JP2005103390A - アンモニア、有機態窒素化合物及び有機化合物含有排ガスの処理方法 - Google Patents

アンモニア、有機態窒素化合物及び有機化合物含有排ガスの処理方法 Download PDF

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Mitsuaki Ikeda
光明 池田
Kazunori Yoshino
和徳 吉野
Kimihiro Nakama
公博 中間
Toshikatsu Ikenoue
敏勝 池之上
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Abstract

【課題】アンモニア、有機態窒素化合物及び有機物を含有する排ガスを分解処理する方法を提供する。
【解決手段】前段触媒層に充填される触媒が、A成分:Al,Ti,Si,Wからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、B成分:Pt,Pd,Rh,Irからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなり、中段触媒層に充填される触媒が、X成分:Al,Ti,Si,Zrからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、Y成分:V,W,Mo,Ce,からなる群より選ばれた少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなり、また後段触媒層に充填される触媒が、A成分:Al,Ti,Si,Wからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、B成分:Pt,Pd,Rh,Irからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなる。
【選択図】図1

Description

本発明は、アンモニア、有機態窒素化合物及び有機物含有排ガス中に含まれるアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物を分解し、窒素ガスと炭酸ガスと水とに変換、浄化する処理方法に関する。
飼料・肥料製造装置、食品製造装置、コーヒー焙煎装置等から排出される臭気は近隣住民の生活快適性を著しく損ない、また、同時に排出されるアンモニアは有害物質であったり、配管系を腐食するなど悪影響を及ぼすためその除去技術が研究されている。
例えば、アンモニアに関しては、アンモニア放散ガス中のアンモニアを触媒により酸化分解する方法が記載されている。酸化触媒の出口においてアンモニア及び窒素酸化物が等量となるように反応温度を制御し、生成した窒素酸化物を残留アンモニアとともに還元触媒で反応させ窒素と水に変換する。また還元触媒入口でアンモニアを分注する方法が提案されている(特許文献1参照)。
酸化触媒出口のアンモニアと窒素酸化物を等量となるように反応温度で制御する場合、入口ガスの処理対象成分がアンモニアのみであれば濃度変動が生じてもある程度の対応は可能であるが、アンモニア及び有機態窒素化合物および有機物共存ガスの場合、有機物の濃度が高くなるとアンモニア及び有機態窒素化合物からのNOx生成率が一般的に増大する。従って、有機物の濃度変動によりNOx生成率が大きく変化するため制御困難に陥る。また、有機態窒素化合物や有機物の中にはアンモニアやNOx以上に臭気の高い物質があるため、これらの処理が完全に行なわれなければならないことから比較的高温処理が要求されるが、高温になるほど前期現象は大きくなるという問題があった。
特開昭54−197857号公報
本発明の目的は上記従来技術の問題点を解決し、特にアンモニア、有機態窒素化合物、有機物含有排ガスを前段触媒層、中段触媒層及び後段触媒層からなる三段触媒層によりアンモニア、有機態窒素化合物、有機物を効率的、かつ低コストで低臭気、低NOxの浄化ガスに分解処理する方法を提供することにある。
上記目的を達成する本発明の要旨は以下のとおりである。
(1)アンモニア、有機態窒素化合物及び有機物を含有する排ガスを、前段、中段及び後段からなる三段触媒層処理する方法において、前段触媒層に充填される触媒が、A成分:Al,Ti,Si,Wからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、B成分:Pt,Pd,Rh,Irからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなり、かつ、入口温度250〜350℃、空間速度50000〜200000Hr−1で運転され、中段触媒層に充填される触媒が、X成分:Al,Ti,Si,Zrからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、Y成分:V,W,Mo,Ce,からなる群より選ばれた少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなり、また後段触媒層に充填される触媒が、A成分:Al,Ti,Si,Wからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、B成分:Pt,Pd,Rh,Irからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなるアンモニアおよび有機態窒素化合物および有機物含有排ガスの処理方法である。
(2)前記前段触媒及び後段触媒がそれぞれA成分及びB成分の合計質量において、A成分が酸化物として98〜99.99質量%の範囲、B成分が金属及び/又は金属酸化物として0.01〜2質量%の範囲の量であり、前記中段触媒はX成分及びY成分の合計質量において、X成分が酸化物として80〜95質量%の範囲、Y成分が酸化物として5〜20質量%の範囲の量である前記(1)記載のアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物含有排ガスの処理方法である。
(3)前記前段触媒及び後段触媒がそれぞれアンモニア、有機態窒素化合物お及び有機物の分解触媒であり、前記中段触媒が窒素酸化物還元触媒である前記(1)又は(2)記載のアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物含有排ガスの処理方法である。
