JP2005108644A - 有機el素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】 光共振型有機EL素子において、製造プロセス中や発光中に生じる熱によるAg材料の拡散を極力防止して、駆動用TFTの特性の安定化を図る。
【解決手段】 本発明の光共振型有機EL素子は、ガラス基板10上において、駆動用TFT(不図示)と接続した拡散防止層AD(ITOもしくはIZOから成る)が形成され、その上に、光を半透過し得る所定の膜厚により半透過膜11(Ag合金層から成る)、透明アノード12(ITOもしくはIZOから成る電極)、有機EL層13(例えばホール輸送層、発光層、電子輸送層から成る)、光を反射し得る所定の膜厚で形成された反射膜兼カソード14(Ag合金層から成る)が、この順に形成されたものである。そして、上記拡散防止層ADが半透過膜11のAg材料の熱拡散を防止することを特徴とするものである。
【選択図】 図1
【解決手段】 本発明の光共振型有機EL素子は、ガラス基板10上において、駆動用TFT(不図示)と接続した拡散防止層AD(ITOもしくはIZOから成る)が形成され、その上に、光を半透過し得る所定の膜厚により半透過膜11(Ag合金層から成る)、透明アノード12(ITOもしくはIZOから成る電極)、有機EL層13(例えばホール輸送層、発光層、電子輸送層から成る)、光を反射し得る所定の膜厚で形成された反射膜兼カソード14(Ag合金層から成る)が、この順に形成されたものである。そして、上記拡散防止層ADが半透過膜11のAg材料の熱拡散を防止することを特徴とするものである。
【選択図】 図1
Description
本発明は、有機EL素子に関し、特に、光共振型の有機EL素子に関するものである。
従来より、発光する光の色純度や輝度を向上させた光共振型の有機エレクトロルミネッセンス(Electro Luminescence;以下、「EL」と略称する)素子が知られている。
光共振型有機EL素子は、有機EL層の上下を、有機EL層からの光を反射し得る電極である反射膜と、その光を発光面側に透過すると共に有機EL層側に反射し得る半透過膜とにより挟むことにより、有機EL層からの光の特定波長成分を共振させるものである。これにより、有機EL層から発光する光の特定の波長帯のみが抽出されて、ガラス基板側(もしくはカソード側)から放出されるため、放出される光の色純度(発色の良さ)や輝度が向上する。
次に、上記従来例に係る光共振型有機EL素子の基本的な構成について、図面を参照して説明する。図3は、従来例に係る有機EL素子の構造を示す概略断面図である。なお、図3は、ガラス基板上の駆動用TFT(薄膜トランジスタ)に接続したボトムエミッション型の有機EL素子を、簡略化して示したものである。
図3に示すように、ガラス基板30上において、Ag(銀)合金層から成る半透過膜31が形成されている。ここで、図示しないが、半透過膜31は、ガラス基板30上に形成された駆動用TFT(不図示)のドレイン電極(もしくはソース電極)に接続して形成されている。半透過膜31は、ガラス基板30側に光を透過すると共に、ガラス基板30とは反対側に光を反射し得るハーフミラーとしての機能を有している。
半透過膜31上には、例えばITO(Indium Tin Oxide;以下、「ITO」と略称する)から成る透明アノード32が形成されている。
透明アノード32上には、ホール輸送層、発光層、電子輸送層等から成る有機EL層33が形成されている。
有機EL層33上には、Ag合金層から成るカソード34が形成されている。カソード34は、有機EL層33から発する光を、有機EL層33側に反射する反射膜を兼ねるものである。
上記構成において、反射膜を兼ねるカソード34と半透過膜31との間の反射経路を、有機EL層33から発光した光が繰り返し反射することで、その光の特定波長成分の共振が行われる。所望の特定波長帯の光を得るためには、透明アノード32と有機EL層33のそれぞれを、所望の波長ごとに異なる所定の膜厚で形成して、半透過膜31と、反射膜を兼ねるカソード34との間の反射経路の距離を調節する。
なお、関連する技術文献としては、例えば、以下の特許文献1がある。
特開2003−123987号公報
