JP2005031315A - 光走査装置の光学箱、光走査装置および画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光ビーム発生手段から発せられた光ビ−ムを偏向走査する光ビーム偏向走査手段、偏向走査された光ビ−ムを結像する光ビーム結像手段、光ビームを反射してその光路を変換する光ビ−ム反射手段、これら各手段を収容し本体構造体に固定される光学箱20を具備し、光学箱20は、主走査方向の長さが副走査方向の長さよりも大きく、本体構造体への固定部を4点有していてこの4点の固定部31、32、33、34が副走査方向に相対するように2点づつ配置され、副走査方向に相対する固定部31、32間、33、34間に光学箱20の底部が形成され、副走査方向に相対する固定部は高さを異ならせて設けられている。
【選択図】 図3
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像形成装置に用いられる光走査装置、さらに詳しくは、光走査装置の光学素子を収容する光学箱の構造、この光学箱を用いた光走査装置および画像形成装置に関するもので、複写機、プリンタ、ファクシミリなどに適用可能ななものである。
【0002】
【従来の技術】
デジタル複写機、レーザビームプリンタ、レーザファクシミリ等に用いられる光走査装置の構造としては、光走査装置を組み込んだ光学箱を本体フレームの上に取り付けた構造が一般的である。上記光学箱内には、光ビーム発生手段としての例えば半導体レーザ、光ビームを所定の角度範囲で偏向する光ビーム偏向走査手段、偏向された光ビームを被走査面上に結像させ被走査面上を等速度的に走査させる走査結像手段などが組み込まれる。上記本体フレーム内には、表面が上記被走査面をなす感光体ドラムがその中心軸線の周りに回転可能に組み込まれ、感光体ドラムの周囲には、電子写真プロセスを実行するための、帯電、露光、現像、転写、クリーニングの各ユニットが配置されている。上記露光ユニットに相当するのが上記光走査装置である。
【0003】
このような、光走査装置においては、良好な画像品質を得るために、光走査装置を構成する各光学素子の位置関係を所定の精度に保つことが重要である。しかし、光学素子相互の位置関係を所定の精度に保つことができた場合においても、光学素子等を収納する光学箱の振動や光学素子自身の振動により、光ビームの光路変動が生じ、主走査方向での線寄れ、走査線曲り、副走査方向での画像濃度ムラを起こす要因となり、良好な画像品質を得ることができなくなる。光学箱の振動や光学素子自身の振動の要因は、主として光ビーム偏向走査手段としてのポリゴンミラーの回転による振動、およびポリゴンミラーを回転駆動するポリゴンモータの振動によるもので、高速回転になるほど振動が大きくなる。
【0004】
このため、従来から、光走査装置が、さらなる高速化および高画像品質化にも対応できるような各種の提案が行なわれている。特に、ポリゴンミラーおよびその駆動モータ等の振動源から発せられる振動により、画質品質の低下を防ぐための提案が行われている。
【0005】
その一つは、光ビーム走査装置が発生させる振動の振動数(主としてポリゴンモータの回転周波数)と、この装置を支持する支持フレームの固有振動数とを所定の値以上に離すものである(例えば、特許文献1参照)。この提案では、光ビーム走査装置が発生させる振動の振動数と支持フレームの固有振動数がある程度離れているので、光ビーム走査装置が発生させる振動によって支持フレームが共振することを防止することができる。このため、感光体上に濃度ムラのない良好な画像を形成することができる。
【0006】
しかしながら、この提案では、支持フレーム上に光ビーム走査装置が装着されるため、支持フレーム自体の減衰性が低下し、この支持フレームの固有振動数間には明確な反共振峰が存在しないことがある。このため、固有振動数が所定値離れていた場合でも、振動発生源である光学部品から発生する周波数での振動を抑制することができないという問題が生じる。
【0007】
次に、ポリゴンモータ等の振動発生光学部品を配置するために穴の開けられた支持板の剛性を高めるために、リブ配置を工夫したものが提案されている(例えば、特許文献2参照)。この提案では、剛性を高めるようなリブ配置を持った支持板にポリゴンモータ等の振動発生光学部品を装着し、この支持板を光学箱に取り付け、この光学箱を画像形成装置の本体フレームに取り付けているので、ポリゴンモータ等の振動発生光学部品による振動を抑制することができる。このため、感光体上に濃度ムラのない良好な画像が形成できる。
