JP2005004124A - パターン状の位相差制御層の形成方法 - Google Patents
パターン状の位相差制御層の形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005004124A JP2005004124A JP2003170268A JP2003170268A JP2005004124A JP 2005004124 A JP2005004124 A JP 2005004124A JP 2003170268 A JP2003170268 A JP 2003170268A JP 2003170268 A JP2003170268 A JP 2003170268A JP 2005004124 A JP2005004124 A JP 2005004124A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- forming
- liquid crystal
- etching
- polymerizable liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】フォトリソグラフイー法を適用してパターン状の位相差制御層を形成する場合に得られる位相差量が、ドライエッチングの前後で変化することを抑制でき、位相差制御層を重ねる際にも、直接位相差制御層を重ねることが可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供する。
【解決手段】基板2上に配向膜5、重合性液晶組成物の層6を積層し、不活性雰囲気中で重合させて重合硬化物の層6’とすることにより、層6’の耐熱性、耐薬品性が向上し、課題を解決することができた。
【選択図】 図1
【解決手段】基板2上に配向膜5、重合性液晶組成物の層6を積層し、不活性雰囲気中で重合させて重合硬化物の層6’とすることにより、層6’の耐熱性、耐薬品性が向上し、課題を解決することができた。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、種々のディスプレイ、とりわけ、液晶ディスプレイおよび有機ELディスプレイに適用するのに適した耐久性の高い位相差制御層を所望のパターン状に形成する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
重合性液晶組成物を用いて、所定のパターン状に位相差制御層を形成するためには、重合性液晶組成物を対象となる基板に塗布し、全面に露光して硬化させた後、重合性液晶組成物の硬化膜上にフォトレジスト、フォトマスクを用いてレジストパターンを形成し、そのレジストパターンを利用してドライエッチングする方法がある。(例えば、特許文献1。)。
【0003】
【特許文献1】
特開平10−20301号公報(第3−4頁、図1)
【0004】
この方法によれば、個々の工程としては公知のものを利用して、所定のパターン状に重合性液晶組成物の硬化膜を形成し得るものの、格別の考慮をせずに得た重合性液晶組成物の硬化膜は、耐熱性および耐薬品性が乏しいため、レジストパターンを形成する際にもたらされる熱やフォトレジストの溶媒のため、位相差制御層の位相差量がドライエッチングの前後で変化してしまい、所定の位相差量を得るのに支障がある。また、重合性液晶組成物の硬化膜は、下層にくらべ、上層の配向性が乏しくなり、位相差制御層を重ねて設ける場合に、位相差制御層を直接重ねて設けることができず、先に形成した位相差制御層上に、再度配向膜を設ける必要があった。なお、特許文献1に挙げられた方法は液晶層をパターン化するものであるが、得られたものは、ECB(電界効果型複屈折モード)方式という特殊なカラー液晶表示装置における対向基板(共通電極基板)側に、色相と明度を独立に制御可能とする、画素毎の位相差膜として働くものであって、画面サイズの従来の位相差板に替えて用いる位相差制御層とは別ものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明においてはフォトリソグラフイー法を適用してパターン状の位相差制御層を形成する場合に得られる位相差量が、エッチングの前後で変化することを抑制でき、または/および位相差制御層どうしを重ねる際にも、直接に位相差制御層どうしを重ねることが可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することを課題とする。
【0006】
【課題を解決する手段】
発明者の検討により、これらの課題は基板に適用した重合性液晶組成物の重合を、空気中ではなく不活性ガス雰囲気中で行なうことにより解決し得ることが判明し、本発明に到達することができた。
【0007】
第1の発明は、表示予定区域よりも大きい基板上に、重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の層を前記表示予定区域よりも広い面積に成膜し、成膜された前記層の重合性液晶組成物を配向させ、不活性ガス雰囲気中で重合させることにより液晶規則性を有する重合硬化物の被膜を形成し、前記被膜上の表示予定区域にエッチング用のレジストパターンを形成し、形成された前記レジストパターンを利用してエッチングを行なって、前記表示予定区域以外の前記被膜を除去することからなるパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0008】
第2の発明は、第1の発明において、エッチングをドライエッチングによって行なうことを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0009】
第3の発明は、第1または第2の発明において、前記重合性液晶組成物の層を成膜するのに先立って、前記基板上の非表示予定区域に位置合わせ用のマークを形成することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0010】
第4の発明は、第1または第2の発明において、前記重合性液晶組成物の層を成膜するのに先立って、前記基板上の表示予定区域にブラックマトリックスを、また非表示予定区域に位置合わせ用のマークを形成することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0011】
第5の発明は、第3または第4の発明において、前記重合性液晶組成物の層を成膜するのに先立って、前記位置合わせ用のマーク上に非エッチング性の保護層を積層することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0012】
第6の発明は、第4の発明において、前記重合性液晶組成物の層を成膜するのに先立って、前記位置合わせ用のマーク上およびブラックマトリックス上に非エッチング性の保護層を積層することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0013】
第7の発明は、第1〜第6いずれかの発明において、前記ドライエッチングを行なって、前記表示予定区域以外の前記被膜を除去した後、残った前記被膜上に保護層を積層することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0014】
第8の発明は、第3〜第6いずれかの発明において、前記エッチングを行なって、前記表示予定区域以外の前記被膜を除去した後、残った前記被膜上および前記前記位置合わせ用のマークの上方に保護層を積層することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0015】
第9の発明は、第7または第8の発明において、前記保護層を前記被膜の側面も含めて積層することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0016】
第10の発明は、第4の発明において、前記重合性液晶組成物の層を成膜するのに先立って、前記基板上の表示予定区域にブラックマトリックスを、また非表示予定区域に位置合わせ用のマークを形成し、前記表示区域上および前記位置合わせ用のマーク上に前記被膜を形成した後、前記被膜上の表示予定区域にエッチング用のレジストパターンを形成する前に、前記表示区域の上方および前記位置合わせ用のマークの上方に保護層を積層することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0017】
第11の発明は、第1〜第10いずれかの発明において、前記重合性液晶組成物の層を成膜する対象面に、予め配向膜を形成することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0018】
【発明の実施の形態】
図1および図2は、本発明のパターン状の位相差制御層の形成方法の各工程を説明するための図で、図1→図2の順に各工程が進行する。図3は図1および図2を用いて説明する各工程の変形例を示すための図であり、図4も、図3と同様である。
【0019】
まず、図1(a)に示すように、ガラスやプラスチックフィルム等の基板2を準備する。基板2としては、この後、位相差制御層を形成して各種ディスプレイの表示素子に適用する際の表示素子の表示領域部分の全体(表示予定区域と言うこととする。)のサイズよりも大きいサイズのものを準備する。
【0020】
基板2上には、例えば、表示予定区域外に、後の工程で積層する種々の層との位置合わせ(アライメント)、あるいは基板2とは別の基板に設けられた各層との位置合わせを行なう際の位置や角度の基準となる位置合わせ用のマーク3を形成することが好ましい。位置合わせ用のマーク3が無くても、基板2の端からの距離により位置合わせを行なうことは可能だが、位置合わせの精度の点で、位置合わせ用のマーク3による方が優れている。位置合わせ用のマーク3を2組以上形成し、1組が位相差制御層のパターン化の際に失われても、後の位置合わせのためのマークを残すことができる。また、基板2上には、ブラックマトリックス(図中では、「BM」と略称する。)4が形成されていてもよい。ブラックマトリックス4は、画面の画素どうしの間を遮光するものであり、外光反射を抑制して表示素子の画像のコントラストを高める役割を有する。基板2上に位置合わせ用のマーク3およびブラックマトリックス4を形成する場合には、それらを共通な素材、例えば遮光性素材で形成することが工程の簡略化の点で好ましい。
【0021】
必要に応じて、上記のような位置合わせ用マーク3および/またはブラックマトリックス4を伴なった基板2上には、図1(b)に示すように、好ましくは配向膜5を積層する。配向膜は、液晶を所定の方向に配列させる(=配向)ためのものである。配向膜5は、表示予定区域に形成すればよいが、それよりも大き目に形成してもよい。
【0022】
上記のような位置合わせ用マーク3、ブラックマトリックス4、もしくは配向膜5のいずれか1以上を伴なうか、何も伴なわずに、基板2上には、図1(c)に示すように、重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の層6を成膜する。重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の層6の大きさは、表示予定区域よりも広い面積に成膜し、位置合わせ用のマーク3上を覆って成膜してもよい。
