JP2005031279A - ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 - Google Patents
ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005031279A JP2005031279A JP2003194817A JP2003194817A JP2005031279A JP 2005031279 A JP2005031279 A JP 2005031279A JP 2003194817 A JP2003194817 A JP 2003194817A JP 2003194817 A JP2003194817 A JP 2003194817A JP 2005031279 A JP2005031279 A JP 2005031279A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hologram recording
- metal oxide
- recording material
- group
- oxide matrix
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 64
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 82
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 59
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 59
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 53
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 52
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 52
- -1 alkoxide compound Chemical class 0.000 claims abstract description 46
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 27
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 25
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 13
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 10
- 150000008282 halocarbons Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 23
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 17
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 5
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC1(CC)COC1 FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOC=C CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000004292 cyclic ethers Chemical group 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenoxy)ethane Chemical compound C=COCCOC=C ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEIPWOFSKAZYJO-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethenoxyethoxy)-2-[2-(2-ethenoxyethoxy)ethoxy]ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOCCOC=C UEIPWOFSKAZYJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZAVRNDQSIORTH-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2,2-bis(ethenoxymethyl)butane Chemical compound C=COCC(CC)(COC=C)COC=C CZAVRNDQSIORTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOC=C SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(OCC1OC1)COCC1CO1 SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C)COCC1CO1 HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLNCKLVYLZHRKK-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]ethoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCOCC1(CC)COC1 SLNCKLVYLZHRKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXEOSBGULDWPRJ-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[5-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]pentoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCCCCOCC1(CC)COC1 UXEOSBGULDWPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPINXYMPRYQBGF-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]-2,2-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]propoxy]methyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC(COCC1(CC)COC1)(COCC1(CC)COC1)COCC1(CC)COC1 HPINXYMPRYQBGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(COCC2(CC)COC2)C=CC=1COCC1(CC)COC1 LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUHWCFQPWHCXOE-UHFFFAOYSA-N 6-oxabicyclo[3.1.1]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1C(O2)CC2CC1 VUHWCFQPWHCXOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADAHGVUHKDNLEB-UHFFFAOYSA-N Bis(2,3-epoxycyclopentyl)ether Chemical compound C1CC2OC2C1OC1CCC2OC21 ADAHGVUHKDNLEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNVSHALFPVGANN-UHFFFAOYSA-N C1COCOC1.O=C1CCCCC1 Chemical compound C1COCOC1.O=C1CCCCC1 JNVSHALFPVGANN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002008 alkyl bromide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001930 alkyl chloride group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002538 