JP2005057108A - 半導体装置 - Google Patents

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彰弘 渋谷
Yasuhiro Okada
安弘 岡田
Sukeyuki Furukawa
資之 古川
Mikio Naruse
幹夫 成瀬
Atsushi Ehira
淳 江平
Kazuhiro Ogawa
和宏 小川
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Abstract

【課題】絶縁体にピンホールやクラックが発生しても絶縁性を確保することが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置1は、半導体チップ11、バスバー13c、13e、13ec及び樹脂モールド14により形成された半導体モジュール10と、当該半導体モジュール10で発生した熱を冷媒41により放熱する冷却ジャケット40と、半導体モジュール10と冷却ジャケット40との間の絶縁性を確保するための電気的絶縁特性及び高熱伝導性を有する2枚の絶縁シート21、22を積層して構成された絶縁体20とを備えており、当該絶縁体20を半導体モジュール10と冷却ジャケット40の間に挟んだ状態で、ボルト50により半導体モジュール10と冷却ジャケット40とが固定されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体チップが接続されたバスバーを樹脂モールドにより固定して形成された半導体モジュールを、絶縁体を介して冷却ジャケットに取り付けた半導体装置に関する。
トランジスタ、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor:絶縁ゲートバイポーラトランジスタ)、サイリスタ等の電力制御素子半導体チップを用いてインバータ回路やコンバータ回路等の電力変換回路を構成し、これを一つのモジュールとしてパッケージングした半導体装置が広く使用されている。このような半導体装置では、電力が大きいために発熱量も非常に大きく、半導体装置の放熱を効率良く行うことが非常に重要である。
これに対し、放熱性能を向上させた半導体装置として、半導体チップが接続されたバスバーを樹脂モールドにより固定して半導体モジュールを形成し、絶縁体のみを介装させて、当該半導体モジュールを冷却ジャケットに取り付け、この冷却ジャケットにより、半導体モジュールで発生した熱を効率的に放熱するものが従来から知られている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、このような構造の半導体装置では、半導体モジュールと冷却ジャケットとの間に介装された絶縁体に、例えばピンホールやクラック等の微小な孔が発生した場合に、半導体モジュールと冷却ジャケットとの間で絶縁不良が発生する可能性がある。
一方、このような絶縁不良を防止するために絶縁体を単に厚くすると、当該絶縁体により半導体モジュールから冷却ジャケットへの伝熱が妨げられ、十分な放熱性能を確保することは困難となる。
特開2001−110985号公報
本発明は、半導体チップが接続されたバスバーを樹脂モールドにより固定して形成された半導体モジュールを、絶縁体を介して冷却ジャケットに取り付けた半導体装置に関し、特に、絶縁体にピンホールやクラックが発生しても絶縁性を確保することが可能な半導体装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明によれば、半導体チップが接続されたバスバーを樹脂モールドにより固定して形成された半導体モジュールと、前記半導体モジュールを冷却する冷却手段と、前記半導体モジュールと前記冷却手段との間に介装された絶縁体と、を少なくとも備えた半導体装置であって、前記絶縁体は、積層された2以上の絶縁シートを有する半導体装置が提供される。