しかしながら、従来例に係る光共振型の有機EL素子では、ガラス基板30に近い方のAg(銀)合金層、即ち半透過膜31を構成するAg材料が、熱的に不安定なため、素子の製造プロセス中や発光中に生じる熱によりAg材料が拡散するという問題が生じていた。これにより、上記有機EL素子がガラス基板30上で移動してしまい、有機EL素子の半透過膜31と接続された駆動用TFTの閾値が変化するなどの問題が生じていた。
そこで、本発明は、製造プロセス中や発光中に生じる熱によるAg材料の拡散、及び駆動用TFTの特性の変化を極力低減させることが可能な、光共振型有機EL素子を提供するものである。
本発明の光共振型有機EL素子は、上述の課題に鑑みて為されたものであり、薄膜トランジスタが形成されたガラス基板と、そのガラス基板上に形成された拡散防止層と、拡散防止層上に形成された第1のAg合金層と、第1のAg合金層上に形成された電極と、その電極上に形成された有機EL層と、有機EL層上に形成された第2のAg合金層と、を有し、上記拡散防止層ADが、第1のAg合金層のAg材料の熱拡散を防止することを特徴とするものである。
また、本発明の光共振型有機EL素子は、上記構成において、拡散防止層が、ITOもしくはIZOから成り、第1のAg合金層が、光を半透過し得る所定の膜厚を有した半透過膜であり、その上に形成される電極がITOもしくはIZOから成るアノードであり、有機EL層が、例えばホール輸送層、発光層、電子輸送層から成り、第2のAg合金層が、光を反射し得る所定の膜厚を有した反射膜兼カソードであることを特徴とするボトムエミッション型の有機EL素子である。
また、本発明の光共振型有機EL素子は、上記構成において、拡散防止層が、Ag材料の拡散を防止し得る金属材料から成り、第1のAg合金層が、光を反射し得る所定の膜厚を有した反射膜であり、その上に形成される電極がITOもしくはIZOから成るアノードであり、有機EL層が、例えばホール輸送層、発光層、電子輸送層から成り、第2のAg合金層が、光を半透過し得る所定の膜厚を有した半透過膜兼カソードであることを特徴とするトップエミッション型の有機EL素子である。
本発明の光共振型有機EL素子は、ガラス基板に近い方のAg合金層の下層に、拡散防止層を設けたことにより、上記Ag合金層を構成する銀材料が、製造プロセス中や発光中の熱によって拡散することを極力抑止できる。従って、ガラス基板上において上記熱が生じた場合においても、上記有機EL素子とコンタクトした駆動用TFTの特性の変化(例えばTFTの閾値のシフト)を低く抑えることができる。
また、TFTの特性が上記熱に対して安定するのに伴い、安定した輝度や色純度(発色の良さ)を有して発光可能な光共振型の有機EL素子を実現することができる。
次に、本発明を実施するための最良の形態に係る有機EL素子の構成について、図面を参照して説明する。図1は、本発明の実施形態に係る有機EL素子の基本的な構成を示す概略断面図である。なお、図1は、不図示の駆動用TFT(薄膜トランジスタ)に接続されるボトムエミッション型の有機EL素子を、簡略化して示したものである。
図1に示すように、ガラス基板10上に、拡散防止層ADが形成されている。拡散防止層ADは、ITOもしくはIZO(Indium Zinc Oxide;以下、「IZO」と略称する)から成る透明電極である。
ここで、図示しないが、拡散防止層ADは、ガラス基板10上に形成された駆動用TFT(不図示)のドレイン電極(もしくはソース電極)に電気的に接続して形成されている。
この拡散防止層AD上には、半透過膜11が形成されている。半透過膜11は、ガラス基板10側に光を透過すると共に、ガラス基板10とは反対側に光を反射し得るハーフミラーとしての機能を有している。この半透過膜11は、Ag(銀)合金層から成るものであり、このAg合金層は、例えばAg−Pd−Cu(銀、パラジウム、銅から成る合金)やAg−Nd−Cu(銀、ネオジウム、銅から成る合金)であることが好ましい。半透過膜11をAg合金層により形成することが好ましい理由としては、Ag合金は、光を半透過させ得る所定の膜厚に薄膜化し易く、光の反射率が他の金属に比して良好であることなどが挙げられる。
半透過膜11上には、不図示の電源電圧が接続された透明アノード12が形成されている。透明アノード12は、ITOもしくはIZOから成る透明な電極である。
透明アノード12上には、ホール輸送層13a、発光層13b、電子輸送層13c等から成る有機EL層13が形成されている。
ここで、ホール輸送層13a、発光層13b、電子輸送層13cは、例えば以下に示すような構成により形成されている。
