JP2005119112A - スクリーン印刷用メタルマスク - Google Patents

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良弘 小林
Nobuyuki Ushifusa
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Abstract

【課題】印刷層が交差する部分において印刷膜厚が大きくなるのを解消して、交差部と直線太で印刷膜厚を均一化できるスクリーン印刷用メタルマスクを提供する。
【解決手段】マスクパターンが、互いに交差する溝部2と、溝部2で囲まれるランド部1とを含んで構成してあるメタルマスクである。溝部2どうしが交差する交差部5には、印刷量を抑制するための調整枠6がランド部1と一体に形成されている。調整枠6は、交差部5に臨む各ランド部1から突設されていて、交差部5の中央で交差する複数の調整腕7で構成されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、LSI実装用基板に形成される微細なプリント配線や、フラットパネルディスプレイの発光素子などをスクリーン印刷法で形成する際に用いられるメタルマスク、なかでも電鋳法によって形成されるメタルマスクに関する。
この種のスクリーン印刷用メタルマスクには、金属薄板にレーザー加工でマスクパターンを形成する加工法と、電鋳加工法によってマスクパターンを形成する加工法とが知られている。後者のメタルマスクは、例えば特許文献1に見ることができ、そこではメタルマスクの片面を金属メッシュで強化している。
特開平6−130676号公報
スクリーン印刷を行う場合には、印刷対象の表面にメタルマスクを載置し、メタルマスクの表面一側に乗せた、例えば、はんだペーストや導電性インキ、フラットパネルディスプレイやカラー液晶ディスプレイの発光素子等のペースト状の印刷物をスキージで移動させながら印刷対象側へ押し出して、マスクパターンに合致した印刷層を形成するが、必要とする印刷パターンが微細になるほど、印刷層を適正に形成することが困難となり印刷不良を生じやすい。印刷不良のひとつに印刷層の膜厚のばらつきがある。例えば、直線状の印刷パターンが互いに交差する部分では、交差部の印刷膜厚が直線部分の印刷膜厚より大きくなるうえ、印刷膜厚がばらつきやすい。とくに、格子状の印刷パターンが規則的に連続するような場合には、全ての交差部において印刷膜厚が標準値を越えて大きくなる。こうした印刷膜厚のばらつきは、例えば印刷層がフラットパネルディスプレイやカラー液晶ディスプレイの発光素子である場合には、輝度むらの原因になる。
本発明の目的は、印刷層が交差する部分において印刷膜厚が他より大きくなるのを解消して、印刷パターンの印刷膜厚を均一化できるスクリーン印刷用メタルマスクを提供することにある。
本発明は、マスク面に微細なマスクパターンを電鋳法で形成してあるスクリーン印刷用のメタルマスクにおいて、マスクパターンが、互いに交差する溝部2と、溝部2で囲まれるランド部1とを含んで構成されており、溝部2どうしが交差する交差部5に、印刷量を抑制する調整枠6がランド部1と一体に形成されていることを特徴とする(請求項1)。
調整枠6は、交差部5に臨む各ランド部1から突設されていて、交差部5の中央で交差する複数の調整腕7で構成することができる(請求項2)。
マスクパターンは、1次電着層13と、1次電着層13の片面に形成される2次電着層18とで構成される場合には、調整枠6を1次電着層13の形成過程で形成することができる(請求項3)。
本発明では、マスクパターンが互いに交差する溝部2と、溝部2で囲まれるランド部1とを含んで構成されているメタルマスクにおいて、溝部2どうしが交差する交差部5に印刷量を抑制する調整枠6を設けて、スクリーン印刷時に交差部5に余分な印刷が充填されるのを阻止できるようにしたので、従来のこの種のメタルマスクにおいて避けられなかった、交差部5における印刷膜厚の過剰現象を解消して、交差部5と溝部2とにおける印刷膜厚を均一化できる。これにより、例えばカラー有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの画素分離用バンクを、本発明のメタルマスクを用いてスクリーン印刷法で印刷形成する場合には、画素分離用バンクの交差部5の厚みを低減でき、均一の高さに形成可能であると共に、カラー有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの発光素子であるホール輸送層、発光層(R、G、B)等を、本発明のメタルマスクを用いてスクリーン印刷法で印刷形成する場合には、ホール輸送層、発光層(R、G、B)等の厚みを均一化することが可能であり、局部的な輝度むらを解消することができる(請求項1)。
交差部5に臨む各ランド部1から突設されて、交差部5の中央で交差する複数の調整腕7で調整枠6が構成されていると、交差部5の開口面を調整腕7で均等に区分できるので、交差部5に充填される印刷量が局部的にばらつくのをよく防止でき、より高度の印刷精度で印刷層を形成できる(請求項2)。
マスクパターンが、1次電着層13と2次電着層18とで構成される場合に、調整枠6を1次電着層13の形成過程で形成するようにしたメタルマスクによれば、1次電着層13の厚み寸法を調整することにより、調整枠6の厚みを微妙に調整して、調整枠6による印刷物の抑制量を変更でき、印刷物の性状や特性に合わせて調整枠6の厚みを変更できる利点がある(請求項3)。
図1ないし図4は本発明に係るスクリーン印刷用メタルマスクの実施例を示す。この実施例のメタルマスクは、カラー液晶ディスプレイの発光素子をスクリーン印刷法で印刷形成するために用いる。図1においてメタルマスクは、横長長方形状のランド部1と、ランド部1の周囲を囲む縦横の溝部2とで、格子状のマスクパターンが前後左右に規則的に連続する状態で形成されている。隣接するランド部1の長辺どうしは、2個の保形腕3で橋絡されている。印刷時には、ペースト状の印刷物が溝部2を介して印刷対象に押し出されて、マスクパターンに合致した印刷層が形成される。