alkyl iodide group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N bis(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl) hexanedioate Chemical compound C1CC2OC2CC1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CC2OC2CC1 DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005997 bromomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000004772 dichloromethyl group Chemical group [H]C(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N dimethylacetone Natural products CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N fenbutatin oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C[Sn](O[Sn](CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical class [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N o-dimethylbenzene Natural products CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FABOKLHQXVRECE-UHFFFAOYSA-N phenyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)C1=CC=CC=C1 FABOKLHQXVRECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- DVQHRBFGRZHMSR-UHFFFAOYSA-N sodium methyl 2,2-dimethyl-4,6-dioxo-5-(N-prop-2-enoxy-C-propylcarbonimidoyl)cyclohexane-1-carboxylate Chemical compound [Na+].C=CCON=C(CCC)[C-]1C(=O)CC(C)(C)C(C(=O)OC)C1=O DVQHRBFGRZHMSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N tripropoxysilane Chemical compound CCCO[SiH](OCCC)OCCC OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/024—Hologram nature or properties
- G03H1/0248—Volume holograms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H2001/026—Recording materials or recording processes
- G03H2001/0264—Organic recording material
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2240/00—Hologram nature or properties
- G03H2240/10—Physical parameter modulated by the hologram
- G03H2240/11—Phase only modulation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2260/00—Recording materials or recording processes
- G03H2260/12—Photopolymer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
【解決手段】金属酸化物マトリックス及び光重合性化合物を含み、前記金属酸化物マトリックスはハロゲン含有有機基を有しているホログラム記録材料。金属酸化物マトリックスは、金属アルコキシド化合物の加水分解及び重合反応によって形成され、前記金属アルコキシド化合物には、一般式(1):
(RH )m M(OR)n (1)
(ここで、RH はハロゲン含有有機基を表し、Rはアルキル基を表し、Mは金属原子を表し、mは1又は2を表し、m+nは金属原子Mの価数を表す。)
で表される金属アルコキシド化合物が含まれる。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、体積型ホログラム記録に適したホログラム記録材料、その製造方法、及び前記ホログラム記録材料を有するホログラム記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】
大容量、高速転送を可能とする記録技術として、ホログラフィックメモリーの研究開発が進められている。O plus E, Vol. 25, No. 4, 385−390 (2003)には、ホログラフィックメモリーの基本構成及び今後の展望が記載されている。
【0003】
ホログラム記録材料に求められる特性として、記録の際の高い屈折率変化、高感度、低散乱、耐環境性、耐久性、低寸法変化、及び高多重度等が挙げられる。
ホログラム記録材料として、有機バインダーポリマーと光重合性モノマーとを主成分とするフォトポリマー材料が知られている。しかしながら、フォトポリマー材料は、耐環境性、耐久性等において問題がある。フォトポリマー材料の問題点を解決するために、無機マトリックスと光重合性モノマーとを主成分とする有機−無機ハイブリッド材料が注目され検討されている。無機マトリックスは、耐環境性、耐久性に優れる。
【0004】
例えば、特許2953200号公報には、無機物質ネットワークの膜中に、光重合性モノマー又はオリゴマー、及び光重合開始剤を含む光記録用膜が開示されている。また、無機ネットワークを有機修飾して、無機ネットワーク膜の脆さを改善することも開示されている。しかしながら、無機物質ネットワークと光重合性モノマー又はオリゴマーとの相溶性は良くない。そのため、均一な膜は得られにくい。特に、高多重度を達成するために必要な100μm以上の膜厚とする場合には、均一な膜の形成は困難である。膜の不均一は光散乱の問題を生じ、100μm以上の膜厚の場合には、光散乱は非常に大きな問題となる。すなわち、光散乱によってホログラム記録材料の透過率が低下し、また散乱光によって記録データのノイズを生じることとなる。同号公報では、100μm以上の膜厚における散乱などの記録特性について検討されていない。
【0005】
特開平11−344917号公報には、有機−無機ハイブリッドマトリックス中に光活性モノマーを含む光記録媒体が開示されている。前記有機無機ハイブリッドマトリックスは、金属元素にアルキル基(メチル基)又はアリール基(フェニル基)を有する。しかしながら、メチル基の導入によっては、ハイブリッドマトリックスと光活性モノマーとの相溶性を改善できない。フェニル基の導入は、メチル基の導入よりは相溶性の改善が得られる。しかし、フェニル基の導入によって、ハイブリッドマトリックス前駆体の硬化速度が低下し(同号公報[0015])、またハイブリッドマトリックスの屈折率が高くなる。ハイブリッドマトリックスの屈折率が高くなり、光活性モノマーやその重合物の屈折率に近づくと、記録に際して高い屈折率変化が得られにくい。このことは、記録媒体設計の自由度を狭める。
【0006】
特開2002−236439号公報には、主鎖構成成分としてエチレン性不飽和二重結合を含有する有機金属化合物とエチレン性不飽和二重結合を有する有機モノマーとを共重合させてなる有機−無機ハイブリッドポリマーの加水分解重縮合物からなるマトリックス、光重合性化合物、及び光重合開始剤を含むホログラム記録材料が開示されている。大きな有機主鎖成分をマトリックス材料に導入することにより、マトリックスと光重合性化合物との相溶性は改善される。しかしながら、大きな有機主鎖成分の導入は、マトリックス材料中に有機主鎖と無機ネットワークの二成分構造が存在することになり、記録の際のマトリックスとしての単一の挙動を示さない可能性があり、記録の不均一を起こすことが考えられる。また、マトリックス中の有機主鎖成分の割合が大きいと、有機バインダーポリマーを用いたフォトポリマー材料におけるのと同じ問題が生じる。