即ち、ホール輸送層13aは、MTDATA(4,4−bis(3−methylphenylphenylamino)biphenyl)から成る第1ホール輸送層と、TPD(4,4,4−tris(3−methylphenylphenylamino)triphenylamine)から成る第2ホール輸送層により形成される。また、発光層13bは、キナクリドン(Quinacridone)誘導体を含むBebq2(10−ベンゾ〔h〕キノリノール−ベリリウム錯体)から成り、電子輸送層13cはBebq2により形成される。
そして、有機EL層13上には、不図示の電源電圧に接続されたカソード14が形成されている。また、カソード14は、有機EL層13から発する光を、有機EL層13側に反射する反射膜を兼ねるものである。
このカソード14は、半透過膜11と同様に、Ag(銀)合金層から成るものであり、例えばAg−Pd−Cu(銀、パラジウム、銅から成る合金)やAg−Nd−Cu(銀、ネオジウム、銅から成る合金)であることが好ましい。カソード14をAg合金層により形成することが好ましい理由としては、Ag合金は、他の金属に比して光の反射率が良好なため、反射膜として好適であることなどが挙げられる。
なお、上述した光共振型有機EL素子において、所望の特定波長帯の光を得るためには、透明アノード12の膜厚t1と、有機EL層13の膜厚t2を、所望の波長ごとに異なる所定の厚さで形成して、半透過膜11と、反射膜を兼ねるカソード14との間の反射経路の距離を調節すればよい。
次に、上述した本実施形態に係る光共振型有機EL素子が発光する過程について説明する。有機EL素子が接続された駆動用TFTがオンすると、有機EL層13は、透明アノード12及びカソード14を介して電源電圧から供給される電流により発光する。即ち、有機EL素子の内部では、透明アノード12から注入されたホールと、カソード14から注入された電子とが、有機層13の内部で再結合する。この再結合したホールと電子は、有機層13を形成する有機分子を励起して励起子を生じさせる。この励起子が放射失活する過程で有機層13から光が放たれる。
さらに、この光は、反射膜を兼ねるカソード14と半透過膜11との間の反射経路を繰り返し反射することにより、その特定波長成分が共振して特定波長帯の光となり、半透過膜11を通して、透明基板であるガラス基板10から放出される。
そして、有機EL素子の発光中に生じる熱により、半透過膜11を構成するAg材料が拡散され始めるが、半透過膜11の下層には拡散防止層ADが形成されているため、半透過膜11のAg材料の熱拡散が、有機EL素子と駆動用TFTとのコンタクト部に及ぶことなく、拡散防止層ADにおいて阻止される。これにより、Ag材料の熱拡散によって有機EL素子がガラス基板10上で移動することを極力抑止することができるため、駆動用TFTの特性の変化(例えば閾値のシフト)を低く抑えることが可能となる。
なお、拡散防止層ADは、有機EL素子の発光中の熱により生じるAg材料の熱拡散防止に有効であるばかりでなく、上記有機EL素子を、ガラス基板10上に形成する際、製造プロセス中の熱処理によって生じるAg材料の熱拡散を防止するのにも有効である。即ち、Ag合金層(ボトムエミッション型有機LE素子では半透過膜11)を形成する際、熱処理によって生じるAg材料の拡散を、拡散防止層により極力抑止できるため、駆動用TFTの特性の変化(例えば閾値のシフト)を低く抑えることが可能となる。
次に、本実施形態に係る光共振型有機EL素子が駆動用TFTと接続された場合の構成例について、図面を参照して詳しく説明する。図2は、本発明の実施形態に係る有機EL素子の詳細な構成を示す断面図である。なお、図2は、表示装置の画素部に設けられた駆動用TFT(薄膜トランジスタ)と、その駆動用TFTにコンタクトしたボトムエミッション型の有機EL素子を示したものである。
図2に示すように、例えばガラス材料から成る透明なガラス基板10上に、能動層20が形成されている。能動層20上には、ゲート絶縁膜21を介して、ゲート電極22形成されている。ゲート絶縁膜21上及びゲート電極22上には、絶縁膜23が形成されている。
また、ゲート絶縁膜21及び絶縁膜23において、能動層20のドレイン領域20dに対応する位置には、コンタクトホールC1が設けられ、そのコンタクトホールC1にドレイン電極24dが埋め込まれている。また、ゲート絶縁膜21及び絶縁膜23において、能動層20のソース領域20sに対応する位置には、コンタクトホールC2が設けられ、そのコンタクトホールC2にソース電極24sが埋め込まれている。