上記のようなメタルマスクにおいては、溝部2どうしが互いに交差する交差部5における印刷膜厚が、直線状の溝部2の印刷膜厚より大きくなる傾向がある。こうした印刷むらを解消するために、本発明では交差部5に印刷量を抑制する調整枠6を設けて、交差部5における印刷膜厚を適正化する。調整枠6は、交差部5に臨む各ランド部1のコーナーから対向するコーナーへ向かって突設されて、交差部5の中央でX字状に交差する一組の調整腕7で構成する。図3に示すように、調整枠6はメタルマスクのスキージ面側に限って形成してあり、以下に説明するマスクパターンの形成過程で形成される。
メタルマスクは図4(a)〜(d)に示す1次電鋳工程と、図5(a)〜(d)に示す2次電鋳工程とを経て形成される。1次電鋳工程においては、図4(a)に示すように片面に金属蒸着膜が形成してあるガラス基板(あるいは導電性のステンレス製の基板)10の片面にフォトレジスト11をコーティングし、その表面にパターンフィルム12を密着載置して露光したのち、図4(b)に示すようにフォトレジスト11を現像し硬化させて不用部分を除去する。次に、ガラス基板10を電着槽に浸漬し、常法に従って1次電着層13を形成する(図4(c)参照)。この後、フォトレジスト11を除去して、1次電着層13のみが形成されたガラス基板10を得る(図4(d)参照)。この時点でランド部1、保形腕3、および調整枠6の三者が、1次電着層13として形成される。
2次電鋳工程では、図5(a)に示すように1次電着層13の間の空所に液状のフォトレジスト15を充填し、さらにその外面にフィルム状のフォトレジスト16を重ねたうえで、パターンフィルム17を密着載置して露光したのち、図5(b)に示すようにフォトレジスト15・16を現像し硬化させて不用部分を除去する。次に、ガラス基板10を電着層に浸漬し、常法に従って2次電着層18を形成する(図5(c)参照)。この後、フォトレジスト15・16を除去する(図5(d)参照)。2次電着層18によって、ランド部1および溝部2の外形がそれぞれ確定される。最後に、電鋳品をガラス基板10から剥離することにより、目的のメタルマスクを得る。なお、両電着層13・18の合計膜厚寸法が10〜50μmであるとき、1次電着層13の膜厚寸法は2〜15μmとした。
従来は1次電着層13の外面側に2次電着層18を形成しており、両電着層13・18の隣接部分が階段状になっていたが、上記の製造工程に従ってメタルマスクを形成すると、1次電着層13の溝部2に臨む周側面が2次電着層18で覆われるので、両電着層13・18の隣接部分が階段状になるのを解消して、ランド部1の平坦な周側面で溝部2を区画できる。メタルマスクは1次電着層13の側をスキージ面にして、つまり調整枠6がスキージ面側に位置する状態で使用する。
以上のように、交差部5に調整枠6を設けたメタルマスクを用いてスクリーン印刷を行うと、印刷インキが交差部5に入り込むのを調整枠6で規制できるので、交差部5における印刷膜厚を、溝部2における印刷膜厚と同じにできる。従って、溝部2に形成される発光素子と、交差部5に形成される発光素子の輝度むらを解消できる。
図6(a)・(b)はそれぞれ交差部5が非十文字である場合の調整枠6の変形例を示す。図6(a)では、溝部2が120度の間隔を挟んで三又状に交差しており、各ランド部1のコーナーから交差中心へ向かって突設した3個の調整腕7で、調整枠6をY字状に形成した。各調整腕7が挟む角度は120度である。
図6(b)では、縦方向の溝部2と横方向の溝部2とが逆T字状に交差しており、各ランド部1のコーナーから交差中心へ向かって突設した2個の調整腕7と、ランド部1の辺部から交差中心へ向かって突設した1個の調整腕7とで、調整枠6をY字状に形成した。
上記以外に、ランド部1が円形あるいは長円形に形成されていて、交差部5がランド部1の円弧周面で囲まれる場合には、図6(a)で説明した調整枠6と同様に、各ランド部1の円弧周面から交差中心へ向かって突設した3個の調整腕7で、調整枠6をY字状に形成することができる。その場合の調整腕7の外縁形状は部分円弧であってもよい。交差部5は、4以上の溝部2が交差する交差パターンであってもよい。必要があれば、調整枠6の交差中心部分に円形、多角形、あるいはリング状等に形成された補助調整部を付加することができる。メタルマスクは1次電着層13のみで形成してもよい。
スクリーン印刷用メタルマスクの斜視図である。 メタルマスクの交差部の平面図である。 図2におけるA−A線断面図である。 メタルマスクの前段製造過程を示す説明図である。 メタルマスクの後段製造過程を示す説明図である。 調整枠の別実施例を示す平面図である。
符号の説明
1 ランド部
2 溝部
5 交差部
6 調整枠
7 調整腕

Claims (3)

  1. マスク面に微細なマスクパターンを電鋳法で形成してあるスクリーン印刷用のメタルマスクであって、
    マスクパターンが、互いに交差する溝部と、溝部で囲まれるランド部を含んで構成されており、
    溝部どうしが交差する交差部に、印刷量を抑制する調整枠がランド部と一体に形成されていることを特徴とするスクリーン印刷用メタルマスク。
  2. 調整枠が、交差部に臨む各ランド部から突設されていて、交差部の中央で交差する複数の調整腕で構成されている請求項1記載のスクリーン印刷用メタルマスク。
  3. マスクパターンが、1次電着層と、1次電着層の片面に形成される2次電着層とで構成されており、
    調整枠が、1次電着層の形成過程で形成されている請求項1または2記載のスクリーン印刷用メタルマスク。
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