JP2005117977A - 食酢の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 磁場を利用し、工程を複雑にすることなく、熟成期間の短縮を図り、刺激臭や酸味等を低減させて品質の向上を図る。
【解決手段】 食酢の製造工程において、酢酸発酵の終了した原料にパルス磁場を印加して食酢を製造する。そして、印加するパルス磁場の磁場強度Vを、0.01T(テスラ)≦V≦10T(テスラ)、望ましくは、0.1T(テスラ)≦V≦1T(テスラ)、例えば、V=0.5T(テスラ)とした。また、パルス磁場のパルス周波数Nを、1Hz≦N≦100Hz、望ましくは、5Hz≦N≦60Hz、例えば、N=20Hzに設定した。更に、原料の温度tを、凍結温度以上で、t≦40℃、望ましくは、4℃≦t≦30℃、例えば、t=25℃に設定した。そして、原料を所定時間、例えば10分保持した。
【選択図】 図1

Description

本発明は、食酢の製造方法に係り、特に、熟成期間をできるだけ短縮できるようにした食酢の製造方法に関する。
一般に、食酢の製造方法としては種々の方法が知られているが、いずれの製造方法にしても発酵が終了したばかりの食酢は、刺激臭や酸味が強く好ましくないことから、1〜3カ月の熟成期間をおき、刺激臭や酸味を和らげまろやかさを与えている。
ところで、食酢の製造には時間がかかり過ぎるという問題があり、従来から、食酢の製造時間を短縮する技術の開発が行なわれている。
従来、この種の食酢の製造方法として、例えば、特許文献1(特開平6−22741号公報)に記載の技術が知られている。この製造方法は、食酢醪に、酢酸耐性を有する酵母及び酢酸菌を接種し、好気的培養条件下で酢酸発酵を行ない、食酢を得る方法であり、熟成期間をほとんど必要としないかあるいは短期間の熟成で、刺激臭や酸味を感じさせないまろやかでコク味のある食酢を製造するようにしている。
特開平6−22741号公報
しかしながら、上記の従来の食酢の製造方法においては、食酢醪に、酢酸耐性を有する酵母及び酢酸菌を接種し、好気的培養条件下で酢酸発酵を行なっているので、特別な酵母等の菌を用意しなければならないことになり、それだけ、工程が複雑で煩雑になっており、それだけ製造効率が悪いという問題があった。
ところで、近年においては、食品に磁場を付与することにより、品質の改良を図ることが提案されている。しかしながら、食酢についてはこのような磁場の適用例はなく、また微生物が介在するので、それだけ、調整が難しく、単に食酢の技術に適用できないという問題がある。
本発明は上記の問題点に鑑みて為されたもので、磁場を利用し、工程を複雑にすることなく、熟成期間の短縮を図り、刺激臭や酸味等を低減させて品質の向上を図った食酢の製造方法を提供することを目的とする。
このような目的を達成するための本発明の技術的手段は、食酢の製造過程において、原料にパルス磁場を印加して食酢を製造する構成とした。
また、食酢の製造工程において、酢酸発酵の終了した原料にパルス磁場を印加して食酢を製造する構成とした。本発明において、酢酸発酵の終了した原料とは、酢酸発酵後、発酵液を遠心分離し、必要により除菌等の操作を行なって得られた原料を言う。
これにより、食酢の製造過程において、原料にパルス磁場を印加するだけなので、工程が複雑になることがなく、また、パルス磁場の印加により、熟成期間が少なくても、刺激臭や酸味等が低減させられ、品質の向上が図られる。
パルス磁場の印加により、熟成期間が少なくても刺激臭や酸味等が低減させられる理由は以下のように考えられる。
