JP2005031721A - Icカード及びicカードの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】モジュール支持体上にICチップ、アンテナを有するICモジュールを含む部品が接着剤を介在して設けられるICカードにおいて、ICチップの回路面と反対側に、密着剤を介して第1の補強板、さらに密着材を介して第2の補強板をこの順に具備し、前記ICチップの回路面側が前記モジュール支持体上に形成された前記アンテナと密着し電気的に接続されている。
【選択図】図1
Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、偽造、変造防止等の安全性(セキュリティ)が要求される個人情報等を記憶する非接触式の電子カード、あるいはシートに適用して好適なICカード及びICカードの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
身分証明書カード(IDカード)やクレジットカードなどには、従来磁気記録方式によりデータを記録する磁気カードが広く利用されてきた。しかしながら、磁気カードはデータの書き換えが比較的容易にできるため、データの改ざん防止が十分でないこと、磁気のため外的な影響を受けやすく、データの保護が十分でないこと、さらに記録できる容量が少ないなどの問題点があった。そこで、近年ICチップを内蔵したICカードが普及し始めている。
【0003】
ICカードは、表面に設けられた電気接点やカード内部のループアンテナを介して外部の機器とデータの読み書きをする。ICカードは磁気カードに比べて記憶容量が大きく、セキュリティ性も大きく向上している。特に、カード内部にICチップと外部との情報のやりとりをするためのアンテナを内蔵し、カード外部に電気接点を持たない非接触式ICカードは、電気接点をカード表面にもつ接触式ICカードに比べてセキュリティ性が優れ、IDカードのようにデータの機密性と偽変造防止性を高く要求する用途に使用されつつある。
【0004】
このようなICカードとして、例えば第1のシート材と第2のシート材が接着剤を介して貼り合わされ、その接着剤層中にICチップおよびアンテナを有するICモジュールを封入するものがある。
【0005】
ICカードはセキュリティ性が高いために耐久性が偽造変造の観点からも重要になっている。特に、カード内部にICチップと外部との情報のやりとりをするためのアンテナなどの電気部品が内蔵されているため、その耐久性を確保するためさまざまな試みが行われている。しかしながら、さまざまな用途に使用され普及しつつある中、さらに高い耐久性が必要とされてきた。カードという特性上、常に携帯しズボンのポケット等での繰返し曲げ、落下、コイン等の圧力に対して強い耐久性が要求される。例えば、圧力、曲げ等によるICチップの破壊やアンテナの断線による耐久性に関し、特開平6―199083、特開平8―324166に開示されている。
【0006】
こうした問題を解決する技術としては、従来より、半導体チップに対して、金属或いは樹脂からなる補強板を積層することが知られている(例えば、特開平9−156265号公報、特開平9−263082号公報等参照)。このように、ICチップに強固な補強構造物を設ける等の改良が提案されている。
【0007】
【特許文献1】
特開平6―199083号公報
【0008】
【特許文献2】
特開平8―324166号公報
【0009】
【特許文献3】
特開平9−156265号公報
【0010】
【特許文献4】
特開平9−263082号公報
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、一定の耐久性の向上は見られるが、さまざまな状況に対して十分な耐久性が得られてなく、例えば急激な応力がかかる衝撃への耐久性、繰返しに応力がかかる繰返し曲げ耐久性、繰返し局所荷重等に対して、ICチップが割れたり、カードが破損し引いては電気動作が不可能になるなどの問題が発生していた。また、これらの耐久性を改善するだけでなく、個人情報等を記載するためには、昇華印画、溶融印字等で濃度変動がなくカスレのないようにするよう平滑なカード表面性が必要になる。
【0012】
この発明では、このような耐久性を改善し、なお且つ表面性を高い次元で改善することが可能なICカード及びICカードの製造方法を提供することを目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決し、かつ目的を達成するために、この発明は、以下のように構成した。
【0014】
請求項1に記載の発明は、モジュール支持体上にICチップ、アンテナを有するICモジュールを含む部品が接着剤を介在して設けられるICカードにおいて、
前記ICチップの回路面と反対側に、密着剤を介して第1の補強板、さらに密着材を介して第2の補強板をこの順に具備し、
前記ICチップの回路面側が前記モジュール支持体上に形成された前記アンテナと密着し電気的に接続されていることを特徴とするICカードである。
【0015】
この請求項1に記載の発明によれば、ICチップの回路面側がモジュール支持体上に形成されたアンテナと密着し電気的に接続し、ICチップの回路面側は、モジュール支持体でICチップを保護し、かつ、同じ厚みであっても補強板を1板設けたものに比較しても2板にすることで極めて高いレベルで、応力を分散させICチップを破壊より守ることができる。
【0016】
請求項2に記載の発明は、前記第1の補強板が前記ICチップのICカード平面に垂直方向の投影面積及び外周より大きく、前記第2の補強板が前記第1の補強板の垂直方向の投影面積及び外周より大きいことを特徴とすることを特徴とする請求項1に記載のICカードである。
【0017】
この請求項2に記載の発明によれば、第1の補強板がICチップの面積及び外周より大きく、第2の補強板が第1の補強板の面積及び外周より大きいことで、一番大きい第2補強板に曲げたり、押したりしたときの荷重がかかりやすく、破壊しやすいため、ICチップの耐久性が向上する。
【0018】
請求項3に記載の発明は、前記第2の補強板より前記密着剤の面積及び外周が大きく、前記ICチップが前記密着剤で封止されていることを特徴とすることを特徴とする請求項1及び請求項2に記載のICカードである。
【0019】
この請求項3に記載の発明によれば、第2の補強板より密着剤の面積及び外周が大きく、ICチップが密着剤で封止されていることから、空隙がなくなり耐久性が向上し、凹凸性が低下してモジュール支持体上になだらかにICチップ部分が形成されることになり、平滑なカード表面を得ることができる。
【0020】
請求項4に記載の発明は、前記ICチップと、前記第1の補強板と、前記第2の補強板は、2%弾性率が0.1以上55.0kg/mm2以下の密着剤を介して固定されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のICカードである。
【0021】
この請求項4に記載の発明によれば、2%弾性率が55.0kg/mm2以下になると応力を吸収するのに優れ、ICチップをより破損から守り、0.1kg/mm2以上になると、自己支持性がより向上し、補強板との一体化が向上し、ICチップ破損防止効果が高い。
【0022】
請求項5に記載の発明は、ICカードの表裏の少なくとも片側に受像層を有し、他方に筆記層を有し、
前記受像層側に前記モジュール支持体の前記ICチップが実装されていない支持体面を、筆記層側に前記第1の補強板、前記第2の補強板が実装されている支持体面となるように、前記ICモジュールを設けたことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のICカードである。
【0023】
この請求項5に記載の発明によれば、モジュール支持体と第1の補強板、第2の補強板との間にICチップが設けられ、このモジュール支持体と補強板とによってICチップを破壊より守ることができる。
【0024】
請求項6に記載の発明は、前記ICチップの厚みが30μm以上190μm以下、前記密着剤の厚みが1μm以上50μm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のICカードである。
【0025】
この請求項6に記載の発明によれば、ICチップが厚いと曲げの応力に対してチップの回路が破壊しやすく、薄すぎると、局部応力により割れやすい。また、密着剤が厚すぎると高強度な補強板が隣接していても補強効果が低下し強度が落ち、逆に薄すぎると応力緩和機能を併せ持つ密着剤の効果が少なくなり曲げ等の応力に弱くなり、ICチップの厚みと、密着剤の厚みを規定することで、耐久性を改善することができる。
【0026】
請求項7に記載の発明は、前記アンテナが形成される前記モジュール支持体の厚みが10μm以上50μm以下、前記ICモジュールのICチップ部の最大厚みが350μm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のICカードである。
【0027】
この請求項7に記載の発明によれば、ICモジュールのICチップ部の最大厚みとは、回路面側とは逆のモジュール支持体面からICチップの補強板側の上面を言い、モジュール支持体が薄すぎるとアンテナが破壊しやすく、厚すぎるとICカードが厚くなり、ICモジュールのICチップ部が厚すぎると局部応力により割れやすく、アンテナが形成されるモジュール支持体の厚みと、ICモジュールのICチップ部の最大厚みを規定することで、耐久性を改善することができる。
【0028】
請求項8に記載の発明は、前記第1の補強板と前記第2の補強板の重心位置と、前記ICチップの重心位置が略同一であり、
補強板形状は、前記第1の補強板が金属よりなり円形または正方形であり、前記第2の補強板が金属よりなり正方形であることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のICカードである。
【0029】
この請求項8に記載の発明によれば、補強板形状が、第1の補強板が円形または正方形で、第2の補強板が正方形であることで、第1の補強板と第2の補強板で重心がずれていても良いが、最外層の補強板が重心よりより離れたところにあるほど、曲げ変形等の外部応力が加わったとき最外層が破壊しやすくなるため、略同一の補強板重心であることでその結果ICチップを保護できる。
【0030】
請求項9に記載の発明は、前記受像層に氏名、顔画像からなる個人識別情報が溶融熱転写、または昇華熱転写で設けられることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載のICカードである。