【0023】
成膜された重合性液晶組成物の層6を配向させ、図1(d)に示すように、例えば、紫外線や電子線等の電離放射線、好ましくは紫外線を照射して、重合性液晶組成物を重合させ、液晶規則性を有する重合硬化物の層6’とする。この電離放射線を照射して重合させる際には、重合性液晶組成物の層6が積層された基板全体、もしくは、少なくとも、重合性液晶組成物の層6が不活性雰囲気中にあるよう、照射環境を整えることが好ましい。ラジカル重合においては、生成したラジカルが酸素の存在により活性を失なうので、電離放射線を照射して重合させる工程においては、酸素の分圧を極力低下させるか、もしくは酸素を含まない不活性ガスを充填したチャンバー内で電離放射線を照射するとよい。
【0024】
このように、酸素を遮断して重合を行なわせることにより、重合性液晶組成物の層6の重合度が向上し、しかも、層6の表面付近が酸素の影響で重合度が上昇しにくい問題を回避できるので、この後、レジストパターンを用いてドライエッチングを行なっても、ドライエッチングの前後で、層6の位相差量が変化することを抑制できるし、位相差制御層どうしを重ねる際にも、位相差制御層の形成の際に基板側のみならず表面においても配向が保たれるので、配向膜を介することなく、直接に位相差制御層どうしを重ねることが可能になる。なお、重合後、必要に応じて層6’を加熱し、重合度を高めることもできる。この場合も、不活性雰囲気中で加熱を行なってもよい。なお、重合性液晶組成物の層6は、1層のみからなるもののみではなく、2層以上の積層体であってもよい。二層以上の積層体である場合、各々の層は異なる液晶規則性パターンを有する重合物の層どうしであってもよい。また、二層以上の積層体である場合、先に形成する第1層を成膜し、重合させた後に、第2層を成膜し、重合させる、のように順に行なうことが好ましい。
【0025】
次に、図2(e)に示すように、重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’上にレジストパターン8を形成する。レジストパターン8は、感光性のレジスト形成用組成物(「レジスト」と称して販売されている。)を用い、層6上に組成物を積層した後、適宜なパターンマスクを介して露光し、現像することにより、所定のパターン状とすることができる。レジストパターンとしては、一例として、画素毎に独立した微細パターンの集合であって、集まりの全体としては、表示予定区域を覆うものや、表示予定区域全体を覆う一様なものを挙げることができる。
【0026】
続いてドライエッチングを行なうことにより、重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’のレジストパターン8で覆われていなかった部分を除去する(図2(f))。本発明においては、重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’を、不活性雰囲気中での重合性液晶組成物の重合により形成するので、空気中で重合させた場合にくらべて、層6’の耐熱性および耐薬品性が向上しており、ウェットエッチングも可能であるから、上記のドライエッチングをウェットエッチングによって行なってもよい。ただし、エッチング前後における位相差量の変化、位相差制御層を重ねる際の下層の位相差制御層表面の配向性の点では、ドライエッチングの方がより好ましい。また、ドライエッチングによる方が、パターン精度の点でも優れている。
【0027】
エッチング後、レジストパターン8を溶解する剥離剤を用いて、レジストパターン8を溶解除去し、基板2上に重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’がパターン状に形成された位相差制御層が積層した基板を得る(図2(g))。
【0028】
重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’(位相差制御層)はむき出しのままでも機能を果たすが、不活性雰囲気中で充分硬化させたとは言え、一般的な硬化性樹脂の硬化物にくらべると硬度や耐薬品性等が充分ではないので、層6’上に、好ましくは保護層9を積層して被覆する(図2(g))。このとき、単に層6’上に保護層9を積層すると、層6’の端部が保護層9で被覆されずに露出したままになる恐れがあるので、保護層9の層6’からはみ出した部分9Aが、層6’の端部を被覆するよう、保護層9を層6’よりも大き目に形成することが好ましい。
【0029】
保護層9は、図4に示すように、エッチングを行なう前の重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’上に形成することもでき、この場合、保護層9上にレジストパターンを形成してエッチングすることにより、層6’および保護層9を同じパターン状にエッチングすることが可能となる。さらに保護層9を熱硬化性樹脂の硬化物で構成することにより保護層9の下層の保護機能を向上させることができる。なお、保護層9と層6’のエッチングレートが等しい場合でも、保護層9の厚みを層6’の厚みに対して十分厚くすれば、保護層9をパターン状に形成しておき、レジストパターンとして利用することも可能になる。
【0030】
ところで、エッチングを行なうと、レジストパターン8で被覆されていない部分にある、除去されては困るものが除去されることがあり得る。ドライエッチングの場合、エッチングが溶解度の差ではなく、エッチング速度の差で行なわれるので、このような傾向が強い。パターニングを行なう場合、一般的に位置合わせを行なって進めるので、通常、基板2上の表示予定区域外、即ち画面外に位置合わせ用マーク3が形成されていることが多いが、位置合わせマーク3が除去されたり、損傷したり、あるいは薄れてしまうと、以降の加工の際に位置合わせを行なうことが困難になる。
【0031】
そこで、基板2上に位置合わせ用のマーク3を形成した後、位置合わせ用のマーク上を非エッチング性の保護層(エッチングストッパー)10を積層して被覆することが好ましい。基板2上に、位置合わせ用のマーク3に加えてブラックマトリックス4が形成されている場合には、非エッチング性の保護層10の積層を、位置合わせ用のマーク上のみに行なってもよく、あるいは、位置合わせ用のマーク3上およびブラックマトリックス4上に行なってもよい。ブラックマトリックス4上に非エッチング性の保護層10を積層した場合には、ブラックマトリックス4上においても、位相差制御層のパターン化が可能になる。
【0032】
非エッチング性の保護層10を積層した以降は、図1および図2を引用したのと同様にして行ない、基板上2の位置合わせ用マーク3の上が非エッチング性の保護層で覆われており、重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’がパターン状に形成された位相差制御層が積層した基板を得る(図3(b))。なお、図3(b)においては、ブラックマトリックス3上にも非エッチング性の保護層10を伴なったものを例示するが、このようにすれば、非エッチング性の保護層10をパターン化する手段が不要になる。非エッチング性の保護層10は、役割を果たした後も支障の無い限り除去しなくてもよい。特に、位置合わせ用のマーク3上においては、非エッチング性の保護層10を介しての位置合わせ用のマークの視認性が損なわれない限り、除去しなくてもよい。
【0033】
非エッチング性の保護層10を積層してある場合にも、重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’がパターン状に形成された位相差制御層上には、保護層9を積層して被覆してもよく、この場合も、保護層9を層6’よりも大き目に形成して、保護層9の層6’からはみ出した部分9Aが、層6’の端部を被覆することが好ましい。
【0034】
本発明において、基板2としては、ガラス、シリコン、もしく石英等の無機基材か、次に列挙するような有機基材を挙げることができる。即ち、有機基材としては、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロースもしくはトリアセチルセルロースまたはそれらの部分鹸化物、エポキシ、フェノール、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、もしくはシンジオタクティック・ポリスチレン等、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、フッ素樹脂、もしくはポリエーテルニトリル等、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリシクロヘキセン、もしくはポリノルボルネン系樹脂等、または、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリサルホン、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、もしくは熱可塑性ポリイミド等からなるものを挙げることができるが、一般的なプラスチックからなるものも使用可能である。上記の有機基材は一軸延伸されたか、もしくは二軸延伸されたものであってもよく、また、任意に2種以上が積層された積層体であってもよい。基板2の厚みには、特に限定は無いが、用途に応じ、例えば、5μm〜1mm程度のものが使用される。
【0035】
位置合わせ用のマーク3およびブラックマトリックス4の両方を形成する場合には、異なる素材で形成することもできるが、工程数の増加を招くので、共通の素材により、同時に形成することが好ましい。例えば、ブラックマトリックス4を形成するための次段落以降で説明する遮光性素材、通常は黒色の素材を用い、ブラックマトリックス4を形成する方法により、位置合わせ用のマーク3およびブラックマトリックス4の両者を形成する。なお、位置合わせ用マーク3は、必ずしも黒色の素材で形成される必要はないが、位置合わせ用マーク3は、通常、細線等の微細なパターンで形成するので、遮光性もしくは光反射性のない素材で形成することが視認性の点で好ましく、黒色の素材、もしくは暗色の素材を用いることが好ましい。
【0036】
ブラックマトリックス4は、黒色着色剤を含有する樹脂組成物を一面に適用して、一旦固化させた後、フォトレジストを塗布してフォトマスクを介して露光し、現像してマスクパターンを形成後、エッチングすることにより行なうか、もしくは、黒色着色剤を含有する感光性樹脂組成物を用いて、塗布、フォトマスクを介しての露光、および現像を行なうことにより形成することができ、従って、黒色着色剤を含有する樹脂組成物から構成することができる。あるいは、ブラックマトリックス4は、CrOx/Cr(xは任意の数、「/」は積層を表す。)の積層構造からなる2層クロムブラックマトリックス、あるいはさらに反射率を低減させたCrOx/CrNy/Cr(x,yは任意の数)の積層構造からなる3層クロムブラックマトリックス等を、蒸着、イオンプレーティング、もしくはスパッタリング等の各種の方法で必要に応じ金属、金属酸化物、もしくは金属窒化物等の薄膜を形成し、フォトリソグラフィー法を利用してパターン化する方法、無電界メッキ法、もしくは黒色のインキ組成物を用いた印刷法等を利用しても形成することができる。
