JP2005068561A - めっき装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 めっき槽を具備し、該めっき槽で被めっき基板13のめっき面にめっき液Qを接触させて金属めっきを施すめっき装置において、めっき槽内にめっき面を下向きにして被めっき基板13を配置すると共に、その下方に所定の間隔を設けて陽極電極28を対向して配置し、被めっき基板13と陽極電極28の間に、被めっき基板13の被めっき有効径より小さい内径を有する円筒状の電場補正リング52を、該電場補正リング52の上端を該被めっき基板13に接近させて、且つ該電場補正リング52の中心と被めっき基板13の中心とが略同軸に位置するように配置した。
【選択図】 図9
Description
11 めっき槽本体
12 基板保持体
13 被めっき基板
14 ガイド部材
15 軸受
16 シリンダ
17 基板押え部材
18 モータ
19 シリンダ
20 めっき液室
21 多孔板
22 めっき液導入室
23 捕集樋
24 めっき液タンク
25 ポンプ
26 ブラシ
27 電気接点
28 陽極電極
29 搬出入スリット
30 イオン交換膜又は多孔性中性隔膜
31 陽極室
32 ポンプ
33 液タンク
34 ノズル板
35 めっき液供給部
36 めっき液流入口
38 ガイドベーン
40 めっき装置
41 ロード部
42 アンロード部
43 洗浄乾燥槽
44 ロードステージ
45 粗水洗槽
46 めっきステージ
47 前処理槽
48 第1ロボット
49 第2ロボット
50 めっき液供給室
51 ノズル孔
52 電場補正リング
Claims (3)
- めっき槽を具備し、該めっき槽で被めっき基板のめっき面にめっき液を接触させて金属めっきを施すめっき装置において、
前記めっき槽内にめっき面を下向きにして前記被めっき基板を配置すると共に、その下方に所定の間隔を設けて陽極電極を対向して配置し、
前記被めっき基板と前記陽極電極の間に、該被めっき基板の被めっき有効径より小さい内径を有する円筒状の電場補正リングを、該電場補正リングの上端を該被めっき基板に接近させて、且つ該電場補正リングの中心と被めっき基板の中心とが略同軸に位置するように配置したことを特徴とするめっき装置。 - 請求項1に記載のめっき装置において、
前記めっき槽の内周面にめっき液供給室を設け、該めっき液供給室から多数のノズル孔を通してめっき液を該めっき槽内に水平方向に流入させることを特徴とするめっき装置。 - 請求項1又は2に記載のめっき装置において、
前記めっき槽は、前記被めっき基板をめっき槽内に前記めっき面を下向きにした状態で回転させる被めっき基板回転機構を具備することを特徴とするめっき装置。
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