【0031】
この請求項9に記載の発明によれば、受像層に氏名、顔画像からなる個人識別情報が溶融熱転写、または昇華熱転写で設けられ、濃度変動がなくカスレのない情報記録ができる。
【0032】
請求項10に記載の発明は、前記接着剤の2%弾性率が、1以上80kgmm2以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載のICカードである。
【0033】
この請求項10に記載の発明によれば、2%弾性率が80kgmm2以下になると応力を吸収するのに優れ、ICモジュールをより破損から守り、1kg/mm2以上になると、自己支持性がより向上し、ICモジュールとの一体化が向上し、ICモジュール破損効果が高い。
【0034】
請求項11に記載の発明は、モジュール支持体上に設けたアンテナにICチップ回路面に設けた接続用バンプを異方導電性接着剤により電気接続した後に、
密着剤をポッティングで設けて第1の補強板を加圧加熱密着し、
さらに密着剤をポッティングで設けて第2の補強板を加圧加熱密着させICモジュールを作成し、
対向する2つの基材間の所定の位置に作成した前記ICモジュールを載置し、接着剤を充填し加圧密着することを特徴とするICカードの製造方法である。
【0035】
この請求項11に記載の発明によれば、モジュール支持体上にICチップ回路面に設けた接続用バンプを電気接続した後に、第1の補強板を加圧加熱密着し、第2の補強板を加圧加熱密着させICモジュールを作成し、対向する2つの基材間にICモジュールを載置し、接着剤を充填し加圧密着して、外力を応力分散させ、ICチップを破壊より保護することが可能なICカードを製造することができる。
【0036】
【発明の実施の形態】
以下、この発明のICカード及びICカード製造方法の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明するが、この発明は、この実施の形態に限定されない。また、この発明の実施の形態は、発明の最も好ましい形態を示すものであり、この発明の用語はこれに限定されない。
【0037】
まず、この発明のICカードについて説明する。図1はICカードの層構成を示す図である。
【0038】
この実施の形態のICカードは、身分証明書カードやクレジットカードなどに広く適用することができ、対向する2つの裏基材1と表基材2との間に、裏接着剤6と表接着剤7を介在してアンテナ3a1、ICチップ3a2を有するICモジュール3を含む部品が配置されてなる。
【0039】
裏接着剤6と表接着剤7は、同じ組成であり、この接着剤の2%弾性率が、1以上80kgmm2以下である。2%弾性率が80kg/mm2以上になると応力を吸収できず、ICモジュール3を破損し、1kg/mm2以下になると、自己支持性が低下し、ICモジュール3との一体化が低下し、ICモジュール3を破損するが、規定の2%弾性率の接着剤を介して固定することでICモジュール3の破損を防止することができる。
【0040】
一方の裏基材1には筆記可能な筆記層9aが設けられている。他方の表基材2には、受像層8aが設けられ、この受像層8aに氏名、顔画像を含む個人識別情報である認証画像、属性情報8bが記録される。受像層8aには、個人識別情報である認証画像、属性情報8bを保護する保護層8cが設けられ、この保護層8cを設けることで、摩耗や薬品などから、また、落下、コイン等の圧力に対して耐久性が向上する。この受像層8aに氏名、顔画像からなる個人識別情報が溶融熱転写、または昇華熱転写で設けられ、濃度変動がなくカスレのない情報記録ができる。
【0041】
このアンテナ3a1、ICチップ3a2はモジュール支持体3d上に設けられ、モジュール支持体3dは、例えばフィルムで構成される。モジュール支持体3dには、ICチップ3a2の回路面3a21とアンテナ3a1とが導電性接着剤90を介して電気的に接続されている。
【0042】
このICチップ3a2の回路面3a21と反対側3a22には、密着剤91を介して第1の補強板3bが接続され、この第1の補強板3bには、密着剤92を介して第2の補強板3cが接続されている。このように、ICカードは、ICチップ3a2の回路面3a21と反対側に、密着剤91,92を介して第1の補強板3b、第2の補強板3cを隣接してこの順に具備している。
【0043】
この密着剤91と密着剤92は、同じ組成であるが、この密着剤91と密着剤92は同じでも、異なっていてもよい。密着剤91はICチップ3a2を囲むようにようにモジュール支持体3d上に設けられ、ICチップ3a2に密着剤91を介して第1の補強板3bが接続される。密着剤92はICチップ3a2及び第1の補強板3bを囲むようにようにモジュール支持体3d上に設けられ、第1の補強板3bに密着剤92を介して第2の補強板3cが接続されている。
【0044】
このように、ICチップ3a2の回路面側がモジュール支持体3d上に形成されたアンテナ3a1と導電性接着剤90を介して密着し電気的に接続し、ICチップ3a2の回路面側は、モジュール支持体3dでICチップ3a2を保護している。ICチップ3a2の回路面3a21と反対側3a22は、密着剤91,92を介して第1の補強板3b、第2の補強板3cを具備し、2枚の補強板で強固にICチップ3a2を保護し、かつ、応力を分散させ、これによりICチップ3a2を破壊より守ることができる。
【0045】
このICモジュール3は、図2及び図3に示すように構成される。図2はICモジュールの側面図、図3はICチップ部の平面図である。
【0046】
この実施の形態のICモジュール3は、第1の補強板3bがICチップ3a2のICチップのICカード平面に垂直方向の投影面積及び外周より大きく、第2の補強板3cが第1の補強板3bの面積及び外周より大きくなっている。このように、第1の補強板3bがICチップ3a2の面積及び外周より大きく、第2の補強板3cが第1の補強板3bの面積及び外周より大きいことで、一番大きい第2補強板3cに曲げたり、押したりしたときの荷重がかかりやすく、破壊しやすい、さらに第1の補強板3bによりICチップ3a2が保護されており、ICチップ3a2の耐久性が向上する。
【0047】
また、第2の補強板3cより密着剤92の面積及び外周が大きく、ICチップ3a2が密着剤92で封止され、モジュール支持体3d上になだらかにICチップ部分が形成されることになり、平滑なカード表面を得ることができる。
【0048】
この実施の形態のICチップ3a2と、第1の補強板3bと、第2の補強板3cは、2%弾性率が0.1以上55.0kg/mm2以下の密着剤91,92を介して固定されている。2%弾性率が55.0kg/mm2以上になると応力を吸収できず、ICチップ3a2を破損し、0.1kg/mm2以下になると、自己支持性が低下し、第1の補強板3bと、第2の補強板3cの補強板との一体化が低下し、ICチップ3a2を破損するが、0.1以上55.0kg/mm2以下の密着剤91,92を介して固定することでICチップ3a2の破損を防止することができる。
【0049】
また、この実施の形態では、表裏の少なくとも片側に受像層8aを有し、他方に筆記層9aを有し、受像層8a側にモジュール支持体3dのICチップ3a2が実装されていない支持体面3d1を、筆記層9a側に第1の補強板3b、第2の補強板3cが実装されている支持体面3d2となるように、ICモジュール3を設けている。モジュール支持体3dと第1の補強板3b、第2の補強板3cとの間にICチップ3a2が設けられ、このモジュール支持体3dと補強板とによってICチップ3a2を破壊より守ることができる。
【0050】
この実施の形態では、ICチップ3a2の厚みD1が30μm以上190μm以下、密着剤91,92の厚みが1μm以上50μm以下である。ICチップ3a2が厚いと曲げに応力対してチップの回路が破壊しやすく、薄すぎると、局部応力により割れやすい。また、密着剤が厚すぎると高強度な補強板が隣接していても補強効果が低下し強度が落ち、逆に薄すぎると応力緩和機能を併せ持つ密着剤の効果が少なくなり曲げ等の応力に弱くなり、ICチップ3a2の厚みと、密着剤91,92の厚みを規定することで、耐久性を改善することができる。
【0051】
また、アンテナ3a1が形成されるモジュール支持体3dの厚みD3が10μm以上50μm以下、ICモジュール3のICチップ部の最大厚みD4が350μm以下である。ICモジュール3のICチップ部の最大厚みD4とは、回路面側とは逆のモジュール支持体面からICチップの補強板側の上面を言う。モジュール支持体3dが薄すぎるとアンテナ3a1が破壊しやすく、厚すぎるとICカードが厚くなり、ICモジュール3のICチップ部が厚すぎると局部応力により割れやすく、アンテナ3a1が形成されるモジュール支持体3dの厚みD3と、ICモジュール3のICチップ部の最大厚みD4を規定することで、耐久性を改善することができる。
【0052】
この実施の形態では、第1の補強板3bと第2の補強板3cの重心位置と、ICチップ3a2の重心位置が略同一であり、補強板形状は、第1の補強板3bが金属よりなる正方形であり、第2の補強板3cが金属よりなる正方形である。この第1の補強板3bが円形でもよい。補強板形状が、第1の補強板3bが円形または正方形で、第2の補強板3cが正方形であることで、最外層の補強板が重心よりより離れたところにあるほど、曲げ変形等の外部応力が加わったとき最外層が破壊しやすくなるため、その結果ICチップ3a2を保護できる。
【0053】
このICカードの製造は、図2及び図3に示すように、モジュール支持体3d上に設けたアンテナ3a1にICチップ回路面に設けた接続用バンプを、導電性接着剤90である異方導電性接着剤により電気接続した後に、密着剤91をポッティングで設けて第1の補強板3bを加圧加熱密着し、さらに密着剤92をポッティングで設けて第2の補強板3cを加圧加熱密着させICモジュール3を作成する。
【0054】
対向する2つの基材である裏基材1と表基材2間の所定の位置に作成したICモジュール3を載置し、接着剤である裏接着剤6と表接着剤7を充填し加圧密着して、外力を応力分散させ、ICチップ3a2を破壊より保護することが可能なICカードを製造することができる。
【0055】