【0037】
配向膜5は、上層の位相差制御層を構成する液晶高分子を所定の方向に配列させるためのもので、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、もしくはポリビニルアルコール樹脂等の樹脂の被膜を、これらの樹脂を溶解した樹脂組成物を塗布し、乾燥させることにより形成した後、レーヨン、綿、ポリアミド、もしくはポリメチルメタクリレート等の布を巻き付けた金属ローラ等により所定の方向に摩擦するラビングを施すことにより形成することができる。配向膜5としては、SiO2等、もしくは有機材料等の斜方蒸着膜等、さらには、有機シラン等の有機材料の垂直配向膜やその垂直配向膜にラビングを施したもの等も利用できる。
【0038】
本発明における位相差制御層を形成するための重合性液晶組成物は、重合性液晶モノマーを含むものである。光軸が層に水平な位相差制御層を形成する場合には重合性の液晶性モノマーとしてネマチック液晶を用い、これを重合させることにより形成することができるので、液晶性モノマーに重合開始剤を配合した重合性液晶組成物を用いる。また、光軸が層にほぼ垂直な位相差制御層としてコレステリック規則性を有する層を形成する場合には、さらにキラル剤を配合した重合性液晶組成物を用いる。配合するキラル剤としては、重合性のものを用いることがより好ましい。
【0039】
重合性の液晶モノマーとしては、例えば特表平10−508882号に、また、キラル剤としては、例えば特開平7−258638号に開示されているような公知のものを使用することができるが、より具体的には、重合性ネマチック液晶モノマーとしては、下記式(1)〜式(11)に示すようなものが、また、キラル剤としては、下記式(12)〜式(14)に示すようなものを例示することができる。また、キラル剤としては、キラルドーパント液晶(独メルク社製、品番;S−811)等を用いることもできる。
【0040】
【化1】
【0041】
【化2】
【0042】
【化3】
【0043】
【化4】
【0044】
【化5】
【0045】
【化6】
【0046】
【化7】
【0047】
【化8】
【0048】
【化9】
【0049】
【化10】
【0050】
【化11】
【0051】
【化12】
【0052】
【化13】
【0053】
【化14】
【0054】
【化15】
【0055】
【化16】
【0056】
上記各式の表記において、「式11」〜「式14」中のいずれもメチレン基の数(アルキレン基の鎖長)を示すa〜eはいずれも整数であって、まず、a、bが、各々個別に2〜12であり、より好ましくは4〜10、特に好ましくは6〜9であり、c、dはいずれも2〜12であり、より好ましくは4〜10であり、特に好ましくは6〜9であり、さらにeは2〜5である。「式12」中のRは、水素もしくはメチル基である。また、「式12」および「式13」中のYは、「化15」および「化16」に示す「式i」〜「式xxiv」のいずれかであって、より好ましくは「式i」、「式ii」、「式iii」、「式v」、もしくは「式vii」のいずれかである。
【0057】
重合性液晶組成物は、必要に応じて溶剤で溶解もしくは希釈し、スピンコーティング法、ダイコーティング、スリットコーティング、もしくはその他の適宜な方法により、対象面上、例えば、基板2上、もしくは基板2上の配向膜5上に塗布し、その後、紫外線を照射する等により露光し、重合させることにより、重合硬化物の層6’とする。紫外線としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、もしくは高圧水銀灯等の水銀励起光源、またはキセノン光源等を用いることができ、これらは、使用する重合開始剤の感度の大きい波長帯域に強度のピークを持つ光源を用いたものであることが好ましい。なお、紫外線照射の替わりに電子線照射を行なって、重合させることもできる。
【0058】
本発明においては、上記のようにして重合性液晶組成物を重合させる際に、空気中で行なわず、不活性雰囲気中で行なうことが好ましい。不活性ガスとしては窒素、もしくはアルゴン等を用いることができ、これら以外のガスを用いてもよい。重合させる際の雰囲気として酸素を大量に含む空気は好ましくなく、実質的に酸素を含まない、即ち、酸素濃度が1.0%以下、より好ましくは0.2%以下であるガスを用いることが好ましい。
【0059】
エッチング用のレジストパターン8は、エッチング耐性を有する高分子の被膜からなり、感光性樹脂組成物の層を積層し、パターン状露光、および現像を経て形成され、感光性樹脂組成物としては、ポジ型であってもネガ型であっても特に限定されるものではなく、例えば、ノボラック樹脂系、ゴム+ビスアジド系のもの等を挙げることができる。
【0060】
レジストパターン8を利用したドライエッチングは、市販のドライエッチング装置を用いて行なうことができ、プラズマ化される気体としては、酸素ガスもしくはアルゴンガス等を用いることができる。
【0061】
形成された重合硬化物の層6’を被覆する保護層9は、透明樹脂組成物の膜で構成することができ、透明樹脂組成物としては、光硬化型、熱硬化型、もしくは熱−光併用硬化型の透明樹脂を用いて調製されたものを用いることができ、これらの透明樹脂組成物としては、カラーフィルタ層を形成する際の着色用の微細顔料を分散するためのものと同様のものを用いることができる。あるいは、保護層9は、蒸着もしくはスパッタにより形成された無機質材料の薄膜で構成することもできる。
【0062】
図3を用いた説明中で触れた非エッチング性の保護層(エッチングストッパー)10は、重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’にくらべてエッチングレート(=1分当りのエッチングされる厚み)が充分小さければ、いずれの材料で構成してもよく、例えば、SiO2、SiNもしくはSiON膜等の薄膜で構成することができ、これらの薄膜は蒸着もしくはスパッタリングによって形成することができる。
【0063】
本発明の方法によって形成された位相差制御層を有する基板における位相差制御層が複数の位相差制御層からなるときは、ネマティック液晶層とコレステリック液晶層との積層体、ネマティック液晶層どうしの積層体、もしくはネマティック液晶どうしの間に配向膜を有する積層体、ネマティック液晶どうしの積層体であって、互いに遅相軸が異なるもの等であってもよい。また、本発明の方法によって形成された位相差制御層を有する基板は、必要に応じて保護層を積層した後、配向膜を形成することにより、液晶表示素子を構成する一方の基板とすることができる。この場合、カラーフィルタがTFT等のアレイ上に形成され、さらにカラーフィルタ上に画素電極、および配向膜等を有する他方の基板との間に液晶層を挟むことにより液晶表示素子を構成することができる。カラーフィルタ、およびブラックマトリックスは、いずれかの基板側に形成すればよいので、いずれも、アレイ側に有する場合、いずれも位相差制御層側にある場合、両者がアレイ側と位相差制御層側に分かれる場合があり得る。
【0064】
【実施例】
(実施例1)
ガラス基板の表面に、ポリイミド樹脂系の配向膜形成用塗料組成物(JSR(株)製、品番;AL1254)をスピンコーティングし、加熱乾燥させた後、一定方向にラビングを行なって配向膜を形成し、配向基板を得た。続いて、配向基板の配向膜上に下記のようにして調製した塗工用重合性液晶組成物をスピンコーティングにより塗布し、その後、温度;80℃で5分間加熱して乾燥および配向処理を行なった後、クロスニコル下の2枚の偏光板に挟み込み、配向膜上に形成された重合性液晶組成物の膜が異方性を有することを確認した。
【0065】
上記の塗工用重合性液晶組成物の調製は、前記「式9」に示す重合可能なネマチック液晶相を示す光硬化型モノマー、前記「式14」に示す重合可能なキラル剤、光開始剤(2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア(登録商標)369を使用。)、および溶媒としてのトルエンの以上の各成分を、20/2/1/100の配合比(質量基準)で配合して溶解し、孔径;2μmのフィルターで濾過して不純物を除去することにより行なった。
【0066】
乾燥および配向処理後の重合性液晶組成物の膜に対し、超高圧水銀灯を備えた紫外線照射装置を用い、紫外線を照射量が1000mJ/cm2(波長;365nmにて)になるよう窒素雰囲気中にて照射して重合性液晶組成物を三次元架橋させてポリマー化し、配向基板上にコレステリック規則性を固定化した半硬化状態のコレステリック層を形成し、さらに、その後、温度;220℃のクリーンオーブン中で1時間加熱し、ポリマー化を促進させ、配向基板上に硬化したコレステリック層が積層された光学素子を得た。
【0067】
得られた光学素子の選択反射の反射スペクトルを分光光度計により測定したところ、波長;320nmに選択反射のピークを有するコレステリック層が得られていることが確かめられた。また、コレステリック層の膜厚を触針式段差計により測定したところ、3.0μmであった。
【0068】
次に、得られたコレステリック層上にレジストパターンを形成した。まず、コレステリック層上に、ポジ型のフォトレジスト形成用組成物を厚みが4.0μmになるよう成膜し、基板表面との間隔が100μmになるよう設置したフォトマスク(開口部の幅;200μm、遮光部の幅;100μm)を介し、平行光の出射が可能な超高圧水銀灯を備えた露光器により露光し、現像することにより、顕微鏡で観察したところ、幅;100μmのレジスト部分と、幅;200μmのコレステリック層の露出部分からなるレジストパターンが形成されていることが確かめられた。
【0069】
レジストパターンが形成された基板に対し、ドライエッチング装置を用いてドライエッチングを行ない、ドライエッチング後、剥離液を塗布して、フォトレジストを剥離除去した。剥離除去後の状態を再び顕微鏡で観察したところ、幅;100μmのコレステリック層と、幅;200μmのガラス基板の露出部分からなるコレステリック層のパターンが形成されていることが確かめられた。
【0070】
(比較例1)
紫外線の照射を窒素雰囲気中ではなく、空気中にて行なった以外は、実施例1におけるのと同様にして行ない、コレステリック層のパターンを形成した。
【0071】
上記の実施例1および比較例1で得られたコレステリック層のパターンを有する基板のコレステリック層の波長;589nmにおけるリターデーションを入射光の角度を変えて測定した結果を図5のグラフで示す。空気中で紫外線の照射を行なったものは、窒素雰囲気中で紫外線の照射を行なったものにくらべ、リターデンションの値が低くなっており、ドライエッチング前後でのリターデーションの変化が大きいことが示されている。図5中、実線は実施例1のものを、また、破線は比較例1のものを示す。
【0072】
(実施例2)
