JP2005055889A - 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 - Google Patents
電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005055889A JP2005055889A JP2004214814A JP2004214814A JP2005055889A JP 2005055889 A JP2005055889 A JP 2005055889A JP 2004214814 A JP2004214814 A JP 2004214814A JP 2004214814 A JP2004214814 A JP 2004214814A JP 2005055889 A JP2005055889 A JP 2005055889A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- converter
- electron beam
- line segment
- resolution
- calculated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】 距離算出手段311が描画パターンの始点終点間距離Lを算出し、走査クロック数算出手段312が距離Lと高速D/A変換器306の最小分解能に相当する単位距離とに基づいて、描画パターンを描画するために必要な走査クロック数を算出する。Count変換手段313が距離LをX、Y成分に分解し、走査クロック数を用いた式に変換する。調整率算出手段315が変換された式と始点終点間距離との間の誤差を調整するための調整率を算出し、可変率算出手段314は上述の式及び調整率に基づいて、可変減衰器307に減衰率を指定するために減衰率を算出する。ATTD/A変換器303はその値に基づいて可変減衰器307の減衰率を指定し、高速D/A変換器306の分解能に相当する単位距離を縮小して電子ビームを照射し、描画する。
【選択図】 図4
Description
式(1) Count=Round(L/LS0)
ここで、Roundは、L/LS0を四捨五入することを意味する。例えば図10における線分803aにおいては、L/LS0の値が“4.5”より小さい場合は、Countは“4”となり、L/LS0の値が“4.5”以上の場合は、Countは“5”となる。この従来技術の説明においては、L/LS0の値が“4.5”以上の場合について説明する。従って、点804aから点804bまで描画するのに必要な走査クロック数(Count)は“5”となる。
式(2) X=(LS0×Count)×cosθ
Y=(LS0×Count)×sinθ
このようにして、線分803aの描画終了位置は高速D/A変換器の単位距離LS0と、始点から終点まで描画するために必要な走査クロック数(Count)を用いて決定される。
図1に、本実施形態における電子ビーム描画装置の全体構成を示す概略構成図を示す。電子ビーム描画装置1は、大電流で高解像度の電子線プローブを形成して、これを高速に描画対象の基材2上で走査するものであり、高解像度の電子線プローブを形成し電子ビームを生成してターゲットに対してビーム照射を行う電子ビーム生成手段である電子銃12と、この電子銃12からの電子ビームを通過させるスリット14と、スリット14を通過する電子ビームの前記基材2に対する焦点位置を制御するための電子レンズ16と、電子ビームが出射される経路上に配置されたアパーチャー18と、電子ビームを偏向させることでターゲットである基材2上の走査位置などを制御する偏向器20と、を含み構成されている。尚、これらの各部は、鏡筒10内に配置されて電子ビーム出射時には真空状態に維持される。
次に、本実施形態の電子ビーム描画装置1によって、例えば、斜線を含む線を高精度かつ高速に描画するための演算処理について説明する。この演算処理は、本発明の特徴部分である位置誤差演算部300が行う。この位置誤差演算部300の具体的な構成について図4を参照しつつ説明する。
次に、上述した位置誤差演算部300を有する本実施形態の電子ビーム描画装置1を用いて、例えば、斜線を含む描画パターンを描画する際の処理手順について、図5乃至図7を参照しつつ説明する。
式(3) L={(xs―xe)2+(ys−ye)2}1/2
式(4) Count=int(L/LS1)+1
ここで、intは、(L/LS1)の整数部を表している。例えば、本実施形態における線分603aの場合は、int(L/LS1)は“4”となり、そのint(L/LS1)に“1”が加算されているため、Countは“5”となる。
式(5) X=cosθ×(LS1×Count)―cosθ×ΔL
Y=sinθ×(LS1×Count)―sinθ×ΔL
ここで、ΔLはΔL=(LS1×Count)―Lで表される。このΔLは図7における終点誤差606に該当する。また、式(5)におけるcosθおよびsinθは、以下の式(6)に基づいて算出される。
式(6) cosθ=(xs―xe)/L
sinθ=(ys−ye)/L
このようにして、線分603aの描画終点位置は、X、Y成分に分解され、高速D/A変換器306の分解能に相当する単位距離LS1と、始点から終点まで描画するために必要な走査クロック数(Count)を用いて決定される。
調整率算出手段315は、次の式(7)により調整率ARを算出する(ステップS05)。
式(7) 調整率AR=L/(LS1×Count)