次に、ICモジュール3の他の実施の形態を、図4に示す。図4はICモジュールの側面図である。この実施の形態は、図1乃至図3のICモジュール3と同様に構成されるが、第1の補強板3bより密着剤91のICチップのICカード平面に垂直方向の投影面積及び外周が小さく、密着剤91は、第1の補強板3bとICチップ3a2との間に設けられている。また、第2の補強板3cより密着剤92のICチップのICカード平面に垂直方向の投影面積及び外周が小さく、密着剤92は、第1の補強板3bと第2の補強板3cとの間に設けられている。この実施の形態の密着剤91は、図4(a)では、ICチップ3a2を封止しないように設けられているが、図4(b)では、ICチップ3a2を封止するように設けている。
【0056】
さらに、ICモジュール3の他の実施の形態を、図5に示す。図5はICモジュールの側面図である。この実施の形態は、図1乃至図3のICモジュール3と同様に構成されるが、第1の補強板3bと第2の補強板3cが同じ形状に形成されている。
【0057】
さらに、ICモジュール3の他の実施の形態を、図6に示す。図6はICモジュールのICチップ部の平面図である。この実施の形態は、図1乃至図3のICモジュール3と同様に構成されるが、第1の補強板3bと第2の補強板3cが、円形の同じ形状に形成されている。
【0058】
さらに、ICモジュール3の他の実施の形態を、図7に示す。図7はICモジュールのICチップ部の平面図である。この実施の形態は、図1乃至図3のICモジュール3と同様に構成されるが、第1の補強板3bが円形であり、第2の補強板3cが正方形であり、第1の補強板3bより第2の補強板3cが大きく形成されている。
【0059】
さらに、ICモジュール3の他の実施の形態を、図8及び図9に示す。図8はICモジュールの側面図、図9はICモジュールのICチップ部の平面図である。この実施の形態は、図4のICモジュール3と同様に構成されるが、第1の補強板3bより第2の補強板3cが小さく形成されている。この実施の形態では、第1の補強板3bと第2の補強板3cは、図9に示すように、同じ正方形であるが、円形でもよく、正方形と円形でもよい。
【0060】
次に、比較例のICモジュールの形態を、図10に示す。図10は比較例のICモジュールの側面図である。この比較例のICモジュールは、図1乃至図3のICモジュール3と同様に構成されるが、第1の補強板3bを設けるだけであり、密着剤92及び第2の補強板3bは設けていない。
【0061】
次に、比較例のICモジュールの形態を、図11に示す。図11は比較例のICモジュールの側面図である。この比較例のICモジュールは、図1乃至図3のICモジュール3と同様に構成されるが、第2の補強板3bは、モジュール支持体3dのICチップ3a2や第1の補強板3bが設けられる面とは反対側の面に設けられている。
【0062】
次に、他の比較例のICモジュールの形態を、図12及び図13に示す。図12は比較例のICカードの層構成を示す図、図13は比較例のICモジュールの側面図である。
【0063】
この比較例のICカードの層構成は、図1の実施の形態と同様に構成されるが、ICモジュール3は、モジュール支持体3dが不織布である。また、ICモジュール3は、ICチップ3a2の回路面3a21と反対側に、密着剤91,92を介して第1の補強板3b、第2の補強板3cを隣接してこの順に具備されるが、ICチップ3a2の回路面3a21の反対側がモジュール支持体3dに設けられ、ICチップ3a2の回路面側を筆記層9a側にして配置されている。
【0064】
次に、他の比較例のICモジュールの形態を、図14及び図15に示す。図14は比較例のICカードの層構成を示す図、図15は比較例のICモジュールの側面図である。
【0065】
この比較例のICカードの層構成は、図1の実施の形態と同様に構成されるが、ICモジュール3は、モジュール支持体3dが樹脂シートであり、例えばPET−Gシートを用いている。この樹脂シートにアンテナ3a1が形成される。ICチップ3a2は、リードフレーム3eに固定され、このリードフレーム3eが密着剤94によってモジュール支持体3dに固定されている。
【0066】
このような比較例に対し、この発明の実施の形態では、図16及び図17に示すような効果がある。
【0067】
図16に示すように、ICカードに応力がかかったときに、第1の補強板3bがICチップ3a2の面積及び外周より大きく、第2の補強板3cが第1の補強板3bの面積及び外周より大きいことで、一番大きい第2補強板3cに曲げたり、押したりしたときの荷重がかかりやすく、第2補強板3cから破壊が進行することで、ICチップ3a2が保護されてICチップ3a2の耐久性が向上する。
【0068】
また、図17に示すように、ICチップ3a2が密着剤92で封止されていないで、密着剤92の面積が小さいと空隙3fになりやすく、耐久性、凹凸性が低下しやすいが、第2の補強板3cより密着剤92の面積及び外周が大きく、ICチップ3a2が密着剤92で封止されていると、空隙3fがなくなり耐久性が向上し、凹凸性が低下してモジュール支持体3d上になだらかにICチップ部分が形成されることになり、平滑なカード表面を得ることができる。
【0069】
以下、この発明のICカード及びICカードの製造方法について詳細に説明する。
<破断伸度、2%弾性率の測定方法>
接着剤を、厚さ500μmの硬化後の接着剤シートを作成し、この接着剤シートを株式会社オリエンテックテンシロン万能試験機RTA−100を用いASTM D638に準じて、引張弾性率、引張破断点伸度、を測定した。
[基材]
裏表の基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート/イソフタレート共重合体等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ4フッ化エチレン、エチレン−4フッ化エチレン共重合体、等のポリフッ化エチレン系樹脂、ナイロン6、ナイロン6.6等のポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、エチレン/ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ビニロン等のビニル重合体、生分解性脂肪族ポリエステル、生分解性ポリカーボネート、生分解性ポリ乳酸、生分解性ポリビニルアルコール、生分解性セルロースアセテート、生分解性ポリカプロラクトン等の生分解性樹脂、三酢酸セルロース、セロファン等のセルロース系樹脂、ポリメタアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド等の合成樹脂シート、又は上質紙、薄葉紙、グラシン紙、硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或いはこれら2層以上の積層体が挙げられる。この発明の基材の厚みは30〜300μm望ましくは50〜200μmである。50μm以下であると裏表の基材の貼り合わせ時に熱収縮等を起こし問題である。
【0070】
この発明においては、基材は150℃/30minにおける熱収縮率が縦(MD)で1.2%以下、横(TD)で0.5%以下が好ましい。裏表の基材の両方の面側から、接着剤を塗工又は貼り合わせ生産した場合、温度により基材が熱収縮を起こしてしまいその後の断裁工程、印刷工程での位置あわせが困難であった。しかし、この発明のように低温で接着する接着剤と150℃/30minにおける熱収縮率が縦(MD)で1.2%以下、横(TD)で0.5%以下の基材を用いることにより基材の収縮が起きずに従来の問題点を改善することができた。
【0071】
この発明においては隠蔽性を向上させるために白色の顔料を混入させたり、熱収縮率を低減させるためにアニール処理を行ったりして得られた150℃/30minにおける熱収縮率が縦(MD)で1.2%以下、横(TD)で0.5%以下の支持体を用いることが好ましい。縦(MD)で1.2%以上、横(TD)で0.5%以上であると基材の収縮により上記した後加工が困難になることが確認された。又上記基材上に後加工上密着性向上のため易接処理を行っていても良く、チップ保護のために帯電防止処理を行っていても良い。
【0072】
具体的には、帝人デュポンフィルム株式会社製のU2シリーズ、U4シリーズ、ULシリーズ、東洋紡績株式会社製クリスパーGシリーズ、東レ株式会社製のE00シリーズ、E20シリーズ、E22シリーズ、X20シリーズ、E40シリーズ、E60シリーズQEシリーズを好適に用いることができる。
【0073】
表基材の第2の支持体は場合により、当該カード利用者の顔画像を形成するため受像層、クッション層を設けてもよい。個人認証カード基体表面には画像要素が設けられ、顔画像等の認証識別画像、属性情報画像、フォーマット印刷から選ばれる少なくとも一つが設けられたものが好ましい。
【0074】
受像層用としては公知の樹脂を用いることができ、例えばポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニルと他のモノマー(例えばイソブチルエーテル、プロピオン酸ビニル等)との共重合体樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、三酢酸セルロース、ポリスチレン、スチレンと他のモノマー(例えばアクリル酸エステル、アクリロニトリル、塩化エチレン等)との共重合体、ビニルトルエンアクリレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、およびそれらの変性物などを挙げることができるが、好ましいのは、ポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニルと他のモノマーとの共重合体、ポリエステル樹脂、ポリビニルアセタ−ル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、スチレンと他のモノマーとの共重合体、エポキシ樹脂である。
【0075】
この発明のクッション層を形成する材料としては、特願2001−1693記載の光硬化型樹脂、ポリオレフィンが好ましい。例えばポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−水素添加イソプレン−スチレンブロック共重合体、ポリブタジエンの様な柔軟性を有し、熱伝導性の低いものが適する。
<クッション層>
この発明のクッション層を形成する材料としては、ポリオレフィンが好ましい。例えばポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−水素添加イソプレン−スチレンブロック共重合体、ポリブタジエン、光硬化型樹脂層の様な柔軟性を有し、熱伝導性の低いものが適する。具体的には、特願2001−16934等のクッション層を使用することができる。
【0076】