【0008】
しかしながら、この提案では、レーザ走査ユニットが光学箱に装着されるため、光学箱のレーザ走査ユニット以外の箇所に配置されているミラー等の光学部品とポリゴンミラーとの相対的な位置関係は、光学箱の固有振動数に大きく依存する。この提案では、リブ配置を工夫した支持板により2次的に光学箱の剛性を高めているが、レーザ走査ユニットが装着された状態での光学箱の固有振動数が高域側へ移動するのを限定するものである。したがって、光学箱の初期剛性が低下している場合、つまり、光学箱の1次固有振動数が振動発生光学部品の発生させる振動の振動数より相当数低い場合、支持板のリブ配置を工夫したとしても、振動発生光学部品の周波数での振動を抑制することができないという問題が生じる。また、この問題を解決しようとして、支持板を本体構造体に直接装着することが考えられる。こうすることによって、光学箱の固有振動数への依存を低減する効果がある。しかし、本体構造体から感光体ドラムや記録紙の給紙・排紙系を駆動させるモータ等から発生する振動が、直接レーザ走査ユニットに伝達されることになるため、振動発生光学部品自身の振動のみならず、複数の振動源からの振動の影響も受けることになり、単純に振動板の1次固有振動数を高域側へシフトするだけでは、振動を抑制することができないという問題が生じる。
【0009】
さらに別の提案として、光走査装置の光学箱のポリゴンモータ配置域と光学素子配置域が、垂立壁を介して階段状に段違いに形成され、垂立壁にレーザビーム通過孔が開口形成された構造がある(例えば、特許文献3参照)。この提案では、上記構造により光学箱の剛性が高められているので、ポリゴンモータ等の振動発生光学部品が発生させる振動により、光学箱が共振することを防止することができる。このため、感光体上に濃度ムラのない良好な画像が形成できる。
【0010】
この提案では、ポリゴンモータ配置域と光学素子配置域が、垂立壁を介して階段状に段違いに形成され、ポリゴンモータおよび光学素子の取り付け面が相対している。このため、ポリゴンモータおよび光学素子の取り付け面の平行度に高い精度が要求されコスト高となり、また、ポリゴンモータの取り付け面と光学素子の取り付け面が互いに逆となるため、組み立て性が低下するという問題が生じる。
【0011】
【特許文献1】
特開平5−103164号公報
【特許文献2】
特開平9−33844号公報
【特許文献3】
実開平5−11161号公報
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、これらの提案のように、ポリゴンモータで発生する振動のみに対処しても、振動により発生する感光体上の濃度ムラは回避することができない。これは、ポリゴンモータ以外の、感光体ドラムおよび記録紙の給紙・排紙系を駆動するモータ等から発生する振動により、光走査装置を構成するポリゴンモータや光学素子等を収納する光学箱および光学素子自身が振動し、光ビームの光路変動が生じるからである。このため、ポリゴンモータや光学素子等を収納する光学箱が、その固有振動数が高周波数域になるように形状を工夫して振動特性を設定する必要がある。
【0013】
そこで、本発明の目的は、ポリゴンモータや光学素子等を収納する光学箱の、主走査方向の長さを副走査方向の長さよりも大きく形成し、本体構造体への固定部を4点としてこの4点の固定部を副走査方向に相対するように2点づつ配置し、その副走査方向に相対する固定部の中間に光学箱の底部を形成するように、その副走査方向に相対する固定部の高さが異なるように設けることにより、それらの収納位置が振動する固有振動数を高周波数域に有する振動特性をもつ、光学箱を提供することにある。
本発明はまた、上記光学箱を用いることにより、精度の高い光走査を行うことができ、もって品質の高い画像を形成することができる光走査装置および画像形成装置を提供することを目的とする。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明にかかる走査装置の光学箱、光走査装置および画像形成装置の実施の形態について説明する。