(4)前段触媒の平均粒径が3mm以上、9mm以下の球状触媒である前記(1)、(2)又は(3)記載のアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物含有排ガスの処理方法である。
本発明は、アンモニア、有機態窒素化合物及び有機物を含有する排ガスを、前段触媒層に充填した触媒上で入口温度250〜350℃、空間速度50000〜200000Hr−1で反応させることにより、アンモニア、有機態窒素化合物、有機物の一部を窒素酸化物、炭酸ガスに酸化し、中段触媒層で残留有機態窒素化合物や残留有機物の分解および生成窒素酸化物を残留アンモニアで脱硝除去し、後段触媒層で残留COや残留アンモニアの酸化処理を行なうことにより有害なアンモニア、有機態窒素化合物、有機物を効率的、かつ低コストで低臭気、低NOxの浄化ガスに分解処理することができる。
以下、本発明を詳細に説明する。本発明は、飼料・肥料製造装置、食品製造装置、コーヒー焙煎装置等から排出されるアンモニア、有機態窒素化合物、有機物を含有する排ガスを低臭気、低NOxで処理でき、アンモニア濃度は100〜5000ppm、有機態窒素化合物濃度は0〜100ppm(窒素換算)、有機物濃度は100〜6000ppm(メタン換算)の範囲が好ましい。
本発明で使用する前段触媒及び後段触媒は、それぞれA成分:Al,Ti,Si,Wからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、B成分:Pt,Pd,Rh,Irからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物を含有する触媒であり、その組成は、A成分及びB成分の合計質量において、A成分が酸化物として98〜99.99質量%の範囲、B成分が金属及び/又は金属酸化物として0.01〜2質量%の範囲の量を含有する触媒である。前段触媒は、アンモニア除去率が調節しやすく、ダストや触媒被毒物質の影響を比較的受け難い3〜9mm、好ましくは5〜7mmの平均粒径を持つ球状触媒が適切である。ダストや触媒被毒物質がない場合は小目ピッチのハニカム触媒やコルゲート触媒を用いることもできる。入口温度は250〜350℃が好ましい。250℃以下では最終的な臭気濃度が高くなる場合が多く、350℃以上ではアンモニア除去率や生成窒素酸化物濃度が高くなり過ぎるためである。空間速度は50000〜200000Hr−1が好ましい。50000Hr−1以下ではアンモニア除去率が制御し難く、200000Hr−1以上では高いアンモニア除去率が得られないためである。
中段触媒は、X成分:Al,Ti,Si,Zrからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、Y成分:V,W,Mo,Ce,からなる群より選ばれた少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物を含有する触媒である。好ましくは、X成分が酸化物として80〜95質量%の範囲、Y成分が酸化物として5〜20質量%の範囲の量を含有する触媒である。なお、前段、中段及び後段触媒は含浸法、浸漬法、成形法などこの分野の公知方法で調製することができる。
前段触媒のアンモニア除去率は、設定した入口温度で50〜90%、より好ましくは60〜80%となるよう触媒の空間速度を設定する。生成する窒素酸化物濃度は主に、入口温度、アンモニア除去率、アンモニア及び有機物濃度により変化するが、上記除去率に調節することで後段触媒出口での低窒素酸化物化が図れる。
本発明の方法はアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物を含有する排ガスを無害化するのに好適に利用できる。
以下、本発明を実施例にて詳細に説明する。図1は本発明であるアンモニア、有機態窒素化合物、有機物含有排ガスの処理システムを示す概略図である。
アンモニア、有機態窒素化合物、有機物を含む排ガス1は、ブロアー2で処理装置に導入され、熱交換器3で昇温され、更に加熱器4にて所定温度まで昇温される。その後、反応器5に充填された前段触媒層6を通過後、中段触媒層7を通り、最後に後段触媒層8で処理された後、熱交換器3で熱回収され浄化ガス9として排出される。
実施例1
アンモニア濃度3000ppm、有機態窒素化合物濃度40ppm(窒素換算)、有機物濃度6000ppm(メタン換算)を含む排ガス[ガス量11400m(N)/hr]は、ブロアーで処理装置に導入され、熱交換器で昇温され、更に加熱器にて270℃に昇温された。その後、Pt/アルミナ触媒(5mm球状、Pt 2 g/L)0.12m(SV 95000 hr−1)が充填された前段触媒層を通過後、ハニカム状触媒(60セル/inch 、リブ厚0.5mm、V:WO:SiO:TiO=7:5:8:80重量比)1.32mが充填された中段触媒層を通り、最後に前段触媒と同様のPt/アルミナ触媒0.57m3が充填された後段触媒層で処理された。
このとき、排ガスの臭気濃度50000に対し、浄化ガスは1100であった。また、浄化ガス中のNH3は1ppm以下、NOx濃度は170ppm(16vol%乾燥酸素換算、8時間平均)であった。
実施例2
前段触媒の入口温度を285℃に変更した以外は実施例1と同様の方法でアンモニア、有機態窒素化合物、有機物含有排ガスの処理を行った。その結果、浄化ガスの臭気濃度は1300であり、NHは1ppm以下、NOx濃度は180ppm(16vol%乾燥酸素換算、8時間平均)であった。
実施例3
前段触媒のSVを80000 hr−1に変更した以外は実施例1と同様の方法でアンモニア、有機態窒素化合物、有機物含有排ガスの処理を行った。その結果、浄化ガスの臭気濃度は500であり、NHは1ppm以下、NOx濃度は90ppm(16vol%乾燥酸素換算、8時間平均)であった。
比較例1
前段触媒をなくし(中段触媒+後段触媒)、排ガス濃度をアンモニア濃度2400ppm、有機態窒素化合物濃度30ppm(窒素換算)、有機物濃度4000ppm(メタン換算)に変更した以外は実施例1と同様の方法で処理したところ、排ガスの臭気濃度25000に対し、浄化ガスは4000であった。また、浄化ガス中のNHは1ppm以下、NOx濃度は300ppm(16vol%乾燥酸素換算、8時間平均)であった。
本発明のアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物を含有する排ガスを処理する方法を示す概略図である。
符号の説明
1…排ガス
2…ブロワー
3…熱交換器
4…加熱器
5…反応器
6…前段触媒
7…中段触媒
8…後段触媒
9…浄化排出ガス