【0007】
【非特許文献1】
O plus E, Vol. 25, No. 4, 385−390 (2003)
【特許文献1】
特許2953200号公報
【特許文献2】
特開平11−344917号公報
【特許文献3】
特開2002−236439号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明の目的は、高い屈折率変化、高感度、低散乱、耐環境性、耐久性、低寸法変化、及び高多重度が達成される、体積型ホログラム記録に適したホログラム記録材料を提供することにある。また、本発明の目的は、前記ホログラム記録材料の製造方法を提供することにある。さらに、本発明の目的は、前記ホログラム記録材料を有するホログラム記録媒体を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、鋭意検討した結果、金属酸化物マトリックス中にハロゲン含有有機基を導入することによって、マトリックスと光重合性化合物との相溶性、及びマトリックスと記録に際して生成する有機ポリマーとの相溶性が著しく改善されたホログラム記録材料が得られることを見いだした。
【0010】
本発明は、金属酸化物マトリックス及び光重合性化合物を含み、前記金属酸化物マトリックスはハロゲン含有有機基を有している、ホログラム記録材料である。
【0011】
本発明は、前記ハロゲン含有有機基は、ハロゲン化炭化水素基である、前記のホログラム記録材料である。
【0012】
本発明は、金属酸化物マトリックスは、金属アルコキシド化合物の加水分解及び重合反応によって形成されたものであり、前記金属アルコキシド化合物には、一般式(1):
(RH )m M(OR)n (1)
(ここで、RH はハロゲン含有有機基を表し、Rはアルキル基を表し、Mは金属原子を表し、mは1又は2を表し、m+nは金属原子Mの価数を表す。)
で表される金属アルコキシド化合物が含まれる、前記のホログラム記録材料である。
【0013】
本発明は、金属酸化物マトリックスは、ケイ素の酸化物を主成分とする、前記のホログラム記録材料である。
【0014】
本発明は、前記光重合性化合物は、芳香族環を有する、前記のホログラム記録材料である。
【0015】
本発明は、さらに光重合開始剤を含む、前記のホログラム記録材料である。
【0016】
また、本発明は、一般式(1):
(RH )m M(OR)n (1)
(ここで、RH はハロゲン含有有機基を表し、Rはアルキル基を表し、Mは金属原子を表し、mは1又は2を表し、m+nは金属原子Mの価数を表す。)
で表される金属アルコキシド化合物を含む金属アルコキシド化合物を加水分解させ、金属酸化物マトリックスの前駆体を得る工程と、
前記加水分解の前又は後において、光重合性化合物を混合する工程と、
光重合性化合物が混合された金属酸化物マトリックス前駆体を硬化させ、金属酸化物マトリックスを形成する工程とを含む、ホログラム記録材料の製造方法である。
【0017】
さらに、本発明は、前記のホログラム記録材料を有する、ホログラム記録媒体である。
【0018】
【発明の実施の形態】
本発明のホログラム記録材料は、金属酸化物マトリックス及び光重合性有機化合物を必須成分として含み、前記金属酸化物マトリックスはハロゲン含有有機基で修飾されている。金属酸化物マトリックスは網目状のネットワーク構造であり、このネットワーク内に光重合性有機化合物が含有される。
【0019】
フィルム状とされたこのホログラム記録材料に干渉性のある光を照射すると、露光部では光重合性有機化合物が重合反応を起こしポリマー化すると共に、未露光部から光重合性有機化合物が露光部へと拡散移動し、さらに露光部のポリマー化が進む。この結果、光強度分布に応じて光重合性有機化合物から生じたポリマーの多い領域とポリマーの少ない領域とが形成される。この際、前記ポリマーの多い領域から金属酸化物マトリックスが前記ポリマーの少ない領域に移動して、前記ポリマーの多い領域は金属酸化物マトリックスの少ない領域となり、前記ポリマーの少ない領域は金属酸化物マトリックスの多い領域となる。このようにして、露光によりポリマーの多い領域と金属酸化物マトリックスの多い領域とが形成され、ポリマーと金属酸化物マトリックスとの間に屈折率差があるとき、光強度分布に応じて屈折率変化が記録される。
【0020】
ホログラム記録材料において、有機ポリマーと金属酸化物マトリックスの両者の屈折率の高低については、どちらを高くしてどちらを低く設計してもよい。一般に、ケイ素酸化物を主成分とする金属酸化物マトリックスの屈折率は有機ポリマーの屈折率よりも低く、金属酸化物マトリックスを低屈折率として、有機ポリマーを高屈折率とするとよい。しかしながら、金属酸化物マトリックスを高屈折率として、有機ポリマーを低屈折率としてもよい。
【0021】
本発明における金属酸化物マトリックスは、例えば、多孔質ガラスのようなものをマトリックスとして、これに各種表面改質を施すことによってハロゲン含有有機基を導入したり、水ガラスに表面処理を施すことによってハロゲン含有有機基を導入したり、架橋や重合反応によってハロゲン含有有機基を導入して得ることができる。多孔質ガラスマトリックスには、その孔に後述する光重合性化合物を充填して含有させるとよい。
【0022】
本発明における金属酸化物マトリックスは好ましくは、金属アルコキシド化合物の加水分解及び重合反応、いわゆるゾル−ゲル反応によって形成される。本発明のホログラム記録材料において、金属酸化物マトリックス中にハロゲン含有有機基を導入するために、金属アルコキシド化合物の成分として、一般式(1):
(RH )m M(OR)n (1)
で表される金属アルコキシド化合物を用いる。ここで、RH はハロゲン含有有機基を表し、Rはアルキル基を表し、Mは金属原子を表し、mは1又は2を表し、m+nは金属原子Mの価数を表す。RH はmにより異なっていても良く、Rはnにより異なっていても良い。
【0023】
金属原子Mとしては、例えばSi、Al、Ti、Zr、Zn、In、Sn等が挙げられる。これらのうち、Siが好ましい。
【0024】
RH が表すハロゲン含有有機基は、例えばハロゲン化炭化水素基、特にハロゲン化アルキル基である。ハロゲンとしては塩素が好適であり、塩化炭化水素基として、クロロメチル基(−CH2Cl )、ジクロロメチル基(−CHCl2 )、クロロプロピル基(−CH2CH2CH2Cl )、クロロブチル基(−CH2CH2CH2CH2Cl)、3−クロロブチル基(−CH2CH2CHClCH3 )、1,2−ジクロロエチル基(−CHClCH2Cl )等の塩化アルキル基が例示される。ハロゲン化アルキル基の炭素数は、限定されないが、通常1〜4程度である。
【0025】
また、ハロゲン化炭化水素基として、上記の塩化炭化水素基の他に、ブロモメチル基(−CH2Br )、ブロモプロピル基(−CH2CH2CH2Br )等の臭化アルキル基が例示され、ヨードプロピル基(−CH2CH2CH2I)等の沃化アルキル基が例示される。また、クロロブロモメチル基(−CHClBr)等の塩臭化アルキル基が例示される。金属酸化物マトリックスを高屈折率化させたい場合などには、ハロゲンとして臭素や沃素を用いるとよい。
【0026】
また、RH が表すハロゲン含有有機基には、クロロエチルオキシメチル基(−CH2OCH2CH2Cl)のようなエーテル結合含有基、クロロフェニル基(−C6H4Cl)のようなハロゲン化芳香族基も含まれる。
【0027】
Rが表すアルキル基としては、炭素数1〜4の低級アルキル基が好ましく、 メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基等が挙げられる。
【0028】
前記一般式(1)で表される金属アルコキシド化合物はハロゲン含有有機基を有しているため、これを用いて得られる金属酸化物マトリックスは、光重合性化合物との相溶性に非常に優れると共に、記録の際には、この光重合性化合物の重合により生成した有機ポリマーとの相溶性にも非常に優れる。
【0029】
本発明において、前記一般式(1)で表される金属アルコキシド化合物の他に、ハロゲン含有有機基を有していない通常の金属アルコキシド化合物を用いる。この金属アルコキシド化合物は、一般式(2):
(R1 )m M(OR2 )n (2)
で表される。ここで、R1 はアルキル基又はアリール基を表し、R2 はアルキル基を表し、Mは金属原子を表し、mは0、1又は2を表し、m+nは金属原子Mの価数を表す。R1 はmにより異なっていても良く、R2 はnにより異なっていても良い。
【0030】
金属原子Mとしては、例えばSi、Al、Ti、Zr、Zn、In、Sn等が挙げられる。これらのうち、Siが好ましい。
【0031】
