JP2005026458A - 機能素子内蔵配線板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】例えば6層からなるリジッドな配線部Aには、レジスタR、キャパシタC、及びインダクタL等の受動機能素子に加えて、裏面を研磨して厚さを50μm以下に形成したLSIチップ81等の能動機能素子が内蔵されている。また、例えば2層からなるフレキシブルな配線部Bには、同様に厚さを50μm以下に形成したLSIチップ82が内蔵されている。配線部A,Bは連続した一体の多層配線板となっている。これにより、高い実装密度と柔軟性が要求される広範な用途に適用することができる。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、フレキシブルな配線部分と機能素子が内蔵されたリジッドな配線部分を有する機能素子内蔵配線板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の多層配線板として、表面に搭載された半導体集積回路素子や受動機能素子の電極間を接続するために、絶縁層を介して積層された複数の配線層を有し、バンプ等によって各配線層の間の電気的接続を行うように構成されたものがあった(特開2002−043506号公報等参照)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の多層配線板では、表面に素子を平面的に配置する必要があるため、搭載する素子の面積が大きくなれば、それに比例して形状が大型化するという課題があった。しかしながら、多層配線基板を用いた電子装置、電子機器等は一般に機能の豊富化と小型化という互いに二律背反の関係に立つ要求を受けており、その結果、多層配線板にはより一層の高集積化が要求された。
【0004】
本発明は、斯かる要求に応えるべくなされたものであり、多層配線板の内部に半導体集積回路素子や受動機能素子を埋め込み、これらの機能素子を立体的に配置することによって、実装密度の高い多層配線板を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
請求項1の機能素子内蔵配線板は、3層以上の配線層を絶縁膜を介して積層し層間接続手段として該絶縁膜により互いに層間絶縁された配線膜の一方に形成され他方に頂部にて接するバンプを有するリジッドな第1の配線部と、1層または2層の配線層と絶縁膜を積層したフレキシブルな第2の配線部と、を有し、前記第1の配線部の内部に能動機能素子及び受動機能素子を内蔵させると共に、前記第2の配線部の内部にフレキシブルな機能素子を内蔵させたことを特徴とする。
【0006】
請求項2の機能素子内蔵配線板は、請求項1記載の機能素子内蔵配線板において、前記第2の配線部に内蔵させた前記フレキシブルな機能素子が、表面に集積回路が形成された半導体ウエハの裏面を該ウエハ厚さが50μm以下となるように研磨し、その後個々の集積回路に切断してなるもの、又は、集積回路が形成された半導体ウエハを各集積回路が個々の集積回路に分離されるように切断した後に、集積回路の裏面をその厚さが50μm以下となるように研磨してなるものであり、前記第2の配線部の配線層にフリップチップ接続されていることを特徴とする。
【0007】
請求項3の機能素子内蔵配線板は、請求項1又は2記載の機能素子内蔵配線板において、前記絶縁層が、ポリイミド、液晶ポリマーまたはBCBフィルムであることを特徴とする。
【0008】
請求項4の機能素子内蔵配線板は、請求項1、2又は3項記載の機能素子内蔵配線板において、前記バンプは、エッチング後に前記配線層となる第1の金属層とエッチング後に該バンプとなる第2の金属層とを、エッチングバリアとなる第3の金属層を介して積層した積層金属板の第2の金属層をエッチングして該配線層と一体に形成されたものであることを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図示実施の形態例に従って詳細に説明する。図1は、本発明機能素子内蔵配線板の実施の形態を示す断面図である。
【0010】
この機能素子内蔵配線板は、配線層10,20,30,40,50,60を、ポリイミド、液晶ポリマー、またはBCBフィルムによる層間絶縁用の絶縁膜71,72,73,74,75を介して積層したもので、これらのすべての配線層10〜60からなるリジッドな配線部Aと、配線層30,40からなるフレキシブルな配線部Bと、配線層30,50からなるフレキシブルな配線部Cが設けられている。
【0011】
