JP2005062589A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】表示性能に優れ、製品歩留まりの高い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】アレイ基板1および対向基板2のいずれか一方の基板に凸部40が形成されている。柱状スペーサ25は、凸部40の端縁41に重ねて設けられ、この凸部に重なった重畳部25aと、この端縁から外れるとともにこの端縁の一側のみに位置した非重畳部25bと、を有している。
【選択図】図1
【解決手段】アレイ基板1および対向基板2のいずれか一方の基板に凸部40が形成されている。柱状スペーサ25は、凸部40の端縁41に重ねて設けられ、この凸部に重なった重畳部25aと、この端縁から外れるとともにこの端縁の一側のみに位置した非重畳部25bと、を有している。
【選択図】図1
Description
この発明は液晶表示装置に関する。
一般に、液晶表示装置は、アレイ基板と、このアレイ基板に所定の隙間を保持して対向配置された対向基板と、これら2枚の基板間に狭持された液晶層と、を備えている。2枚の基板は、両基板の周縁部に配設されたシール材により接合されている。2枚の基板間には、基板間の隙間を一定に保持するため、粒径の均一なプラスティックビーズが散在されている。また、カラー表示する場合、アレイ基板および対向基板の一方の基板には、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)からなる着色層を有したカラーフィルタが配置されている。
上記のように構成された液晶表示装置において、プラスティックビーズは基板上に散布することで散在させるため、このプラスティックビーズの一部が製造ラインを汚染するパーティクルとなり不良発生の原因となる恐れがある。また、画素部に存在するプラスティックビーズは液晶分子の配向を乱し表示品位低下の原因となる。更に散布密度が不均一な場合、ギャップ不良を引き起す。
上記問題に対処する技術として、アレイ基板上に、複数の柱状スペーサを直接形成した構成が提案されている(例えば、特許文献1参照)。これらの柱状スペーサは、基板間の隙間を一定に保持するように形状が一定であることが望まれる。また、液晶表示装置の製造時および使用時において、柱状スペーサに作用する圧力を確実に支えるためには、対向基板と接触する柱状スペーサ延出端の面積が大きいことが望まれる。
特開平11−95194号公報
しかしながら、柱状スペーサの製造工程において、柱状スペーサはガラス転移点を超えた状態で溶けることが多く、焼成前のスペーサの形状、焼成条件、および材料のバラツキなどにより、焼成後の柱状スペーサの形状にバラツキが発生する。特に、柱状スペーサの延出端は溶けて丸くなり易い。この場合、基板に対する柱状スペーサ延出端の接触面積が小さくなり、その小さな接触部に大きな荷重が作用する。そのため、基板に外力が作用した際、柱状スペーサが変形する可能性がある。この場合、アレイ基板および対向基板の隙間を一定に保持することが困難となり、液晶表示装置の表示不良を生じる。
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、表示性能に優れ、製品歩留まりの高い液晶表示装置を提供することにある。
上記課題を解決するため、この発明に係る液晶表示装置は、アレイ基板と、所定の隙間を保持して前記アレイ基板と対向配置された対向基板と、前記アレイ基板および対向基板のいずれか一方の基板に配設された柱状スペーサと、を備え、前記柱状スペーサは、前記一方の基板に形成された凸部の端縁に重ねて設けられ、前記凸部に重なった重畳部と、前記端縁から外れて前記端縁の一側のみに位置した非重畳部と、を有していることを特徴としている。
上記のように構成された液晶表示装置によれば、柱状スペーサの形状の変形を抑制し、アレイ基板および対向基板の隙間を一定に保持することができる。これにより、表示性能に優れ、製品歩留まりの高い液晶表示装置を提供できる。
本発明によれば、表示性能に優れ、製品歩留まりの高い液晶表示装置を提供できる。
以下、図面を参照しながらこの発明の実施の形態に係る液晶表示装置について詳細に説明する。
図1および図2に示すように、液晶表示装置は、アレイ基板1と、このアレイ基板に所定の隙間を保持して対向配置された対向基板2と、これら両基板の基板間に狭持された液晶層3と、を備えている。
図1および図2に示すように、液晶表示装置は、アレイ基板1と、このアレイ基板に所定の隙間を保持して対向配置された対向基板2と、これら両基板の基板間に狭持された液晶層3と、を備えている。