R1 及びR2 が表すアルキル基は通常、炭素数1〜4程度の低級アルキル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基等が挙げられる。R1 が表すアリール基としては、フェニル基が挙げられる。
【0032】
一般式(2)の金属アルコキシド化合物のうち、ケイ素化合物の具体例としては、例えば、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン等が挙げられる。
【0033】
これらのケイ素化合物のうち、好ましいものとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【0034】
また、本発明において、必要に応じて、ゲル化後のマトリックスの硬さ、柔軟性などの調整のために、上記式(2)のn=2のケイ素化合物を用いることもある。このようなものとしては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等が挙げられる。
【0035】
本発明において、全体の金属アルコキシド化合物における一般式(1)の金属アルコキシド化合物の使用量は、マトリックスのネットワーク構成及び光重合性有機化合物の含有量にもよるので一概には言えないが、全体の金属アルコキシド化合物1molに対して、一般式(1)の金属アルコキシド化合物を例えば0.05〜1mol、好ましくは0.1〜1molとするとよい。また、その他の製法で金属酸化物マトリックスを作成した場合も、RH で表されるハロゲン含有有機基の量は、金属酸化物マトリックス末端基の0.05〜1当量とするとよい。
【0036】
光重合性化合物としては、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の中から選ばれる化合物を用いることができる。
【0037】
ラジカル重合性化合物としては、分子内に1つ以上のラジカル重合性不飽和二重結合を有するものであれば特に制限はないが、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基を有する化合物を用いることができる。
【0038】
このようなラジカル重合性化合物のうち、(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス〔4−(アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル〕プロパン等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【0039】
また、ビニル基を有する化合物としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【0040】
ラジカル重合性化合物の1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。芳香族環を有するものを用いると、より高屈折率の有機ポリマーが得られる。
ケイ素酸化物を主成分とする低屈折率の金属酸化物マトリックスとの屈折率の差が得られやすく好ましい。また、光重合性化合物として、上記例示のラジカル重合性化合物のオリゴマーを用いてもよい。
【0041】
カチオン重合性化合物としては、環状エーテル基及びビニルエーテル基の中から選択される少なくとも1つの反応性基を有するものであれば、特にその構造は限定されない。
【0042】
このようなカチオン重合性化合物のうち、環状エーテル基を有する化合物としては、例えばエポキシ基や脂環エポキシ基、オキセタニル基を有する化合物が挙げられる。
【0043】
エポキシ基を有する化合物として、具体的には、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ノボラック型エポキシ樹脂類、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル等が挙げられる。
【0044】
また、脂環エポキシ基を有する化合物として、具体的には、2,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4− エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5− スピロ−3,4− エポキシ)シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、EHPE−3150(ダイセル化学工業(株)製、脂環式エポキシ樹脂)等が挙げられる。
【0045】
オキセタニル基を有する化合物として、具体的には、1,4−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、1,3−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕プロパン、エチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリメチロールプロパントリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル等が挙げられる。
【0046】
カチオン重合性化合物のうち、ビニルエーテル基を有する化合物として、具体的には、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、シクロヘキサン−1,4− ジメチロールジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、ポリエステルジビニルエーテル、ポリウレタンポリビニルエーテル等が挙げられる。
【0047】
カチオン重合性化合物の1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。芳香族環を有するものを用いると、より高屈折率の有機ポリマーが得られる。ケイ素酸化物を主成分とする低屈折率の金属酸化物マトリックスとの屈折率の差が得られやすく好ましい。また、光重合性化合物として、上記例示のカチオン重合性化合物のオリゴマーを用いてもよい。
【0048】
本発明において、光重合性化合物は、硬化後の金属酸化物マトリックスの重量に対して、例えば10〜1000重量%程度、好ましくは50〜500重量%用いるとよい。10重量%未満では、記録の際に大きな屈折率変化を得られにくく、1000重量%を超えた場合も、記録の際に大きな屈折率変化を得られにくい。
【0049】
本発明において、ホログラム記録材料は、さらに記録光の波長に対応する光重合開始剤が含まれることが好ましい。光重合開始剤が含まれていると、記録の際の露光により光重合性化合物の重合が促進され、より高感度が得られるようになる。
【0050】
光重合性化合物としてラジカル重合性化合物を用いた場合には、光ラジカル開始剤を用いる。一方、光重合性化合物としてカチオン重合性化合物を用いた場合には、光カチオン開始剤を用いる。
【0051】
光ラジカル開始剤としては、例えば、ダロキュア1173、イルガキュア784 、イルガキュア651 、イルガキュア184 、イルガキュア907 (いずれもチバスペシャルティ・ケミカルズ社製)が挙げられる。光ラジカル開始剤の含有量は、例えば、ラジカル重合性化合物を基準として0.1〜10重量%程度、好ましくは0.5〜5重量%程度である。
【0052】
光カチオン開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩等のオニウム塩を用いることができ、特に、芳香族オニウム塩を用いることが好ましい。その他、フェロセン誘導体等の鉄−アレーン錯体や、アリールシラノール−アルミニウム錯体等も好ましく用いることができ、これらの中から適宜選択するとよい。具体的には、サイラキュアUVI−6970、サイラキュアUVI−6974、サイラキュアUVI−6990(いずれも米国ダウケミカル社製)、イルガキュア264 、イルガキュア250 (いずれもチバスペシャルティケミカルズ社製)、CIT−1682(日本曹達製)等が挙げられる。光カチオン開始剤の含有量は、例えば、カチオン重合性化合物を基準として0.1〜10重量%程度、好ましくは0.5〜5重量%程度である。
【0053】
光重合開始剤には、開始剤の他に記録光波長に対応した増感剤となる色素などが含有されることが好ましい。
【0054】
光重合開始剤は、記録の後、ホログラム記録の安定化のために分解処理されることが好ましい。通常、記録後の十分な光照射によって分解処理される。
【0055】
次に、ホログラム記録材料の製造について説明する。
まず、前記一般式(1)で表される金属アルコキシド化合物と、前記一般式(2)で表される金属アルコキシド化合物とを所定割合で含む金属アルコキシド混合物を加水分解及び重合させ、金属酸化物マトリックスの前駆体を得る。
【0056】