配線層10は、所定のパターンに形成された銅箔からなり、一方の表面に、配線層20に接続するための複数のバンプ11が形成され、これらのバンプ11が形成された側とは反対側の面に複数の外部接続端子12が形成されている。
バンプ11はエッチング後に配線パターンとなる厚さがほぼ3〜18μmの銅と、エッチング後にこのバンプ11となる厚さが30〜100μmの銅を、エッチングバリアとなる厚さが0.5〜2μmのニッケルを介して積層した積層金属板をエッチングして、この配線層10と一体に形成されたものである。
【0012】
配線層10と20とは互いに絶縁膜71を貫通するバンプ11で接続されている。また、外部接続端子12は、配線層10に接続された端子用バンプ12aとこの端子用バンプ12aを覆う半田ボール12bで構成されている。
【0013】
配線層20は、所定のパターンに形成された銅箔からなり、該配線層20上には複数のバンプ21が形成されており、一部が例えばミアンダ状にパターニングされてインダクタLを成している。上記バンプ21は配線層30との間の層間接続のために形成されている。Cはキャパシタで、電極となる箇所に塗布された誘電体膜22と、この誘電体膜22の表面に塗布された銀ペースト電極23で構成されている。
【0014】
配線層30は所定のパターンに形成された銅箔からなり、該配線層30の一方の表面には、LSIチップ81,82をフリップチップ接続するための複数の例えば金などバンプの31が形成されている。該配線層30とそれより上層の配線膜40との間は絶縁樹脂73によって層間絶縁されており、該絶縁樹脂73中にはLSIチップ81,82が内蔵されている。
76、77はLSIチップ81、82と絶縁樹脂72および配線層30との間を充填するアンダーフィルを成す樹脂である。(の削除願います。)
【0015】
上記LSIチップ81,82は、厚さが50μm以下となるように裏面のウエハ部材を研磨して形成したもので、LSIチップ81はリジッドな配線部Aに、LSIチップ82はフレキシブルな配線部Bに、それぞれ実装されている。
LSIチップ81、82は、集積回路が形成された主表面と反対側の面、即ち、半導体基板(半導体チップ化後又はウエハ状態の半導体基板)の裏面を研磨して厚さが10〜50μmとなるように調整し、更に1辺の寸法が例えば20mm程度のチップに切断したものである。このように、1辺が例えば20mm程度の矩形状を有し、厚さが50μm以下のチップは可撓性を有することが本願発明者の研究、実験により確認されている。
【0016】
そして、可撓性を有するが故にフレキシブルな配線部Bにそのフレキシブル性を奪うことなく内蔵させることができるのである。これは従来LSIチップ等の素子をフレキシブルな配線部Bにも内蔵させることができ、延いてはより配線板の実装密度を高めることができることに他ならない。
【0017】
配線層40は、所定のパターンに形成された銅箔からなり、該配線層40の一方(下方)の表面には、配線層30との間を層間接続するための複数のバンプ41が形成されている。配線層30,40は、LSIチップ81,82の実装箇所を除いて設けられた絶縁膜73を介して、これらのLSIチップ81,82を挟んで、この絶縁膜73を貫通するバンプ41で接続されている。
【0018】
配線層50は、所定パターンに形成された銅箔からなり、一方(下方)の表面にはレジスタRの機能素子と、配線層40に接続するための複数のバンプ51が形成されている。
レジスタRは、電極となる箇所の間に塗布された膜抵抗素子52で構成されている。配線層40,50は、絶縁膜74を介して、この絶縁膜74を貫通するバンプ51で接続されている。
【0019】
配線層60は、所定のパターンに形成された銅箔からなり、配線層60の一方(下方)の表面には配線層50に接続するための複数のバンプ61が形成されている。配線層50と60の間は、絶縁膜75により層間絶縁され、この絶縁膜75を貫通する上記バンプ61で層間接続されている。
【0020】
このような機能素子内蔵配線板は、概略次のような工程で製造される。
(1) 配線層30となる銅箔上に、LSIチップ81,82を接続するための複数の例えば金などのバンプ31を選択めっきで形成し、厚さが50μm以下となるように裏面のウエハ部材を研磨したLSIチップ81、82を、それぞれ絶縁樹脂76,77を介してフリップチップ実装する。
【0021】
(2) エッチング後に配線層40の配線パターンとなる厚さがほぼ3〜18μmの第1の銅箔と、エッチング後にバンプ41となる厚さが30〜100μmの第2の銅箔を、エッチングバリアとなる厚さが0.5〜2μmのニッケル箔を介して積層した積層金属板を用意し、第2の銅箔をエッチングしてバンプ41を残す。更に、この第2の銅箔によるバンプ41をエッチングマスクとしてニッケル箔をエッチングしてバンプ41を形成する。
