル基)
剥離工程では、金属材を鋳型から剥離して金属部品を得る。本発明では、離型剤膜が単分子層膜あるいはこれに近い数百〜数千ピコメートルの薄膜であり、かつ、良好な離型性を発現するので、ナノメートルオーダーの微細形状部位を有する金属部品を高い再現性で製造することができる。また、剥離時に離型剤膜を溶解除去する工程等が不要であり、製造工程が簡便である。尚、剥離工程では、金属材を単体で直接剥離してもよいが、金属材上に補強部材を接着した後に剥離し、補強部材に担持された状態で金属部品を得ることもできる。
また、本発明により製造可能な金属部品は特に制限はなく、例えば、配線、電極、撮像デバイス等、ナノメートルオーダーの微細形状部位を有するような金属部品を対象として含むものである。
[実施例1]
アミノ系シランカップリング剤としてγ−アミノプロピルトリエトキシシラン(日本ユニカー(株)製 A−1100)を準備し、このγ−アミノプロピルトリエトキシシランを下記表1に示される濃度で含有する6種の離型剤水溶液(試料1〜6)を調製した。
次いで、酸化珪素板を市販の脱脂液(メルテックス(株)製 メルプレートITO−170)に70℃で5分間超音波をあてながら浸漬した。水洗後、この酸化珪素板を45g/Lの水酸化カリウム水溶液に70℃で5分間超音波をあてながら浸漬した。その後、酸化珪素板を水洗し、市販の表面調整剤(メルテックス(株)製 メルプレートコンディショナー480)に室温にて5分間浸漬し、次いで、水洗後、上記の離型剤水溶液(試料1〜6)に2分間浸漬して離型剤膜を形成した。水洗後、酸化珪素板を市販の触媒液(メルテックス(株)製 メルプレートアクチベータ440)に2分間浸漬して触媒を付与した。その後、水洗し、市販の無電解ニッケルめっき液(メルテックス(株)製 メルプレートNI−867)に5分間浸漬(浴温70℃)し、Niを析出させた。
(評価基準)
・γ−アミノプロピルトリエトキシシランの溶解性
○:不溶残渣がない
×:不溶残渣がみられる
・Niの析出性
○:析出あり
×:析出せず
・Niの表面性
○:平坦でフクレは存在しない
×:フクレがみられる
・試料7のシランカップリング剤 : 信越化学工業(株)製 KBM−303
(2−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン)
・試料8のシランカップリング剤 : 信越化学工業(株)製 KBM−802
(3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン)
・試料9のシランカップリング剤 : 信越化学工業(株)製 KBE−9007
(3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン)
上記の3種の離型剤水溶液(試料7〜9)を使用し、上記と同様に、酸化珪素板に無電解ニッケルめっき工程までを行い、上記と同様に、シランカップリング剤の溶解性、Niの析出性、析出させたNiの表面性を評価して、結果を表1に示した。
まず、型形成工程として、異方性エッチング等により超微細加工を施したシリコンウエハーを鋳型として準備し、このシリコンウエハーを市販の脱脂液(メルテックス(株)製 メルプレートITO−170)に70℃で5分間超音波をあてながら浸漬した。水洗後、このシリコンウエハーを45g/Lの水酸化カリウム水溶液に70℃で5分間超音波をあてながら浸漬した。その後、シリコンウエハーを水洗し、市販の表面調整剤(メルテックス(株)製 メルプレートコンディショナー480)に室温にて5分間浸漬し、水洗した。
次いで、離型剤としてアミノ系シランカップリング剤であるγ−アミノプロピルトリエトキシシラン(日本ユニカー(株)製 A−1100)を10g/L溶解した離型剤水溶液にシリコンウエハーを室温で2分間浸漬して離型剤膜を形成した。水洗後、シリコンウエハーを市販の触媒液(メルテックス(株)製 メルプレートアクチベータ440)に2分間浸漬し水洗して触媒を付与した。その後、市販の無電解ニッケルめっき液(メルテックス(株)製 メルプレートNI−867)に5分間浸漬(浴温70℃)し、Niを析出させて電鋳用通電膜を成膜した。
次いで、剥離工程にて、上記のニッケル電鋳被膜を剥離して金属部品を得た。この金属部品は微細形状部位を有し、その先端精度をFE−SEMを用いて測定した結果、3nmの精度が確保されていることが確認された。