アレイ基板1は、透明な絶縁基板としてガラス基板11を有している。ガラス基板11上には、複数の走査線15aおよび複数の信号線21がマトリクス状に設けられ、走査線と信号線との各交差部にスイッチング素子として、例えば薄膜トランジスタ(以下、TFTと称する)20が設けられている。
TFT20は、走査線15aの一部を延在したゲート電極15bと、例えばアモルファスシリコン(a−Si)あるいはポリシリコン(p−Si)からなる半導体膜12と、この半導体膜の一方の領域に接続されたドレイン電極18と、他方の領域に接続されたソース電極19と、を有している。本実施の形態では、半導体膜12および後述する補助容量下部電極13はp−Siで形成されている。
また、ガラス基板11上には、補助容量素子31を構成するストライプ状の補助容量線16が複数配置され、走査線15aと平行に延びている。ソース電極19は信号線21と一体に形成され、ドレイン電極18は、画素電極24に接続されている。
詳細に述べると、ガラス基板11上には、半導体膜12と、補助容量素子31を構成する補助容量下部電極13と、が形成され、これら半導体膜、補助容量下部電極、およびガラス基板11上にゲート絶縁膜14が成膜されている。ゲート絶縁膜14上には、走査線15a、ゲート電極15b、および補助容量線16が配設されている。補助容量下部電極13および補助容量線16はゲート絶縁膜14を介し対向配置されている。
走査線15a、ゲート電極15b、補助容量線16、およびゲート絶縁膜14上に、層間絶縁膜17が成膜されている。層間絶縁膜17上には、信号線21およびコンタクト配線22が配設されている。コンタクト配線22は補助容量下部電極13に接続され、信号線21はソース電極19に接続されている。
信号線21、コンタクト配線22、および層間絶縁膜17上には、ITO(インジウム・すず酸化物)等の透明な導電膜により形成された複数の画素電極24が設けられている。各画素電極24は、ソース電極19に接続され、その周縁部は、補助容量線16および信号線21に重ねて位置している。また、アレイ基板1上には多数本の柱状スペーサ25が所望の密度で立設されている。柱状スペーサ25を除く画素電極24、および信号線21上には配向膜26が形成されている。
次に、上記柱状スペーサ25について詳しく説明する。図1および図5(a)、(b)に示すように、各柱状スペーサ25は、凸部40を構成した信号線21の端縁41に重ねて設けられ、信号線に重なった重畳部25aと、端縁から外れてこの端縁の一側である層間絶縁膜17上のみに重なって位置した非重畳部25bと、を有している。柱状スペーサ25の延出端の表面は、平坦な接触部42aと、この接触部の周囲に位置した非接触部42bと、を有している。
対向基板2は、透明な絶縁基板としてガラス基板51を備えている。ガラス基板51上には、赤色の着色層52R、緑色の着色層52G、および青色の着色層52Bが交互に並んで配設され、カラーフィルタ52を形成している。カラーフィルタ52上に、ITO等の透明な導電膜からなる対向電極53、および配向膜54が形成されている。
アレイ基板1および対向基板2は、複数の柱状スペーサ25により所定の隙間を保持して対向配置され、両基板の周縁部に配置された図示しないシール材により互いに接合されている。各柱状スペーサ25の延出端は、その接触部42aが対向基板2に接触している。アレイ基板1および対向基板2の間に液晶層3が狭持されている。そして、液晶層3の捩れ角が90°となるよう配向膜26、54に、配向(ラビング)処理が施されている。シール材付近のアレイ基板1および対向基板2には、アレイ基板から対向基板の対向電極53に電圧を印加するための図示しない電極転移材が設けられている。
次に、上記液晶表示装置の一層詳しい構成を、その製造方法と併せて説明する。
まず、ガラス基板11として、例えば0.7mmのガラス基板を用意する。成膜およびパターニングを繰り返す等、通常の製造工程により、ガラス基板11上にTFT20を形成する。また、ガラス基板11上には、走査線15a、補助容量線16、信号線21、コンタクト配線22、および層間絶縁膜17を形成する。続いて、層間絶縁膜17上に、ITOを堆積した後、ITOをパターニングすることにより、複数の画素電極24を形成する。
まず、ガラス基板11として、例えば0.7mmのガラス基板を用意する。成膜およびパターニングを繰り返す等、通常の製造工程により、ガラス基板11上にTFT20を形成する。また、ガラス基板11上には、走査線15a、補助容量線16、信号線21、コンタクト配線22、および層間絶縁膜17を形成する。続いて、層間絶縁膜17上に、ITOを堆積した後、ITOをパターニングすることにより、複数の画素電極24を形成する。
