JP2005113267A - 表面構造が改良されたスパッタターゲット及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】スパッタの再蒸着の影響は、スパッタターゲット1の非スパッタ領域3,4に巨視的な凹凸を形成することにより軽減される。この巨視的な凹凸の形成は、非スパッタ領域3,4に巨視的なトラフパターンを形成することによる。この巨視的な凹凸の形成に加え、ショット、ビード又はグリットのブラスチング法によりこのトラフパターンに微視的な凹凸を付加する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、スパッタターゲットの表面構造を変更し、スパッタの再蒸着に関連する影響を最小化するものである。スパッタターゲットには、スパッタリングが実施される例に応じた多様な材料を採用することができる。当業者であれば理解し得るように、以下に説明する具体的な形態は、スパッタターゲットの材料に依存するものではなく、スパッタターゲット全般に適用可能なものである。このため、以下の説明では、特定のターゲット材について言及していない。
本発明の他の実施形態では、トラフパターンにより形成される巨視的な凹凸に加え、非スパッタ領域3,4に微視的な凹凸が形成される。この微視的な凹凸(図示せず。)は、典型的には、ショット、ビード又はグリットのブラスチング法を採用して、非スパッタ領域3,4に形成されたトラフパターンに僅かな大きさの表面粗さを付加することにより形成される。この方法によれば、非スパッタ領域3,4の表面積が増大するとともに、この領域3,4の付着性が改善される。
Claims (20)
- スパッタ領域と、
巨視的なトラフパターンが形成された非スパッタ領域と、が設けられたスパッタターゲット。 - 複数の非スパッタ領域が設けられ、
各非スパッタ領域に、巨視的なトラフパターンが形成された請求項1に記載のスパッタターゲット。 - 前記複数の非スパッタ領域のうち1つが、スパッタターゲットの中央部に設けられた請求項2に記載のスパッタターゲット。
- 前記複数の非スパッタ領域のうち他の1つが、スパッタターゲットの外周部に設けられた請求項2に記載のスパッタターゲット。
- 前記巨視的なトラフパターンが、一群の同心形状を形成する複数のトラフを含んで構成される請求項1に記載のスパッタターゲット。
- 前記巨視的なトラフパターンが、螺旋パターンを形成するトラフを含んで構成される請求項1に記載のスパッタターゲット。
- 前記非スパッタ領域が、スパッタターゲットの表面に段を付けて設けられた請求項1に記載のスパッタターゲット。
- 前記巨視的なトラフパターンが、方形トラフパターンである請求項1に記載のスパッタターゲット。
- 前記巨視的なトラフパターンが、角形トラフパターンである請求項1に記載のスパッタターゲット。
- 前記非スパッタ領域に、微視的な凹凸が形成された請求項1に記載のスパッタターゲット。
- 非スパッタ領域において、巨視的なトラフパターンをエッチングする工程を含んで構成されるスパッタターゲットの製造方法。
- 複数の非スパッタ領域において、巨視的なトラフパターンをエッチングする工程を含んで構成される請求項11に記載のスパッタターゲットの製造方法。
- 前記巨視的なトラフパターンを、一群の同心形状を形成する複数のトラフを含んで構成する請求項11に記載のスパッタターゲットの製造方法。
- 前記巨視的なトラフパターンを、螺旋パターンを形成するトラフを含んで構成する請求項11に記載のスパッタターゲットの製造方法。
- 前記巨視的なトラフパターンを、方形トラフパターンとする請求項11に記載のスパッタターゲットの製造方法。
- 前記巨視的なトラフパターンを、角形トラフパターンとする請求項11に記載のスパッタターゲットの製造方法。
- 前記巨視的なトラフパターンを、機械加工を採用して前記非スパッタ領域に刻み込む請求項11に記載のスパッタターゲットの製造方法。
- 前記巨視的なトラフパターンを、レーザ除去法を採用して前記非スパッタ領域に刻み込む請求項11に記載のスパッタターゲットの製造方法。
- 前記非スパッタ領域の巨視的なトラフパターンに、微視的な粒子によりブラスチングする工程を更に含んで構成される請求項11に記載のスパッタターゲットの製造方法。
- スパッタターゲットの表面において、前記非スパッタ領域を掘り下げる工程を更に含んで構成される請求項11に記載のスパッタターゲットの製造方法。
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