食酢は酢酸菌によるアルコールの酢酸への代謝変換によって作られ、同時に複雑な香気成分の発生があり、これら代謝成分の合成とその香味特性は発酵菌の特性と発酵条件によって大きく変化する。一方基質であるアルコールが消費され酢酸発酵が終了しても、残存する菌体又は酵素によって貯蔵中に香味は変化する。発酵された酢を加熱により殺菌した後でも貯蔵により構成成分の水との相互作用、又はその他の成分間相互作用が起き、いわゆる熟成効果がある。酢の無菌化は加熱だけでなく、膜処理によっても成される。菌体と酵素の分離には適切な排除分離量の膜を選択する必要がある。膜処理によって処理された酢でも熟成条件によっては香味が変化する。
熟成は、主要成分である酢酸が、水も含めた副成分との相互作用を起こすことで、その酸度の感じ方を変化させる。一般に熟成時間が長ければ、香味はマイルドになり、酸味の感じ方も弱まる。酢酸の濃度は変化しないが、酢酸の活動度は変化しており、気相のモル分率の変化を経て官能的強度が変化する。熟成エネルギーは非常に弱く、分子間の相互作用を補助する力である。一般食品の場合、高分子成分が多いため、水を含めた低分子成分は高分子に配向している。しかし酢の場合、高分子成分が非常にわずかであり、水分子、酢酸分子の配向性は弱く、そのため、上記のパルス磁場の印加により、熟成途中で起きる分子自由運動が促され、刺激臭や酸味等が低減され、酢熟成効果が生じると考えられる。
そして、必要に応じ、印加するパルス磁場の磁場強度Vを、0.01T(テスラ)≦V≦10T(テスラ)、望ましくは、印加するパルス磁場の磁場強度Vを、0.1T(テスラ)≦V≦1T(テスラ)とした構成とした。これにより、より熟成効果が向上させられる。
磁場強度Vが0.01T(テスラ)に満たないと、エネルギーが弱すぎるために期待する効果が得られない。
一方、10T(テスラ)を超えると、工業化装置の技術的、経済的デメリットが大きくなるという不具合を生じる。即ち、装置のスケールアップの費用が掛かりすぎ、食品工業へ導入するメリットが消失してしまう。
また、必要に応じ、上記パルス磁場のパルス周波数Nを、1Hz≦N≦100Hz、望ましくは、上記パルス磁場のパルス周波数Nを、5Hz≦N≦60Hzとした構成とした。これにより、より熟成効果が向上させられる。
パルス周波数Nが1Hzに満たないと、短時間で十分な変動磁場効果を発揮できないために、期待する効果が得られない。
一方、100Hzを超えると、工業規模のパルス発生装置の実現が困難になる。
そして、必要に応じ、上記パルス磁場を印加する際、原料の温度tを、凍結温度以上で、t≦40℃、望ましくは、上記温度tを、4℃≦t≦30℃とした構成とした。
温度が凍結温度未満であると、凍結を起こし液が流動しないために期待する効果が得られない。
一方、40℃を超えると、酢の酸化が起き易くなり品質上劣化するという不都合がある。
本発明の食酢の製造方法によれば、食酢の製造過程において、原料にパルス磁場を印加するので、工程が複雑になることがなく、また、このパルス磁場の印加により、熟成期間が少なくても、刺激臭や酸味を低減させて、品質の向上を図ることができる。
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施の形態に係る食酢の製造方法について詳細に説明する。
本発明の実施の形態に係る食酢の製造方法は、図1に示す処理装置を用いて実施される。
処理装置Sは、酢酸発酵の終了した原料が密封されて入れられる容器1を恒温槽2に収納した電磁石コイル3内に配置し、電磁石コイル3に電圧をかけてパルス磁場を電磁石コイル3内に形成し、原料にパルス磁場を印加させるよう構成されている。4は電源、5はパルスジェネレータである。
印加するパルス磁場の磁場強度Vを、0.01T(テスラ)≦V≦10T(テスラ)、望ましくは、0.1T(テスラ)≦V≦1T(テスラ)、例えば、V=0.5T(テスラ)とした。
また、パルス磁場のパルス周波数Nを、1Hz≦N≦100Hz、望ましくは、5Hz≦N≦60Hz、例えば、N=20Hzに設定した。
