JP2005008864A - 導電性高分子の製造方法と製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の導電性高分子の製造方法は、少なくともモノマーと酸化剤とを反応させ、導電性高分子を得る化学重合法において、前記モノマーと酸化剤の反応を少なくとも過飽和水蒸気雰囲気の重合槽中で行う。この方法によると、平坦な導電性高分子(10)が得られる。これにより、基材側の重合速度とそれと反対面の気相側との重合速度をほぼ等しくし、密度をほぼ等しくし、基材、特にガラス、セラミックと密着性が良く、低抵抗の導電性高分子膜とその製造方法と、導電性高分子膜のそりが小さく平坦なため、基材からの剥離が少ない導電性高分子が提供される。
【選択図】 図1
Description
ガラス基板上に化学酸化重合における水蒸気濃度の相違による導電性高分子膜の性状を確認した。そのときの断面模式図を図1に示す。
弁作用を有するタンタル金属の比表面積が100000μF・V/gである微粉末を、0.3mm×3.0mm×3.8mmに成形し、陽極引き出し用タンタルワイヤーリードを備えた形で真空焼結し、焼結体ペレットからなる陽極導体を作製した。次に、この陽極導体を90℃の5重量%リン酸水溶液中で印加電圧7.5Vの条件で化成することにより、陽極導体の表面に誘電体層として酸化タンタル膜を形成した。
弁作用を有するタンタル金属の比表面積が100000μF・V/gである微粉末を、0.3mm×3.0mm×3.8mmに成形し、陽極引き出し用タンタルワイヤーリードを備えた形で真空焼結し、焼結体ペレットからなる陽極導体を作製した。次に、この陽極導体を90℃の5重量%リン酸水溶液中で印加電圧7.5Vの条件で化成することにより、陽極導体の表面に誘電体層として酸化タンタル膜を形成した。
1.本文に記載するいずれかの方法により得られた導電性高分子膜であって、平坦な導電性高分子膜を用いたことを特徴とする電子部品。
2.前記導電性高分子膜の表裏密度がほぼ等しい前記第1項に記載の電子部品。
3.前記電子部品が、弁金属からなる陽極導体と、前記陽極導体の表面に形成された誘電体層と、前記誘電体層の表面に形成され少なくとも導電性高分子層を含む固体電解質とを含む固体電解コンデンサである前記第1項または第2項に記載の電子部品。
4.弁金属からなる陽極導体と、前記陽極導体の表面に形成された誘電体層と、前記誘電体層の表面に形成され少なくとも導電性高分子層を含む固体電解質とを含む固体電解コンデンサの製造方法において、前記陽極導体は、モノマーと酸化剤の反応を60℃以下で行う工程と85℃以上の過飽和水蒸気雰囲気の重合槽中で行われる工程により製造されることを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。
2 誘電体層
3 固体電解質
4 陰極導体
5 カーボン層
6 外装銀導電性樹脂層
7 重合用陽極(陽電極)
8 重合用陰極(陰電極)
9 重合溶液
10 導電性高分子膜
11 ガラス基板
Claims (11)
- 少なくともモノマーと酸化剤とを反応させ、導電性高分子を得る化学重合法において、前記モノマーと酸化剤の反応を少なくとも過飽和水蒸気雰囲気の重合槽中で行うことを特徴とする導電性高分子の製造方法。
- 前記過飽和水蒸気雰囲気の水蒸気濃度が、5体積%以上である請求項1に記載の導電性高分子の製造方法。
- 前記過飽和水蒸気雰囲気の温度が、85℃以上である請求項1に記載の導電性高分子の製造方法。
- モノマーと酸化剤の反応を過飽和水蒸気雰囲気の重合槽中で行う前に、予め85℃未満の温度で予備重合する請求項1に記載の導電性高分子の製造方法。
- 前記過飽和水蒸気雰囲気の酸素濃度が21体積%未満である請求項1に記載の導電性高分子の製造方法。
- 前記モノマーがピロール、チオフェン、3,4−エチレンジオキシチオフェン、アニリン及びそれらの誘導体から選ばれる少なくとも1つである請求項1に記載の導電性高分子の製造方法。
- 前記酸化剤が酸化マンガン、鉄(III)塩、銅(II)塩、過酸化水素及び過硫酸塩から選ばれる少なくとも1つである請求項1に記載の導電性高分子の製造方法。
- 前記モノマーと前記酸化剤が少なくとも水溶性の溶媒もしくは水に溶解している請求項1に記載の導電性高分子の製造方法。
- 前記導電性高分子層を側面から観察したとき、基体からの剥離距離dと、長さLとの比率d/Lが、0.02以下である請求項1に記載の導電性高分子の製造方法。
- 少なくともモノマーと酸化剤とを重合槽中で重合するための製造装置であって、
前記過飽和水蒸気雰囲気の重合槽には、少なくとも前記重合槽にドライエアーと熱交換器により発生された水蒸気とを前記重合槽に送気する装置を含み、
前記モノマーと酸化剤の反応を少なくとも過飽和水蒸気雰囲気の重合槽中で行うことを特徴とする導電性高分子の製造装置。 - 前記熱交換器により発生された水蒸気の温度が前記ドライエアーの温度より高い請求項10に記載の導電性高分子の製造装置。
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