その後、アレイ基板上に柱状スペーサを形成する。この場合、信号線21を含むガラス基板11全面に、紫外線硬化型のアクリル樹脂レジスト(以下、レジストと称する)を、例えば、6.0μmの膜厚に塗布し、90℃で10分間乾燥させる。次に、所定のフォトマスクをレジストと対向して配置した後、フォトマスクを介して紫外線を照射し、レジストを露光する。紫外線の照射条件は、例えば、露光量を200mJ/cm2、波長を365nmとする。
続いて、露光されたレジストをpH11.5のアクリル水溶液により現像する。その後、レジストを220℃に昇温してレジストをメルトさせつつ、更に60分間、220℃に保持してレジストを完全に硬化させる。これにより、層間絶縁膜17および信号線21の端縁41に重ねて柱状スペーサ25が形成される。上記のように柱状スペーサ25を形成した後、図1に示すように、ガラス基板11全面に配向膜材料を塗布し、膜厚500Åの配向膜26を形成する。そして、配向膜26に、配向(ラビング)処理を施す。
一方、対向基板2用のガラス基板51として、例えば0.7mmのガラス基板を用意し、このガラス基板51上に、カラーフィルタ52および対向電極53を形成する。対向電極53を含む対向基板2全面に、配向膜材料を500Åの膜厚で塗布し、配向膜54を形成する。その後、配向膜54に、配向処理を施す。
次いで、対向基板2の周縁部に、例えば熱硬化型のシール材を印刷した後、このシール材付近に電極転移材を形成する。続いて、アレイ基板1および対向基板2を複数の柱状スペーサ25により所定の隙間を保持して対向配置し、アレイ基板1および対向基板2の周縁部同士をシール材により貼り合せる。その後、シール材を加熱して硬化させ、アレイ基板1および対向基板2を固定する。続いて、シール材の一部に形成された液晶注入口から液晶を注入した後、液晶注入口を、例えば紫外線硬化型樹脂により封止する。これにより、アレイ基板1および対向基板2の間に液晶が封入され、液晶層3が形成される。
上記のように構成された液晶表示装置によれば、柱状スペーサ25は、凸部40を構成する信号線21の端縁41に重なって設けられている。そのため、柱状スペーサを平坦な個所に設けられた場合に比較して、平坦な接触部42aの面積を拡大することができる。
従って、各柱状スペーサ延出端と対向基板2との接触面積が拡大し、荷重に対する柱状スペーサおよび基板の強度が向上する。これにより、柱状スペーサ25の形状の変形を抑制し、アレイ基板1および対向基板2の隙間を一定に保持することができ、局所的なギャップ不良による表示不良を防止することが可能となる。以上のことから、表示性能に優れ、製品歩留まりの高い液晶表示装置が得られる。
なお、柱状スペーサの重畳部25aは、信号線21の端縁41に重ねて設けられるとともに、この周縁部を信号線の他の端縁に重ねて設けても良い。この場合、柱状スペーサ25は、耐荷重性に優れていることはいうまでもない。
上記実施の形態では、柱状スペーサ25を凸部40として信号線21に重ねて形成したが、信号線に限らず走査線15a、補助容量線16、およびTFT20等の凸部に重ねて形成しても良い。
次に、本発明の他の実施の形態に係る液晶表示装置について説明する。
図3および図4に示すように、アレイ基板1は、ガラス基板11を有している。ガラス基板11上には、上述した実施の形態と同様、層間絶縁膜17まで順次形成され、層間絶縁膜上に、信号線21およびコンタクト配線22が形成されている。
図3および図4に示すように、アレイ基板1は、ガラス基板11を有している。ガラス基板11上には、上述した実施の形態と同様、層間絶縁膜17まで順次形成され、層間絶縁膜上に、信号線21およびコンタクト配線22が形成されている。
コンタクト配線22、信号線21、および層間絶縁膜17上には、それぞれストライプ状の青色の着色層52B、赤色の着色層52R、および緑色の着色層52Gが隣接し交互に並んで配設され、カラーフィルタ52が形成されている。より詳しくは、これら隣接した着色層52B、52R、52Gの周縁部同士は互いに重ねて配設されている。
着色層52B、52R、52G上には、ITO等の透明な導電膜により複数の画素電極24が形成され、各画素電極24は着色層に形成されたコンタクトホールを介してコンタクト配線22に接続されている。画素電極24および着色層52G、並びに着色層52B上に、多数本の柱状スペーサ25が所望の密度で立設されている。柱状スペーサ25を除く画素電極24、および着色層52B、52R、52G上には配向膜26が形成されている。