本発明にかかる光走査装置の光学箱は、請求項1に記載されているように、光ビ−ムを発生させる光ビーム発生手段と、光ビーム発生手段から発せられた光ビ−ムを偏向するポリゴンミラーおよびこれを回転駆動するポリゴンモータを備えていて光ビームを偏向走査する光ビーム偏向走査手段と、偏向走査された光ビ−ムを結像する光ビーム結像手段と、光ビームを反射してその光路を変換する光ビ−ム反射手段と、上記各手段を収容しかつ本体構造体に固定される光学箱およびこの光学箱を覆うカバーとを具備し、上記光学箱は、主走査方向の長さが副走査方向の長さよりも大きく、本体構造体への固定部を4点有していてこの4点の固定部が副走査方向に相対するように2点づつ配置され、この副走査方向に相対する固定部間に光学箱の底部が形成され、副走査方向に相対する固定部は高さを異ならせて設けられていることを特徴とする。図1は上記光学箱を具備する光走査装置を使用した画像情報記録装置の概要を、図2は光走査装置の光学箱の概要を示す。
【0015】
図1において、符号10は、デジタル複写機、レーザビームプリンタ、レーザファクシミリ等の本体構造体を示しており、符号20は光走査装置を組み込んだ光学箱を示している。光学箱20は本体構造体10の上に固定されている。光学箱20内には、光ビーム発生手段としての例えば半導体レーザ、光ビームを所定の角度範囲で偏向する光ビーム偏向走査手段22、偏向された光ビームを被走査面上に結像させ被走査面上を等速度的に走査させる走査結像手段24、偏向された光ビームの光路を曲げて被走査面に導くミラー26などが組み込まれている。上記本体構造体10内には、表面が上記被走査面をなす感光体ドラム12がその中心軸線の周りに回転可能に組み込まれている。感光体ドラム10の周囲には、電子写真プロセスを実行するための、帯電、露光、現像、転写、クリーニングの各ユニットが配置されるが、露光ユニットを除いて図示は省略されている。露光ユニットに相当するのが上記光学箱20に組み込まれている光走査装置である。
【0016】
図2において、光学箱20は、底板の外周を周壁で囲み、上面が開放した偏平な箱で、開放上面は図示されないカバーで覆われる。光学箱20の一端部外側面には、例えば半導体レーザなどを有してなる光ビーム発生手段21が取り付けられていて、光学箱20の内部に向けて光ビームを出射するようになっている。光ビーム発生手段21は、光源からの光束を後の光学系にカップリングするカップリングレンズ、光ビームを副走査方向にのみ収束させるシリンドリカルレンズなども含む。光学箱20の内部には、一端側から順にポリゴンミラー22、複数のレンズからなる光ビーム結像手段24、光ビーム反射手段26が取り付けられている。
【0017】
図3は、上記光学箱20の実施形態を示す。図3において、左右方向がポリゴンミラー22により偏向走査された光ビームが被走査面を走査する主走査方向、これに直交する上下方向が副走査方向である。光学箱20は、図3に示すように、主走査方向の長さが副走査方向の長さよりも大きくなるように形成されている。光学箱20は、複写機、プリンタなどの本体構造体への固定部を4点に有している。4点の固定部を符号31、32、33、34で示す。4点の固定部31、32、33、34は、副走査方向に相対するように2点づつ配置されている。すなわち、固定部31と32が副走査方向に相対しており、固定部33と34が副走査方向に相対している。そして、副走査方向に相対する一対の固定部の高さ方向中間に、光学箱20の底部が位置するように、かつ、その副走査方向に相対する一対の固定部の高さが互いに異なるように設けられている。より具体的には、図4に示すように、副走査方向に相対する一対の固定部31、32の一方31は、他方の固定部32よりもHだけ高い位置にあり、固定部31の高さ位置と固定部32の高さ位置との間に光学箱20の底部が位置している。同様に、固定部33の高さ位置と固定部34の高さ位置との間に光学箱20の底部が位置している。
【0018】
また、上記4点の固定部31、32、33、34は、光ビーム偏向走査手段22、光ビーム結像手段24および光ビ−ム反射手段26を包含するように配置されている。すなわち、図3に示すように、光学箱20を上から見て上記4点の固定部を結んだ四角形の中に上記各手段がほぼ包含されるように上記各手段が配置されている。換言すれば、副走査方向に対する本体構造体への固定部31、32の中間およびの固定部33、34の中間に光学箱の底部を形成している。また、上記各手段の高さ位置が、固定部31と32の高さ位置の間、おおび固定部33と34の高さ位置の間にほぼ包含されるように、上記各手段が配置されている。なお、光ビームの主走査方向に相対する本体構造体への固定部31と33の高さは同じであり、また、他の固定部32と34の高さは同じである。
【0019】
図5は、上記実施形態の斜視図である。本実施形態では、副走査方向に対応する本体構造体への固定部31、32の高さと、固定部32、34の高さが29.5(mm)異なり、光ビームの走査方向と平行な方向の本体構造体への固定部31と固定部33の高さは同じで、固定部32と固定部34の高さは同じである。また、光学箱20の主走査方向の長さが284(mm)で、副走査方向の長さが192(mm)で、主走査方向の長さを副走査方向の長さよりも大きく形成している。
【0020】
次に、請求項2記載の発明に対応する構成を説明する。上記実施の形態において、光学箱20は、外形壁とリブで形成される空間を有している。この外形壁、リブおよび空間を有する光学箱20の平面図を図6に、斜視図を図7に示す。図6、図7において、光学箱20は、前記底板の外周を囲む外形壁と9本のリブによって8つの空間41、42、・・・48が形成されている。空間41は、光学箱20の前側(図6において下側)の半分以上を占める最も広い空間で、この空間41には、光ビーム結像手段、光ビ−ム反射手段等が配置される。空間41は、図示していないが、光学素子面の防塵や光学素子の熱変形を防止するため、カバーで密閉される。このカバーは、生産コスト等の観点から樹脂製にするのが好適である。
【0021】
空間41を除く他の空間42、43、・・・48は、光学箱20の後ろ側に、図6において左から右に向かって順に形成されている。空間45には、光ビーム偏向走査手段としてのポリゴンミラーが配置される。空間45は、図示していないが、ポリゴンミラーの偏向反射面の防塵を図る目的などのため、カバーで密閉される。このカバーは、防音、放熱等の観点から金属製にするのが好適である。しかしながら、生産コスト等の観点から樹脂製にしても良い。他の空間42、43、44、46、47、48には、光学素子等が配置されないため、密閉しなくても良い。
【0022】
次に、請求項3記載の発明に対応する構成を説明する。これまで説明してきた実施形態において、上記光学箱20は、本体構造体への固定部を、上記空間内に有している。図8に示す例では、本体構造体への4つの固定部31、32、33、34のうち、2つの固定部が空間43、46に1つずつ、すなわち、空間43に固定部34の孔部が、空間46に固定部32の孔部が配置されている。本実施形態の斜視図を図9に示す。
【0023】
次に、請求項4記載の発明に対応する実施形態を説明する。図10および図11はこの実施形態を示す。これまで説明してきた実施形態において、前述のリブは、外形壁に沿って形成される。図10では、光学箱20の底板の後側縁部に沿って外形壁51、52、53、が形成され、外形壁51、52、53よりも内側にかつ外形壁51、52、53にほぼ沿って、外形壁51、52、53と略平行に、3本のリブ61、62、63が形成されている。外形壁51とリブ61を結ぶ3つのリブ64、65、66が形成されることによって前記空間42、43、44が形成されている。上記リブ62と63の接続部と、外形壁52と53の接続部との間にはリブ67が形成され、リブ62と63の接続部と、外形壁53の終端との間にはリブ69が形成され、このリブ69と外形壁53の間にはリブ68が形成されている。外形壁52とリブ62の両端部はリブ66とリブ67でそれぞれつながれた形になっていて、これらのリブと外形壁52で空間45が形成されている。リブ67、68、69と外形壁53とで空間46が形成され、リブ68、69と外形壁53とで三角形の空間47が形成され、リブ63、69と一側面の外壁とで三角形の空間48が形成されている。
【0024】
上記空間43、46に本体構造体への固定用穴部が形成されている。外形壁51〜53と、外形壁51〜53に沿ったリブ61〜63との間に上記固定用穴部が設けられているので、リブ61〜63が、曲げ剛性的に外形壁と同等の効果を持つ。これにより、光学箱の長手方向すなわち主走査方向の曲げ変形形状が、リブ61〜63がない場合と比べると、大きく異なる。
【0025】
次に、請求項5記載の発明に対応する実施形態を説明する。図12はこの実施形態を示す平面図、図13はその斜視図である。既に説明したとおり、外形壁と外形形状に沿って形成されたリブとの間にもリブが形成されている。図12、図13に示すように、外形壁51とリブ61の間にリブ64、65が形成され、外形壁52とリブ62の両端を結ぶようにしてリブ66、67が形成され、外形壁53とリブ63の間にリブ68が形成されている。空間43、46に本体構造体への固定用穴部を有している。一つの固定用穴部をはさむようにリブ64、65が形成され、他の固定用孔部を挟むようにしてリブ67、68が形成されている。空間46内にある固定用穴がリブ67から離れている場合は、固定用穴をはさむようにリブ68、69を形成しても良い。
【0026】
次に、請求項6記載の発明に対応する実施形態を説明する。この実施形態では、これまで説明した実施形態において、上記リブの、光学箱20の底面部からの高さが、外形壁の高さと同じ高さになっている。図14はこれを図示しており、光学箱20の底部26からの外形壁50の高さH1と光学箱底部からのリブ60の高さH2が、
H1=H2
となるように高さが決定されている。本実施例では、H1=H2=37.1(mm)となっている。
【0027】
次に、請求項7記載の発明に対応する実施形態を説明する。この実施形態では、これまで説明した実施形態において、上記リブが、外形壁と同じ肉厚を有している。図15はこれを図示しており、外形壁50の肉厚T1とリブ60の肉厚T2が、
T1=T2
となるように、それぞれの肉厚が決定されている。本実施例では、T1=T2=2.5(mm)となっている。
【0028】
次に、請求項8記載の発明に対応する実施形態を説明する。この実施形態では、これまで説明した実施形態において、隣り合う上記空間の底部は、互いに高さを異にしていることを特徴としている。図16はこの実施形態を示しており、空間42の底部262に対して空間41の底部261の高さがH1の差を持つように形成され、空間42の底部262に対して空間43の底部263の高さがH2の差を持つように決定されている。ここで、
H1≠H2
である。したがって、空間41の底部と空間43の底部とでは高さが異なっている。もっとも、
H1=H2=0
すなわち、空間41、43の底部が同一平面上にあってもよい。本実施形態では、空間41の底部263に対して、空間41の底部261が有する高さの差H1が19.7(mm)、空間42の底部263が有する高さの差H2が16.2(mm)となっている。
【0029】
次に、請求項9記載の発明に対応する実施形態を説明する。この実施形態の構成上の特徴は、上記空間の底部の高さの差が、底部の肉厚より大きいことである。図17はこの実施形態を示しており、空間411の底部261の高さと、空間42の底部262の高さの差H1が、空間41、42の底部261,262の肉厚D1、D2に対して、
D1,D2≦H1
となるように決定されている。また、空間42の底部262の高さと、空間43の底部263の高さの差H2が、空間42,43の底部262,263の肉厚D2、D3に対して、
D2,D3≦H2
となるように決定されている。本実施形態では、空間42の底部262に対して空間41の底部261における高さの差H1が3.5(mm)であり、空間41、42の底部261,262の肉厚D1、D2は、ともに2.5(mm)となっている。
【0030】
次に、請求項10記載の発明に対応する実施形態を説明する。この実施形態の構成上の特徴は、本体構造体への固定用穴部を有する空間の底部の肉厚が、他の空間の底部の肉厚より大きいことである。図18はこの実施形態を示している。図18において、空間42の底部262の肉厚D2は、空間41、43の底部261,263の肉厚D1、D3に対して、
D1、D3≦D2
の関係に設定されている。本実施形態では、空間41、42の底部の肉厚が2.5(mm)であり、空間3の底部の肉厚が3.0(mm)となっている。
【0031】
次に、請求項11、12記載の発明に対応する実施形態を説明する。請求項11記載の発明は光走査装置に関するもので、これまで説明してきた光学箱の実施形態のいずれかを用いたことを特徴としている。光走査装置を構成する光学素子の配置は図1、図2に示す光学素子の配置例と同じである。いずれかの実施形態にかかる光学箱20の、主走査方向一側部外形壁には光ビームを発生させる光ビーム発生手段21としての例えば半導体レーザが取り付けられる。リブ62、66、67と外形壁52で囲まれた空間45には、光ビーム発生手段21から発せられる光ビームを偏向するポリゴンミラー22およびこれを回転駆動するポリゴンモータを備えていて上記光ビームを偏向走査する光ビーム偏向手段が取り付けられる。前記の大きな空間41には、ポリゴンミラー22によって偏向走査された光ビームを結像する光ビーム結像手段24と、この光ビーム結像手段24を透過した光ビームを反射してその光路を変換する光ビーム反射手段26が取り付けられる。
【0032】
上記ポリゴンミラー22が高速回転駆動されることにより、光ビーム発生手段21からの光ビームが偏向反射され、光ビーム結像手段24の結像作用と周知のfθ機能によって被走査面、例えば感光体ドラムの表面に上記光ビームが光スポットとして結ばれるとともに等速度的に走査されて主走査が行われるようになっている。
【0033】
請求項12記載の発明は画像形成装置にかかるもので、前述した光学箱20を用いて光走査装置を構成し、この光走査装置を本体構造体に固定してなるものである。図1はその概要を示している。複写機、プリンタなどの本体構造体10の内部に、一連の画像形成プロセスによって画像を形成し記録するためのユニットが、感光体ドラム12を中心としてその周囲に配置されている。このユニットとしては、帯電、露光、現像、転写、クリーニングの各ユニットであり、さらに定着ユニットがある。上記露光ユニットに相当するのが前述の光走査装置で、上記光ビーム反射手段26で反射された光ビームが感光体ドラム12の表面に導かれて感光体ドラム12の表面を走査し、画像信号に応じてオン・オフ制御される光ビームによって感光体ドラム12の表面に静電潜像が形成される。これらの画像形成プロセスは周知であるから、説明は省略する。
【0034】
【発明の効果】
請求項1記載の光学箱は、主走査方向の長さを副走査方向の長さよりも大きく形成し、本体構造体への4点の固定部を副走査方向に相対するように2点づつ配置し、その副走査方向に相対する固定部の中間に光学箱の底部を形成するように、また、その副走査方向に相対する固定部の高さが異なるようにした。これにより、光学箱が主走査方向に曲がる1次固有振動数において、振動変形形状を大きく変化させ、光学箱の固有振動数を高周波数域側にシフトさせることができる。また、高周波数域の光学箱の局部的な振動を抑制できる。このため、ポリゴンモータ、感光体ドラムおよび記録紙の給紙・排紙系を駆動させるモータ等から発生される振動により発生する感光体上の濃度ムラを回避することができる。
【0035】
請求項2記載の光学箱は、上記光学箱に外形壁とリブで形成される空間を有するようにした。これにより、光学箱が長手方向に曲がる1次固有振動数において、振動変形形状を大きく変化させ、光学箱の固有振動数を高周波数域側にシフトさせることができる。また、高周波数域の光学箱の局部的な振動を抑制できる。このため、ポリゴンモータ、感光体ドラムおよび記録紙の給紙・排紙系を駆動させるモータ等から発生される振動により発生する感光体上の濃度ムラを回避することができる。
【0036】
請求項3記載の光学箱は、上記光学箱の本体構造体への固定用穴部を、上記空間内に有するようにした。これにより、上記固定用穴部が光学箱形状外にある場合に比べて、光学箱が長手方向に曲がる1次固有振動数において、振動変形形状を大きく変化させ、光学箱の固有振動数を高周波数域側にシフトさせることができる。このため、ポリゴンモータ、感光体ドラムおよび記録紙の給紙・排紙系を駆動させるモータ等から発生される振動により発生する感光体上の濃度ムラを回避することができる。
【0037】
請求項4記載の光学箱は、上記リブが外形壁に沿って形成されるようにした。これにより、光学箱が長手方向に曲がる1次固有振動数において、振動変形形状を大きく変化させ、光学箱の固有振動数を高周波数域側にシフトさせることができる。このため、ポリゴンモータ、感光体ドラムおよび記録紙の給紙・排紙系を駆動させるモータ等から発生される振動により発生する感光体上の濃度ムラを回避することができる。
【0038】
請求項5記載の光学箱は、上記リブが外形壁に沿って形成されるようにした。これにより、光学箱が長手方向に曲がる1次固有振動数において、振動変形形状形態を大きく変化させ、光学箱の固有振動数を高周波数域側にシフトさせることができる。また、高周波数域の光学箱の局部的な振動を抑制できる。このため、ポリゴンモータ、感光体ドラムおよび記録紙の給紙・排紙系を駆動させるモータ等から発生される振動により発生する感光体上の濃度ムラを回避することができる。