本発明では、所定の電気回路を構成するように半導体チップが接続されたバスバーを樹脂モールドで固定することにより形成された半導体モジュールと、当該半導体モジュールを冷却する冷却手段との間に、2以上の絶縁シートを積層した絶縁体を介装させて半導体装置を構成する。
このように、半導体モジュールと冷却手段との間に介装される絶縁体を、2以上の絶縁シートを積層して構成することにより、一方の絶縁シートに絶縁不良の原因となるピンホールやクラック等の微小な孔が発生しても、他方の絶縁シートにより半導体モジュールと冷却手段との間の絶縁性を確保することが出来るので、前記絶縁体を一枚の絶縁シートで構成した場合と比較して、半導体装置における絶縁不良の発生確率を全体として低下させることが出来、絶縁体にピンホールやクラックが発生しても半導体モジュールと冷却手段との間の絶縁性を確保することが可能となる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
[第1実施形態]
図1は本発明の実施形態に係る半導体装置の分解斜視図、図2は図1のII-II線に沿った部分断面図である。
本実施形態に係る半導体装置1は、図1に示すように、半導体チップ11、バスバー13c、13e、13ec及び樹脂モールド14により形成され、所定の電気回路を構成する非絶縁型の半導体モジュール10と、当該半導体モジュール10で発生した熱を放熱するための冷却ジャケット40(冷却手段)と、半導体モジュール10と冷却ジャケット40との間の絶縁性を確保するための絶縁体20とを備えており、当該絶縁体20を半導体モジュール10と冷却ジャケット40の間に挟んだ状態で、11本のボルト50により半導体モジュール10と冷却ジャケット40とが固定されている。
本実施形態に係る半導体装置1の半導体モジュール10は、図1及び図2に示すように、複数の半導体チップ11が接続されたP極バスバー13c、N極バスバー13e、出力バスバー13ecを樹脂モールド14で固定して形成されている。また、この半導体モジュール10では、例えばIGBTやフリーホイールダイオード等の複数の半導体チップ11が、P極バスバー13c、N極バスバー13e及び出力バスバー13ec上に、ハンダ等の導電性材料15を介してそれぞれ接続されていると共に、各半導体チップ11の上面の入出力パッド及び電源パッドがボンディングワイヤ12により各バスバー13c、13e、13ec及び他の半導体チップ11のパッド又は回路配線等に接続されることにより、例えば、所望の電力にPWM制御された3相交流電力を生成する電源制御回路等の電気回路が構成されている。そして、当該電気回路を構成する各バスバー13c、13e、13ecが相互に絶縁されるように、樹脂モールド14により当該各バスバー13c、13e、13ecがモールドされている。また、この半導体モジュール10の所定の位置には、図1に示すように半導体モジュール10と冷却ジャケット40とを固定するボルト50を挿入するための11個のボルト挿入孔16が貫通して形成されている。
本実施形態に係る半導体装置1の冷却ジャケット40は、図1及び図2に示すように、その内部を冷媒41が循環可能になっており、半導体モジュール10から絶縁体20を介して伝達された熱が、この冷媒41を介して外部に放熱される。また、この冷却ジャケット40には、図1に示すように半導体モジュール10と冷却ジャケット40とをボルト50により固定するための11個のボルト固定孔42が、上述の半導体モジュール10の各ボルト挿入孔16に対応する位置に形成されている。
本実施形態に係る半導体装置1の絶縁体20は、図1及び図2に示すように、例えばセラミックスを含有したシリコーンゴム材料等から成り、電気的絶縁特性及び高熱伝導性(低熱抵抗性)を有する2枚の絶縁シート21、22を積層して構成されている。また、各絶縁シート21、22には、図1に示すように、半導体モジュール10と冷却ジャケット40とを固定するボルト50を挿入するための11個のボルト挿入孔23が、上述の半導体モジュール10の各ボルト挿入孔16に対応する位置に貫通して形成されている。