まず、型形成工程として、エッチング等により超微細加工を施したニッケル鋳型を鋳型として準備した。次いで、離型剤としてアミノ系シランカップリング剤であるγ−アミノプロピルトリエトキシシラン(日本ユニカー(株)製 A−1100)を10g/L溶解した離型剤水溶液に、上記のニッケル鋳型を室温で2分間浸漬して離型剤膜を形成した。水洗後、ニッケル鋳型を市販の触媒液(メルテックス(株)製 メルプレートアクチベータ440)に2分間浸漬し水洗して触媒を付与した。その後、市販の無電解ニッケルめっき液(メルテックス(株)製 メルプレートNI−867)に5分間浸漬(浴温70℃)し、Niを析出させて電鋳用通電膜を成膜した。
次いで、剥離工程にて、上記のニッケル電鋳被膜を剥離して金属部品を得た。この金属部品は微細形状部位を有し、その先端精度をFE−SEMを用いて測定した結果、3nmの精度が確保されていることが確認された。
鋳型として、エッチング等により超微細加工を施したアクリル樹脂製の鋳型を使用した他は、実施例3と同様の型形成工程、電鋳工程、剥離工程にて金属部品を得た。この金属部品は微細形状部位を有し、微細形状部位の凹凸は、トンネル電子顕微鏡を用いて測定した結果、3nmの範囲内であることが確認された。
鋳型として超微細化工を施したニッケル箔を用意した。このニッケル箔を用いて、実施例3と同様の電鋳工程、剥離工程にて金属部品の製造を行った。
しかし、電鋳により形成したニッケル電鋳被膜は剥離することができず、金属部品を得ることはできなかった。
まず、型形成工程として、異方性エッチング等により超微細加工を施したシリコンウエハーを鋳型として準備し、このシリコンウエハーにTiをスパッタリング法により離型層として形成した。その後、実施例3と同様の電鋳工程、剥離工程にて金属部品の製造を行った。
しかし、電鋳により形成したニッケル電鋳被膜は剥離することができず、金属部品を得ることはできなかった。
まず、型形成工程として、超微細化工を施したニッケル箔を用意し、これを350℃、30分間加熱することによりニッケル酸化物の離型層を形成した。その後、実施例3と同様の電鋳工程、剥離工程にて金属部品の製造を行った。
しかし、この金属部品の微細形状部位の先端精度をFE−SEMを用いて測定した結果、先端精度は100nm以上であり、微細形状の再現性が悪いことが確認された。
Claims (6)
- 鋳型の成形面上に金属材を電鋳させることにより金属部品を製造する方法において、
鋳型の成形面上に離型剤としてアミノ系シランカップリング剤を用いて離型剤膜を成膜し、該離型剤膜に無電解めっき用触媒を付与し、無電解めっきにより電鋳用通電膜を成膜する型形成工程と、
該電鋳用通電膜に通電することにより電鋳用通電膜上に金属材を析出させる電鋳工程と、
金属材を鋳型から剥離して金属部品とする剥離工程と、を有することを特徴とする金属部品の製造方法。 - 前記離型剤膜の成膜は、含有濃度が0.1〜100g/Lの範囲である離型剤水溶液を使用することを特徴とする請求項1に記載の金属部品の製造方法。
- 前記鋳型はナノメートルオーダーの微細形状部位を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の金属部品の製造方法。
- 前記アミノ系シランカップリング剤は、下記の一般式(1)で表されるものであることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の金属部品の製造方法。
NH2−R1−Si−(O−R2)3 … 一般式(1)
(ただし、R1は炭素数2〜3のアルキル基、R2は炭素数1〜2のアルキル基) - 前記アミノ系シランカップリング剤は、γ−アミノプロピルトリエトキシシランであることを特徴とする請求項4に記載の金属部品の製造方法。
- 前記鋳型の材質は、金属、ガラス、無機酸化物、有機樹脂のいずれかであることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の金属部品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
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JP2005120392A true JP2005120392A (ja) | 2005-05-12 |
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---|---|---|---|---|
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CN105051259A (zh) * | 2013-03-28 | 2015-11-11 | 富士胶片株式会社 | 金属零件的制造方法及用于其的铸模及离型膜 |
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