この加水分解重合反応は、公知のゾル−ゲル法におけるのと同様の操作及び条件で実施することができる。例えば、所定割合の一般式(1)の金属アルコキシド化合物と一般式(2)の金属アルコキシド化合物を、適当な良溶媒に溶かして均一溶液として、その溶液に適当な酸触媒を滴下し、水の存在下で溶液を攪拌することにより、反応を行うことができる。
【0057】
このような溶媒としては、例えば、水; メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール類; ジエチルエーテル、ジオキサン、ジメトキシエタン、テトラヒドロフランなどのエーテル類; N−メチルピロリドン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトン、ベンゼン等が挙げられる。これらの中から適宜選択すればよいが、アルコール類が好ましい。あるいはこれらの混合溶媒とすることもできる。溶媒の量は、限定されないが、金属アルコキシド化合物全体100重量部に対して10〜1000重量部とするとよい。
【0058】
また、酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸; ギ酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸などの有機酸等が挙げられる。
【0059】
加水分解重合反応は、金属アルコキシド化合物の反応性にもよるが、一般に室温でも行うことができ、0〜150℃程度の温度、好ましくは室温〜50℃程度の温度で行うことができる。反応時間は、反応温度との関係で適宜定めればよいが、1〜240時間程度である。また、反応は、窒素ガス等の不活性雰囲気下で行ってもよく、0.5〜1気圧程度の減圧下で、重合反応で生成するアルコールを除去しながら行ってもよい。
【0060】
前記加水分解の前又は後において、光重合性有機化合物を混合する。光重合性有機化合物と金属アルコキシド化合物は、加水分解後混合しても良いし、加水分解前に混合しても良い。加水分解後に混合する場合には、均一に混合するために、金属酸化物マトリックス前駆体がゾルの状態で、光重合性有機化合物を添加混合することが好ましい。また、光重合開始剤の混合も、前記加水分解の前又は後において行うことができる。
【0061】
光重合性有機化合物が均一に混合されたゾル状態の金属酸化物マトリックス前駆体を硬化させ、金属酸化物マトリックスを形成する。光重合性有機化合物の均一混合後に、溶媒の乾燥及びアルコキシドの重合反応を経ることで、金属酸化物マトリックスネットワークに光重合性有機化合物、及び任意成分として光重合開始剤が含有されたホログラム記録材料が作成される。前記ゾル状態の金属酸化物マトリックス前駆体を基板上に塗布し、乾燥、硬化させることにより、フィルム状のホログラム記録材料が作成される。
【0062】
本発明においては、金属酸化物マトリックス原料成分としてハロゲン含有有機基を有する一般式(1)の金属アルコキシド化合物を用いているため、上述のホログラム記録材料製造のいずれの段階においても、光重合性化合物との相溶性に非常に優れる。すなわち、ゾル状態の金属酸化物マトリックス前駆体と光重合性化合物との相溶性に非常に優れ、硬化後の金属酸化物マトリックスと光重合性化合物との相溶性にも非常に優れている。
【0063】
本発明のホログラム記録材料を用いることで、データストレージに適した100μm以上の記録膜厚みをもつホログラム記録媒体を得ることができる。ホログラム記録媒体は、ガラスや樹脂などの基板上にフィルム状のホログラム記録材料を形成したり、あるいは、フィルム状のホログラム記録材料を基板間に挟み込むことにより作成できる。ホログラム記録媒体の記録膜厚みとしては、10μm〜5mmであり、高多重度を有しデータストレージに適するためには、100μm以上が好ましい。
【0064】
本発明のホログラム記録媒体によれば、記録膜は均一であるので、光散乱の問題は起こらない。さらに、記録に際して、露光部において光重合性有機化合物はポリマー化されるが、金属酸化物マトリックスはハロゲン含有有機基を有しているため、金属酸化物マトリックスとポリマーとの相溶性にも非常に優れている。このため、本発明のホログラム記録媒体によれば、記録時や記録後においても、十分な相溶性が確保され、光散乱や透過率低下の問題は起こらない。一般的に、光重合性有機化合物(モノマー)よりもそれからのポリマーの方が、金属酸化物マトリックスとの相溶性が低下する。
【0065】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
【0066】
[実施例1]
ゾル−ゲル法を用いて以下の手順で、ホログラム記録材料を作成した。
【0067】
(金属酸化物マトリックス)
テトラエトキシシラン(Si(OC2H5)4)6.2gと、クロロプロピルトリエトキシシラン(ClC3H6−Si(OC2H5)3 )3.6gとを溶媒中(テトラヒドロフラン5mL)で混合し、アルコキシド溶液とした。モル比で Si(OC2H5)4 : ClC3H6−Si(OC2H5)3 =2:1であった。水1.5mL、1N塩酸水溶液0.5mL、及び溶媒(イソプロパノール5mL)からなる溶液を、前記アルコキシド溶液に攪拌しながら室温で滴下し、6時間攪拌を続け加水分解反応を行った。このようにして、クロロプロピル基を導入したケイ素酸化物のゾル溶液を得た。
【0068】
(光重合性有機化合物)
芳香族環をもつ高屈折率モノマーとして、フェノキシエチルアクリレート(新中村化学製、AMP−10G)50重量部と、2,2−ビス〔4−(アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル〕プロパン(新中村化学製、A−BPE−4)50重量部とを混合した。これに光重合開始剤として、IRG−784(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ)3重量部を加え、混合した。
【0069】
(ホログラム記録材料溶液)
最終的なマトリックス材料と光重合性有機化合物材料の重量比が1:2となるように、前記ケイ素酸化物のゾル溶液と光重合性有機化合物とを室温にて混合し、黄色透明なホログラム記録材料溶液を得た。
【0070】
(ホログラム記録材料)
片面に反射防止膜が設けられたガラス基板の反射防止膜が設けられていない面上に、ホログラム記録材料溶液を乾燥膜厚が100μmとなるように塗布し、室温で24時間乾燥し、溶媒を揮発させた。この乾燥工程により、金属酸化物のゲル化(重合反応)を進め、金属酸化物マトリックスネットワーク内に光重合性有機化合物を含有させた有機−無機ハイブリッドホログラム記録材料膜を得た。
【0071】
(ホログラム記録媒体)
ホログラム記録材料膜が形成されたガラス基板の端部上に100μm厚みのスペーサをおき、ホログラム記録材料膜上を片面に反射防止膜が設けられた別のガラス基板でカバーした。この際、ガラス基板の反射防止膜が設けられていない面が記録材料膜面と接するようにカバーした。このようにして、ホログラム記録材料膜を2枚のガラス基板で挟んだ構造をもつホログラム記録媒体を得た。
【0072】
(特性評価)
得られたホログラム記録媒体サンプルについて、図1に示すようなホログラム記録光学系において、特性評価を行った。
【0073】
図1のホログラム記録光学系において、Nd:YAGレーザ(532nm)の光源1を用い、この光源1から発振した光を、コリメータ2、ピンホール3、シャッター4及びコリメータ5によって空間的にフィルタ処理しコリメートし、ビームスプリッター8で分割し、ホログラム記録媒体サンプル11に対する2光束の入射角合計θが36.9°となるようにし、サンプル11で2光束の干渉を記録した。ホログラムはサンプル11を水平方向に回転させ、角度多重化して記録した(サンプル角度−7.5°〜+7.5°,角度間隔3 °,6枚多重)。ホログラム記録後、残留する未反応成分を反応させるため1光束のみで十分な光を照射した。再生はシャッター9を用い、1光束のみ照射して、サンプル11を回転しながら回折光率をパワーメータ12で測定した。なお、図1において、ミラー6,7,10である。
【0074】
このとき、ダイナミックレンジ:M#(回折効率の平方根の和)は、1.6と高い値が得られた。また、記録前後の532nmの透過率に変化は見られなかった。
【0075】
[比較例1]
テトラエトキシシラン(Si(OC2H5)4)6.2gと、メチルトリエトキシシラン(CH3−Si(OC2H5)3)2.7gを溶媒中(テトラヒドロフラン5mL)で混合し、アルコキシド溶液とした。モル比で Si(OC2H5)4 : CH3−Si(OC2H5)3 =2:1であった。金属酸化物マトリックス原料をこのこように変更した以外は、実施例1と同様にしてケイ素酸化物のゾル溶液を得た。
【0076】
得られたメチル基を導入したケイ素酸化物ゾル溶液と、実施例1で用いたのと同じ光重合性有機化合物とを、最終的なマトリックス材料と光重合性有機化合物材料の重量比が1:2となるように室温にて混合したところ、溶け合わずに白濁した。