なお、各絶縁シート21、22は、従来の一枚の絶縁シートの半分の厚さを有しており、絶縁体20全体としての厚さは、従来と比較して増加していないので、絶縁シート21、22を2枚重ねにすることによる熱抵抗の増加はなく、半導体モジュール10から冷却ジャケット40への伝熱性への影響は生じない。
さらに、本実施形態に係る半導体装置1では、図2に示すように、半導体モジュール10と絶縁体20において上方に位置する第1の絶縁シート21との間、絶縁シート21、22同士の間、及び、絶縁体20において下方に位置する第2の絶縁シート22と冷却ジャケット40との間に、それぞれ放熱グリス30が塗布されている。
以上のような構成の本実施形態に係る半導体装置1の組立では、先ず、第1の絶縁シート21、第2の絶縁シート22及び冷却ジャケット40の各上表面に放熱グリス30が塗布された後に、半導体モジュール10と冷却ジャケット40との間に、積層された2枚の絶縁シート21、22を挟み込んだ状態で、半導体モジュール10及び絶縁体20の各ボルト挿入孔16、23にボルト50が挿入され、当該ボルト50が冷却ジャケット40の各ボルト固定孔42に締結されて、半導体モジュール10、絶縁体20及び冷却ジャケット40が固定されることにより、半導体装置1が組み立てられる。
この半導体装置1の使用時には、半導体チップ11で発生した熱が、半導体モジュール10の導電性材料15及び各バスバー13c、13e、13ecと、絶縁体20を構成する2枚の絶縁シート21、22とを介して、冷却ジャケット40に伝達され、当該冷却ジャケット40の内部を循環する冷媒41により吸収されて外部に放熱され、半導体装置1の放熱が効率的に行われる。
本実施形態に係る半導体装置では、半導体モジュールと冷却ジャケットとの間に介装される絶縁体を、2枚の絶縁シートを積層して構成することにより、一方の絶縁シートに絶縁不良の原因となるピンホールやクラック等の微小な孔が発生しても、他方の絶縁シートにより、半導体モジュールと冷却ジャケットとの間の絶縁性を確保することが出来るので、前記絶縁体を一枚の絶縁シートで構成した場合と比較して、半導体装置における絶縁不良の発生確率を全体として低下させることが出来、絶縁体に微小な孔が発生しても半導体モジュールと冷却ジャケットとの間の絶縁性を確保することが可能となる。
また、本実施形態に係る半導体装置では、半導体モジュールと第1の絶縁シートとの間、2枚の絶縁シート同士の間、及び、第2の絶縁シートと冷却ジャケットとの間に、それぞれ放熱グリスが塗布されて広がっており、当該放熱グリスがこれら各表面に存在する微小な凹凸を埋めているので、半導体モジュールから冷却ジャケットへの熱伝導性を向上させることが可能となる。
[第2実施形態]
図3は本発明の第2実施形態に係る半導体装置を示す図であり、図2に対応する部分断面図、図4は本発明の第2実施形態に係る半導体装置に用いられる絶縁体の斜視図である。なお、第2実施形態に係る半導体装置1bの半導体モジュール10及び冷却ジャケット40の構造は、上述の第1実施形態に係る半導体装置1のものと同一であるので、当該同一箇所については、同一の符号を付して説明は省略し、ここでは、第1実施形態に係る半導体装置1との相違点のみについて説明する。
本発明の第2実施形態に係る半導体装置1bの絶縁体20bは、第1実施形態と同様に、積層された2枚の絶縁シート21、22から構成されているが、図3及び図4に示すように、当該2枚の絶縁シート21、22の両端部に位置する接合部24が、例えば熱溶着や接着などの手法により接合されている点で第1実施形態に係る半導体装置1の絶縁体20と相違する。
また、本実施形態に係る半導体装置1bでは、第1実施形態と同様に、半導体モジュール10と第1の絶縁シート21との間、2枚の絶縁シート21、22同士の間、及び、第2の絶縁シート22と冷却ジャケット40との間に放熱グリス40が塗布されている。