この発明でいうクッション層とは、基材と画像を受容する受像層の間に位置し、ICモジュール等の電子部品による凹凸影響を緩和する役割をはたす軟質の樹脂層を意味する。
【0077】
また、クッション層は、受像層と電子部品の間にクッション層を有する形態であれば特に制限はないが、基材の片面もしくは両面上に塗設あるいは貼合されて、形成されることが特に好ましい。
<筆記層>
筆記層は、IDカードの裏面に筆記をすることができるようにした層である。このような筆記層としては、例えば炭酸カルシウム、タルク、ケイソウ土、酸化チタン、硫酸バリウム等の無機微細粉末を熱可塑性樹脂(ポリエチレン等のポリオレフィン類や、各種共重合体等)のフィルムに含有せしめて形成することができる。特開平1−205155号公報に記載の「書き込み層」をもって形成することができる。前記筆記層は基材における、複数の層が積層されていない方の面に形成される
<接着剤>
この発明のICカードに用いられる接着剤は、一般に使用されている樹脂を制限なく用いることができる。好ましくは、ホットメルト接着剤を用いることがよく、ホットメルト接着剤の主成分としては、例えばエチレン・酢酸ビニル共重合体(EVA)系、ポリエステル系、ポリアミド系、熱可塑性エラストマー系、ポリオレフィン系などが挙げられる。但しカード基体がそりやすいとか、カード表面に感熱転写による画像形成のための受像層など高温加工に弱い層が設けられている場合に層がダメージを受け、或いは高温で張り合わせるために基材が熱収縮等を起こし寸法及び張り合わせ時の位置精度が劣化する等の問題点から接着剤を介して張り合わせる場合には、80℃以下で張り合わせることが好ましくさらには10〜80℃、さらに好ましくは20〜80であることが好ましい。
【0078】
低温接着剤の中でも具体的には反応型ホットメルト接着剤が好ましい。反応型ホットメルト接着剤(以下、反応型接着剤)は、樹脂を溶融させて接着した後、湿気を吸収して樹脂が硬化するタイプの接着剤である。その特徴として、通常のホットメルトと比較して硬化反応を有する上、それに要するだけ接着可能時間が長く、かつ接着後に軟化温度が高くなるため耐久性に富み、低温での加工に適していることが挙げられる。反応型接着剤の1例として、分子末端にイソシアネート基含有ウレタンポリマーを主成分とし、このイソシアネート基が水分と反応して架橋構造を形成するものがある。この発明に使用できる反応型接着剤としては住友スリーエム社製TE030、TE100、日立化成ポリマー社製ハイボン4820、カネボウエヌエスシー社製ボンドマスター170シリーズ、Henkel社製Macroplast QR 3460等が挙げられる。
【0079】
反応型ホットメルト接着剤として湿気硬化型の材料で特開2000−036026、特開2000−219855、特開2000−211278、特開2000−219855、特願2000−369855で開示されている。光硬化型接着剤として特開平10−316959、特開平11−5964等が開示されている。
【0080】
これら接着剤のいずれも使用してもよく、この発明には制限はない材料を用いることが好ましい。
【0081】
接着剤の膜厚は、この発明の範囲であれば電子部品と含めた厚さで10〜600μmが好ましく、より好ましくは10〜500μm、更に好ましくは10μ〜450μmである。
【0082】
この発明では、弾性率が1〜55kg/mm2の範囲のように低い接着剤を用いることで応力を緩和し、高い耐久性を得ることができる。弾性率が55kg/mm2以上になると応力を吸収できず、ICチップを破損する。弾性率が1kg/mm2以下になると、自己支持性が低下し、応力がチップに集中し、ICチップを破損する。
[ICモジュール]
ICモジュールの電子部品とは、情報記録部材のことを示し具体的には電子カードの利用者の情報を電気的に記憶するICチップ及びICチップに接続されたコイル状のアンテナ体からなるICモジュールである。ICチップはメモリのみやそれに加えてマイクロコンピューターなどである。場合により電子部品にコンデンサーを含んでもよい。この発明はこれに限定はされず情報記録部材に必要な電子部品であれば特に限定はない。
【0083】
ICモジュールはアンテナコイルを有するものであるが、アンテナパターンを有する場合、導電性ペースト印刷加工、或いは銅箔エッチング加工、巻線溶着加工等のいずれかの方法を用いてもよい。プリント基板としては、ポリエステル等の熱可塑性のフィルムが用いられ、更に耐熱性が要求される場合はポリイミドが有利である。ICチップとアンテナパターンとの接合は銀ペースト、銅ペースト、カーボンペースト等の導電性接着剤(日立化成工業のEN−4000シリーズ、東芝ケミカルのXAPシリーズ等)や、異方性導電フィルム(日立化成工業製アニソルム等)を用いる方法、或いは半田接合を行う方が知られているがいずれの方法を用いてもよい。
【0084】
この発明では、ICチップの回路面に形成されるバンプが、アンテナ形成されているフィルム支持体と対向して電気的に接合される。フィルム支持体の硬さが高い材料、密着性の高い材料が、回路面の保護効果が増して好ましい。
【0085】
予めICチップを含む部品を所定の位置に載置してから樹脂を充填するために、樹脂の流動による剪断力で接合部が外れたり、樹脂の流動や冷却に起因して表面の平滑性を損なったりと安定性に欠けることを解消するため、予め基板シートに樹脂層を形成しておいて該樹脂層内に部品を封入するために該電子部品を多孔質の樹脂フィルム、多孔質の発泡性樹脂フィルム、可撓性の樹脂シート、多孔性の樹脂シート又は不織布シート状にし使用されることができる。例えば特願平11−105476号等の記載されている方法等を用いることができる。
例えば、アンテナフィルム支持体としてはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリイミド、PET−G(イーストマンケミカル社)、ポリエチレンテレフタレート/イソフタレート共重合体等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ4フッ化エチレン、エチレン−4フッ化エチレン共重合体、等のポリフッ化エチレン系樹脂、ナイロン6、ナイロン6.6等のポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、エチレン/ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ビニロン等のビニル重合体、生分解性脂肪族ポリエステル、生分解性ポリカーボネート、生分解性ポリ乳酸 、生分解性ポリビニルアルコール、生分解性セルロースアセテート、生分解性ポリカプロラクトン等の生分解性樹脂、三酢酸セルロース、セロファン等のセルロース系樹脂、ポリメタアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド等の合成樹脂シート、又は上質紙、薄葉紙、グラシン紙、硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或いはこれら2層以上の積層体が挙げられる。この発明のモジュール支持体の厚みは10〜50μmが好ましい。10μm以下であると裏表の基材の貼り合わせ時に熱収縮等を起こし問題である。50μm以上では、クッション効果が低下し、ICチップが破損しやすくなる。
<密着剤>
この発明の密着剤には、この発明の趣旨より反しない限り、一般に使用されている樹脂材を制限なく用いることができる。エポキシ系、ウレタン系、シリコン系、シアノアクリレート系、ニトリルゴム等の合成ゴム系、UV硬化型、ホットメルト、嫌気性、セルロース系密着剤、酢酸ビニール系密着剤等の密着剤を用いることができる。これらの密着剤単独、または、複数用いることができる。好ましくは、弾性エポキシ密着剤が用いられる。弾性エポキシ樹脂として、例えば、低温時の硬化性を得るために特開昭63−63716に開示されるような、エポキシ樹脂とメルカプタン系硬化剤との組み合わせからなるエポキシ樹脂組成物や、複素環状ジアミン硬化剤との組み合わせからなるエポキシ樹脂組成物が用いられてきた。また、高強度を得るためには芳香族ポリアミン硬化剤との組み合わせからなるエポキシ樹脂が用いられてきた。作業環境特性、基材との接着性、接着安定性を得るために特開平10−120764に開示されているような、ビスフェノール型エポキシ樹脂とアミン系硬化剤として(C)ポリアミドアミン、(D)芳香族変性アミン、及び(E)脂肪族変性ポリアミンとの組み合わせによりエポキシ樹脂組成物が用いられている。また、特開2000−229927には、エポキシ樹脂とアミンイミド化合物系硬化剤との組み合わせからなる硬化速度が早いエポキシ樹脂が得られている。特開平6−87190、特開平5−295272には特殊変性シリコーンプレポリマーを硬化剤と用いた記載がされており樹脂の柔軟性を改良した材料が開示されている。
【0086】
この発明で用いることができる弾性エポキシ密着剤とは、例えば、セメダイン株式会社製、セメダインEP−001、株式会社スリーボンド社製、3950シリーズ、3950,3951,3952、コニシ株式会社製ボンドMOSシリーズ、MOS07、MOS10、東邦化成工業株式会社ウルタイト1500シリーズ、ウルタイト1540灯を用いることが好ましい。
【0087】
密着剤の膜厚は、電子部品と含めた厚さで100〜800μmが好ましく、より好ましくは200〜800μm、更に好ましくは250μ〜700μmである。
【0088】
この発明における密着剤樹脂とは、23℃における粘度が1000〜35000cpsであることが好ましく、更に好ましくは3000〜35000である。粘度が1000cps以下であるとICチップと補強構造物密着時に粘度が低すぎるため設けた液が流れてしまい膜厚制御、膜厚ムラができてしまい問題となる。また、粘度が35000以上であると製造時に塗工スジ、気泡が発生してしまい密着性が劣化してしまう。
【0089】
この発明に使用する密着剤500μm硬化後の樹脂物性が2%弾性率(kgf/mm2)においても硬化後の物性が0.1〜55(kgf/mm2)で有ることが好ましく、0.1(kgf/mm2)以下、55(kgf/mm2)以上であるとICチップまたは補強構造物への応力、変形がICチップに集中的にかかり、耐久性が低下し、問題となってしまう。
【0090】