【0022】
(3) ポリイミド、液晶ポリマー、またはBCBフィルム等の絶縁フィルムに、LSIチップ81,82の実装箇所をデバイスホールとして開口して絶縁膜73を形成する。この絶縁膜73にバンプ41が形成された配線層40を圧接して、このバンプ41で絶縁膜73を貫通する。更に、絶縁膜73を貫通して飛び出したバンプ41の先端を、この絶縁膜73の表面と略同一平面となるように研磨する。
【0023】
(4) 配線層40と合体された絶縁膜73の開口部(デバイスホール)に、空隙充填樹脂(図示せず。)を塗布し、LSIチップ81,82が実装された配線層30を圧着する。これにより、配線層30,40が絶縁膜73を介して積層され、この間にLSIチップ81,82が内蔵された積層板が形成される。
(5) (4)の工程で形成された積層板の、配線層30,40の銅箔をエッチングして、それぞれ所定の配線パターンにパターニングする。
【0024】
(6) (2)の工程と同様の積層金属板を用意し、同様の工程で配線層20となる銅箔上に複数のバンプ21を形成する。この配線層20のバンプ21と同じ側に、キャパシタCの誘電体膜22を塗布し、乾燥、硬化し、更に、この誘電体膜22の表面に銀ペースト電極23を塗布し、乾燥、硬化する。
(7) 絶縁フィルムによる絶縁膜72に、バンプ21が形成された配線層20を圧接して、このバンプ21を絶縁膜72に貫通させる。更に、絶縁膜72を貫通して飛び出したバンプ21の先端を、この絶縁膜72の表面と略同一平面となるように研磨する。
【0025】
(8) (6),(7)と同様の工程により、配線パターンとなる銅箔の上にレジスタRとバンプ51を形成し、更にこの表面に絶縁膜74を合体させて配線層50を形成する。
(9) (5)の工程で形成された配線層30,40の配線パターンに、それぞれ(7)の工程で形成された配線層20と、(8)の工程で形成された配線層50を重ね合わせ、それぞれバンプ21,51を介して接続する。
(10) (9)の工程で積層された配線板における表面の配線層20,50の銅箔をエッチングして、それぞれ所定の配線パターンを形成する。
【0026】
(11) (2)の工程と同様の積層金属板を用意し、同様の工程で配線層60となる銅箔上に複数のバンプ61を形成する。更に、(7)と同様の工程で、配線パターンとなる銅箔の表面に絶縁膜75を合体させて配線層60を形成する。
(12) (11)と同様の工程で、配線パターンとなる銅箔の表面に絶縁膜71を合体させて配線層10を形成する。
【0027】
(13) (10)の工程で形成された配線層20,50の配線パターンに、それぞれ(12)の工程で形成された配線層10と、(11)の工程で形成された配線層60を重ね合わせ、それぞれバンプ11,61を介して接続する。
(14) (13)の工程で積層された配線板における表面の配線層10,60の銅箔をエッチングして、それぞれを所定の配線パターンに形成する。
(15) (14)の工程で形成された配線層10の配線パターンの所定の位置に、外部接続端子12を形成する。これにより、図1に示すような機能素子内蔵配線板が完成する。
【0028】
このように、本実施形態の機能素子内蔵配線板は、多層配線板の内部に半導体集積回路素子や受動機能素子を埋め込んでいるので、これらの機能素子を立体的に配置することが可能になり、実装密度の高い多層配線板が得られる。また、リジッドな配線部に加えて、フレキシブルな配線部を有するので、適用範囲の広い多層配線板として使用できるという利点がある。
更に、各配線層は、3層の積層金属板をエッチングして、バンプと配線パターンを一体に形成しているので、信頼性の高い多層配線板が得られるという利点がある。
【0029】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されず、種々の変形が可能である。この変形例としては、例えば、次のようなものがある。
(A) リジッドな配線部Aが6層構造、フレキシブルな配線部B,Cが2層ないし1層構造のものを説明したが、各部の層数は任意である。
(B) 各層に設けるインダクタL、レジスタR、及びキャパシタCの受動機能素子の種類や数は任意である。
(C) 配線層30の所定の箇所に、LSIチップ81,82をフリップチップ接続するための複数の例えば金などのバンプ31を形成しているが、LSIチップ側に接続用のバンプが形成されている場合には、この金バンプ31は不要である。