この本実施形態に係る半導体装置1bの組立では、先ず、一方の絶縁シート21、22の何れかの表面に放熱グリス40を塗布した後に、例えば熱溶着や接着などの手法により、2枚の絶縁シート21、22の両端部の各接合部24で接合されて、絶縁体20bが組み立てられる。そして、当該絶縁体20bを構成する第1の絶縁シート21の上面及び冷却ジャケット40の上面に放熱グリス40を塗布した後に、当該組み立てられた絶縁体20bを半導体モジュール10と冷却ジャケット40との間に挟み込んだ状態で、半導体モジュール10及び絶縁体20bの各ボルト挿入孔16、23にボルト50が挿入され、当該ボルト50が冷却ジャケット40の各ボルト固定孔42に締結され、半導体モジュール10、絶縁体20b及び冷却ジャケット40が固定されることにより、半導体装置1bが組み立てられる。なお、放熱グリス30を絶縁シート21、22に塗布する際は、接合部24をマスキングして放熱グリス30の塗布を行う。
本実施形態に係る半導体装置では、第1実施形態に係る半導体装置と同様に、半導体モジュールと冷却ジャケットとの間に介装される絶縁体を、2枚の絶縁シートを積層して構成することにより、一方の絶縁シートに絶縁不良の原因となるピンホールやクラック等の微小な孔が発生しても、他方の絶縁シートにより半導体モジュールと冷却ジャケットとの間の絶縁性を確保することが出来るので、前記絶縁体を一枚の絶縁シートで構成した場合と比較して、半導体装置における絶縁不良の発生確率を全体として低下させることが出来、絶縁体にピンホールやクラックが発生しても半導体モジュールと冷却ジャケットとの間の絶縁性を確保することが可能となる。
また、本実施形態に係る半導体装置では、半導体装置の絶縁体を構成する2枚の絶縁シートの少なくとも一部を接合することにより、半導体装置の組立時の当該2枚の絶縁シートの位置決めが不要となり、当該半導体装置の組立作業性が向上すると共に、当該位置決めにおいて発生する絶縁シートの皺も抑制することができ、熱抵抗の増加を抑制することが可能となる。
さらに、本実施形態に係る半導体装置では、第1実施形態に係る半導体装置と同様に、半導体モジュールと第1の絶縁シートとの間、2枚の絶縁シート同士の間、及び、第2の絶縁シートと冷却ジャケットの上面との間に、それぞれ放熱グリスが塗布されて広がっており、当該放熱グリスがこれら各表面に存在する微小な凹凸を埋めているので、半導体モジュールから冷却ジャケットへの熱伝導性を向上させることが可能となる。
[第3実施形態]
図5は本発明の第3実施形態に係る半導体装置を示す図であり、図2に対応する部分断面図、図6(A)〜(D)は本発明の第3実施形態に係る絶縁体の製造方法を示す斜視図である。なお、第3実施形態に係る半導体装置1cの半導体モジュール10及び冷却ジャケット40の構造は、上述の第1実施形態に係る半導体装置1のものと同一であるので、当該同一箇所については、同一の符号を付して説明は省略し、ここでは、第1実施形態に係る半導体装置1との相違点のみについて説明する。
本発明の第3実施形態に係る半導体装置1cの絶縁体20cは、第1実施形態と同様に、2枚の絶縁シート21、22から構成されているが、図5及び図6(A)〜(D)に示すように、例えば熱融着や接着などの手法により、接合部24a、24cで当該絶縁シート21、22の外周縁が全周に亘り接合され、当該絶縁シート21、22同士が密着するように積層されている点で第1実施形態に係る半導体装置1の絶縁体20と相違する。
この本実施形態に係る半導体装置1cの組立では、先ず、2枚の絶縁シート21、22同士が密着するように、当該2枚の絶縁シート21、22が積層されて絶縁体20cが組み立てられる。