前記「式1」に示す重合可能なネマチック液晶相を示す光硬化型モノマー、実施例1におけるの同じ光開始剤、および溶媒としてのシクロヘキサノンの以上の各成分を、20/2/100の配合比(質量基準)で配合して溶解して、塗工用重合性液晶組成物を調製し、ネマチック層の膜厚を1.0μm、レジストパターンの厚みを4.0μmとした点以外は、実施例1におけるのと同様に行なった。
【0073】
(比較例2)
紫外線の照射を窒素雰囲気中ではなく、空気中にて行なった以外は、実施例2におけるのと同様にして行なった。
【0074】
上記の実施例2および比較例2で得られたネマチック層のパターンを有する基板のネマチック層の入射角度;0°におけるリターデーションを入射光の波長を変えて測定した結果を図6のグラフで示す。空気中で紫外線の照射を行なったものは、窒素雰囲気中で紫外線の照射を行なったものにくらべ、リターデンションの値が低くなっており、ドライエッチング前後でのリターデーションの変化が大きいことが示されている。図6中、実線は実施例2のものを、また、破線は比較例2のものを示す。
【0075】
【発明の効果】
請求項1の発明によれば、重合性液晶組成物を不活性ガス雰囲気中で重合させるので、形成される位相差制御層の耐熱性、耐薬品性が優れ、また、配向が層の表面まで及ぶので、位相差制御層どうしの積層を直接行なうことが可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0076】
請求項2の発明によれば、請求項1の発明の効果に加え、エッチングをドライエッチングで行なうので、ウェットエッチングにおけるエッチング液による位相差制御層への悪影響を回避可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0077】
請求項3の発明によれば、請求項1または請求項2の発明の効果に加え、非表示区域に位置合わせ用のマークを有しているので、以降の工程における位置合わせを精度よく行なうことが可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0078】
請求項4の発明によれば、請求項1または請求項2の発明の効果に加え、表示区域にブラックマトリックスを形成するので、画像表示素子を構成したときの画像のコントラストの向上を図ることができ、また、非表示区域に位置合わせ用のマークを有しているので、以降の工程における位置合わせを精度よく行なうことが可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0079】
請求項5の発明によれば、請求項3または請求項4の発明の効果に加え、重合性液晶組成物の層を積層するのに先立って、前記位置合わせ用のマーク上に非エッチング性の保護層を積層するので、重合性液晶組成物の重合硬化物の層をエッチングする際に、位置合わせ用のマークが確実に残るため、以降の工程における位置合わせを精度よく行なうことの確保がより可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0080】
請求項6の発明によれば、請求項4の発明の効果に加え、重合性液晶組成物の層を積層するのに先立って、前記位置合わせ用のマーク上およびブラックマトリックス上に非エッチング性の保護層を積層するので、重合性液晶組成物の重合硬化物の層をエッチングする際に、位置合わせ用のマークが確実に残るため、以降の工程における位置合わせを精度よく行なうことの確保がより可能であり、しかも、位置合わせ用のマーク上のみに非エッチング性の保護層を積層する際のパターン化の煩わしさの無いパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0081】
請求項7の発明によれば、請求項1〜請求項6いずれかの発明の効果に加え、エッチング後、位相差制御層上に保護層を積層するので、位相差制御層の耐熱性、耐薬品性を補うことが可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0082】
請求項8の発明によれば、請求項3〜請求項6いずれかの発明の効果に加え、エッチング後、位相差制御層上および位置合わせのマーク上に保護層を積層するので、位相差制御層の耐熱性、耐薬品性を補うことが可能であり、位置合わせ用のマークの保護も可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0083】
請求項9の発明によれば、請求項7または請求項8の発明の効果に加え、位相差制御層の端面も含めて保護層を積層するので、位相差制御層の保護がより確実なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0084】
請求項10の発明によれば、請求項4の発明の効果に加え、レジストパターンを形成する前に保護層を積層するので、重合性液晶組成物の層と保護層を同じパターン状にエッチングすることが可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。この場合、保護層を熱硬化性樹脂の硬化物で構成することにより、保護層の機能を向上させることができ、また、保護層の厚みを十分厚くすることにより、保護層と下層のエッチングレートが等しくても、保護層をパターン状に形成し、レジストパターンとして利用することもできる。
【0085】
請求項11の発明によれば、請求項1〜請求項10いずれかの発明の効果に加え、配向膜を介することにより、位相差制御層の配向がより確実になるパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】パターン状の位相差制御層の形成方法の各工程の一部を示す図である。
【図2】図1に示す形成方法の工程の続きを示す図である。
【図3】別の形成方法の一部の工程を示す図である。
【図4】さらに別の形成方法の一部の工程を示す図である。
【図5】実施例1、比較例1で得られたもののリターデーションを示すグラフである。
【図6】実施例2、比較例2で得られたもののリターデーションを示すグラフである。
【符号の説明】
1…………位相差制御層を有する基板
2…………基板
3…………位置合わせ用のマーク
4…………BM(ブラックマトリックス)
5…………配向膜
6…………重合性液晶組成物の層
7…………紫外線
8…………レジストパターン
9…………保護層
10………非エッチング性の保護層
【発明の属する技術分野】
本発明は、種々のディスプレイ、とりわけ、液晶ディスプレイおよび有機ELディスプレイに適用するのに適した耐久性の高い位相差制御層を所望のパターン状に形成する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
重合性液晶組成物を用いて、所定のパターン状に位相差制御層を形成するためには、重合性液晶組成物を対象となる基板に塗布し、全面に露光して硬化させた後、重合性液晶組成物の硬化膜上にフォトレジスト、フォトマスクを用いてレジストパターンを形成し、そのレジストパターンを利用してドライエッチングする方法がある。(例えば、特許文献1。)。
【0003】
【特許文献1】
特開平10−20301号公報(第3−4頁、図1)
【0004】
この方法によれば、個々の工程としては公知のものを利用して、所定のパターン状に重合性液晶組成物の硬化膜を形成し得るものの、格別の考慮をせずに得た重合性液晶組成物の硬化膜は、耐熱性および耐薬品性が乏しいため、レジストパターンを形成する際にもたらされる熱やフォトレジストの溶媒のため、位相差制御層の位相差量がドライエッチングの前後で変化してしまい、所定の位相差量を得るのに支障がある。また、重合性液晶組成物の硬化膜は、下層にくらべ、上層の配向性が乏しくなり、位相差制御層を重ねて設ける場合に、位相差制御層を直接重ねて設けることができず、先に形成した位相差制御層上に、再度配向膜を設ける必要があった。なお、特許文献1に挙げられた方法は液晶層をパターン化するものであるが、得られたものは、ECB(電界効果型複屈折モード)方式という特殊なカラー液晶表示装置における対向基板(共通電極基板)側に、色相と明度を独立に制御可能とする、画素毎の位相差膜として働くものであって、画面サイズの従来の位相差板に替えて用いる位相差制御層とは別ものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明においてはフォトリソグラフイー法を適用してパターン状の位相差制御層を形成する場合に得られる位相差量が、エッチングの前後で変化することを抑制でき、または/および位相差制御層どうしを重ねる際にも、直接に位相差制御層どうしを重ねることが可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することを課題とする。
【0006】
【課題を解決する手段】
発明者の検討により、これらの課題は基板に適用した重合性液晶組成物の重合を、空気中ではなく不活性ガス雰囲気中で行なうことにより解決し得ることが判明し、本発明に到達することができた。
【0007】
第1の発明は、表示予定区域よりも大きい基板上に、重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の層を前記表示予定区域よりも広い面積に成膜し、成膜された前記層の重合性液晶組成物を配向させ、不活性ガス雰囲気中で重合させることにより液晶規則性を有する重合硬化物の被膜を形成し、前記被膜上の表示予定区域にエッチング用のレジストパターンを形成し、形成された前記レジストパターンを利用してエッチングを行なって、前記表示予定区域以外の前記被膜を除去することからなるパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0008】
第2の発明は、第1の発明において、エッチングをドライエッチングによって行なうことを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0009】
第3の発明は、第1または第2の発明において、前記重合性液晶組成物の層を成膜するのに先立って、前記基板上の非表示予定区域に位置合わせ用のマークを形成することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0010】
第4の発明は、第1または第2の発明において、前記重合性液晶組成物の層を成膜するのに先立って、前記基板上の表示予定区域にブラックマトリックスを、また非表示予定区域に位置合わせ用のマークを形成することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0011】
第5の発明は、第3または第4の発明において、前記重合性液晶組成物の層を成膜するのに先立って、前記位置合わせ用のマーク上に非エッチング性の保護層を積層することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0012】
第6の発明は、第4の発明において、前記重合性液晶組成物の層を成膜するのに先立って、前記位置合わせ用のマーク上およびブラックマトリックス上に非エッチング性の保護層を積層することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0013】