更に、恒温槽2を調整して、原料の温度tを、凍結温度以上で、t≦40℃、望ましくは、4℃≦t≦30℃、例えば、t=25℃に設定した。
そして、原料を所定時間(例えば10分)保持した。
これにより、食酢を製造した。この食酢は、パルス磁場の印加により、熟成期間が少なくても、刺激臭や酸味等が低減させられ、品質の向上が図られる。
実験例
以下に実験例を示す。
(実験例1)
1−1.食酢の製造
1−1−1.原料の調整
図2に示すような発酵母液を用い、酸度9±1%に発酵させ、発酵後加熱により菌、酵素の失活をし、その後セラミックUF膜で除菌処理し原料液とした。
1−1−2.磁場印加処理
「DIA MEDICAL SYSTEM Co.」のパルス磁場印加装置を用いた。その構成は電圧安定装置(DPS−52020P)、パルス発生装置(DPS−5020)、パルス制御装置(DPS−1100D)からなり、放出したパルス高電流を磁場発生コイルに導入した。磁場コイルは内径24mm、長さ100mmである。コイルによる発熱エネルギーを吸収する冷却水コイルを巻いた。更にコイルは25℃に保持した水槽(恒温槽)中に挿入し温度変化を抑制した。このコイル中心部での磁場をTESLA Meter(DIA MEDICAL SYSTEM Co.)で測定し、印加電圧を決定し設定した。更に印加周波数(Hz)と印加時間を設定し、各印加条件とした。コイル冷却水には水道水を用いた。放出電流波形はオシロスコープでモニターし、最大電流到達時間も測定した。処理試料30mlを容器としてのスクリューキャップ付き試験管(外径23mm)に入れた。液高さは85mmであり、コイル内部にすっぽりと入る状態で印加処理を施した。
印加強度を、0.5Tとし、パルス周波数を、10Hz,20Hz、保持時間が10minとし、各パルス周波数の場合の食酢を得た。
また、印加試料はコイル中に設置し、そのコントロール(磁場を付与しないもの)をコイルから100mm離れた同じ水槽中に設置し0T区として処理した。0Tとして設置したが、測定した結果、一部の場所で0.001Tではあるが微量の磁場が観察された。
1−2.評価試験
1−2−1.官能評価
酢の官能評価は特別訓練された酢評価者5名で行なった。温度コントロールされた官能評価室にて処理酢そのもので行なった。パネラーは2個1組を提示され、二つのうち一方を基準として−4〜+4の点数を付ける。点数を元にシェッフェの1対比較中屋変法によりデータ処理しコントロールとの差を尺度で表した。
結果を図3に示す。
その結果、α=0.05%で磁場処理された酢の香りと味が有意に差別化された。官能的に表現すると、その差は、香りはツーンとなる刺激臭が抑えられ、味にも深みが出たという結果であった。
1−2−2.味覚センサーによる評価
Anritsu SA401味認識装置にてパルス磁場処理食酢の評価を行なった。この味認識装置は、図4に示すように、味物質に感応する人工脂質膜10が張られるとともに電解質液11が密封され電極12を有したセンサ13を、寒天ゲル14で封をし内部に電解質液15が密封され電極16を有したセンサプローブ17とともに、味物質を含む溶液L(試験例では食酢)内に入れて、膜電位差を電極を介して検知するものである。
そして、上記の食酢の内、「0.5T,20Hz,磁場10min付与の食酢」と、「0.5T,20Hz,磁場20min付与の食酢」について、コントロール(磁場処理を行なっていない食酢)とともに、5種の人工脂質膜について、膜電位差を測定した。図5には、使用した人工脂質膜及びその官能特性を示す。
結果を図6に示す。
この結果から、パルス磁場処理にセンサー17035が強く反応した。このセンサーは2−Nitrophenyl octyl etherとphosphoric acid di−n−decyl esterから構成され、苦味の抑制効果を検知可能なものである。酢の場合、官能指標では「苦味」がないため、センサー17035が苦味を表しているという解釈ではなく、そのセンサーが変化するほど大きな分子相互作用が発生したと解釈できる。