具体的には、図6(A)に示すように、先ず、2枚の絶縁シート21、22を重ね合わせ、図6(B)に示すように、2枚の絶縁シートの一辺を残して、例えば熱溶着や接着等の手法により第1の接合部24aで他の三辺を接合すると共に、ボルト挿入孔23の形成が予定される第2の接合部24bも同様の手法により接合する。次に、図6(C)に示すように、2枚の絶縁シート21、22の接合されていない一辺から、当該2枚の絶縁シート21、22の間に形成された内部空間から空気を吸引し、当該内部空間を真空状態とすることにより、当該絶縁シート21、22を相互に密着させ、この状態で、接合されていない残りの一辺(第3の接合部24c)を接合し、2枚の絶縁シート21、22の外周縁を全周に亘って接合する。そして、図6(D)に示すように、各第2の接合部24bにボルト挿入孔23をそれぞれ形成して、絶縁体20cが組み立てられる。なお、当該各第2の接合部24bは、ボルト挿入孔23の直径より若干大きく形成されているので、ボルト挿入孔23を形成しても当該各第2の接合部24bにおける気密性は確保され、2枚の絶縁シート21、22の間の内部空間の真空状態は維持される。
次に、当該組み立てられた絶縁体20cを半導体モジュール10と冷却ジャケット40との間に挟み込んだ状態で、半導体モジュール10及び絶縁体20cの各ボルト挿入孔16、23にボルト50が挿入され、当該ボルト50が冷却ジャケット40の各ボルト固定孔42に締結されることにより、半導体装置1cが組み立てられる。
本実施形態に係る半導体装置では、第1実施形態に係る半導体装置と同様に、半導体モジュールと冷却ジャケットとの間に介装される絶縁体を、2枚の絶縁シートを積層して構成することにより、一方の絶縁シートに絶縁不良の原因となるピンホールやクラック等の微小な孔が発生しても、他方の絶縁シートにより半導体モジュールと冷却ジャケットとの間の絶縁性を確保することが出来るので、前記絶縁体を一枚の絶縁シートで構成した場合と比較して、半導体装置における絶縁不良の発生確率を全体として低下させることが出来、絶縁体にピンホールやクラックが発生しても半導体モジュールと冷却ジャケットとの間の絶縁性を確保することが可能となる。
また、本実施形態に係る半導体装置では、半導体装置の絶縁体を構成する2枚の絶縁シートの少なくとも一部を接合することにより、半導体装置の組立時の当該2枚の絶縁シートの位置決めが不要となり、当該半導体装置の組立作業性が向上すると共に、当該位置決めにおいて発生する絶縁シートの皺も抑制でき、熱抵抗の増加を抑制することが可能となる。
さらに、本実施形態に係る半導体装置では、2枚の絶縁シートの外周縁を全周に亘り接合し、当該絶縁シートの間に形成される内部空間を真空状態として、当該2枚の絶縁シートを密閉するように積層することにより、半導体モジュールから冷却ジャケットへの熱伝達性を向上させることが可能となる。
[第4実施形態]
図7は本発明の第4実施形態に係る半導体装置を示す図であり、図2に対応する部分断面図である。なお、第4実施形態に係る半導体装置1dの半導体モジュール10及び冷却ジャケット40の構造は、上述の第1実施形態に係る半導体装置1のものと同一であるので、当該同一箇所については、同一の符号を付して説明は省略し、ここでは、第1実施形態に係る半導体装置1との相違点のみについて説明する。
本発明の第4実施形態に係る半導体装置1dの絶縁体20dは、第1実施形態と同様に、2枚の絶縁シート21、22から構成されているが、図7に示すように、例えば熱融着や接着等の手法により、接合部24a、24cで当該絶縁シート21、22の外周縁が全周に亘り接合されており、当該絶縁シート21、22の間に形成された内部空間に放熱グリス30が塗布されている点で第1実施形態に係る半導体装置1の絶縁体20と相違する。
この本実施形態に係る半導体装置1dの組立では、先ず、2枚の絶縁シート21、22間に放熱グリス30を塗布した状態で、第3実施形態に係る絶縁体20cの組立方法に類似した方法により、当該2枚の絶縁シート21、22の外周縁を全周に亘って接合して、本実施形態に係る絶縁体20cが組み立てられる。