また、この発明の密着剤は、ポッティング、塗布、噴射、印刷等、特に制限なく補強構造物上、ICチップ上に設けることができる。ポッティングで設ける場合、ポッティングノズル数を多くすることが好ましい。塗布で設ける場合、平滑に設けることが好ましい。いずれも、ICチップに補強構造物を固定する時、均一に密着剤を設けることが好ましく、この発明においては、密着剤面積がICチップ面積を上回っていることが好ましい。チップ/補強構造物間に密着剤が満たされないと耐久性が低下する。
【0091】
この発明では、この発明の趣旨より反しない限り、添加剤を加えることができる。特に密着剤に弾性粒子を含有するのが好ましい。密着剤に添加可能な素材としては、WAX、熱可塑性樹脂、無機微粒子、レベリング剤、ゴム弾性粒子、熱可塑性エラストマー、熱可塑性樹脂、粘着剤、硬化剤、硬化触媒、流展剤、平板上粒子、針状粒子、その他添加剤等を配合することも可能である。
【0092】
弾性粒子を添加することで、補強構造物を固定する製造工程で、ICチップにかかる応力を緩和し、歪みが残留せず、耐久性を向上する事ができ特に好ましい。カード化された後においても、ICチップにかかる応力を緩和し、耐久性を向上する事ができる。
【0093】
平板上粒子としては、例えばマイカ、タルク、層状珪酸塩、ハロゲン化銀等の平板状物質が使用できる。
【0094】
平板状物質である平板状シリカ系化合物は、アルカリ、アルカリ土類金属、アルミニウムなどを含有する層状ケイ酸塩、即ち、平板状ケイ酸塩を指し、これらとしては、カオリン鉱物、雲母粘土鉱物、スメクタイトなどが挙げられる。カオリン鉱物としては、カオリナイト、デイッカイト、ナクライト、ハロイサイト、蛇文石などが挙げられる。雲母粘土鉱物としては、パイロフィライト、タルク、白雲母、膨潤性合成フッ素雲母、セリサイト、緑泥石などが挙げられる。スメクタイトとしては、スメクタイト、バーミキュライト、膨潤性合成フッ素パーミキュライトなどが挙げられる。スメクタイトには、天然物と合成物の2種類があるが、天然物の例としては、モンモリロナイトとバイデライトなどがあり、ベントナイト、酸性白土などと呼ばれる粘土として得られる。合成スメクタイトの例としては、例えば、コープケミカル(株)製のルーセンタイトSWN(以下、STT−1という。)、ルーセンタイトSWF(フッ素を2〜5重量%含む)(以下、STT−2という。)などを挙げることができる。
【0095】
この発明に用いられる平板状粒子の好ましい使用量は、添加すべき層のバインダーに対して乾燥重量比で0.10〜0.90で、特に好ましくは0.2〜0.8である。
【0096】
針状粒子としては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト等の六方晶系フェライトを挙げることができる。また、アラミド繊維などの高弾性率の繊維片であってもよい。
【0097】
また、必要に応じて、さらに他の微粒子を併用しても良い。他の微粒子としては、各種無機酸化物、炭化物、窒化物、硼化物が好適に用いられる。例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸カルシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タグステン、酸化錫、酸化テルル、酸化マンガン、酸化硼素、炭化珪素、炭化硼素、炭化チタン、窒化珪素、窒化チタン、窒化硼素等が挙げられる。
【0098】
粘着性ポリマーとしては、ポリジメチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサンなどのシリコーンゴムと、トリメチルシリル基もしくはトリフェニルシリル基を有するポリシロキサンなどのシリコーンレジンとの混合物のようなシリコーン類;ポリエステル類;ポリウレタン類;ポリエーテル類;ポリカーボネート類;ポリビニルエーテル類;ポリ塩化ビニル類;ポリ酢酸ビニル類;ポリイソブチレン類などのアクリル系以外のポリマーや、アクリルゴム、アクリロニトリル/ブタジエンゴム(NBR)、ランダム型スチレン/ブタジエンゴム、ブチルゴム、イソプレンゴム(IR)、ブタジエンゴム(BR)、エチレン/プロピレンゴム(EPM)、エチレン/プロピレン/ジエンゴム(EPDM)、ウレタンゴム、スチレン/イソプレン/スチレンブロックゴム(SIS)、スチレン/エチレン/ブタジエン/スチレンブロックゴム(SEBS)、スチレン/ブタジエンブロックゴムなどの合成ゴム系ポリマーを用いてもよい。熱軟化点の低い樹脂、例えば、ガラス転移点が低いアルキルアクリレートを主成分とするアクリル系ポリマーが、該ポリマー単体で適度な感圧接着性を発揮し得るため好適に用いられる。<補強構造物>
この発明では、ICチップの耐久性向上のためICチップに、第1の補強板、第2の補強板の補強構造物を固定する。この発明の補強構造物は、機械的強度に優れることが好ましい。強度確保のため補強構造物を厚くするとカード厚みが厚くなり、表面印画性などが低下するため補強構造物は高強度の素材が好ましい。金属、セラミック、カーボンファイバー、ガラス繊維、アラミド繊維、高弾性樹脂などが上げられる。これらより選択される。1種または複数からなる複合材料でもよい。特にヤング率100GPa以上の素材が主構造に使用されているのが好ましい。厚みとしては、10〜300μm、好ましくは、20〜200μm、さらに好ましくは、30〜150μmがよい。補強構造物の形状としては、この発明の趣旨に反しない限り、適宜用いることができる。この発明では、補強構造物形状は、複数の部材が好ましく、特に第1の補強板、第2の補強板の構造より形成される。
【0099】
<裏基材と表基材との間に所定の厚みのICモジュールとを備える方法>
この発明の裏基材と表基材との間に所定の厚みのICモジュールとを備えるための製造方式としては、熱貼合法、接着剤貼合法及び射出成形法が知られているが、いずれの方法で貼り合わせしてもよい。又、裏基材と表基材は貼り合わせる前後いずれかにフォーマット印刷又は、情報記録を行ってもよく、オフセット印刷、グラビア印刷、シルク印刷、スクリーン印刷、凹版印刷、凸版印刷、インクジェット方式、昇華転写方式、電子写真方式、熱溶融方式等のいずれの方式によって形成することができる。
【0100】
この発明のICカードの製造方法は、少なくとも、常温状態では固形物又は粘調体であり、加熱状態では軟化する接着部材をカード用の支持体に設ける工程と、ICモジュールの電子部品を、このモジュール支持体上に配置する工程と、このモジュール支持体上の電子部品を覆うように接着部材を設けた表面用の基材を配置する工程と、所定の加圧加温条件の下で支持体、電子部品及び表面用の基材とを貼り合わせる工程とを有し貼り合わせることが好ましい。
【0101】
固形物又は粘調体の加熱状態で軟化する接着部材とは、接着剤自身をシート状に形成し具備する方法と接着剤自身を加熱又は常温で溶融し射出成型によって貼り合わせることが好ましい。
【0102】
裏基材と表基材との間に所定の電子部品の接着可能な温度は、80℃以下であることが好ましく、より好ましくは0〜80℃、更に好ましくは20℃〜70℃である。貼り合わせ後に基材のそり等を低減させるために冷却工程を設けることが好ましい。冷却温度は70℃以下であることが好ましく、より好ましくは−10〜70℃、更に好ましくは10〜60℃である。
【0103】
貼り合わせる時には、基材の表面平滑性、裏基材と表基材との間に所定の電子部品の密着性をあげるために加熱及び加圧を行うことが好ましく、上下プレス方式、ラミネート方式等で製造することが好ましい、更にはIC部品の割れを考慮して、線接触に近く、僅かなズレでも無理な曲げ力が加わるローラを避けて平面プレス型とするのが好ましい。加熱は、10〜120℃が好ましく、より好ましくは30〜100である。加圧は、0.1〜300kgf/cm2が好ましく、より好ましくは0.1〜100kgf/cm2である。これより圧が高いICチップが破損する。加熱及び加圧時間は好ましくは、0.1〜180secより好ましくは0.1〜120secである。
【0104】
前記接着剤貼合法や樹脂射出法で連続シートとして形成された貼り合わせた枚葉シート又は連続塗工ラミロールは、接着剤の所定硬化時間に合わした時間内放置後、認証識別画像や書誌事項を記録をしても良く、その後所定のカードサイズに成形しても良い。所定のカードサイズに形成する方法としては打ち抜く方法、断裁する方法等が主に選択される。
<画像記録体の画像形成方法>
この発明のICカードである画像記録体には画像要素が設けられ、顔画像等の認証識別画像、属性情報画像、フォーマット印刷から選ばれる少なくとも一つが設けられた基体上の該画像又は印刷面側に形成したものである。
【0105】
顔画像は通常の場合、階調を有するフルカラー画像で、例えば昇華型感熱転写記録方式、ハロゲン化銀カラー写真方式等により作製される。又、文字情報画像は二値画像よりなり、例えば溶融型感熱転写記録方式、昇華型感熱転写記録方式、ハロゲン化銀カラー写真方式、電子写真方式、インクジェット方式等により作製されている。この発明においては、昇華型感熱転写記録方式により顔画像等の認証識別画像、属性情報画像を記録することが好ましい。
【0106】
属性情報は氏名、住所、生年月日、資格等であり、属性情報は通常文字情報として記録され溶融型感熱転写記録方法が一般的である。フォーマット印刷又は、情報記録を行ってもよく、オフセット印刷、グラビア印刷、シルク印刷、スクリーン印刷、凹版印刷、凸版印刷、インクジェット方式、昇華転写方式、電子写真方式、熱溶融方式等のいずれの方式によって形成することができる。
【0107】
さらに、偽変造防止の目的では透かし印刷、ホログラム、細紋等が採用されてもよい。偽造変造防止層としては印刷物、ホログラム、バーコード、マット調柄、細紋、地紋、凹凸パターンなどで適時選択さ、可視光吸収色材、紫外線吸収材、赤外線吸収材、蛍光増白材、金属蒸着層、ガラス蒸着層、ビーズ層、光学変化素子層、パールインキ層、隣片顔料層などからなる。
[昇華画像形成方法]
昇華型感熱転写記録用インクシートは、基材とその上に形成された昇華性色素含有インク層とで構成することができる。
−基材−
基材としては、寸法安定性がよく、感熱ヘッドでの記録の際の熱に耐える限り特に制限がなく、従来から公知のものを使用することができる。
−昇華性色素含有インク層−
上記昇華性色素含有インク層は、基本的に昇華性色素とバインダーとを含有する。
【0108】
前記昇華性色素としてはシアン色素、マゼンタ色素およびイエロー色素を挙げることができる。
【0109】