それらの絶縁膜23上、ドレイン電極24d、及びソース電極24s上には、層間絶縁膜25が形成されている。
層間絶縁膜25上において、ドレイン電極24dに対応する位置には、コンタクトホールC3が設けられている。コンタクトホールC3を含む層間絶縁膜25の一部上(もしくは全面)には、拡散防止層ADが形成されている。ここで、拡散防止層ADは、コンタクトホールC3の底部において露出するドレイン電極24dと電気的に接続されている。
拡散防止層ADの一部上(もしくは全面)には、半透過膜11が形成されている。半透過膜11上及び拡散防止層AD上(もしくは半透過膜11上)には、透明アノード12が形成されており、さらに、透明アノード12上には、有機EL層13が形成されている。ここで、有機EL層13、例えば、ホール輸送層13a、発光層13b、電子輸送層13cから構成されている。そして、有機EL層13上には、反射膜を兼ねるカソード層14が形成されている。
なお、上述した実施形態では、有機EL層13は、ホール輸送層13a、発光層13b、電子輸送層13cから成る3層構造であるとしたが、これには限定されず、その他の多層構造(例えば上記3層に加えてホール注入層や電子注入層を含む)もしくは単層構造(発光層から成る)であってもよい。
また、上述した実施形態では、有機EL素子がボトムエミッション型であるとしてが、本発明はこれに限定されず、有機EL素子がトップエミッション型であってもよい。
即ち、上記実施形態において、Ag合金層である半透過膜11が、光を反射し得る所定の膜厚を有した反射膜として形成され、Ag合金層である反射膜兼カソード14が、光を半透過し得る所定の膜厚を有した半透過膜兼カソード(半透明カソード)として形成されてもよい。この場合、有機EL層から発光した光は、反射膜と半透過膜との反射経路において特定波長成分が共振することにより特定波長帯が抽出され、その光が半透過膜兼カソードを通して、外部(図2において上方)へ放出される。
また、有機EL素子がトップエミッション型である場合、拡散防止層ADは、ITOもしくはIZOに限らず、Ag材料の拡散を防止し得るものであれば、絶縁物以外のその他の金属材料により形成されてもよい。
10,30 ガラス基板 11,31 半透過膜 12,32 透明アノード 13,33 有機EL層 13a ホール輸送層 13b 発光層 13c 電子輸送層 14,34 カソード 20 能動層 20s ソース領域 20d ドレイン領域 21 ゲート絶縁膜 22 ゲート電極 23 絶縁膜 24s ソース電極 24d ドレイン電極 25 層間絶縁膜 AD 拡散防止層
C1,C2,C3 コンタクトホール
C1,C2,C3 コンタクトホール
Claims (6)
- 薄膜トランジスタが形成されたガラス基板と、
前記ガラス基板上に形成された拡散防止層と、
前記拡散防止層上に形成された第1のAg合金層と、
前記第1のAg合金層上に形成された電極と、
前記電極上に形成された有機EL層と、
前記有機EL層上に形成された第2のAg合金層と、を有し、
前記拡散防止層が、前記第1のAg合金層のAg材料の熱拡散を防止することを特徴とする有機EL素子。 - 前記拡散防止層が、ITOもしくはIZOから成ることを特徴とする請求項1記載の有機EL素子。
- 前記第1のAg合金層が、光を半透過し得る所定の膜厚を有した半透過膜であり、
前記電極が、ITOもしくはIZOから成るアノードであり、
前記第2のAg合金層が、光を反射し得る所定の膜厚を有した反射膜兼カソードであることを特徴とする請求項2記載の有機EL素子。 - 前記拡散防止層が、前記Ag材料の拡散を防止し得る金属材料から成ることを特徴とする請求項1記載の有機EL素子。
- 前記第1のAg合金層が、光を反射し得る所定の膜厚を有した反射膜であり、
前記電極が、ITOもしくはIZOから成るアノードであり、
前記第2のAg合金層が、光を半透過し得る所定の膜厚を有した半透過膜兼カソードであることを特徴とする請求項4記載の有機EL素子。 - 前記有機EL層が、ホール輸送層、発光層、電子輸送層から成ることを特徴とする請求項1,2,3,4,5のうちいずれか1項に記載の有機EL素子。
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