続いて、上記柱状スペーサ25について詳しく説明する。図3および図6(a)、(b)に示すように、各柱状スペーサ25は、凸部40を構成した画素電極24および着色層52Gにそれぞれ重なった重畳部25aと、画素電極および着色層間の着色層52B上に位置した非重畳部25bと、を有している。柱状スペーサ25の延出端の表面は、平坦な接触部42aと、この接触部の周囲に位置した非接触部42bと、を有している。
対向基板2は、ガラス基板51を備えている。ガラス基板51上には、ITO等の透明な導電膜からなる対向電極53、および配向膜54が順次形成されている。
アレイ基板1および対向基板2は、複数の柱状スペーサ25により所定の隙間を保持して対向配置されている。
アレイ基板1および対向基板2は、複数の柱状スペーサ25により所定の隙間を保持して対向配置されている。
次に、上記液晶表示装置の一層詳しい構成を、その製造方法と併せて説明する。
まず、ガラス基板11として、例えば0.7mmのガラス基板を用意する。成膜およびパターニングを繰り返す等、通常の製造工程により、ガラス基板11上にTFT20を形成する。また、ガラス基板11上には、走査線15a、補助容量線16、層間絶縁膜17、信号線21、およびコンタクト配線22を形成する。
まず、ガラス基板11として、例えば0.7mmのガラス基板を用意する。成膜およびパターニングを繰り返す等、通常の製造工程により、ガラス基板11上にTFT20を形成する。また、ガラス基板11上には、走査線15a、補助容量線16、層間絶縁膜17、信号線21、およびコンタクト配線22を形成する。
続いて、スピンナを用い、紫外線硬化型アクリル系緑色レジスト液(以下、緑色レジストと称する)をガラス基板11全面に塗布する。次に、塗布した緑色レジストを、90℃で約5分間プリベークした後、特定のフォトマスクを用い、緑色レジストにパターンを露光する。露光する際、緑色レジストには、露光量を150mJ/cm2として紫外線を照射する。ここで、特定のフォトマスクは、着色層52Gに対応するストライプ形状パターンと、画素電極24とTFT20との接続のためのコンタクトホールとして、直径15.0μmの円形形状パターンと、を有している。
次いで、露光した緑色レジストを、約0.1重量%のTMAH(テトラメチルアンモニウムハイドライド)の水溶液で約60秒間現像し、更に水洗いした後、約200℃で1時間ほどポストベークする。このように、フォトリソグラフィ法を用い、コンタクトホールを有する着色層52Gを形成する。その後、着色層52Gと同様、フォトリソグラフィ法を用い、着色層52B、および着色層52Rを順次形成する。
続いて、コンタクトホールを含み、着色層52G、52B、52R上に、例えばITOをスパッタリング法により堆積する。次いで、堆積されたITOをパターニングし、それぞれ着色層に重なった複数の画素電極24を形成する。
その後、アレイ基板上に柱状スペーサ25を形成する。柱状スペーサ25を形成する際、上述した実施の形態と同様の条件で柱状スペーサを形成する。そして、柱状スペーサ25は、画素電極24および着色層52Rにそれぞれ重なって形成される。
上記のように柱状スペーサ25を形成した後、図3に示すように、ガラス基板11全面にポリイミドからなる配向膜材料を塗布し、配向膜26を形成する。そして、配向膜26に、配向(ラビング)処理を施す。
一方、対向基板2用のガラス基板51として、例えば0.7mmのガラス基板を用意する。続いて、スパッタリング法により、ITOを膜厚100nmとしてガラス基板51上に堆積し、対向電極53を形成する。対向電極53を含むガラス基板51全面に、ポリイミドからなる配向膜材料を塗布し、配向膜54を形成する。その後、配向膜54に、配向処理を施す。
次いで、対向基板2の周縁部に、例えば、所定の大きさを有するファイバを混入したシール材を液晶注入口を除いて塗布する。続いて、アレイ基板1および対向基板2を複数の柱状スペーサ25により所定の隙間を保持して対向配置し、アレイ基板1および対向基板2の周縁部同士をシール材により貼り合せる。続いて、シール材の一部に形成された液晶注入口から液晶を注入した後、液晶注入口を、例えば紫外線硬化型樹脂により封止する。これにより、アレイ基板1および対向基板2の間に液晶が封入され、液晶層3が形成される。その後、アレイ基板1および対向基板2の外面に図示しない偏光板をそれぞれ配置する。
上記のように構成された他の実施の形態に係る液晶表示装置によれば、柱状スペーサ25は、凸部40を構成する画素電極24および着色層52Gにそれぞれ重なって設けられている。そのため、柱状スペーサを平坦な個所に設けた場合に比較して、平坦な接触部42aの面積を拡大することができる。従って、各柱状スペーサ延出端と対向基板2との接触面積が拡大し、荷重に対する柱状スペーサおよび基板の強度が向上する。