第7の発明は、第1〜第6いずれかの発明において、前記ドライエッチングを行なって、前記表示予定区域以外の前記被膜を除去した後、残った前記被膜上に保護層を積層することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0014】
第8の発明は、第3〜第6いずれかの発明において、前記エッチングを行なって、前記表示予定区域以外の前記被膜を除去した後、残った前記被膜上および前記前記位置合わせ用のマークの上方に保護層を積層することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0015】
第9の発明は、第7または第8の発明において、前記保護層を前記被膜の側面も含めて積層することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0016】
第10の発明は、第4の発明において、前記重合性液晶組成物の層を成膜するのに先立って、前記基板上の表示予定区域にブラックマトリックスを、また非表示予定区域に位置合わせ用のマークを形成し、前記表示区域上および前記位置合わせ用のマーク上に前記被膜を形成した後、前記被膜上の表示予定区域にエッチング用のレジストパターンを形成する前に、前記表示区域の上方および前記位置合わせ用のマークの上方に保護層を積層することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0017】
第11の発明は、第1〜第10いずれかの発明において、前記重合性液晶組成物の層を成膜する対象面に、予め配向膜を形成することを特徴とするパターン状の位相差制御層の形成方法に関するものである。
【0018】
【発明の実施の形態】
図1および図2は、本発明のパターン状の位相差制御層の形成方法の各工程を説明するための図で、図1→図2の順に各工程が進行する。図3は図1および図2を用いて説明する各工程の変形例を示すための図であり、図4も、図3と同様である。
【0019】
まず、図1(a)に示すように、ガラスやプラスチックフィルム等の基板2を準備する。基板2としては、この後、位相差制御層を形成して各種ディスプレイの表示素子に適用する際の表示素子の表示領域部分の全体(表示予定区域と言うこととする。)のサイズよりも大きいサイズのものを準備する。
【0020】
基板2上には、例えば、表示予定区域外に、後の工程で積層する種々の層との位置合わせ(アライメント)、あるいは基板2とは別の基板に設けられた各層との位置合わせを行なう際の位置や角度の基準となる位置合わせ用のマーク3を形成することが好ましい。位置合わせ用のマーク3が無くても、基板2の端からの距離により位置合わせを行なうことは可能だが、位置合わせの精度の点で、位置合わせ用のマーク3による方が優れている。位置合わせ用のマーク3を2組以上形成し、1組が位相差制御層のパターン化の際に失われても、後の位置合わせのためのマークを残すことができる。また、基板2上には、ブラックマトリックス(図中では、「BM」と略称する。)4が形成されていてもよい。ブラックマトリックス4は、画面の画素どうしの間を遮光するものであり、外光反射を抑制して表示素子の画像のコントラストを高める役割を有する。基板2上に位置合わせ用のマーク3およびブラックマトリックス4を形成する場合には、それらを共通な素材、例えば遮光性素材で形成することが工程の簡略化の点で好ましい。
【0021】
必要に応じて、上記のような位置合わせ用マーク3および/またはブラックマトリックス4を伴なった基板2上には、図1(b)に示すように、好ましくは配向膜5を積層する。配向膜は、液晶を所定の方向に配列させる(=配向)ためのものである。配向膜5は、表示予定区域に形成すればよいが、それよりも大き目に形成してもよい。
【0022】
上記のような位置合わせ用マーク3、ブラックマトリックス4、もしくは配向膜5のいずれか1以上を伴なうか、何も伴なわずに、基板2上には、図1(c)に示すように、重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の層6を成膜する。重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の層6の大きさは、表示予定区域よりも広い面積に成膜し、位置合わせ用のマーク3上を覆って成膜してもよい。
【0023】
成膜された重合性液晶組成物の層6を配向させ、図1(d)に示すように、例えば、紫外線や電子線等の電離放射線、好ましくは紫外線を照射して、重合性液晶組成物を重合させ、液晶規則性を有する重合硬化物の層6’とする。この電離放射線を照射して重合させる際には、重合性液晶組成物の層6が積層された基板全体、もしくは、少なくとも、重合性液晶組成物の層6が不活性雰囲気中にあるよう、照射環境を整えることが好ましい。ラジカル重合においては、生成したラジカルが酸素の存在により活性を失なうので、電離放射線を照射して重合させる工程においては、酸素の分圧を極力低下させるか、もしくは酸素を含まない不活性ガスを充填したチャンバー内で電離放射線を照射するとよい。
【0024】
このように、酸素を遮断して重合を行なわせることにより、重合性液晶組成物の層6の重合度が向上し、しかも、層6の表面付近が酸素の影響で重合度が上昇しにくい問題を回避できるので、この後、レジストパターンを用いてドライエッチングを行なっても、ドライエッチングの前後で、層6の位相差量が変化することを抑制できるし、位相差制御層どうしを重ねる際にも、位相差制御層の形成の際に基板側のみならず表面においても配向が保たれるので、配向膜を介することなく、直接に位相差制御層どうしを重ねることが可能になる。なお、重合後、必要に応じて層6’を加熱し、重合度を高めることもできる。この場合も、不活性雰囲気中で加熱を行なってもよい。なお、重合性液晶組成物の層6は、1層のみからなるもののみではなく、2層以上の積層体であってもよい。二層以上の積層体である場合、各々の層は異なる液晶規則性パターンを有する重合物の層どうしであってもよい。また、二層以上の積層体である場合、先に形成する第1層を成膜し、重合させた後に、第2層を成膜し、重合させる、のように順に行なうことが好ましい。
【0025】
次に、図2(e)に示すように、重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’上にレジストパターン8を形成する。レジストパターン8は、感光性のレジスト形成用組成物(「レジスト」と称して販売されている。)を用い、層6上に組成物を積層した後、適宜なパターンマスクを介して露光し、現像することにより、所定のパターン状とすることができる。レジストパターンとしては、一例として、画素毎に独立した微細パターンの集合であって、集まりの全体としては、表示予定区域を覆うものや、表示予定区域全体を覆う一様なものを挙げることができる。
【0026】
続いてドライエッチングを行なうことにより、重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’のレジストパターン8で覆われていなかった部分を除去する(図2(f))。本発明においては、重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’を、不活性雰囲気中での重合性液晶組成物の重合により形成するので、空気中で重合させた場合にくらべて、層6’の耐熱性および耐薬品性が向上しており、ウェットエッチングも可能であるから、上記のドライエッチングをウェットエッチングによって行なってもよい。ただし、エッチング前後における位相差量の変化、位相差制御層を重ねる際の下層の位相差制御層表面の配向性の点では、ドライエッチングの方がより好ましい。また、ドライエッチングによる方が、パターン精度の点でも優れている。
【0027】
エッチング後、レジストパターン8を溶解する剥離剤を用いて、レジストパターン8を溶解除去し、基板2上に重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’がパターン状に形成された位相差制御層が積層した基板を得る(図2(g))。
【0028】
重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’(位相差制御層)はむき出しのままでも機能を果たすが、不活性雰囲気中で充分硬化させたとは言え、一般的な硬化性樹脂の硬化物にくらべると硬度や耐薬品性等が充分ではないので、層6’上に、好ましくは保護層9を積層して被覆する(図2(g))。このとき、単に層6’上に保護層9を積層すると、層6’の端部が保護層9で被覆されずに露出したままになる恐れがあるので、保護層9の層6’からはみ出した部分9Aが、層6’の端部を被覆するよう、保護層9を層6’よりも大き目に形成することが好ましい。
【0029】
保護層9は、図4に示すように、エッチングを行なう前の重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’上に形成することもでき、この場合、保護層9上にレジストパターンを形成してエッチングすることにより、層6’および保護層9を同じパターン状にエッチングすることが可能となる。さらに保護層9を熱硬化性樹脂の硬化物で構成することにより保護層9の下層の保護機能を向上させることができる。なお、保護層9と層6’のエッチングレートが等しい場合でも、保護層9の厚みを層6’の厚みに対して十分厚くすれば、保護層9をパターン状に形成しておき、レジストパターンとして利用することも可能になる。
【0030】
ところで、エッチングを行なうと、レジストパターン8で被覆されていない部分にある、除去されては困るものが除去されることがあり得る。ドライエッチングの場合、エッチングが溶解度の差ではなく、エッチング速度の差で行なわれるので、このような傾向が強い。パターニングを行なう場合、一般的に位置合わせを行なって進めるので、通常、基板2上の表示予定区域外、即ち画面外に位置合わせ用マーク3が形成されていることが多いが、位置合わせマーク3が除去されたり、損傷したり、あるいは薄れてしまうと、以降の加工の際に位置合わせを行なうことが困難になる。
【0031】
そこで、基板2上に位置合わせ用のマーク3を形成した後、位置合わせ用のマーク上を非エッチング性の保護層(エッチングストッパー)10を積層して被覆することが好ましい。基板2上に、位置合わせ用のマーク3に加えてブラックマトリックス4が形成されている場合には、非エッチング性の保護層10の積層を、位置合わせ用のマーク上のみに行なってもよく、あるいは、位置合わせ用のマーク3上およびブラックマトリックス4上に行なってもよい。ブラックマトリックス4上に非エッチング性の保護層10を積層した場合には、ブラックマトリックス4上においても、位相差制御層のパターン化が可能になる。
【0032】