【0077】
このホログラム記録材料溶液を、実施例1と同様にしてガラス基板上に塗布し、乾燥すると、マトリックス材料と有機化合物が分離し、ハイブリッド化することができず、ホログラム記録もできなかった。
【0078】
[比較例2]
テトラエトキシシラン(Si(OC2H5)4)6.2gと、フェニルトリエトキシシラン(C6H5−Si(OC2H5)3 )3.6gを溶媒中(テトラヒドロフラン5mL)で混合し、アルコキシド溶液とした。モル比で Si(OC2H5)4 : C6H5−Si(OC2H5)3=2:1であった。金属酸化物マトリックス原料をこのこように変更した以外は、実施例1と同様にしてケイ素酸化物のゾル溶液を得た。
【0079】
得られたフェニル基を導入したケイ素酸化物ゾル溶液と、実施例1で用いたのと同じ光重合性有機化合物とを、最終的なマトリックス材料と光重合性有機化合物材料の重量比が1:2となるように室温にて混合し、黄色透明なホログラム記録材料溶液を得た。
【0080】
このホログラム記録材料溶液を、実施例1と同様にしてガラス基板上に塗布し、乾燥させ、ホログラム記録材料膜を形成し、さらに記録材料膜を2枚のガラス基板で挟んだ構造をもつホログラム記録媒体を得た。
【0081】
得られたホログラム記録媒体サンプルについて、実施例1と同様にして特性評価を行った。このとき、ダイナミックレンジ:M#は0.7であり、実施例1よりも低い値となった。また、記録した箇所(露光部)では、白いくもりが生じ、532nmの透過率は記録前を基準として5%低下した。
【0082】
このように、金属酸化物マトリックスへのフェニル基の導入は、メチル基の導入よりは相溶性改善に効果が見られたが、記録に際して生成したポリマーとの相溶性は不十分であった。
【0083】
【発明の効果】
本発明によれば、金属酸化物マトリックス中にハロゲン含有有機基を導入することによって、マトリックスと光重合性化合物との相溶性、及びマトリックスと記録に際して生成する有機ポリマーとの相溶性が著しく改善されたホログラム記録材料が提供される。本発明のホログラム記録材料を用いて、データストレージに適した100μm以上の記録膜厚みをもつホログラム記録媒体が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例で用いられたホログラム記録光学系の概略を示す図である。
【符号の説明】
1:Nd:YAGレーザの光源
2,5:コリメータ
3:ピンホール
4,9:シャッター
8:ビームスプリッター
11:ホログラム記録媒体サンプル
12:パワーメータ
6,7,10:ミラー
Claims (8)
- 金属酸化物マトリックス及び光重合性化合物を含み、前記金属酸化物マトリックスはハロゲン含有有機基を有している、ホログラム記録材料。
- 前記ハロゲン含有有機基は、ハロゲン化炭化水素基である、請求項1に記載のホログラム記録材料。
- 金属酸化物マトリックスは、金属アルコキシド化合物の加水分解及び重合反応によって形成されたものであり、前記金属アルコキシド化合物には、一般式(1):
(RH )m M(OR)n (1)
(ここで、RH はハロゲン含有有機基を表し、Rはアルキル基を表し、Mは金属原子を表し、mは1又は2を表し、m+nは金属原子Mの価数を表す。)
で表される金属アルコキシド化合物が含まれる、請求項1又は2に記載のホログラム記録材料。 - 金属酸化物マトリックスは、ケイ素の酸化物を主成分とする、請求項1〜3のうちのいずれか1項に記載のホログラム記録材料。
- 前記光重合性化合物は、芳香族環を有する、請求項1〜4のうちのいずれか1項に記載のホログラム記録材料。
- さらに光重合開始剤を含む、請求項1〜5のうちのいずれか1項に記載のホログラム記録材料。
- 一般式(1):
(RH )m M(OR)n (1)
(ここで、RH はハロゲン含有有機基を表し、Rはアルキル基を表し、Mは金属原子を表し、mは1又は2を表し、m+nは金属原子Mの価数を表す。)
で表される金属アルコキシド化合物を含む金属アルコキシド化合物を加水分解させ、金属酸化物マトリックスの前駆体を得る工程と、
前記加水分解の前又は後において、光重合性化合物を混合する工程と、
光重合性化合物が混合された金属酸化物マトリックス前駆体を硬化させ、金属酸化物マトリックスを形成する工程とを含む、ホログラム記録材料の製造方法。 - 請求項1〜7のうちのいずれか1項に記載のホログラム記録材料を有する、ホログラム記録媒体。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003194817A JP4461725B2 (ja) | 2003-07-10 | 2003-07-10 | ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 |
US10/563,815 US7767361B2 (en) | 2003-07-10 | 2004-06-30 | Hologram recording material, process for producing the same and hologram recording medium |
PCT/JP2004/009605 WO2005006086A1 (ja) | 2003-07-10 | 2004-06-30 | ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003194817A JP4461725B2 (ja) | 2003-07-10 | 2003-07-10 | ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005031279A true JP2005031279A (ja) | 2005-02-03 |
JP4461725B2 JP4461725B2 (ja) | 2010-05-12 |
Family
ID=34055700
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003194817A Expired - Fee Related JP4461725B2 (ja) | 2003-07-10 | 2003-07-10 | ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7767361B2 (ja) |
JP (1) | JP4461725B2 (ja) |
WO (1) | WO2005006086A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008090027A (ja) * | 2006-10-03 | 2008-04-17 | Tdk Corp | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 |
JP2008292712A (ja) * | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Tdk Corp | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 |
JP2009073720A (ja) * | 2006-12-15 | 2009-04-09 | Tdk Corp | チタン含有金属酸化物の製造方法、ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005165054A (ja) * | 2003-12-03 | 2005-06-23 | Tdk Corp | 光学部品、光記録媒体及びその製造方法 |
JP4461901B2 (ja) * | 2004-05-11 | 2010-05-12 | Tdk株式会社 | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 |
JP4461902B2 (ja) * | 2004-05-11 | 2010-05-12 | Tdk株式会社 | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 |
US8367274B2 (en) * | 2005-11-11 | 2013-02-05 | Tdk Corporation | Hologram recording material, and hologram recording medium |
US8349524B2 (en) * | 2005-11-11 | 2013-01-08 | Tdk Corporation | Hologram recording material and hologram recording medium |
JP2008058834A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Tdk Corp | ホログラム記録媒体 |