={(LS1×Count)―ΔL}/(LS1×Count)
=1−ΔL/(LS1×Count)
式(8)
ATTX=int(2n×AR×cosθ)
ATTY=int(2n×AR×sinθ)
尚、この式(8)における“n”は、ATTD/A変換器303のbit数に相当する。このATTD/A変換器303のbit数は、高速D/A変換器306のbit数の値以上に設定されている。
式(9)X=(LS1×Count)×ATTX/2n
≒(LS1×Count)×AR×cosθ
=(LS1×AR)×Count×cosθ
Y=(LS1×Count)×ATTY/2n
≒(LS1×Count)×AR×sinθ
=(LS1×AR)×Count×sinθ
この式(9)を更に変形すると、
X≒(LS1×Count)×AR×cosθ
=(LS1×Count)×(1−ΔL/(LS1×Count))×cosθ
=(LS1×Count−ΔL)×cosθ
=(LS1−ΔL/Count)×Count×cosθ
Y≒(LS1×Count)×AR×sinθ
=(LS1×Count)×(1−ΔL/(LS1×Count))×sinθ
=(LS1×Count−ΔL)×sinθ
=(LS1−ΔL/Count)×Count×sinθ
従って、終点誤差ΔLだけ高速D/A変換器306の分解能に相当する単位距離LS1とCountとを掛け合わせた積算値を縮小したことになる。つまり、単位距離LS1は、{LS1−ΔL/Count}に縮小したことになる。ここで、本実施形態における縮小率すなわち調整率は、(1−ΔL/(LS1×Count))である。
式(10) Count=int(L/LS1) (ただし、L≧LS1の場合)
例えば、本実施形態における線分603aの場合は、int(L/LS1)は“4”となる。
式(11) X=cosθ×(LS1×Count)+cosθ×ΔL
Y=sinθ×(LS1×Count)+sinθ×ΔL
ここで、ΔLはΔL=L―(LS1×Count)で表される。
調整率算出手段315は、次の式(12)により調整率ARを算出する。
式(12) 調整率AR=L/(LS1×Count)
=(LS1×Count+ΔL)/(LS1×Count)
=1+ΔL/(LS1×Count)
式(13)
ATTX=int{2n×AR×cosθ}
ATTY=int{2n×AR×sinθ}
この式(13)における“n”は、ATTD/A変換器303のbit数に相当する。このATTD/A変換器303のbit数は、高速D/A変換器306のbit数の値以上に設定されている。
式(14)X=(LS1×Count)×ATTX/2n
≒(LS1×Count)×AR×cosθ
=(LS1×AR)×Count×cosθ
Y=(LS1×Count)×ATTY/2n
≒(LS1×Count)×AR×sinθ
=(LS1×AR)×Count×sinθ
式(14)を更に変形すると、
X≒(LS1×Count)×AR×cosθ
=(LS1×Count)×(1+ΔL/(LS1×Count))×cosθ
=(LS1×Count+ΔL)×cosθ
=(LS1+ΔL/Count)×Count×cosθ
Y≒(LS1×Count)×AR×sinθ
=(LS1×Count)×(1+ΔL/(LS1×Count))×sinθ
=(LS1×Count+ΔL)×sinθ
=(LS1+ΔL/Count)×Count×sinθ
従って、終点誤差ΔLだけ高速D/A変換器306の分解能に相当する単位距離LS1とCountとを掛け合わせた積算値を拡張したことになる。つまり、単位距離LS1は、{LS1+ΔL/Count}に拡張したことになる。ここで、本実施形態における拡張率すなわち調整率ARは前述のように、(1+ΔL/(LS1×Count))である。
次に、本発明の電子ビーム描画装置の変形例について、図8を参照しつつ説明する。図8に、変形例の位置誤差演算部、偏向部、および偏向器を示す。
2 基材
300 位置誤差演算部
301 演算手段
302a、302b 高精度D/A変換器
303a、303b ATTD/A変換器
304 カウンタ回路
305 クロック発生回路
306 高速D/A変換器
307a、307b 可変減衰器
311 距離算出手段
312 走査クロック数算出手段
313 Count変換手段
314 可変率算出手段
315 調整率算出手段
320a、320b 加算器
601、602 描画フィールド
603 描画すべき線
Claims (14)
- 所望の線分の描画開始位置の信号を出力する第1のD/A変換器と、
走査クロックのカウント値をアナログ信号に変換して出力する第2のD/A変換器と、
前記線分の寸法に応じた所定の走査クロック数と前記第2のD/A変換器の分解能に相当する単位距離との積算値を算出し、その積算値と前記線分の寸法との差分に応じた調整率を算出する演算手段と、
前記第2のD/A変換器から出力された前記アナログ信号を前記演算手段で算出した前記調整率に応じて可変調整する可変調整器と、
前記第1のD/A変換器から出力された前記描画開始位置の信号と前記第2のD/A変換器から出力され前記可変調整器により可変調整されたアナログ信号とが入力され、電子ビームを偏向走査する電子ビーム走査装置と、
を備えた電子ビーム描画装置。 - 前記走査クロック数は、前記線分の寸法を前記第2のD/A変換器の分解能に相当する単位距離で除算し、その除算結果の小数点以下を切り捨てて、1走査クロック数を加算することにより算出された値であることを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム描画装置。