非エッチング性の保護層10を積層した以降は、図1および図2を引用したのと同様にして行ない、基板上2の位置合わせ用マーク3の上が非エッチング性の保護層で覆われており、重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’がパターン状に形成された位相差制御層が積層した基板を得る(図3(b))。なお、図3(b)においては、ブラックマトリックス3上にも非エッチング性の保護層10を伴なったものを例示するが、このようにすれば、非エッチング性の保護層10をパターン化する手段が不要になる。非エッチング性の保護層10は、役割を果たした後も支障の無い限り除去しなくてもよい。特に、位置合わせ用のマーク3上においては、非エッチング性の保護層10を介しての位置合わせ用のマークの視認性が損なわれない限り、除去しなくてもよい。
【0033】
非エッチング性の保護層10を積層してある場合にも、重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’がパターン状に形成された位相差制御層上には、保護層9を積層して被覆してもよく、この場合も、保護層9を層6’よりも大き目に形成して、保護層9の層6’からはみ出した部分9Aが、層6’の端部を被覆することが好ましい。
【0034】
本発明において、基板2としては、ガラス、シリコン、もしく石英等の無機基材か、次に列挙するような有機基材を挙げることができる。即ち、有機基材としては、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロースもしくはトリアセチルセルロースまたはそれらの部分鹸化物、エポキシ、フェノール、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、もしくはシンジオタクティック・ポリスチレン等、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、フッ素樹脂、もしくはポリエーテルニトリル等、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリシクロヘキセン、もしくはポリノルボルネン系樹脂等、または、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリサルホン、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、もしくは熱可塑性ポリイミド等からなるものを挙げることができるが、一般的なプラスチックからなるものも使用可能である。上記の有機基材は一軸延伸されたか、もしくは二軸延伸されたものであってもよく、また、任意に2種以上が積層された積層体であってもよい。基板2の厚みには、特に限定は無いが、用途に応じ、例えば、5μm〜1mm程度のものが使用される。
【0035】
位置合わせ用のマーク3およびブラックマトリックス4の両方を形成する場合には、異なる素材で形成することもできるが、工程数の増加を招くので、共通の素材により、同時に形成することが好ましい。例えば、ブラックマトリックス4を形成するための次段落以降で説明する遮光性素材、通常は黒色の素材を用い、ブラックマトリックス4を形成する方法により、位置合わせ用のマーク3およびブラックマトリックス4の両者を形成する。なお、位置合わせ用マーク3は、必ずしも黒色の素材で形成される必要はないが、位置合わせ用マーク3は、通常、細線等の微細なパターンで形成するので、遮光性もしくは光反射性のない素材で形成することが視認性の点で好ましく、黒色の素材、もしくは暗色の素材を用いることが好ましい。
【0036】
ブラックマトリックス4は、黒色着色剤を含有する樹脂組成物を一面に適用して、一旦固化させた後、フォトレジストを塗布してフォトマスクを介して露光し、現像してマスクパターンを形成後、エッチングすることにより行なうか、もしくは、黒色着色剤を含有する感光性樹脂組成物を用いて、塗布、フォトマスクを介しての露光、および現像を行なうことにより形成することができ、従って、黒色着色剤を含有する樹脂組成物から構成することができる。あるいは、ブラックマトリックス4は、CrOx/Cr(xは任意の数、「/」は積層を表す。)の積層構造からなる2層クロムブラックマトリックス、あるいはさらに反射率を低減させたCrOx/CrNy/Cr(x,yは任意の数)の積層構造からなる3層クロムブラックマトリックス等を、蒸着、イオンプレーティング、もしくはスパッタリング等の各種の方法で必要に応じ金属、金属酸化物、もしくは金属窒化物等の薄膜を形成し、フォトリソグラフィー法を利用してパターン化する方法、無電界メッキ法、もしくは黒色のインキ組成物を用いた印刷法等を利用しても形成することができる。
【0037】
配向膜5は、上層の位相差制御層を構成する液晶高分子を所定の方向に配列させるためのもので、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、もしくはポリビニルアルコール樹脂等の樹脂の被膜を、これらの樹脂を溶解した樹脂組成物を塗布し、乾燥させることにより形成した後、レーヨン、綿、ポリアミド、もしくはポリメチルメタクリレート等の布を巻き付けた金属ローラ等により所定の方向に摩擦するラビングを施すことにより形成することができる。配向膜5としては、SiO2等、もしくは有機材料等の斜方蒸着膜等、さらには、有機シラン等の有機材料の垂直配向膜やその垂直配向膜にラビングを施したもの等も利用できる。
【0038】
本発明における位相差制御層を形成するための重合性液晶組成物は、重合性液晶モノマーを含むものである。光軸が層に水平な位相差制御層を形成する場合には重合性の液晶性モノマーとしてネマチック液晶を用い、これを重合させることにより形成することができるので、液晶性モノマーに重合開始剤を配合した重合性液晶組成物を用いる。また、光軸が層にほぼ垂直な位相差制御層としてコレステリック規則性を有する層を形成する場合には、さらにキラル剤を配合した重合性液晶組成物を用いる。配合するキラル剤としては、重合性のものを用いることがより好ましい。
【0039】
重合性の液晶モノマーとしては、例えば特表平10−508882号に、また、キラル剤としては、例えば特開平7−258638号に開示されているような公知のものを使用することができるが、より具体的には、重合性ネマチック液晶モノマーとしては、下記式(1)〜式(11)に示すようなものが、また、キラル剤としては、下記式(12)〜式(14)に示すようなものを例示することができる。また、キラル剤としては、キラルドーパント液晶(独メルク社製、品番;S−811)等を用いることもできる。
【0040】
【化1】
【0041】
【化2】
【0042】
【化3】
【0043】
【化4】
【0044】
【化5】
【0045】
【化6】
【0046】
【化7】
【0047】
【化8】
【0048】
【化9】
【0049】
【化10】
【0050】
【化11】
【0051】
【化12】
【0052】
【化13】
【0053】
【化14】
【0054】
【化15】
【0055】
【化16】
【0056】
上記各式の表記において、「式11」〜「式14」中のいずれもメチレン基の数(アルキレン基の鎖長)を示すa〜eはいずれも整数であって、まず、a、bが、各々個別に2〜12であり、より好ましくは4〜10、特に好ましくは6〜9であり、c、dはいずれも2〜12であり、より好ましくは4〜10であり、特に好ましくは6〜9であり、さらにeは2〜5である。「式12」中のRは、水素もしくはメチル基である。また、「式12」および「式13」中のYは、「化15」および「化16」に示す「式i」〜「式xxiv」のいずれかであって、より好ましくは「式i」、「式ii」、「式iii」、「式v」、もしくは「式vii」のいずれかである。
【0057】
重合性液晶組成物は、必要に応じて溶剤で溶解もしくは希釈し、スピンコーティング法、ダイコーティング、スリットコーティング、もしくはその他の適宜な方法により、対象面上、例えば、基板2上、もしくは基板2上の配向膜5上に塗布し、その後、紫外線を照射する等により露光し、重合させることにより、重合硬化物の層6’とする。紫外線としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、もしくは高圧水銀灯等の水銀励起光源、またはキセノン光源等を用いることができ、これらは、使用する重合開始剤の感度の大きい波長帯域に強度のピークを持つ光源を用いたものであることが好ましい。なお、紫外線照射の替わりに電子線照射を行なって、重合させることもできる。
【0058】
本発明においては、上記のようにして重合性液晶組成物を重合させる際に、空気中で行なわず、不活性雰囲気中で行なうことが好ましい。不活性ガスとしては窒素、もしくはアルゴン等を用いることができ、これら以外のガスを用いてもよい。重合させる際の雰囲気として酸素を大量に含む空気は好ましくなく、実質的に酸素を含まない、即ち、酸素濃度が1.0%以下、より好ましくは0.2%以下であるガスを用いることが好ましい。
【0059】
エッチング用のレジストパターン8は、エッチング耐性を有する高分子の被膜からなり、感光性樹脂組成物の層を積層し、パターン状露光、および現像を経て形成され、感光性樹脂組成物としては、ポジ型であってもネガ型であっても特に限定されるものではなく、例えば、ノボラック樹脂系、ゴム+ビスアジド系のもの等を挙げることができる。
【0060】
レジストパターン8を利用したドライエッチングは、市販のドライエッチング装置を用いて行なうことができ、プラズマ化される気体としては、酸素ガスもしくはアルゴンガス等を用いることができる。
【0061】
形成された重合硬化物の層6’を被覆する保護層9は、透明樹脂組成物の膜で構成することができ、透明樹脂組成物としては、光硬化型、熱硬化型、もしくは熱−光併用硬化型の透明樹脂を用いて調製されたものを用いることができ、これらの透明樹脂組成物としては、カラーフィルタ層を形成する際の着色用の微細顔料を分散するためのものと同様のものを用いることができる。あるいは、保護層9は、蒸着もしくはスパッタにより形成された無機質材料の薄膜で構成することもできる。
【0062】
図3を用いた説明中で触れた非エッチング性の保護層(エッチングストッパー)10は、重合性液晶組成物の重合硬化物からなる層6’にくらべてエッチングレート(=1分当りのエッチングされる厚み)が充分小さければ、いずれの材料で構成してもよく、例えば、SiO2、SiNもしくはSiON膜等の薄膜で構成することができ、これらの薄膜は蒸着もしくはスパッタリングによって形成することができる。
【0063】
本発明の方法によって形成された位相差制御層を有する基板における位相差制御層が複数の位相差制御層からなるときは、ネマティック液晶層とコレステリック液晶層との積層体、ネマティック液晶層どうしの積層体、もしくはネマティック液晶どうしの間に配向膜を有する積層体、ネマティック液晶どうしの積層体であって、互いに遅相軸が異なるもの等であってもよい。また、本発明の方法によって形成された位相差制御層を有する基板は、必要に応じて保護層を積層した後、配向膜を形成することにより、液晶表示素子を構成する一方の基板とすることができる。この場合、カラーフィルタがTFT等のアレイ上に形成され、さらにカラーフィルタ上に画素電極、および配向膜等を有する他方の基板との間に液晶層を挟むことにより液晶表示素子を構成することができる。カラーフィルタ、およびブラックマトリックスは、いずれかの基板側に形成すればよいので、いずれも、アレイ側に有する場合、いずれも位相差制御層側にある場合、両者がアレイ側と位相差制御層側に分かれる場合があり得る。