JP4844299B2 (ja) * | 2006-09-01 | 2011-12-28 | Tdk株式会社 | ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 |
JP2008058840A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Tdk Corp | ホログラム記録媒体 |
JP2008083405A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Tdk Corp | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 |
JP2008164941A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Tdk Corp | ホログラム記録媒体 |
JP4840179B2 (ja) * | 2007-02-09 | 2011-12-21 | Tdk株式会社 | ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 |
JP4893433B2 (ja) * | 2007-04-10 | 2012-03-07 | Tdk株式会社 | 体積型ホログラム記録材料及び体積型ホログラム記録媒体 |
JP4946952B2 (ja) * | 2007-04-27 | 2012-06-06 | Tdk株式会社 | ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 |
WO2009014112A1 (ja) * | 2007-07-26 | 2009-01-29 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | 体積位相型ホログラム記録材料及びそれを用いた光情報記録媒体 |
JP5115126B2 (ja) * | 2007-10-05 | 2013-01-09 | Tdk株式会社 | ホログラム記録媒体 |
JP5115125B2 (ja) * | 2007-10-05 | 2013-01-09 | Tdk株式会社 | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 |
JP5115137B2 (ja) * | 2007-10-16 | 2013-01-09 | Tdk株式会社 | ホログラム記録媒体 |
JP2009175367A (ja) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Tdk Corp | ケイ素含有複合酸化物ゾルの製造方法、ケイ素含有ホログラム記録材料の製造方法及びホログラム記録媒体 |
JP5381494B2 (ja) * | 2008-10-08 | 2014-01-08 | Tdk株式会社 | 体積型ホログラム記録材料及び体積型ホログラム記録媒体 |
JP5533249B2 (ja) | 2010-05-20 | 2014-06-25 | Tdk株式会社 | 体積型ホログラム記録材料及び体積型ホログラム記録媒体 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08220975A (ja) * | 1995-02-10 | 1996-08-30 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | ホログラム記録用感光性組成物、ホログラム記録媒体およびそれを用いたホログラムの製造方法 |
JP2000275859A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-10-06 | Nippon Paint Co Ltd | 光硬化性組成物 |
JP2001056631A (ja) * | 1999-08-20 | 2001-02-27 | Agency Of Ind Science & Technol | ホログラム記録材料組成物、ホログラム記録媒体およびその製造方法 |
JP2001109360A (ja) * | 1998-08-12 | 2001-04-20 | Agency Of Ind Science & Technol | ホログラム記録材料組成物、ホログラム記録媒体およびその製造法 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63305360A (ja) * | 1987-06-05 | 1988-12-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
US4942112A (en) * | 1988-01-15 | 1990-07-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions and elements for refractive index imaging |
JP2953200B2 (ja) | 1992-06-30 | 1999-09-27 | 日本板硝子株式会社 | 光記録用組成物、光記録用膜及び光記録方法 |
US6479193B1 (en) * | 1992-06-30 | 2002-11-12 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Optical recording film and process for production thereof |
US5427860A (en) * | 1992-10-07 | 1995-06-27 | Zeldin; Martel | Methods and compositions for interfacially bonding mineral surfaces and the like |
KR0126247B1 (en) * | 1992-11-09 | 1997-12-26 | Fujitsu Ltd | Method of coupling optical parts and refractive index imaging material |
US5622782A (en) * | 1993-04-27 | 1997-04-22 | Gould Inc. | Foil with adhesion promoting layer derived from silane mixture |
US6268089B1 (en) * | 1998-02-23 | 2001-07-31 | Agere Systems Guardian Corp. | Photorecording medium and process for forming medium |
US7039289B1 (en) * | 2000-05-19 | 2006-05-02 | Optinetrics, Inc. | Integrated optic devices and processes for the fabrication of integrated optic devices |
JP4536275B2 (ja) | 2001-02-09 | 2010-09-01 | 大日本印刷株式会社 | 体積型ホログラム記録用感光性組成物及び体積型ホログラム記録用感光性媒体 |
EP2336825B1 (en) * | 2001-02-09 | 2014-05-07 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photosensitive composition for volume hologram recording and photosensitive medium for volume hologram recording |
US6656990B2 (en) * | 2001-07-11 | 2003-12-02 | Corning Incorporated | Curable high refractive index compositions |
US7163769B2 (en) | 2002-03-11 | 2007-01-16 | Pavel Cheben | Photosensitive material and process of making same |
JP3869403B2 (ja) * | 2003-09-30 | 2007-01-17 | 株式会社東芝 | ホログラム記録媒体、その製造方法、およびホログラム記録方法 |
JP4461902B2 (ja) * | 2004-05-11 | 2010-05-12 | Tdk株式会社 | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 |