- 前記走査クロック数は、前記線分の寸法を前記第2のD/A変換器の分解能に相当する単位距離で除算し、その除算結果の小数点以下を切り捨てることにより算出された値であることを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム描画装置。
- 前記演算手段は、前記走査クロック数と前記第2のD/A変換器の分解能に相当する単位距離との積算値を算出し、その積算値から前記線分の寸法を減算して得られる差分に基づいて前記調整率を算出することを特徴とする請求項2または請求項3のいずれかに記載の電子ビーム描画装置。
- 前記可変調整器は、前記演算手段により算出された調整率に基づく減衰率で前記第2のD/A変換器から出力されるアナログ信号を減衰させ、その減衰されたアナログ信号を前記電子ビーム走査装置に入力することを特徴とする請求項4に記載の電子ビーム描画装置。
- 前記第2のD/A変換器の分解能に相当する単位距離は、前記第1のD/A変換器の分解能に相当する単位距離よりも長いことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の電子ビーム描画装置。
- 前記第1のD/A変換器の出力と前記第2のD/A変換器の出力とを前記電子ビーム走査装置に入力する前に加算する加算器を更に備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の電子ビーム描画装置。
- 第1のD/A変換器により所望の線分の描画開始位置の信号を出力するステップと、
第2の変換器により走査クロックのカウント値をアナログ信号に変換して出力するステップと、
前記線分の寸法に応じた所定の走査クロック数と前記第2のD/A変換器の分解能に相当する単位距離との積算値を算出し、その積算値と前記線分の寸法との差分に応じた調整率を算出する演算ステップと、
前記第2のD/A変換器から出力された前記アナログ信号を前記演算ステップで算出した前記調整率に応じて可変調整する可変調整ステップと、
前記第1のD/A変換器から出力された前記描画開始位置の信号と前記可変調整ステップにて可変調整されたアナログ信号とを電子ビーム走査装置に入力して電子ビームを偏向走査するステップと、
を含むことを特徴とする電子ビーム描画方法。 - 前記走査クロック数は、前記線分の寸法を前記第2のD/A変換器の分解能に相当する単位距離で除算し、その除算結果の小数点以下を切り捨てて、1走査クロック数を加算することにより算出された値であることを特徴とする請求項8に記載の電子ビーム描画方法。
- 前記走査クロック数は、前記線分の寸法を前記第2のD/A変換器の分解能に相当する単位距離で除算し、その除算結果の小数点以下を切り捨てることにより算出された値であることを特徴とする請求項8に記載の電子ビーム描画方法。
- 前記演算ステップにおいては、前記走査クロック数と前記第2のD/A変換器の分解能に相当する単位距離との積算値を算出し、その積算値から前記線分の寸法を減算して得られる差分に基づいて前記調整率を算出することを特徴とする請求項9または請求項10のいずれかに記載の電子ビーム描画方法。
- 前記可変調整ステップにおいては、前記演算ステップにて算出された調整率に基づく減衰率で前記第2のD/A変換器から出力されるアナログ信号を減衰し、その減衰されたアナログ信号を前記電子ビーム走査装置に入力することを特徴とする請求項11に記載の電子ビーム描画方法。
- 前記第2のD/A変換器の分解能に相当する単位距離は、前記第1のD/A変換器の分解能に相当する単位距離よりも長いことを特徴とする請求項8乃至請求項12のいずれかに記載の電子ビーム描画方法。
- 前記第1のD/A変換器の出力と前記第2のD/A変換器の出力とを前記電子ビーム走査装置に入力する前に加算する加算ステップを更に含むことを特徴とする請求項8乃至請求項13のいずれかに記載の電子ビーム描画方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004214814A JP2005055889A (ja) | 2003-07-24 | 2004-07-22 | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003201320 | 2003-07-24 | ||
JP2004214814A JP2005055889A (ja) | 2003-07-24 | 2004-07-22 | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005055889A true JP2005055889A (ja) | 2005-03-03 |
Family
ID=34379797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004214814A Pending JP2005055889A (ja) | 2003-07-24 | 2004-07-22 | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005055889A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53120378A (en) * | 1977-03-30 | 1978-10-20 | Hitachi Ltd | Da converter |