具体的には、一方の絶縁シート21、22の何れかの表面に放熱グリス30を塗布し、当該放熱グリス30が塗布された面を間に挟むように、2枚の絶縁シート21、22を重ね合わせ(図6(A)参照)、次に、第1及び第3の接合部24a、24cで当該2枚の絶縁シート21、22の外周縁を全周に亘って接合すると共に、ボルト挿入孔23の形成を予定している第2の接合部24bを接合し(図6(B)及び図6(C)参照)、各第2の接合部24bにボルト挿入孔23をそれぞれ形成し(図6(D)参照)、絶縁体20dが組み立てられる。なお、当該各第2の接合部24bは、第3実施形態と同様に、ボルト挿入孔23の直径より若干大きく形成されている。また、放熱グリス30を塗布する際は、各接合部24a〜24cをマスキングして放熱グリス30の塗布を行う。
次に、当該絶縁体20bを構成する第1の絶縁シート21の上面及び冷却ジャケット40の上面に放熱グリス30を塗布した後に、当該組み立てられた絶縁体20dを半導体モジュール10と冷却ジャケット40との間に挟み込んだ状態で、半導体モジュール10及び絶縁体20dの各ボルト挿入孔16、23にボルト50が挿入され、当該ボルト50が冷却ジャケット40の各ボルト固定孔42に締結されて、半導体モジュール10、絶縁体20d及び冷却ジャケット40が固定されることにより、半導体装置1dが組み立てられる。
本実施形態に係る半導体装置では、第1実施形態に係る半導体装置と同様に、半導体モジュールと冷却ジャケットとの間に介装される絶縁体を、2枚の絶縁シートを積層して構成することにより、一方の絶縁シートに絶縁不良の原因となるピンホールやクラック等の微小な孔が発生しても、他方の絶縁シートにより半導体モジュールと冷却ジャケットとの間の絶縁性を確保することが出来るので、前記絶縁体を一枚の絶縁シートで構成した場合と比較して、半導体装置における絶縁不良の発生確率を全体として低下させることが出来、絶縁体にピンホールやクラックが発生しても半導体モジュールと冷却ジャケットとの間の絶縁性を確保することが可能となる。
また、本実施形態に係る半導体装置では、半導体装置の絶縁体を構成する2枚の絶縁シートの少なくとも一部を接合することにより、半導体装置の組立時の当該2枚の絶縁シートの位置決めが不要となり、当該半導体装置の組立作業性が向上すると共に、当該位置決めにおいて発生する絶縁シートの皺も抑制することができ、熱抵抗を抑制することが可能となる。
さらに、本実施形態に係る半導体装置では、第1実施形態に係る半導体装置と同様に、半導体モジュールと第1の絶縁シートとの間、2枚の絶縁シート同士の間、及び、第2の絶縁シートと冷却ジャケットとの間に、それぞれ放熱グリスが塗布されて広がっており、当該放熱グリスがこれら各表面に存在する微小な凹凸を埋めていることが出来るので、半導体モジュールから冷却ジャケットへの熱伝導性を向上させることが可能となる。
また、本実施形態に係る半導体装置では、2枚の絶縁シートの少なくとも一方の表面に放熱グリスを塗布すると共に、2枚の絶縁シートの外周縁を全周に亘って接合しているため、絶縁シートに塗布された放熱グリスが流れ出す事を防止することが出来る。
[第5実施形態]
図8は本発明の第5実施形態に係る半導体装置を示す図であり、図2に対応する部分断面図である。なお、第5実施形態に係る半導体装置1eの半導体モジュール10及び冷却ジャケット40の構造は、上述の第1実施形態に係る半導体装置1のものと同一であるので、当該同一箇所については、同一の符号を付して説明は省略し、ここでは、第1実施形態に係る半導体装置1との相違点のみについて説明する。
本発明の第5実施形態に係る半導体装置1eの絶縁体20eは、第1実施形態と同様に、2枚の絶縁シート21、22から構成されているが、図8に示すように、例えば熱溶着や接着等の手法により、接合部24a、24cで当該絶縁シート21、22の外周縁が全周に亘り接合されており、当該絶縁シート21、22の間に形成された内部空間に放熱グリス30が塗布されていると共に、各絶縁シート21、22に、その内部空間から外部に連通する貫通孔25が形成されており、当該半導体装置1eの組立時にこの貫通孔25を介して、半導体モジュール10と絶縁体20eとの間、及び、絶縁体20eと冷却ジャケット40との間に放熱グリス30が噴出されて塗布される点で第1実施形態に係る半導体装置1の絶縁体20と相違する。