【0030】
(D) 配線層10,20,40〜60は、ニッケル箔によるエッチングストッパを有する3層構造の多層金属板を用いて形成しているが、この材料や形成方法は、例示したものに限定されない。
(E) レジスタRは、銅箔の一部を電極としてその電極間を膜抵抗素子52で接続するようにしているが、銅箔の表面に銀ペースト電極を形成し、更にこの銀ペースト間を接続するように膜抵抗素子52を塗布し乾燥、硬化しても良い。
(F) 絶縁層71〜75の材料は、例示したものに限定されない。
【0031】
【発明の効果】
請求項1の機能素子内蔵多層配線板によれば、機能素子を内蔵したリジッドな多層の第1の配線部と、フレキシブルな第2の配線部を有しており、その第2の配線部の内部にフレキシブルな機能素子を内蔵させているので、その第2の配線部にもそのフレキシブル性を損なうことなく機能素子を内蔵させることができる。
従って、多層配線板の実装密度を高めることができ、更には立体的に機能素子を配置することが可能になる。
【0032】
請求項2の機能素子内蔵配線板によれば、前記第2の配線部に内蔵させた前記フレキシブルな機能素子が、表面に集積回路が形成された半導体ウエハの裏面を該ウエハ厚さが50μm以下となるように研磨し、その後個々の集積回路に切断してなるもの、又は、集積回路が形成された半導体ウエハを各集積回路が互いに他の集積回路に分離されるように切断した後に、該集積回路の裏面をその厚さが50μm以下となるように研磨してなるものであるので、機能素子内蔵配線板のフレキシブル性を有する第2の配線部にそのフレキシブル性を損なうことなく集積回路を内蔵させることができ、機能素子内蔵配線板の機能素子の実装密度を顕著に高めることができる。
【0033】
請求項3の機能素子内蔵配線板によれば、前記絶縁層が、ポリイミド、液晶ポリマーまたはBCBフィルムであるので、ポリイミド、液晶ポリマーまたはBCBフィルムを層間絶縁膜として用いて機能素子内蔵配線板を構成することができる。
【0034】
請求項4の機能素子内蔵配線板によれば、エッチング後に前記配線層となる第1の金属層とエッチング後に該バンプとなる第2の金属層とを、エッチングバリアとなる第3の金属層を介して積層した積層金属板の第2の金属層をエッチングして該配線層と一体に形成されたバンプを層間接続に用いて機能素子内蔵配線板を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明機能素子内蔵配線板の実施の形態を示す断面図である。
【符号の説明】
10,20,30,40,50,60・・・配線層、
11,21,41,51,61・・・バンプ、
12・・・外部接続端子、22・・・誘電体膜、
23・・・銀ペースト電極、31・・・金バンプ、
52・・・膜抵抗素子、71〜75・・・絶縁膜、
76,77・・・絶縁樹脂、81,82・・・LSIチップ、
C・・・キャパシタ、L・・・インダクタ、R・・・レジスタ。
Claims (4)
- 3層以上の配線層を絶縁膜を介して積層し層間接続手段として該絶縁膜により互いに層間絶縁された配線膜の一方に形成され他方に頂部にて接するバンプを有するリジッドな第1の配線部と、
1層または2層の配線層と絶縁膜を積層したフレキシブルな第2の配線部と、
を有し、
前記第1の配線部の内部に能動機能素子及び受動機能素子を内蔵させると共に、
前記第2の配線部の内部にフレキシブルな機能素子を内蔵させた
ことを特徴とする機能素子内蔵配線板。 - 前記第2の配線部に内蔵させた前記フレキシブルな機能素子は、表面に集積回路が形成された半導体ウエハの裏面を該ウエハ厚さが50μm以下となるように研磨し、その後個々の集積回路に切断してなるもの、又は、集積回路が形成された半導体ウエハを各集積回路が個々の集積回路に分離されるように切断した後に、集積回路の裏面をその厚さが50μm以下となるように研磨してなるものであり、
前記第2の配線部の配線層にフリツプチップ接続されている
ことを特徴とする請求項1記載の機能素子内蔵配線板。 - 前記絶縁層が、ポリイミド、液晶ポリマーまたはBCBフィルムである
ことを特徴とする請求項1又は2記載の機能素子内蔵配線板。 - 前記バンプは、エッチング後に前記配線層となる第1の金属層とエッチング後に該バンプとなる第2の金属層とを、エッチングバリアとなる第3の金属層を介して積層した積層金属板の第2の金属層をエッチングして該配線層と一体に形成されたものである
ことを特徴とする請求項1、2又は3項記載の機能素子内蔵配線板。
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