前記シアン色素としては、特開昭59−78896号公報、同59−227948号公報、同60−24966号公報、同60−53563号公報、同60−130735号公報、同60−131292号公報、同60−239289号公報、同61−19396号公報、同61−22993号公報、同61−31292号公報、同61−31467号公報、同61−35994号公報、同61−49893号公報、同61−148269号公報、同62−191191号公報、同63−91288号公報、同63−91287号公報、同63−290793号公報などに記載されているナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、アゾメチン系色素等が挙げられる。
【0110】
前記マゼンタ色素としては、特開昭59−78896号公報、同60−30392号公報、同60−30394号公報、同60−253595号公報、同61−262190号公報、同63−5992号公報、同63−205288号公報、同64−159号、同64−63194号公報等の各公報に記載されているアントラキノン系色素、アゾ色素、アゾメチン系色素等が挙げられる。
【0111】
イエロー色素としては、特開昭59−78896号公報、同60−27594号公報、同60−31560号公報、同60−53565号公報、同61−12394号公報、同63−122594号公報等の各公報に記載されているメチン系色素、アゾ系色素、キノフタロン系色素およびアントライソチアゾール系色素が挙げられる。
【0112】
また、昇華性色素として特に好ましいのは、開鎖型または閉鎖型の活性メチレン基を有する化合物をp−フェニレンジアミン誘導体の酸化体またはp−アミノフェノール誘導体の酸化体とのカップリング反応により得られるアゾメチン色素およびフェノールまたはナフトール誘導体またはp−フェニレンジアミン誘導体の酸化体またはp−アミノフェノール誘導体の酸化体のとのカップリング反応により得られるインドアニリン色素である。
【0113】
また、受像層中に金属イオン含有化合物が配合されているときには、この金属イオン含有化合物と反応してキレートを形成する昇華性色素を、昇華性色素含有インク層中に含めておくのが良い。このようなキレート形成可能な昇華性色素としては、例えば特開昭59−78893号、同59−109349号、同特願平2−213303号、同2−214719号、同2−203742号に記載されている、少なくとも2座のキレートを形成することができるシアン色素、マゼンタ色素およびイエロー色素を挙げることができる。
【0114】
キレートの形成可能な好ましい昇華性色素は、下記一般式で表わすことができる。
【0115】
X1−N=N−X2−G
ただし、式中X1は、少なくとも一つの環が5〜7個の原子から構成される芳香族の炭素環、または複素環を完成するのに必要な原子の集まりを表わし、アゾ結合に結合する炭素原子の隣接位の少なくとも一つが、窒素原子またはキレート化基で置換された炭素原子である。X2は、少なくとも一つの環が5〜7個の原子から構成される芳香族複素環または、芳香族炭素環を表わす。Gはキレート化基を表わす。
【0116】
いずれの昇華性色素に関しても前記昇華性色素含有インク層に含有される昇華性色素は、形成しようとする画像が単色であるならば、イエロー色素、マゼンタ色素、およびシアン色素の何れであっても良く、形成しようとする画像の色調によっては、前記三種の色素のいずれか二種以上もしくは他の昇華性色素を含んでいても良い。前記昇華性色素の使用量は、通常、基材1m2当たり0.1〜20g、好ましくは0.2〜5gである。
【0117】
インク層のバインダーとしては特に制限がなく従来から公知のものを使用することができる。さらに前記インク層には、従来から公知の各種添加剤を適宜に添加することができる。
【0118】
昇華型感熱転写記録用インクシートは、インク層を形成する前記各種の成分を溶媒に分散ないし溶解してなるインク層形成用塗工液を調製し、これを基材の表面に塗工し、乾燥することにより製造することができる。かくして形成されたインク層の膜厚は、通常、0.2〜10μmであり、好ましくは、0.3〜3μmである。
[実施例]
以下、実施例を挙げて、この発明を詳細に説明するが、この発明の態様はこれに限定されない。尚、以下において「部」は「重量部」を示す。
[接着剤の作成]
接着剤1
Henkel社製Macroplast QR3460(湿気硬化型ホットメルト接着剤(2%弾性率15kg/mm2、湿気硬化型接着剤))を使用した。
[ICモジュールの作製]
[密着剤]
密着剤1
2液硬化型弾性エポキシ接着剤:東邦化成工業株式会社製
ウルタイト1540セット(硬化後、2%弾性率0.4%、)を用いた主剤と硬化剤を使用した。
密着剤2
2液硬化型弾性エポキシ接着剤:東邦化成工業株式会社製 ウルタイト154
0セット 90部
シリコーン樹脂粉末(トスパール150;GE東芝シリコーン社製) 10部
上記成分60分間、ホモジナイザーにて攪拌し、作成した。硬化剤は使用する直前に添加した。
(2%弾性率1kgf/mm2)
密着剤3
スリーボンド本剤2002H/硬化剤2105F(硬化後2%弾性率0.05%)を用いた主剤と硬化剤を使用した。
密着剤4
アロンアルファGEL−10(2%弾性率60kg/mm2、東亜合成(株)製)を使用した。
密着剤5
セミコート220H(2%弾性率300kg/mm2、信越化学社製)を使用した。
ICモジュール1;図1乃至図3に示す。
【0119】
エッチングによりアンテナパターンの形成された厚み38μの透明PET支持体に、厚み60μm、3×3mm角のICチップを導電性接着剤厚み20μ接合し、SUS301からなる厚み50μmの4×4mm角板状の第1の補強板を回路面と反対側に密着剤樹脂1を10μの厚さになるようポッティングしチップを封止するよう加圧接着した。
【0120】
ついで、第1の補強板の上にSUS301からなる厚み50μmの5×5mm角板状の第2の補強板を密着剤樹脂1により第2の補強板の面積より大きくなり厚み10μになるようポッティングしチップを封止するよう加圧接着させICモジュール1を得た。ICチップ部の最大厚みは、262μmであった。
ICモジュール2;図4に示す。
【0121】
密着剤樹脂1をチップを風刺しない程度に密着させた以外は、ICモジュール1と同様とした。
ICモジュール3;図1乃至図3に示す。
【0122】
フィルム支持体を25μmのPEN(ポリエチレンナフタレート)フィルムにし、ICチップを180μmにし、補強板厚みをそれぞれ30μmにした以外はICモジュール1と同様とした。ICチップ部の最大厚みは、327μmであった。
ICモジュール4;図1乃至図3に示す。
【0123】
フィルム支持体を10μmのポリイミドフィルムにし、ICチップを120μmにした以外はICモジュール1と同様とした。ICチップ部の最大厚みは、292μmであった。
ICモジュール5;図5及び図6に示す。
【0124】
第1,2の補強板を5mmφの円形にし、ICチップを120μmにした以外はICモジュール1と同様とした。ICチップ部の最大厚みは、320μmであった。
ICモジュール6;図7に示す。
【0125】
第1の補強板を4mmφの円形にし、ICチップを120μmにし、密着剤2を用いた以外はICモジュール1と同様とした。ICチップ部の最大厚みは、320μmであった。
ICモジュール7;図1乃至図3に示す。
【0126】
密着剤3を用いた以外、ICモジュール6と同様にした。ICチップ部の最大厚みは、320μmであった。
ICモジュール8;図1乃至図3に示す。
【0127】
密着剤4を用いた以外、ICモジュール6と同様にした。ICチップ部の最大厚みは、320μmであった。
ICモジュール9;図1乃至図3に示す。
【0128】
ICチップ厚みを200μmに、補強板の厚みをそれぞれ30μmにした以外は、ICモジュール1と同様にした。ICチップ部の最大厚みは、360μmであった。
ICモジュール10;図1乃至図3に示す。
【0129】
密着剤の厚みをそれぞれ55μm、補強板の厚みをそれぞれ30μmにした以外は、ICモジュール1と同様にした。ICチップ部の最大厚みは、310μmであった。
ICモジュール11;図1乃至図3に示す。
【0130】
フィルム支持体の厚みを75μm、補強板の厚みをそれぞれ30μmにした以外は、ICモジュール1と同様にした。ICチップ部の最大厚みは、257μmであった。
ICモジュール12;図1乃至図3に示す。
【0131】
第2の補強板を3mm×3mm角にした以外は、ICモジュール2と同様とした。ICチップ部の最大厚みは、260μmであった。
ICモジュール13;図8及び図9に示す。
【0132】
ICチップ厚みを25μmにした以外は、ICモジュール1と同様にした。ICチップ部の最大厚みは、225μmであった。
ICモジュール14;図10に示す。
【0133】
第2の補強板を設けない以外、ICモジュール1と同様とした。ICチップ部の最大厚みは、270μmであった。
ICモジュール15;図11に示す。
【0134】
エッチングによりアンテナパターンの形成された厚み38μの透明PET支持体に、厚み120μm、3×3mm角のICチップを導電性接着剤厚み20μ接合し、SUS301からなる厚み50μmの4×4mm角板状の第1の補強板を回路面と反対側に密着剤樹脂1を10μの厚さになるようポッティングしチップを封止するよう加圧接着した。
【0135】
ついで、チップを接合した透明PET支持体のICチップと反対側にSUS301からなる厚み50μmの4×4mm角板状の第2の補強板を密着剤樹脂1により第2の補強板面積より大きくなり厚み10μになるようポッティングし加圧接着させICモジュール15を得た。ICチップ部の最大厚みは、320μmであった。
ICモジュール16;図12及び図13に示す。
【0136】
エッチングによりアンテナパターンの形成された厚み250μの透明PET支持体に、厚み180μm、3×3mm角のICチップを厚み110μmの4×5mm角板状のリードフレーム金属板上にを回路面と反対側を、密着剤樹脂5を5μの厚さになるようポッティングしチップ密着座せ、ワイヤーボンディングにより回路とリードフレームを電気的に接続した後、封止するよう密着剤樹脂5をさらにICチップ上に80μmとなるようポッティングしICチップを封止した。ついでアンテナを形成した透明PETにチップ封止部を勘合しリードフレームとアンテナを導電性接着剤により電気的に接合しICモジュール16を得た。ICチップ部の最大厚みは、370μmであった。
ICモジュール17;図14及び図15に示す。
【0137】