この本実施形態に係る半導体装置1dの組立では、先ず、2枚の絶縁シート21、22間に放熱グリス30を塗布した状態で、第3実施形態に係る絶縁体20cの組立方法に類似した方法により、当該2枚の絶縁シート21、22の外周縁を全周に亘って接合して、本実施形態に係る絶縁体20eが組み立てられる。
具体的には、先ず、図8に示すように、各絶縁シート21、22の所定の位置に貫通孔25をそれぞれ形成し、一方の絶縁シート21、22の何れかの表面に放熱グリス30を塗布し、当該放熱グリス30が塗布された面を間に挟むように、2枚の絶縁シート21、22を重ね合わせ(図6(A)参照)、次に、第1及び第3の接合部24a、24cで当該2枚の絶縁シート21、22の外周縁を全周に亘って接合すると共に、ボルト挿入孔23の形成を予定している第2の接合部24bを接合し(図6(B)及び図6(C)参照)、各第2の接合部24bにボルト挿入孔23をそれぞれ形成して(図6(D)参照)、絶縁体20eが組み立てられる。
なお、本実施形態においては、第1の絶縁シート21の貫通孔25と、第2の絶縁シート22の貫通孔25とは、相互の間隔が、当該2枚の絶縁シート21、22が重ね合わせられた際に、絶縁体20eにおける電気的絶縁特性を確保するのに必要な距離Lを空けるように形成されている。また、各第2の接合部24bは、第3実施形態と同様に、ボルト挿入孔23の直径より大きく形成されており、第4実施形態と同様に、放熱グリス30を塗布する際は、各接合部24a〜24cをマスキングして放熱グリス30の塗布が行われる。
次に、組み立てられた絶縁体20eを半導体モジュール10と冷却ジャケット40との間に挟み込んだ状態で、半導体モジュール10、絶縁体20eの各ボルト挿入孔16、23にボルト50が挿入され、当該ボルト50が冷却ジャケット40の各ボルト固定孔42に締結されて、半導体モジュール10、絶縁体20e及び冷却ジャケット40が固定されることにより半導体装置1eが組み立てられる。
本実施形態に係る半導体装置1eでは、このボルト50の締め付けの際に、絶縁シート21、22が加圧され、当該絶縁シート21、22の間に塗布された放熱グリス30が各貫通孔25から噴出し、当該噴出した放熱グリス30が半導体モジュール10と絶縁体20eとの間、及び、絶縁体20eと冷却ジャケット40との間に広がり、当該放熱グリス30が塗布される。
本実施形態に係る半導体装置では、第1実施形態に係る半導体装置と同様に、半導体モジュールと冷却ジャケットとの間に介装される絶縁体を、2枚の絶縁シートを積層して構成することにより、一方の絶縁シートに絶縁不良の原因となるピンホールやクラックなどの微小な孔が発生しても、他方の絶縁シートにより半導体モジュールと冷却ジャケットとの間の絶縁性を確保することが出来るので、前記絶縁体を一枚の絶縁シートで構成した場合と比較して、半導体装置における絶縁不良の発生確率を全体として低下させることが出来、絶縁体にピンホールやクラックが発生しても半導体モジュールと冷却ジャケットとの間の絶縁性を確保することが可能となる。
また、本実施形態に係る半導体装置では、半導体装置の絶縁体を構成する2枚の絶縁シートの少なくとも一部を接合することにより、半導体装置の組立時の当該2枚の絶縁シートの位置決めが不要となり、当該半導体装置の組立作業性が向上すると共に、当該位置決めにおいて発生する絶縁シートの皺も抑制することができ、熱抵抗を抑制することが可能となる。
さらに、本実施形態に係る半導体装置では、第1実施形態に係る半導体装置と同様に、半導体モジュールと第1の絶縁シートとの間、2枚の絶縁シート同士の間、及び、第2の絶縁シートと冷却ジャケットとの間に、それぞれ放熱グリスが塗布されて広がっており、当該放熱グリスがこれら各表面に存在する微小な凹凸を埋めているので、半導体モジュールから冷却ジャケットへの熱伝導性を向上させることが可能となる。