【0064】
【実施例】
(実施例1)
ガラス基板の表面に、ポリイミド樹脂系の配向膜形成用塗料組成物(JSR(株)製、品番;AL1254)をスピンコーティングし、加熱乾燥させた後、一定方向にラビングを行なって配向膜を形成し、配向基板を得た。続いて、配向基板の配向膜上に下記のようにして調製した塗工用重合性液晶組成物をスピンコーティングにより塗布し、その後、温度;80℃で5分間加熱して乾燥および配向処理を行なった後、クロスニコル下の2枚の偏光板に挟み込み、配向膜上に形成された重合性液晶組成物の膜が異方性を有することを確認した。
【0065】
上記の塗工用重合性液晶組成物の調製は、前記「式9」に示す重合可能なネマチック液晶相を示す光硬化型モノマー、前記「式14」に示す重合可能なキラル剤、光開始剤(2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア(登録商標)369を使用。)、および溶媒としてのトルエンの以上の各成分を、20/2/1/100の配合比(質量基準)で配合して溶解し、孔径;2μmのフィルターで濾過して不純物を除去することにより行なった。
【0066】
乾燥および配向処理後の重合性液晶組成物の膜に対し、超高圧水銀灯を備えた紫外線照射装置を用い、紫外線を照射量が1000mJ/cm2(波長;365nmにて)になるよう窒素雰囲気中にて照射して重合性液晶組成物を三次元架橋させてポリマー化し、配向基板上にコレステリック規則性を固定化した半硬化状態のコレステリック層を形成し、さらに、その後、温度;220℃のクリーンオーブン中で1時間加熱し、ポリマー化を促進させ、配向基板上に硬化したコレステリック層が積層された光学素子を得た。
【0067】
得られた光学素子の選択反射の反射スペクトルを分光光度計により測定したところ、波長;320nmに選択反射のピークを有するコレステリック層が得られていることが確かめられた。また、コレステリック層の膜厚を触針式段差計により測定したところ、3.0μmであった。
【0068】
次に、得られたコレステリック層上にレジストパターンを形成した。まず、コレステリック層上に、ポジ型のフォトレジスト形成用組成物を厚みが4.0μmになるよう成膜し、基板表面との間隔が100μmになるよう設置したフォトマスク(開口部の幅;200μm、遮光部の幅;100μm)を介し、平行光の出射が可能な超高圧水銀灯を備えた露光器により露光し、現像することにより、顕微鏡で観察したところ、幅;100μmのレジスト部分と、幅;200μmのコレステリック層の露出部分からなるレジストパターンが形成されていることが確かめられた。
【0069】
レジストパターンが形成された基板に対し、ドライエッチング装置を用いてドライエッチングを行ない、ドライエッチング後、剥離液を塗布して、フォトレジストを剥離除去した。剥離除去後の状態を再び顕微鏡で観察したところ、幅;100μmのコレステリック層と、幅;200μmのガラス基板の露出部分からなるコレステリック層のパターンが形成されていることが確かめられた。
【0070】
(比較例1)
紫外線の照射を窒素雰囲気中ではなく、空気中にて行なった以外は、実施例1におけるのと同様にして行ない、コレステリック層のパターンを形成した。
【0071】
上記の実施例1および比較例1で得られたコレステリック層のパターンを有する基板のコレステリック層の波長;589nmにおけるリターデーションを入射光の角度を変えて測定した結果を図5のグラフで示す。空気中で紫外線の照射を行なったものは、窒素雰囲気中で紫外線の照射を行なったものにくらべ、リターデンションの値が低くなっており、ドライエッチング前後でのリターデーションの変化が大きいことが示されている。図5中、実線は実施例1のものを、また、破線は比較例1のものを示す。
【0072】
(実施例2)
前記「式1」に示す重合可能なネマチック液晶相を示す光硬化型モノマー、実施例1におけるの同じ光開始剤、および溶媒としてのシクロヘキサノンの以上の各成分を、20/2/100の配合比(質量基準)で配合して溶解して、塗工用重合性液晶組成物を調製し、ネマチック層の膜厚を1.0μm、レジストパターンの厚みを4.0μmとした点以外は、実施例1におけるのと同様に行なった。
【0073】
(比較例2)
紫外線の照射を窒素雰囲気中ではなく、空気中にて行なった以外は、実施例2におけるのと同様にして行なった。
【0074】
上記の実施例2および比較例2で得られたネマチック層のパターンを有する基板のネマチック層の入射角度;0°におけるリターデーションを入射光の波長を変えて測定した結果を図6のグラフで示す。空気中で紫外線の照射を行なったものは、窒素雰囲気中で紫外線の照射を行なったものにくらべ、リターデンションの値が低くなっており、ドライエッチング前後でのリターデーションの変化が大きいことが示されている。図6中、実線は実施例2のものを、また、破線は比較例2のものを示す。
【0075】
【発明の効果】
請求項1の発明によれば、重合性液晶組成物を不活性ガス雰囲気中で重合させるので、形成される位相差制御層の耐熱性、耐薬品性が優れ、また、配向が層の表面まで及ぶので、位相差制御層どうしの積層を直接行なうことが可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0076】
請求項2の発明によれば、請求項1の発明の効果に加え、エッチングをドライエッチングで行なうので、ウェットエッチングにおけるエッチング液による位相差制御層への悪影響を回避可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0077】
請求項3の発明によれば、請求項1または請求項2の発明の効果に加え、非表示区域に位置合わせ用のマークを有しているので、以降の工程における位置合わせを精度よく行なうことが可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0078】
請求項4の発明によれば、請求項1または請求項2の発明の効果に加え、表示区域にブラックマトリックスを形成するので、画像表示素子を構成したときの画像のコントラストの向上を図ることができ、また、非表示区域に位置合わせ用のマークを有しているので、以降の工程における位置合わせを精度よく行なうことが可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0079】
請求項5の発明によれば、請求項3または請求項4の発明の効果に加え、重合性液晶組成物の層を積層するのに先立って、前記位置合わせ用のマーク上に非エッチング性の保護層を積層するので、重合性液晶組成物の重合硬化物の層をエッチングする際に、位置合わせ用のマークが確実に残るため、以降の工程における位置合わせを精度よく行なうことの確保がより可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0080】
請求項6の発明によれば、請求項4の発明の効果に加え、重合性液晶組成物の層を積層するのに先立って、前記位置合わせ用のマーク上およびブラックマトリックス上に非エッチング性の保護層を積層するので、重合性液晶組成物の重合硬化物の層をエッチングする際に、位置合わせ用のマークが確実に残るため、以降の工程における位置合わせを精度よく行なうことの確保がより可能であり、しかも、位置合わせ用のマーク上のみに非エッチング性の保護層を積層する際のパターン化の煩わしさの無いパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0081】
請求項7の発明によれば、請求項1〜請求項6いずれかの発明の効果に加え、エッチング後、位相差制御層上に保護層を積層するので、位相差制御層の耐熱性、耐薬品性を補うことが可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0082】
請求項8の発明によれば、請求項3〜請求項6いずれかの発明の効果に加え、エッチング後、位相差制御層上および位置合わせのマーク上に保護層を積層するので、位相差制御層の耐熱性、耐薬品性を補うことが可能であり、位置合わせ用のマークの保護も可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0083】
請求項9の発明によれば、請求項7または請求項8の発明の効果に加え、位相差制御層の端面も含めて保護層を積層するので、位相差制御層の保護がより確実なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【0084】
請求項10の発明によれば、請求項4の発明の効果に加え、レジストパターンを形成する前に保護層を積層するので、重合性液晶組成物の層と保護層を同じパターン状にエッチングすることが可能なパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。この場合、保護層を熱硬化性樹脂の硬化物で構成することにより、保護層の機能を向上させることができ、また、保護層の厚みを十分厚くすることにより、保護層と下層のエッチングレートが等しくても、保護層をパターン状に形成し、レジストパターンとして利用することもできる。
【0085】
請求項11の発明によれば、請求項1〜請求項10いずれかの発明の効果に加え、配向膜を介することにより、位相差制御層の配向がより確実になるパターン状の位相差制御層の形成方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】パターン状の位相差制御層の形成方法の各工程の一部を示す図である。
【図2】図1に示す形成方法の工程の続きを示す図である。
【図3】別の形成方法の一部の工程を示す図である。
【図4】さらに別の形成方法の一部の工程を示す図である。
【図5】実施例1、比較例1で得られたもののリターデーションを示すグラフである。
【図6】実施例2、比較例2で得られたもののリターデーションを示すグラフである。
【符号の説明】
1…………位相差制御層を有する基板
2…………基板
3…………位置合わせ用のマーク
4…………BM(ブラックマトリックス)
5…………配向膜
6…………重合性液晶組成物の層
7…………紫外線
8…………レジストパターン
9…………保護層
10………非エッチング性の保護層
Claims (11)
- 表示予定区域よりも大きい基板上に、重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の層を前記表示予定区域よりも広い面積に成膜し、成膜された前記層の重合性液晶組成物を配向させ、不活性ガス雰囲気中で重合させることにより液晶規則性を有する重合硬化物の被膜を形成し、前記被膜上の表示予定区域にエッチング用のレジストパターンを形成し、形成された前記レジストパターンを利用してエッチングを行なって、前記表示予定区域以外の前記被膜を除去することからなるパターン状の位相差制御層の形成方法。
- エッチングをドライエッチングによって行なうことを特徴とする請求項1記載のパターン状の位相差制御層の形成方法。
- 前記重合性液晶組成物の層を成膜するのに先立って、前記基板上の非表示予定区域に位置合わせ用のマークを形成することを特徴とする請求項1または請求項2記載のパターン状の位相差制御層の形成方法。
- 前記重合性液晶組成物の層を成膜するのに先立って、前記基板上の表示予定区域にブラックマトリックスを、また非表示予定区域に位置合わせ用のマークを形成することを特徴とする請求項1または請求項2記載のパターン状の位相差制御層の形成方法。
- 前記重合性液晶組成物の層を成膜するのに先立って、前記位置合わせ用のマーク上に非エッチング性の保護層を積層することを特徴とする請求項3または請求項4記載のパターン状の位相差制御層の形成方法。
- 前記重合性液晶組成物の層を成膜するのに先立って、前記位置合わせ用のマーク上およびブラックマトリックス上に非エッチング性の保護層を積層することを特徴とする請求項4記載のパターン状の位相差制御層の形成方法。
- 前記エッチングを行なって、前記表示予定区域以外の前記被膜を除去した後、残った前記被膜上に保護層を積層することを特徴とする請求項1〜請求項6いずれか記載のパターン状の位相差制御層の形成方法。
- 前記エッチングを行なって、前記表示予定区域以外の前記被膜を除去した後、残った前記被膜上および前記前記位置合わせ用のマークの上方に保護層を積層することを特徴とする請求項3〜請求項6いずれか記載のパターン状の位相差制御層の形成方法。
- 前記保護層を前記被膜の側面も含めて積層することを特徴とする請求項7または請求項8記載のパターン状の位相差制御層の形成方法。
- 前記重合性液晶組成物の層を成膜するのに先立って、前記基板上の表示予定区域にブラックマトリックスを、また非表示予定区域に位置合わせ用のマークを形成し、前記表示区域上および前記位置合わせ用のマーク上に前記被膜を形成した後、前記被膜上の表示予定区域にエッチング用のレジストパターンを形成する前に、前記表示区域の上方および前記位置合わせ用のマークの上方に保護層を積層することを特徴とする請求項4記載のパターン状の位相差制御層の形成方法。
- 前記重合性液晶組成物の層を成膜する対象面に、予め配向膜を形成することを特徴とする請求項1〜請求項10いずれか記載のパターン状の位相差制御層の形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003170268A JP2005004124A (ja) | 2003-06-16 | 2003-06-16 | パターン状の位相差制御層の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003170268A JP2005004124A (ja) | 2003-06-16 | 2003-06-16 | パターン状の位相差制御層の形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005004124A true JP2005004124A (ja) | 2005-01-06 |
Family
ID=34095113
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003170268A Pending JP2005004124A (ja) | 2003-06-16 | 2003-06-16 | パターン状の位相差制御層の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005004124A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008180780A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 位相差制御部材、位相差制御部材を組み込んだ液晶表示装置、及び位相差制御部材の製造方法 |
JP2008180809A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 位相差制御部材とその製造方法、液晶表示装置、および液晶性インキを塗布するダイコータ |
US7919153B2 (en) | 2006-03-03 | 2011-04-05 | Fujifilm Corporation | Laminated structure, process of producing a liquid crystal cell substrate using the same, liquid crystal cell substrate, and liquid crystal display device |
US8094271B2 (en) | 2006-02-03 | 2012-01-10 | Fujifilm Corporation | Liquid crystal display device and color film plate, and processes for producing the same |
JPWO2014208653A1 (ja) * | 2013-06-27 | 2017-02-23 | 三菱化学株式会社 | 偏光素子、及び偏光素子の製造方法 |
-
2003
- 2003-06-16 JP JP2003170268A patent/JP2005004124A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8094271B2 (en) | 2006-02-03 | 2012-01-10 | Fujifilm Corporation | Liquid crystal display device and color film plate, and processes for producing the same |
US7919153B2 (en) | 2006-03-03 | 2011-04-05 | Fujifilm Corporation | Laminated structure, process of producing a liquid crystal cell substrate using the same, liquid crystal cell substrate, and liquid crystal display device |
JP2008180780A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 位相差制御部材、位相差制御部材を組み込んだ液晶表示装置、及び位相差制御部材の製造方法 |
JP2008180809A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 位相差制御部材とその製造方法、液晶表示装置、および液晶性インキを塗布するダイコータ |
JP4760719B2 (ja) * | 2007-01-23 | 2011-08-31 | 大日本印刷株式会社 | 位相差制御部材の製造方法 |
JPWO2014208653A1 (ja) * | 2013-06-27 | 2017-02-23 | 三菱化学株式会社 | 偏光素子、及び偏光素子の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4443867B2 (ja) | 位相差制御層を有するカラーフィルタおよびその製造方法並びにディスプレイ | |
TWI253522B (en) | Phase difference layer laminate and method for production thereof | |
JP2005003750A (ja) | 柱状体を有する位相差制御板 | |
WO2018123832A1 (ja) | 光学フィルムおよびその製造方法 | |
JP2007101645A (ja) | カラーフィルタおよびこれを有する半透過半反射型液晶表示装置、位相差制御層の形成方法、ならびにカラーフィルタの製造方法 | |
JP2006276397A (ja) | 光学素子の製造方法 | |
CN101263415B (zh) | 制造具有tft驱动元件的液晶元件基板的方法、液晶元件基板和液晶显示装置 | |
TW201400845A (zh) | 一種製造位相差板的方法 | |
US7274427B2 (en) | Method of producing optical element by patterning liquid crystal films | |
TW201026791A (en) | Ink composition and method of fabricating liquid crystal display device using the same | |
KR101910674B1 (ko) | 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러 필터 및 표시 장치 | |
TWI486647B (zh) | Method of manufacturing phase difference plate | |
JP2005024920A (ja) | 位相差制御層を有するカラーフィルタ基板およびその製造方法 | |
JP2006330660A (ja) | 光学素子の製造方法およびその製造装置 | |
JP4402424B2 (ja) | 光学素子の製造方法 | |
JP2005004124A (ja) | パターン状の位相差制御層の形成方法 | |
JP2005084271A (ja) | 光学機能層、光学機能層の形成方法、および液晶表示素子 | |
KR101705360B1 (ko) | 흑색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 이를 구비한 액정 표시 장치 | |
KR101543802B1 (ko) | 흑색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치 | |
JP5189888B2 (ja) | 位相差層の製造方法 | |
JP2000199967A (ja) | 樹脂製ブラックマトリクスの製造方法、該ブラックマトリクスを用いたカラ―フィルタの製造方法、及び該製造方法で製造されたカラ―フィルタを用いた液晶素子 | |
JP2001235754A (ja) | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 | |
KR20040104799A (ko) | 컬러필터 기판의 제조공정이 개선된 액정표시장치 및 그제조방법 | |
KR20150037694A (ko) | 광학 부재 | |
JP4468032B2 (ja) | 位相差制御基板およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060519 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090121 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100126 |