【0039】
請求項6記載の光学箱は、上記リブが底面部からの外形壁の高さと同じ高さを有するようにした。これにより、光学箱が長手方向に曲がる1次固有振動数において、振動変形形状を大きく変化させ、光学箱の固有振動数を高周波数域側にシフトさせることができる。このため、ポリゴンモータ、感光体ドラムおよび記録紙の給紙・排紙系を駆動させるモータ等から発生される振動により発生する感光体上の濃度ムラを回避することができる。
【0040】
請求項7記載の光学箱は、上記リブが外形壁と同じ肉厚を有するようにした。これにより、光学箱を樹脂製にする際に、光学箱の肉厚を均一化でき、成形しやすくなる。このため、金型製作費や生産コストを低減できる。
【0041】
請求項8記載の光学箱は、上記空間は隣り合う上記空間の底部の高さを異なるようにした。これにより、光学箱が長手方向に曲がる1次固有振動数において、振動変形形状を大きく変化させ、光学箱の固有振動数を高周波数域側にシフトさせることができる。また、高周波数域の光学箱の局部的な振動を抑制できる。このため、ポリゴンモータ、感光体ドラムおよび記録紙の給紙・排紙系を駆動させるモータ等から発生される振動により発生する感光体上の濃度ムラを回避することができる。
【0042】
請求項9記載の光学箱は、上記空間の底部の高さを底部の肉厚より大きくするようにした。これにより、光学箱が長手方向に曲がる1次固有振動数において、振動変形形状を大きく変化させ、光学箱の固有振動数を高周波数域側にシフトさせることができる。また、高周波数域の光学箱の局部的な振動を抑制できる。このため、ポリゴンモータ、感光体ドラムおよび記録紙の給紙・排紙系を駆動させるモータ等から発生される振動により発生する感光体上の濃度ムラを回避することができる。
【0043】
請求項10記載の光学箱は、上記空間内に本体構造体への固定用穴部を有する底部の肉厚を底部の肉厚より大きくするようにした。これにより、固定用穴部近傍の剛性が向上し、光学箱の固有振動数を高周波数域側にシフトさせることができる。このため、ポリゴンモータ、感光体ドラムおよび記録紙の給紙・排紙系を駆動させるモータ等から発生される振動により発生する感光体上の濃度ムラを回避することができる。
【0044】
請求項11記載の光走査装置は、上記光学箱の本体構造体への固定部が、光ビーム偏向走査手段、光ビーム結像手段および光ビ−ム反射手段を包含するように4点配置し、かつその高さが異なるようにした。これにより、光学箱が長手方向に曲がる1次固有振動数において、振動変形形状形態を大きく変化させ、光学箱の固有振動数を高周波数域側にシフトさせることができる。また、高周波数域の光学箱の局部的な振動を抑制できる。このため、ポリゴンモータ、感光体ドラムおよび記録紙の給紙・排紙系を駆動させるモータ等から発生される振動により発生する感光体上の濃度ムラを回避することができ、最終的に高精度な画像品質を維持するという効果が得られる。
【0045】
請求項12記載の画像形成装置は、上記光走査装置の光学箱の本体構造体への固定部が、光ビーム偏向走査手段、光ビーム結像手段および光ビ−ム反射手段を包含するように4点配置し、かつその高さが異なるようにした。これにより、光学箱が長手方向に曲がる1次固有振動数において、振動変形形状形態を大きく変化させ、光学箱の固有振動数を高周波数域側にシフトさせることができる。また、高周波数域の光学箱の局部的な振動を抑制できる。このため、ポリゴンモータ、感光体ドラムおよび記録紙の給紙・排紙系を駆動させるモータ等から発生される振動により発生する感光体上の濃度ムラを回避することができ、最終的に高精度な画像品質を維持するという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる光学箱を用いることができる光走査装置および画像形成装置の実施の形態を概略的に示す正面図である。
【図2】本発明にかかる光学箱を用いることができる光走査装置の例を概略的に示す斜視図である。
【図3】本発明にかかる光走査装置の光学箱の実施形態を示す平面図である。
【図4】同上光学箱を用いた光走査装置の例を概略的に示す側面図である。
【図5】本発明にかかる光走査装置の光学箱の別の実施形態を示す斜視図である。
【図6】本発明にかかる光走査装置の光学箱のさらに別の実施形態を示す平面図である。
【図7】同上光学箱の斜視図である。
【図8】本発明にかかる光走査装置の光学箱のさらに別の実施形態を示す平面図である。
【図9】同上光学箱の斜視図である。
【図10】本発明にかかる光走査装置の光学箱のさらに別の実施形態を示す平面図である。
【図11】同上光学箱の斜視図である。
【図12】本発明にかかる光走査装置の光学箱のさらに別の実施形態を示す平面図である。
【図13】同上光学箱の斜視図である。
【図14】本発明にかかる光走査装置の光学箱における外形壁とリブとの高さの関係を示す一部断面側面図である。
【図15】本発明にかかる光走査装置の光学箱における外形壁とリブとの厚さの関係を示す一部断面側面図である。
【図16】本発明にかかる光走査装置の光学箱における各空間の底部高さの関係を示す一部断面側面図である。
【図17】本発明にかかる光走査装置の光学箱における各空間の底部高さの関係の別の例を示す一部断面側面図である。
【図18】本発明にかかる光走査装置の光学箱における各空間の底部高さの関係のさらに別の例を示す一部断面側面図である。
【符号の説明】
10 本体構造体
20 光学箱
21 光ビーム発生手段
22 光ビーム偏向走査手段
24 光ビーム結像手段
26 光ビーム反射手段
31,32,33,34 固定部
41、42、43、44、45、46、47、48 空間
51、52、53 外形壁
61、62、63、64、65 リブ
66、67、68、69 リブ
Claims (12)
- 光ビ−ムを発生させる光ビーム発生手段と、
光ビーム発生手段から発せられた光ビ−ムを偏向するポリゴンミラーおよびこれを回転駆動するポリゴンモータを備えていて光ビームを偏向走査する光ビーム偏向走査手段と、
偏向走査された光ビ−ムを結像する光ビーム結像手段と、
光ビームを反射してその光路を変換する光ビ−ム反射手段と、
上記各手段を収容しかつ本体構造体に固定される光学箱およびこの光学箱を覆うカバーとを具備し、
上記光学箱は、主走査方向の長さが副走査方向の長さよりも大きく、本体構造体への固定部を4点有していてこの4点の固定部が副走査方向に相対するように2点づつ配置され、この副走査方向に相対する固定部間に光学箱の底部が形成され、副走査方向に相対する固定部は高さを異ならせて設けられていることを特徴とする光走査装置の光学箱。 - 光学箱の外側を画する外形壁とリブで形成される空間を有することを特徴とする請求項1記載の光走査装置の光学箱。
- 構造体への固定用穴部を上記空間内に有することを特徴とする請求項1または2記載の光走査装置の光学箱。
- 上記リブが、外形壁に沿って形成されていることを特徴とする請求項2記載の光走査装置の光学箱。
- 上記リブが、外形壁と外形形状に沿って形成されたリブとの間にも形成されていることを特徴とする請求項4記載の光走査装置の光学箱。
- 上記リブが、底面部からの外形壁の高さと同じ高さを有することを特徴とする請求項2から5のいずれかに記載の光走査装置の光学箱。
- 上記リブが、外形壁と同じ肉厚を有することを特徴とする請求項2から5のいずれかに記載の光走査装置の光学箱。
- 隣り合う上記空間の底部は、互いに高さを異にしていることを特徴とする請求項2、3記載の光走査装置の光学箱。
- 上記底部の高さの差は、底部の肉厚より大きいことを特徴とする請求項8記載の光走査装置の光学箱。
- 構造体への固定用穴部を有する空間の底部の肉厚は、他の空間の底部の肉厚より大きいことを特徴とする請求項3記載の光走査装置の光学箱。
- 一連の画像形成プロセスによって画像を形成する画像形成装置に用いられる光走査装置であって、請求項1から10のいずれかに記載の光学箱を有することを特徴とする光走査装置。
- 一連の画像形成プロセスによって画像を形成する画像形成装置であって、請求項11記載の光走査装置を有することを特徴とする画像形成装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2014178341A (ja) * | 2013-03-13 | 2014-09-25 | Canon Inc | 画像形成装置 |
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-
2003
- 2003-07-10 JP JP2003195301A patent/JP2005031315A/ja active Pending
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