JP2005088038A - レーザ加工装置及びレーザ加工方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係るレーザ加工装置は、レーザ光を発生させるレーザ光源1と、被加工物2を保持する保持部3と、被加工物2と保持部3とを液中に浸漬させる容器4と、レーザ光をレーザ光源1から被加工物2まで導くレーザ導波手段5と、レーザ導波手段5のレーザ光出射部10と被加工物2との間に配置された保護部材15とを備え、保護部材15はレーザ光を透過させる材料から構成される。
【選択図】図1
Description
本発明によれば、保護部材に付着した加工屑を保護部材と共にレーザ光の光路から移動させることができ、保護部材の透過性を良好に維持することができる。
本発明によれば、加工屑を液体の流れによって下流側に移送することができるので、保護部材に付着する加工屑の量を少なくすることができる。
本発明によれば、清浄化手段により保護部材に付着した加工屑を除去することができるので、レーザ加工を継続して行うことができる。
本発明によれば、レーザ導波手段のレーザ光出射部から照射されたレーザ光が保護部材に反射してレーザ光源に戻ることを防止することができ、反射光によるレーザ光源の損傷を防ぐことができる。また、被加工物の表面で反射した反射光が保護部材でさらに反射して再び被加工物に照射されることを防止することができ、被加工物の被加工部が多重加工されることを防止することができる。
本発明の好ましい一態様は、レーザ光を横切る方向に前記保護部材を移動させることを特徴とする。
本発明の好ましい一態様は、前記被加工物と前記保護部材との間に液体の流れを発生させることを特徴とする。
本発明の好ましい一態様は、前記保護部材の前記被加工物に面した表面を清浄にすることを特徴とする。
本発明の好ましい一態様は、前記保護部材の前記被加工物を向いた表面をレーザ光の光軸に垂直な面に対して所定角度だけ傾けたことを特徴とする。
図1は本発明の第1の実施形態におけるレーザ加工装置の全体構成を示す模式図である。
図1に示すように、レーザ加工装置は、所定の波長及び所定のエネルギーを有するレーザ光を発生させるレーザ光源1と、被加工物2を保持する保持部3と、被加工物2と保持部3とを収容する容器4と、レーザ光をレーザ光源1から被加工物2まで導くレーザ導波手段5とを備えている。レーザ導波手段5は、レーザ光の光路を変える反射鏡8と、鏡筒9と、鏡筒9の出口に取り付けられたレンズ10とを備えている。レンズ10は保持部3によって保持された被加工物2に対向して配置され、被加工物2に向けてレーザ光を照射するレーザ光出射部として構成される。保持部3は容器4内に収容された基台17の上に載置され、保持部3の上部に被加工物2が載置されて保持される。
まず、被加工物2を保持部3により保持させ、被加工物2及びレーザ導波手段5のレンズ10を液中に浸漬させる。次に、水平移動機構12及び垂直移動機構14により被加工物2の被加工部をレーザ光の照射位置に移動させる。その後、保護部材15と被加工物2との間に液体の流れ23を発生させ、保護部材15をレーザ光の光軸に対して略垂直な方向に移動させる。この状態で、レーザ光源1を作動させて所定波長及び所定エネルギーのレーザ光を発生させ、レーザ導波手段5を経由して、レーザ光を被加工物2の被加工部に照射する。
2 被加工物
3 保持部
4 容器
5 レーザ導波手段
8 反射鏡
9 鏡筒
10 レンズ(レーザ光出射部)
12 水平移動機構(相対移動機構)
13 液体
14 垂直移動機構(相対移動機構)
15 保護部材
16 移動機構
17 基台
20 給液口
21 排液口
22 高圧液供給源
23 液体の流れ
30 光ファイバ
31 芯材
32 被覆部
35 回転軸
37 円筒部材(清浄化部材)
Claims (10)
- レーザ光を発生させるレーザ光源と、
被加工物を保持する保持部と、
前記被加工物と前記保持部とを液中に浸漬させる容器と、
レーザ光を前記レーザ光源から前記被加工物まで導くレーザ導波手段と、
前記レーザ導波手段のレーザ光出射部と前記被加工物との間に配置された保護部材とを備え、
前記保護部材はレーザ光を透過させる材料から構成されることを特徴とするレーザ加工装置。 - レーザ光を横切る方向に前記保護部材を移動させる移動機構を更に備えたことを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。
- 前記被加工物と前記保護部材との間に液体の流れを発生させる液流れ発生機構を更に備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。
- 前記保護部材の前記被加工物に面した表面を清浄にする清浄化手段を更に備え、前記清浄化手段は、レーザ光の照射及び前記液流れ発生機構により発生した液体の流れを妨げないような位置に配置されていることを特徴とする請求項3に記載のレーザ加工装置。
- 前記保護部材の前記被加工物を向いた表面をレーザ光の光軸に垂直な面に対して所定角度だけ傾けたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。
- 被加工物を保持部により保持して前記被加工物を液中に浸漬させ、
レーザ導波手段のレーザ光出射部を前記被加工物に対向するように液中に配置し、
レーザ光を透過させる材料から構成された保護部材を前記レーザ光出射部と前記被加工物との間に配置し、
レーザ光源で発生させたレーザ光を前記レーザ導波手段を介して前記レーザ光出射部から液中の前記被加工物に照射することを特徴とするレーザ加工方法。 - レーザ光を横切る方向に前記保護部材を移動させることを特徴とする請求項6に記載のレーザ加工方法。
- 前記被加工物と前記保護部材との間に液体の流れを発生させることを特徴とする請求項6又は7に記載のレーザ加工方法。
- 前記保護部材の前記被加工物に面した表面を清浄にすることを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項に記載のレーザ加工方法。
- 前記保護部材の前記被加工物を向いた表面をレーザ光の光軸に垂直な面に対して所定角度だけ傾けたことを特徴とする請求項6乃至9のいずれか1項に記載のレーザ加工方法。
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- 2003-09-16 JP JP2003323682A patent/JP4219241B2/ja not_active Expired - Fee Related
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