また、本実施形態に係る半導体装置では、放熱グリスが間に塗布された2枚の絶縁シートの貫通孔を設け、当該半導体装置の組立時のボルトの締結力により、半導体モジュールと絶縁体との間、及び、絶縁体と冷却ジャケットとの間に、当該貫通孔から放熱グリスを噴出させて塗布させることが出来るので、半導体装置の組立時に、半導体モジュールと絶縁体との間、及び、絶縁体と冷却ジャケットとの間に放熱グリスを予め塗布する必要がなくなり、半導体装置の組立作業性が大幅に向上する。
なお、以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。例えば、上述の実施形態においては、2枚の絶縁シートを積層して絶縁体を構成するように説明したが、本発明では特にこれに限定されることなく、半導体モジュールから冷却ジャケットへの伝熱性に影響を与えない程度に、2枚以上の絶縁シートを積層して絶縁体を構成しても良い。因みに絶縁シートの積層枚数が多い程、絶縁不良の発生確率を低くすることが出来る。また、上述の実施形態においては、3相交流電力を制御する電力制御回路を例示して説明したが、本発明では特にこれに限定されることなく、単相の電力制御回路、2相の電力制御回路等を含む任意の電気回路に対して適用可能であり、回路構成には何ら限定されない。
図1は、本発明の第1実施形態に係る半導体装置の分解斜視図である。 図2は、図1のII-II線に沿った部分断面図である。 図3は、本発明の第2実施形態に係る半導体装置を示す図であり、図2に対応する部分断面図である。 図4は、本発明の第2実施形態に係る半導体装置に用いられる絶縁体の斜視図である。 図5は、本発明の第3実施形態に係る半導体装置を示す図であり、図2に対応する部分断面図である。 図6(A)〜(D)は、本発明の第3実施形態に係る半導体装置に用いられる絶縁体の製造方法を示す斜視図である。 図7は、本発明の第4実施形態に係る半導体装置を示す図であり、図2に対応する部分断面図である。 図8は、本発明の第5実施形態に係る半導体装置を示す図であり、図2に対応する部分断面図である。
符号の説明
1…半導体装置
10…半導体モジュール
11…半導体チップ
12…ボンディングワイヤ
13c…P極バスバー
13e…N極バスバー
13ec…出力バスバー
14…樹脂モールド
15…導電性材料
16…ボルト挿入孔
20…絶縁体
21…第1の絶縁シート
22…第2の絶縁シート
23…ボルト挿入孔
24…接合部
25…貫通孔
30…放熱グリス
40…冷却ジャケット
41…冷媒
42…ボルト固定孔
50…ボルト

Claims (5)

  1. 半導体チップが接続されたバスバーを樹脂モールドにより固定して形成された半導体モジュールと、
    前記半導体モジュールを冷却する冷却手段と、
    前記半導体モジュールと前記冷却手段との間に介装された絶縁体と、を少なくとも備えた半導体装置であって、
    前記絶縁体は、積層された2以上の絶縁シートを有する半導体装置。
  2. 前記2以上の絶縁シートの少なくとも一部が相互に接合されている請求項1記載の半導体装置。
  3. 前記2以上の絶縁シートの少なくとも一部が相互に密着するように積層されている請求項2記載の半導体装置。
  4. 前記絶縁体と前記半導体モジュールとの間、前記2以上の絶縁シート同士の間、又は、前記絶縁体と前記冷却手段との間、の少なくとも一つの間に放熱グリスが塗布されている請求項1又は2記載の半導体装置。
  5. 前記2以上の絶縁シートの少なくとも外周縁が全周に亘って相互に接合されて、前記2以上の絶縁シートの間に内部空間が形成されており、
    前記内部空間には放熱グリスが充填され、
    前記内部空間と外部とを連通した貫通穴が、前記各絶縁シートに形成されている請求項4記載の半導体装置。
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