これにより、柱状スペーサ25の形状の変形を抑制し、アレイ基板1および対向基板2の隙間を一定に保持することができ、局所的なギャップ不良による表示不良を防止することが可能となる。以上のことから、表示性能に優れ、製品歩留まりの高い液晶表示装置が得られる。なお、複数の凸部40は、画素電極24および着色層52Gに限らず、柱状スペーサ25の重畳部25aが所定の凸部に重ねて形成されれば良い。
この実施の形態において、他の構成は上述した実施の形態と同一であり、同一の部分には同一の符号を付してその詳細な説明を省略した。
その他、この発明は、上述した実施の形態に限定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能である。例えば、柱状スペーサ25は、アレイ基板1に形成された凸部40に重ねて形成したが、対向基板2に形成された凸部に重ねて形成しても良い。その一例として、カラーフィルタ52および柱状スペーサ25を対向基板2側に形成し、このカラーフィルタの有する凸部に重ねて柱状スペーサ25を形成することが挙げられる。
その他、この発明は、上述した実施の形態に限定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能である。例えば、柱状スペーサ25は、アレイ基板1に形成された凸部40に重ねて形成したが、対向基板2に形成された凸部に重ねて形成しても良い。その一例として、カラーフィルタ52および柱状スペーサ25を対向基板2側に形成し、このカラーフィルタの有する凸部に重ねて柱状スペーサ25を形成することが挙げられる。
また、上記した実施の形態においては、例えば、凸部40を着色層52にて形成したが、着色層に替わり透明な平坦化膜で凸部を形成してもよい。その他、凸部40は、各種配線を重ねて形成しても良く、また、2段階露光や階調マスクにより形成しても良い。柱状スペーサのサイズや形状は任意のものに適用可能である。
1…アレイ基板,2…対向基板,3…液晶層,15a…走査線,21…信号線,24…画素電極,25…柱状スペーサ,25a…重畳部,25b…非重畳部,40…凸部,41…端縁,42a…接触部,42b…非接触部,52…カラーフィルタ,52B、52R、52G…着色層
Claims (4)
- アレイ基板と、所定の隙間を保持して前記アレイ基板と対向配置された対向基板と、前記アレイ基板および対向基板のいずれか一方の基板に配設された柱状スペーサと、を備え、
前記柱状スペーサは、前記一方の基板に形成された凸部の端縁に重ねて設けられ、前記凸部に重なった重畳部と、前記端縁から外れて前記端縁の一側のみに位置した非重畳部と、を有していることを特徴とする液晶表示装置。 - アレイ基板と、所定の隙間を保持して前記アレイ基板と対向配置された対向基板と、前記アレイ基板および対向基板のいずれか一方の基板に配設された柱状スペーサと、を備え、
前記柱状スペーサは、前記一方の基板に形成された複数の凸部にそれぞれ重なった重畳部と、前記凸部から外れて前記重畳部の間に位置した非重畳部と、を有していることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記凸部は、前記アレイ基板の有するアレイ配線またはスイッチング素子によって形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。
- 前記凸部は前記一方の基板に設けられたカラーフィルタによって形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。
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JP2015232737A (ja) * | 2010-02-05 | 2015-12-24 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置の作製方法 |
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US9541803B2 (en) | 2010-02-05 | 2017-01-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device comprising first and second reflective pixel electrodes that overlap each other with an insulating layer having a tapered first end portion interposed therebetween |
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