JP4461901B2 (ja) * | 2004-05-11 | 2010-05-12 | Tdk株式会社 | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 |
US8349524B2 (en) * | 2005-11-11 | 2013-01-08 | Tdk Corporation | Hologram recording material and hologram recording medium |
US8367274B2 (en) * | 2005-11-11 | 2013-02-05 | Tdk Corporation | Hologram recording material, and hologram recording medium |
JP2008058840A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Tdk Corp | ホログラム記録媒体 |
JP2008058834A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Tdk Corp | ホログラム記録媒体 |
JP2008083405A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Tdk Corp | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 |
-
2003
- 2003-07-10 JP JP2003194817A patent/JP4461725B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-06-30 WO PCT/JP2004/009605 patent/WO2005006086A1/ja active Application Filing
- 2004-06-30 US US10/563,815 patent/US7767361B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08220975A (ja) * | 1995-02-10 | 1996-08-30 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | ホログラム記録用感光性組成物、ホログラム記録媒体およびそれを用いたホログラムの製造方法 |
JP2001109360A (ja) * | 1998-08-12 | 2001-04-20 | Agency Of Ind Science & Technol | ホログラム記録材料組成物、ホログラム記録媒体およびその製造法 |
JP2000275859A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-10-06 | Nippon Paint Co Ltd | 光硬化性組成物 |
JP2001056631A (ja) * | 1999-08-20 | 2001-02-27 | Agency Of Ind Science & Technol | ホログラム記録材料組成物、ホログラム記録媒体およびその製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008090027A (ja) * | 2006-10-03 | 2008-04-17 | Tdk Corp | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 |
JP2009073720A (ja) * | 2006-12-15 | 2009-04-09 | Tdk Corp | チタン含有金属酸化物の製造方法、ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 |
JP2008292712A (ja) * | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Tdk Corp | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060172203A1 (en) | 2006-08-03 |
US7767361B2 (en) | 2010-08-03 |
WO2005006086A1 (ja) | 2005-01-20 |
JP4461725B2 (ja) | 2010-05-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4461725B2 (ja) | ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 | |
JP4461901B2 (ja) | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 | |
US8354204B2 (en) | Hologram recording material and hologram recording medium | |
JP5115125B2 (ja) | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 | |
JP4893433B2 (ja) | 体積型ホログラム記録材料及び体積型ホログラム記録媒体 | |
CN1963668B (zh) | 全息照相记录材料及全息照相记录介质 | |
JP4946952B2 (ja) | ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 | |
JP4840179B2 (ja) | ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 | |
JP5115126B2 (ja) | ホログラム記録媒体 | |
JP5115137B2 (ja) | ホログラム記録媒体 | |
US8349524B2 (en) | Hologram recording material and hologram recording medium | |
JP4844299B2 (ja) | ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 | |
JP5381494B2 (ja) | 体積型ホログラム記録材料及び体積型ホログラム記録媒体 | |
JP2008083405A (ja) | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 | |
JP2009073720A (ja) | チタン含有金属酸化物の製造方法、ホログラム記録材料、その製造方法及びホログラム記録媒体 | |
JP2008058840A (ja) | ホログラム記録媒体 | |
JP5286661B2 (ja) | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 | |
JP5286660B2 (ja) | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 | |
JP4816389B2 (ja) | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 | |
JP2008292712A (ja) | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 | |
JP2010091827A (ja) | ホログラム記録材料の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060120 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090120 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090303 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100126 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100208 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130226 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140226 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |