JP2005109202A - 半導体集積装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体基板10上に半導体素子が形成され、半導体基板10の表面上に形成された絶縁膜12と、半導体素子へ外部から電力を供給するために絶縁膜12の表面上に設けられた導電性の電源配線14及び接地配線16とを含み、電源配線14及び接地配線16の少なくとも1つが2本以上に分割され、電源配線14及び接地配線16の少なくとも一部が交互に配列されてなる半導体集積装置により上記課題を解決することができる。
【選択図】図2
Description
本発明の第1の実施の形態における半導体集積装置100は、図1の装置平面図に示すように、集積回路部102、電源配線部104及び入出力セル部106の各領域を含んで構成される。
上記第1の実施の形態では、半導体集積装置100には単一の配線層として電源配線14及び接地配線16が設けられていた。第2の実施の形態における半導体集積装置の電源配線部は、図7の断面図に示すように、半導体基板10の表面上を覆う絶縁膜12aと、その絶縁膜12の表面上に設けられた第1層目の電源配線14a及び接地配線16aと、絶縁膜12a,電源配線14a及び接地配線16a上に設けられた層間絶縁膜12bと、層間絶縁膜12b上に設けられた電源配線14b及び接地配線16bとを含んで構成される。
Claims (7)
- 半導体基板上に半導体素子が形成されてなる集積回路部を有する半導体集積装置であって、
前記半導体基板の表面上に形成された絶縁膜と、
前記集積回路部へ外部から電力を供給するために前記集積回路部の周囲の前記絶縁膜上に設けられた導電性の電源配線及び接地配線と、を含み、
前記電源配線及び前記接地配線の少なくとも1つが2本以上に分割され、前記電源配線及び前記接地配線の少なくとも一部が交互に配列されてなることを特徴とする半導体集積装置。 - 請求項1に記載の半導体集積装置において、
前記電源配線及び前記接地配線と前記半導体基板との間に生ずる配線基板間容量Cgと、前記電源配線と前記接地配線との間に生ずる配線間カップリング容量Ccと、が第1の関係Cc>Cgを満たすことを特徴とする半導体集積装置。 - 請求項1又は2に記載の半導体集積装置において、
前記電源配線及び前記接地配線の少なくとも一部の対象箇所における配線間距離S1と、当該対象箇所が設けられた前記絶縁膜の膜厚H1と、が第2の関係H1>S1を満たすことを特徴とする半導体集積装置。 - 請求項1〜3のいずれか1つに記載の半導体集積装置において、
前記絶縁膜上、前記電源配線上及び前記接地配線上に設けられた層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上に設けられた第2層目以上の導電性の電源配線及び接地配線と、を含む多層配線の構造を有し、
前記第2層目以上の電源配線と前記第2層目以上の接地配線の少なくとも一部の対象箇所における配線間距離S2と、当該対象箇所が設けられた前記層間絶縁膜の膜厚H2と、が第3の関係H2>S2を満たすことを特徴とする半導体集積装置。 - 請求項3又は4に記載の半導体集積装置において、
半導体集積回路における配線の幅Wと膜厚Tとが第4の関係T>Wを満たすことを特徴とする半導体集積装置。 - 請求項4に記載の半導体集積装置において、
多層配線の少なくとも1つの異なる層間において電源配線と接地配線とが交互に積層されてなることを特徴とする半導体集積装置。 - 請求項1〜6のいずれか1つに記載の半導体集積装置において、
電源配線及び接地配線の幅を変化させて凹凸を持たせたことを特徴とする半導体集積装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2012509593A (ja) * | 2008-11-21 | 2012-04-19 | ザイリンクス インコーポレイテッド | 相互連結された横方向フィンを有する集積キャパシタ |
US10835779B2 (en) | 2016-11-11 | 2020-11-17 | Seiko Epson Corporation | Action information processing device and action information processing method |
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2003
- 2003-09-30 JP JP2003341580A patent/JP2005109202A/ja active Pending
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