50μmφの銅線アンテナに厚み180μm、3×3mm角のICチップのバンプを電気的に直接接続し、SUS301からなる厚み30μmの4×4mm角板状の第1の補強板を回路面と反対側に密着剤樹脂1を10μの厚さになるようポッティングしチップを加圧接着した。ついで第1の補強板の上にSUS301からなる厚み30μmの5×5mm角板状の第2の補強板を密着剤樹脂1により厚み10μになるようポッティングしチップを加圧接着した。ついで厚み50μmの不織布支持体上に補強板とアンテナを密着させICモジュール17を得た。ICチップ部の最大厚みは、370μmであった。
<実施例1>
[ICカードの作成]
表1に実施例を示す。
図1乃至図3は、この発明のICカード、個人認証カードの積層構成の一例である。
基材1;
表基材及び裏基材は、厚さ188μmの白色PETシートを使用した。
(表支持体の作成)
<基材1>
188μmにコロナ放電処理した面に下記組成の第1受像層形成用塗工液、第2受像層形成用塗工液及び第3受像層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが0.2μm、2.5μm、0.5μmになる様に積層することにより受像層を形成した。
〈第1受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂 9部
〔積水化学工業(株)製:エスレックBL−1〕
イソシアネート 1部
〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂 6部
〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕
金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第3受像層形成用塗工液〉
ポリエチレンワックス 2部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕
ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 8部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕
メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1部
水 90部
(フォーマット印刷)
樹脂凸版印刷法により、ロゴとOPニスを順次印刷した。
(裏基材の作成)
(筆記層の作成)
前記基材の裏シート188μmにコロナ放電処理した面に下記組成の第1筆記層形成用塗工液、第2筆記層形成用塗工液及び第3筆記層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが2μm、10μm、0.2μmになる様に積層することにより筆記層を形成した。
〈第1筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂〔東洋紡績(株)製:バイロン200〕 8部
イソシアネート 1部
〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕
カーボンブラック 微量
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂 4部
〔東洋紡績(株)製:バイロナールMD1200〕
シリカ 5部
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
水 90部
〈第3筆記層形成用塗工液〉
ポリアミド樹脂〔三和化学工業(株)製:サンマイド55〕 5部
メタノール 95部
得られた筆記層の中心線平均粗さは1.34μmであった。
[ICカード用のシートの作成]
図18はICカードの製造方法の一例を示す図である。ICカードの製造装置109には、第1のシート材101を送り出す送出軸110が設けられ、この送出軸110から送り出される第1のシート材101はガイドローラ111、駆動ローラ112に掛け渡されて供給される。送出軸110とガイドローラ111間には、プリケーターコーター113が配置されている。アプリケーターコーター113は接着剤層102aを所定の厚さでシートに塗工する。
【0138】
また、ICカードの製造装置109には、第2のシート材104を送り出す送出軸114が設けられ、この送出軸114から送り出される第2のシート材104はガイドローラ115、駆動ローラ116に掛け渡されて供給される。送出軸114とガイドローラ115間には、アプリケーターコーター117が配置されている。アプリケーターコーター117は接着剤層102bを所定の厚さでシートに塗工する。
【0139】
接着剤が塗工された第1のシート材と、第2のシート材とは離間して対向する状態から接触して搬送路118に沿って搬送される。第1のシート材と、第2のシート材の離間して対向する位置には、ICモジュール103が挿入される。
ICモジュール103は単体あるいはシートやロール状で複数で供給される。ICカードの製造装置109の搬送路118中には、第1のシート材と、第2のシート材の搬送方向に沿って、加熱ラミネート部119、切断部120が配置される。加熱ラミネートは真空加熱ラミネートであることが好ましい。又加熱ラミネート部119の前には保護フィルム供給部を設けても良く、搬送路118の上下に対向して配置されるのが好ましい。加熱ラミネート部119は、搬送路118の上下に対向して配置される平型の加熱ラミネート上型121と加熱ラミネート下型122とからなる。加熱ラミネート上型121と下型122は互いに接離する方向に移動可能に設けられている。加熱ラミネート部119を経た後は切断部にてシート材から所定の大きさにカットする。
(ICカード用シート1の作成)
図18のカード製造装置を使用し、裏基材及び表基材として<基材1>を用いて作成した前記裏基材及び受像層を有する表基材を使用した。
【0140】
受像層を有する表基材に接着剤1をTダイを使用して厚みが40μmになるように塗工し、裏基材に接着剤1をTダイを使用して貼り合わせ後のシート全厚が厚みが760μmになるように厚み調整し塗工し表基材にICモジュール1を受像層側にICモジュールのICチップが実装されていない支持体面となるように載置し上下のシートで挟み込み70℃で1分間ラミネートして作製した。このように作成されたICカード用シートの厚みは760μmであった。作製後は25℃50%RHの環境化で7日間保存した。
[打ち抜き]
このように作成された、ICカード用のシートを、以下のICカードを打ち抜き金型装置によって、打ち抜き加工を施した。
【0141】
図19は打抜金型装置の全体概略斜視図であり、図20は打抜金型装置の主要部の正面端面図である。この打抜金型装置は、上刃210及び下刃220を有する打抜金型を有する。そして、上刃210は、外延の内側に逃げ241が設けられた打抜用ポンチ211を含み、下刃220は、打抜用ダイス221を有する。打抜用ポンチ211を、打抜用ダイス221の中央に設けられたダイス孔222に、下降させることにより、ダイス孔222と同じサイズのICカードを打ち抜く。また、このために、打抜用ポンチ211のサイズは、ダイス孔222のサイズより若干小さくなっている。
[個人認証用カードへの個人情報記載方法及び表面保護方法]
打ち抜き加工を施したICカードに下記により顔画像と属性情報とフォーマット印刷を設けた個人認証カードの作成を行った。
(昇華型感熱転写記録用のインクシートの作成)
裏面に融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレートシートに下記組成のイエローインク層形成用塗工液、マゼンタインク層形成用塗工液、シアンインク層形成用塗工液を各々の厚みが1μmになる様に設け、イエロー、マゼンタ、シアンの3色のインクシートを得た。
〈イエローインク層形成用塗工液〉
イエロー染料(化合物Y−1) 3部
ポリビニルアセタール 5.5部
〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 1部
〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕
ウレタン変性シリコンオイル 0.5部
〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕
メチルエチルケトン 70部
トルエン 20部
〈マゼンタインク層形成用塗工液〉
マゼンタ染料(化合物M−1) 2部
ポリビニルアセタール 5.5部
〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 2部
〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕
ウレタン変性シリコンオイル 0.5部
〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕
メチルエチルケトン 70部
トルエン 20部
〈シアンインク層形成用塗工液〉
シアン染料(化合物C−1) 1.5部
シアン染料(化合物C−2) 1.5部
ポリビニルアセタール 5.6部
〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 1部
〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕
ウレタン変性シリコンオイル 0.5部
〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕
メチルエチルケトン 70部
トルエン 20部
(溶融型感熱転写記録用のインクシートの作成)
裏面に融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレートシートに下記組成のインク層形成用塗工液を厚みが2μmになる様に塗布乾燥してインクシートを得た。
〈インク層形成用塗工液〉
カルナバワックス 1部
エチレン酢酸ビニル共重合体 1部
〔三井デュポンケミカル社製:EV40Y〕
カーボンブラック 3部
フェノール樹脂〔荒川化学工業(株)製:タマノル521〕 5部
メチルエチルケトン 90部
(顔画像の形成)
受像層と昇華型感熱転写記録用のインクシートのインク側を重ね合わせインクシート側からサーマルヘッドを用いて出力0.23W/ドット、パルス幅0.3〜4.5m秒、ドット密度16ドット/mmの条件で加熱することにより画像に階調性のある人物画像を受像層に形成した。この画像においては上記色素と受像層のニッケルが錯体を形成している。
(文字情報の形成)
OPニス部と溶融型感熱転写記録用のインクシートのインク側を重ね合わせインクシート側からサーマルヘッドを用いて出力0.5W/ドット、パルス幅1.0m秒、ドット密度16ドット/mmの条件で加熱することにより文字情報をOPニス上に形成した。