(実験例2)
2−1.食酢の製造
2−1−1.原料の調整
図2に示す発酵母液を用い、酸度9±1%に発酵させ、発酵後加熱により菌、酵素の失活をし、その後セラミックUF膜で除菌処理し原料液とした。
2−1−2.磁場印加処理
「DIA MEDICAL SYSTEM Co.」のパルス磁場印加装置を用いた。その構成は電圧安定装置(DPS−52020P)、パルス発生装置(DPS−5020)、パルス制御装置(DPS−1100D)からなり、放出したパルス高電流を磁場発生コイルに導入した。磁場コイルは内径24mm、長さ100mmである。コイルによる発熱エネルギーを吸収する冷却水コイルを巻いた。更にコイルは25℃に保持した水槽(恒温槽)中に挿入し温度変化を抑制した。このコイル中心部での磁場をTESLA Meter(DIA MEDICAL SYSTEM Co.)で測定し、印加電圧を決定し設定した。更に印加周波数(Hz)と印加時間を設定し、各印加条件とした。コイル冷却水には水道水を用いた。放出電流波形はオシロスコープでモニターし、最大電流到達時間も測定した。処理試料30mlを容器としてのスクリューキャップ付き試験管(外径23mm)に入れた。液高さは85mmであり、コイル内部にすっぽりと入る状態で印加処理を施した。
印加強度V、パルス周波数Nとして、図7に示す磁場印加強度及びパルス周波数の組み合わせにおいて、食酢を製造した。磁場の印加時間は10minとした。
2−2.官能評価
酢の官能評価は特別訓練された酢評価者5名で行なった。上記の食酢と、コントロール(磁場処理していない食酢)とを比較して評価した。評価結果を図7に示す。
この結果から、特に酸味において、熟成効果が認められた。
本発明の実施の形態に係る食酢の製造方法に用いられる磁場を印加する処理装置の一例を示す図である。 本発明の実験例に係り、原料の発酵母液の成分を示す表図である。 本発明の実験例1に係り、食味試験の結果を示す表図である。 味認識装置の原理を説明する図である。 本発明の実験例1に係り、味認識装置で用いる人工脂質膜及びその官能特性の一例を示す表図である。 本発明の実験例1に係り、味認識装置での測定結果を示すグラフ図である。 本発明の実験例2に係り、食味試験の結果を示す表図である。
符号の説明
S 処理装置
1 容器
2 恒温槽
3 電磁石コイル
4 電源
5 パルスジェネレータ

Claims (8)

  1. 食酢の製造過程において、原料にパルス磁場を印加して食酢を製造することを特徴とする食酢の製造方法。
  2. 食酢の製造過程において、酢酸発酵の終了した原料にパルス磁場を印加して食酢を製造することを特徴とする食酢の製造方法。
  3. 印加するパルス磁場の磁場強度Vを、0.01T(テスラ)≦V≦10T(テスラ)としたことを特徴とする請求項1または2記載の食酢の製造方法。
  4. 印加するパルス磁場の磁場強度Vを、0.1T(テスラ)≦V≦1T(テスラ)としたことを特徴とする請求項3記載の食酢の製造方法。
  5. 上記パルス磁場のパルス周波数Nを、1Hz≦N≦100Hzとしたことを特徴とする請求項1,2,3または4記載の食酢の製造方法。
  6. 上記パルス磁場のパルス周波数Nを、5Hz≦N≦60Hzとしたことを特徴とする請求項5記載の食酢の製造方法。
  7. 上記パルス磁場を印加する際、原料の温度tを、凍結温度以上で、t≦40℃としたことを特徴とする請求項1,2,3,4,5または6記載の食酢の製造方法。
  8. 上記温度tを、4℃≦t≦30℃としたことを特徴とする請求項7記載の食酢の製造方法。
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