JP2005103390A - アンモニア、有機態窒素化合物及び有機化合物含有排ガスの処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】前段触媒層に充填される触媒が、A成分:Al,Ti,Si,Wからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、B成分:Pt,Pd,Rh,Irからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなり、中段触媒層に充填される触媒が、X成分:Al,Ti,Si,Zrからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、Y成分:V,W,Mo,Ce,からなる群より選ばれた少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなり、また後段触媒層に充填される触媒が、A成分:Al,Ti,Si,Wからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、B成分:Pt,Pd,Rh,Irからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなる。
【選択図】図1
Description
(1)アンモニア、有機態窒素化合物及び有機物を含有する排ガスを、前段、中段及び後段からなる三段触媒層処理する方法において、前段触媒層に充填される触媒が、A成分:Al,Ti,Si,Wからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、B成分:Pt,Pd,Rh,Irからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなり、かつ、入口温度250〜350℃、空間速度50000〜200000Hr−1で運転され、中段触媒層に充填される触媒が、X成分:Al,Ti,Si,Zrからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、Y成分:V,W,Mo,Ce,からなる群より選ばれた少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなり、また後段触媒層に充填される触媒が、A成分:Al,Ti,Si,Wからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、B成分:Pt,Pd,Rh,Irからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなるアンモニアおよび有機態窒素化合物および有機物含有排ガスの処理方法である。
(2)前記前段触媒及び後段触媒がそれぞれA成分及びB成分の合計質量において、A成分が酸化物として98〜99.99質量%の範囲、B成分が金属及び/又は金属酸化物として0.01〜2質量%の範囲の量であり、前記中段触媒はX成分及びY成分の合計質量において、X成分が酸化物として80〜95質量%の範囲、Y成分が酸化物として5〜20質量%の範囲の量である前記(1)記載のアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物含有排ガスの処理方法である。
(3)前記前段触媒及び後段触媒がそれぞれアンモニア、有機態窒素化合物お及び有機物の分解触媒であり、前記中段触媒が窒素酸化物還元触媒である前記(1)又は(2)記載のアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物含有排ガスの処理方法である。
(4)前段触媒の平均粒径が3mm以上、9mm以下の球状触媒である前記(1)、(2)又は(3)記載のアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物含有排ガスの処理方法である。
中段触媒は、X成分:Al,Ti,Si,Zrからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、Y成分:V,W,Mo,Ce,からなる群より選ばれた少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物を含有する触媒である。好ましくは、X成分が酸化物として80〜95質量%の範囲、Y成分が酸化物として5〜20質量%の範囲の量を含有する触媒である。なお、前段、中段及び後段触媒は含浸法、浸漬法、成形法などこの分野の公知方法で調製することができる。
実施例1
アンモニア濃度3000ppm、有機態窒素化合物濃度40ppm(窒素換算)、有機物濃度6000ppm(メタン換算)を含む排ガス[ガス量11400m3(N)/hr]は、ブロアーで処理装置に導入され、熱交換器で昇温され、更に加熱器にて270℃に昇温された。その後、Pt/アルミナ触媒(5mm球状、Pt 2 g/L)0.12m3(SV 95000 hr−1)が充填された前段触媒層を通過後、ハニカム状触媒(60セル/inch2 、リブ厚0.5mm、V2O5:WO3:SiO2:TiO2=7:5:8:80重量比)1.32m3が充填された中段触媒層を通り、最後に前段触媒と同様のPt/アルミナ触媒0.57m3が充填された後段触媒層で処理された。
このとき、排ガスの臭気濃度50000に対し、浄化ガスは1100であった。また、浄化ガス中のNH3は1ppm以下、NOx濃度は170ppm(16vol%乾燥酸素換算、8時間平均)であった。
実施例2
前段触媒の入口温度を285℃に変更した以外は実施例1と同様の方法でアンモニア、有機態窒素化合物、有機物含有排ガスの処理を行った。その結果、浄化ガスの臭気濃度は1300であり、NH3は1ppm以下、NOx濃度は180ppm(16vol%乾燥酸素換算、8時間平均)であった。
実施例3
前段触媒のSVを80000 hr−1に変更した以外は実施例1と同様の方法でアンモニア、有機態窒素化合物、有機物含有排ガスの処理を行った。その結果、浄化ガスの臭気濃度は500であり、NH3は1ppm以下、NOx濃度は90ppm(16vol%乾燥酸素換算、8時間平均)であった。
比較例1
前段触媒をなくし(中段触媒+後段触媒)、排ガス濃度をアンモニア濃度2400ppm、有機態窒素化合物濃度30ppm(窒素換算)、有機物濃度4000ppm(メタン換算)に変更した以外は実施例1と同様の方法で処理したところ、排ガスの臭気濃度25000に対し、浄化ガスは4000であった。また、浄化ガス中のNH3は1ppm以下、NOx濃度は300ppm(16vol%乾燥酸素換算、8時間平均)であった。
2…ブロワー
3…熱交換器
4…加熱器
5…反応器
6…前段触媒
7…中段触媒
8…後段触媒
9…浄化排出ガス
Claims (4)
- アンモニア、有機態窒素化合物及び有機物を含有する排ガスを、前段、中段及び後段からなる三段触媒層で処理する方法において、
前段触媒層に充填される触媒が、A成分:Al,Ti,Si,Wからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、B成分:Pt,Pd,Rh,Irからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなり、かつ、入口温度250〜350℃、空間速度50000〜200000Hr−1で運転され、
中段触媒層に充填される触媒が、X成分:Al,Ti,Si,Zrからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、Y成分:V,W,Mo,Ce,からなる群より選ばれた少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなり、
また後段触媒層に充填される触媒が、A成分:Al,Ti,Si,Wからなる群より選ばれた少なくとも一種の金属酸化物、B成分:Pt,Pd,Rh,Irからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属及び/又はその金属酸化物よりなることを特徴とするアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物含有排ガスの処理方法。 - 前記前段及び後段触媒はそれぞれA成分およびB成分の合計質量において、A成分が酸化物として98〜99.99質量%の範囲、B成分が金属及び/又は金属酸化物として0.01〜2質量%の範囲の量であり、前記中段触媒はX成分及びY成分の合計質量において、X成分が酸化物として80〜95質量%の範囲、Y成分が酸化物として5〜20質量%の範囲の量である請求項1記載のアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物含有排ガスの処理方法。
- 前記前段触媒及び後段触媒がそれぞれアンモニア分解触媒であり、前記中段触媒が窒素酸化物還元触媒である請求項1又は2記載のアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物含有排ガスの処理方法。
- 前段触媒の平均粒径が3mm以上、9mm以下の球状触媒である請求項1、2又は3記載のアンモニア、有機態窒素化合物及び有機物含有排ガスの処理方法。
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JP2003338075A JP2005103390A (ja) | 2003-09-29 | 2003-09-29 | アンモニア、有機態窒素化合物及び有機化合物含有排ガスの処理方法 |
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JP2011092910A (ja) * | 2009-11-02 | 2011-05-12 | Okawara Mfg Co Ltd | 排気ガスの脱臭装置 |
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2003
- 2003-09-29 JP JP2003338075A patent/JP2005103390A/ja active Pending
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