[表面保護方法]
[表面保護層形成方法]
[活性光線硬化型転写箔1の作成]
0.1μmのフッ素樹脂層の離型層を設けた厚み25μmのポリエチレンテレフタレートフィルムー2の離型層上に下記組成物を積層し活性光線硬化型転写箔1の作成を行った。
(活性光線硬化性化合物)
新中村化学社製
A−9300/新中村化学社製 EA−1020=35/11.75部
反応開始剤
イルガキュア184日本チバガイギー社製 5部
添加剤不飽和基含有樹脂 48部
その他の添加剤
大日本インキ界面活性剤F−179 0.25部
〈中間層形成塗工液〉 膜厚1.0μm
ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1〕3.5部
タフテックスM−1913(旭化成) 5部
硬化剤
ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製] 1.5部
メチルエチルケトン 90部
塗布後硬化剤の硬化は、50℃、24時間で行った。
〈接着層形成塗工液〉 膜厚0.5μm
ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 8部
ポリアクリル酸エステル共重合体
〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT510〕 2部
水 45部
エタノール
さらに画像、文字が記録された前記受像体上に前記構成からなる活性光線硬化型転写箔1を用いて表面温度200℃に加熱した、直径5cmゴム硬度85のヒートローラーを用いて圧力150kg/cm2で1.2秒間熱をかけて転写を行った。
[評価]
<繰り返し曲げ試験>
;JIS K6404−6 の揉み試験装置を用い、チップ上をクランプし振幅50mm、間隙30mm、120回/分で繰り返し曲げを100回行った。試験後動作および変形、破損を確認した。
◎・・・変形・剥離なく変化なし。動作も変化なし。
○・・・変形・剥離なく問題ないが痕跡が残っている。動作も変化なし。
△・・・剥離破損はないが変形している。一部動作しない。
×・・・変形・剥離破損あり。全く動作しない。
<点圧強度試験>
;先端直径1mmの鋼球で1kg荷重をICチップの回路面、非回路面それぞれ硬度50のゴムシート上で200回かけた。試験後動作および変形、破損を確認した。
◎・・・変形・剥離なく変化なし。動作も変化なし。
○・・・変形・剥離なく問題ないが痕跡が残っている。動作も変化なし。
△・・・剥離破損はないが変形している。一部動作しない。
×・・・変形・破損あり。全く動作しない。
<衝撃試験>
;JIS K5600‐5−3の落体式衝撃試験機を用い、内径27mmの穴の空いた受け台にICチップが中心にくるようにカードを上下より挟んで強固に固定し、先端直径20mm、重さ100g重の重り(S45C鋼)を10cmの高さより受け台中心のICチップ上に自由落下させた。試験後動作および変形、破損を確認した。
◎・・・変形・剥離なく変化なし。動作も変化なし。
○・・・変形・剥離なく問題ないが痕跡が残っている。動作も変化なし。
△・・・剥離破損はないが変形している。一部動作しない。
×・・・変形・剥離破損あり。全く動作しない。
<凹凸性>
作成したカードに昇華画像を印画し、かすれ具合を評価した。
◎・・・問題なく印画できる
○・・・一部濃度が低下する部分があるが判別できるレベルである
△・・・一部濃度が低下し判別できないレベルである
×・・・完全に色抜けする部分がある
表1に実施例、表2に結果を示す。
<実施例2>
モジュール2を用いた以外、実施例1と同様とした。
<実施例3>
モジュール3を用いた以外、実施例1と同様とした。
<実施例4>
モジュール3を用い、筆記層側にICモジュールのICチップが実装されていない支持体面を裁置し、筆記層側の接着剤厚みを40μmと受像層側の接着剤厚みを全厚760μmになるよう調整した以外、実施例1と同様とした。
<実施例5>
モジュール4を用いた以外、実施例1と同様とした。
<実施例6>
モジュール5を用いた以外、実施例1と同様とした。
<実施例7>
モジュール6を用いた以外、実施例1と同様とした。
<実施例8>
モジュール7を用いた以外、実施例1と同様とした。
<実施例9>
モジュール8を用いた以外、実施例1と同様とした。
<実施例10>
モジュール9を用いた以外、実施例1と同様とした。
<実施例11>
モジュール10を用いた以外、実施例1と同様とした。
<実施例12>
モジュール11を用いた以外、実施例1と同様とした。
<実施例13>
モジュール12を用いた以外、実施例1と同様とした。
<実施例14>
モジュール13を用いた以外、実施例1と同様とした。
<比較例1>
モジュール14を用いた以外、実施例1と同様とした。
<比較例2>
モジュール15を用いた以外、実施例1と同様とした。
<比較例3>
モジュール16を用いた以外、実施例1と同様とした。
<比較例4>
モジュール17を用いた以外、実施例1と同様とした。
表1
表2
【0142】
【発明の効果】
前記したように、請求項1乃至請求項11に記載の発明は、ICチップの回路面側がモジュール支持体上に形成されたアンテナと密着し電気的に接続し、ICチップの回路面側は、モジュール支持体でICチップを保護し、かつ、同じ厚みであっても補強板を1板設けたものに比較しても2板にすることで極めて高いレベルで、応力を分散させICチップを破壊より守ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】ICカードの層構成を示す図である。
【図2】ICモジュールの側面図である。
【図3】ICチップ部の平面図である。
【図4】ICモジュールの側面図である。
【図5】ICモジュールの側面図である。
【図6】ICチップ部の平面図である。
【図7】ICチップ部の平面図である。
【図8】ICチップ部の平面図である。
【図9】ICチップ部の平面図である。
【図10】比較例のICモジュールの側面図である。
【図11】比較例のICモジュールの側面図である。
【図12】比較例のICカードの層構成を示す図である。
【図13】比較例のICモジュールの側面図である。
【図14】比較例のICカードの層構成を示す図である。
【図15】比較例のICモジュールの側面図である。
【図16】この発明の実施の形態のICモジュールの保護説明する図である。
【図17】この発明の実施の形態のICモジュールの保護説明する図である。
【図18】ICカード製造装置の概略構成図である。
【図19】打抜金型装置の全体概略斜視図である。
【図20】打抜金型装置の主要部の正面端面図である。
【符号の説明】
1 裏支持体
2 表支持体
3 ICモジュール
3a1 アンテナ
3a2 ICチップ
3b 第1の補強板
3c 第2の補強板
3d モジュール支持体
6 裏密着剤
7 表密着剤
8a 受像層
8c 保護層
9a 筆記層
Claims (11)
- モジュール支持体上にICチップ、アンテナを有するICモジュールを含む部品が接着剤を介在して設けられるICカードにおいて、
前記ICチップの回路面と反対側に、密着剤を介して第1の補強板、さらに密着材を介して第2の補強板をこの順に具備し、
前記ICチップの回路面側が前記モジュール支持体上に形成された前記アンテナと密着し電気的に接続されていることを特徴とするICカード。 - 前記第1の補強板が前記ICチップのICカード平面に垂直方向の投影面積及び外周より大きく、前記第2の補強板が前記第1の補強板の垂直方向の投影面積及び外周より大きいことを特徴とすることを特徴とする請求項1に記載のICカード。
- 前記第2の補強板より前記密着剤の面積及び外周が大きく、前記ICチップが前記密着剤で封止されていることを特徴とすることを特徴とする請求項1及び請求項2に記載のICカード。
- 前記ICチップと、前記第1の補強板と、前記第2の補強板は、2%弾性率が0.1以上55.0kg/mm2以下の密着剤を介して固定されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のICカード。
- ICカードの表裏の少なくとも片側に受像層を有し、他方に筆記層を有し、
前記受像層側に前記モジュール支持体の前記ICチップが実装されていない支持体面を、筆記層側に前記第1の補強板、前記第2の補強板が実装されている支持体面となるように、前記ICモジュールを設けたことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のICカード。 - 前記ICチップの厚みが30μm以上190μm以下、前記密着剤の厚みが1μm以上50μm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のICカード。
- 前記アンテナが形成される前記モジュール支持体の厚みが10μm以上50μm以下、前記ICモジュールのICチップ部の最大厚みが350μm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のICカード。
- 前記第1の補強板と前記第2の補強板の重心位置と、前記ICチップの重心位置が略同一であり、
補強板形状は、前記第1の補強板が金属よりなり円形または正方形であり、前記第2の補強板が金属よりなる正方形であることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のICカード。 - 前記受像層に氏名、顔画像からなる個人識別情報が溶融熱転写、または昇華熱転写で設けられることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載のICカード。
- 前記接着剤の2%弾性率が、1以上88kgmm2以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載のICカード。
- モジュール支持体上に設けたアンテナにICチップ回路面に設けた接続用バンプを異方導電性接着剤により電気接続した後に、
密着剤をポッティングで設けて第1の補強板を加圧加熱密着し、
さらに密着剤をポッティングで設けて第2の補強板を加圧加熱密着させICモジュールを作成し、
対向する2つの基板間の所定の位置に作成した前記ICモジュールを載置し、接着剤を充填し加圧密着することを特徴とするICカードの製造方法。
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