Claims (4)

  1. アンモニア、有機態窒素化合物及び有機物を含有する排ガスを、前段、中段及び後段からなる三段触媒層で処理する方法において、
    前段触媒層に充填される触媒が、A成分:Al,Ti,Si,Wからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、B成分:Pt,Pd,Rh,Irからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなり、かつ、入口温度250〜350℃、空間速度50000〜200000Hr−1で運転され、
    中段触媒層に充填される触媒が、X成分:Al,Ti,Si,Zrからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、Y成分:V,W,Mo,Ce,からなる群より選ばれた少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなり、
    また後段触媒層に充填される触媒が、A成分:Al,Ti,Si,Wからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、B成分:Pt,Pd,Rh,Irからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなることを特徴とするアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物含有排ガスの処理方法。
  2. 前記前段及び後段触媒はそれぞれA成分およびB成分の合計質量において、A成分が酸化物として98〜99.99質量%の範囲、B成分が金属及び/又は金属酸化物として0.01〜2質量%の範囲の量であり、前記中段触媒はX成分及びY成分の合計質量において、X成分が酸化物として80〜95質量%の範囲、Y成分が酸化物として5〜20質量%の範囲の量である請求項1記載のアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物含有排ガスの処理方法。
  3. 前記前段触媒及び後段触媒がそれぞれアンモニア分解触媒であり、前記中段触媒が窒素酸化物還元触媒である請求項1又は2記載のアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物含有排ガスの処理方法。
  4. 前段触媒の平均粒径が3mm以上、9mm以下の球状触媒である請求項1、2又は3記載のアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物含有排ガスの処理方法。
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JP2011092910A (ja) * 2009-11-02 2011-05-12 Okawara Mfg Co Ltd 排気ガスの脱臭装置

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