JPS59181018A (ja) * | 1983-03-30 | 1984-10-15 | Jeol Ltd | 電子ビ−ム露光装置 |
-
2004
- 2004-07-22 JP JP2004214814A patent/JP2005055889A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53120378A (en) * | 1977-03-30 | 1978-10-20 | Hitachi Ltd | Da converter |
JPS59181018A (ja) * | 1983-03-30 | 1984-10-15 | Jeol Ltd | 電子ビ−ム露光装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4852643B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置 | |
US8461555B2 (en) | Charged particle beam writing method and charged particle beam writing apparatus | |
US11037759B2 (en) | Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method | |
US9859099B2 (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
US10256074B2 (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
KR102440642B1 (ko) | 하전 입자 빔 묘화 장치 및 하전 입자 빔 묘화 방법 | |
JP6212299B2 (ja) | ブランキング装置、描画装置、および物品の製造方法 | |
JP2008277373A (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | |
JPH0888160A (ja) | マスク並びにこれを用いる荷電粒子ビーム露光方法及び装置 | |
KR20190044508A (ko) | 하전 입자 빔 묘화 장치 및 하전 입자 빔 묘화 방법 | |
US9536705B2 (en) | Method for correcting drift of charged particle beam, and charged particle beam writing apparatus | |
JP2005055889A (ja) | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 | |
JP2591548B2 (ja) | 荷電粒子線露光装置及び荷電粒子線露光方法 | |
JP2006339404A (ja) | 電子ビーム描画装置 | |
US6989536B2 (en) | Electron-beam writing device and electron-beam writing method | |
JP2010147066A (ja) | 座標計測装置及び荷電粒子ビーム描画装置 | |
US8030626B2 (en) | Apparatus and method for charged-particle beam writing | |
JP2003022957A (ja) | 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法 | |
JP2007189206A (ja) | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | |
JP3584962B2 (ja) | 荷電ビーム描画方法及びその装置 | |
JP2002333722A (ja) | 光学素子加工方法、基材の描画方法、その方法によって形成された基材並びに光学素子、及び描画装置 | |
JP2002110532A (ja) | 電子ビーム露光装置及び電子ビームの照射位置ずれを校正する方法 | |
JP2004022882A (ja) | ビーム描画装置、ビーム描画システム及びビーム描画方法 | |
JP2022007078A (ja) | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | |
KR20220047651A (ko) | 하전 입자 빔 묘화 장치, 하전 입자 빔 묘화 방법 및 기록 매체 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070712 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20090401 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090401 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090610 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100406 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100727 |