JP2004538176A5 - - Google Patents
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Claims (36)
- 基体材料と、該基体材料の一面上に少なくとも1つのバリヤー被膜とからなる複合材料であって、
該バリヤー被膜が、プラズマインパルス化学気相堆積(PICVD)により該基体材料に適用され、かつ
該バリヤー被膜が、以下の材料:
SiOx(x<2、特に1.7≦x<2);
SiOx(x>2、特に2<x≦2.5);
TiOx(x<2、特に1.7≦x<2);
TiOx(x>2、特に2<x≦2.5);
SnOx(x<2、特に1.7≦x<2);
SnOx(x>2、特に2<x≦2.5);
Si3Ny(y<4、特に3.5<y<4);
Si3Ny(y>4、特に4<y<4.5);
Nb2Oy(y<5、特に4<y<5);
Nb2Oy(y>5、特に5<y<6);
Al2Oy(y<3、特に2.5<Y<3);
Al2Oy(y>3、特に3<Y<3.5)の少なくとも1つからなる
ことを特徴とする複合材料。 - 基体材料と、該基体材料の一面上に少なくとも1つのバリヤー被膜とを有し、
前記バリヤー被膜が、プラズマインパルス化学気相堆積(PICVD)により前記基体材料に適用され、かつ
前記バリヤー被膜が、以下の材料:
非晶質炭化水素、
NbxOy(x∈[0,2]、y∈[0,5])、
の少なくとも1つからなる特に請求項1に記載の複合材料。 - 前記基体がプラスチック基体である請求項1または2に記載の複合材料。
- 前記プラスチック基体が、以下の材料:
多環式炭化水素、
ポリカーボネート、
ポリエチレンテレフタレート、
ポリスチレン、
ポリエチレン、特にHDPE、
ポリプロピレン、
ポリメチルメタクリレート、
PES
の1つまたは複数からなる請求項3に記載の複合材料。 - 前記多環式炭素がCOCである請求項4に記載の複合材料。
- 前記基体材料の両面が被覆される請求項1〜5のいずれか1項に記載の複合材料。
- 前記バリヤー被膜の厚さが、1000nm未満、特に300nm未満、特に好ましくは50nm未満である請求項1〜6のいずれか1項に記載の複合材料。
- 前記バリヤー被膜が、少なくとも1つの連続した単分子層からなる請求項7に記載の複合材料。
- 前記バリヤー被膜の厚さが、5nmより大きい、好ましくは15nmより大きい、特に20nmより大きい請求項8に記載の複合材料。
- 前記バリヤー被膜が、大気からの物質に対しておよび/または前記複合材料と直接接触しているおよび/または前記基体材料に含まれるかもしくは前記基体材料から放出される物質に対してバリヤーを形成する請求項1〜9のいずれか1項に記載の複合材料。
- 光学的または電気的機能層を含む請求項1〜10のいずれか1項に記載の複合材料。
- 前記バリヤー被膜が、前記機能層を一体化するように形成される請求項11に記載の複合材料。
- 前記バリヤー被膜が勾配層からなる請求項1〜12のいずれか1項に記載の複合材料。
- 該複合材料の表面に対して垂直方向に、前記バリヤー被膜の化学量論性および/または構造の段階的変化が存在する請求項1〜13のいずれか1項に記載の複合材料。
- 前記バリヤー被膜が、交互TiOx/SiOx層、特に前記TiOx層が前記基体と接触している交互層からなる請求項13に記載の複合材料。
- 前記交互層が、交互TiOx/SiOx/TiOx/SiOx/層からなる請求項15に記載の複合材料。
- 前記交互層の層厚さが、5nm〜100nmの範囲にある請求項14〜16のいずれか1項に記載の複合材料。
- 基体材料および少なくとも1つのバリヤー被膜からなる複合材料を製造する方法であって、
ガス雰囲気を有する被覆反応器中へ該基体材料を導入する工程と、
前駆体ガスを該被覆反応器中へ導入する工程と、
パルスにより該被覆反応器中でプラズマを発生させて、その結果、該前駆体ガスが該被覆反応器中の該ガス雰囲気と反応する工程からなり、
バリヤー被膜が基体に堆積して、該バリヤー被膜が、以下の材料:
SiOx(x<2、特に1.7≦x<2);
SiOx(x>2、特に2<x≦2.5);
TiOx(x<2、特に1.7≦x<2);
TiOx(x>2、特に2<x≦2.5);
SnOx(x<2、特に1.7≦x<2);
SnOx(x>2、特に2<x≦2.5);
Si3Ny(y<4、特に3.5<y<4);
Si3Ny(y>4、特に4<y<4.5);
Nb2Oy(y<5、特に4<y<5);
Nb2Oy(y>5、特に5<y<6);
Al2Oy(y<3、特に2.5<Y<3);
Al2Oy(y>3、特に3<Y<3.5);
非晶質炭化水素
の少なくとも1つからなるように、
酸素流量および前駆体流量のパラメータの少なくとも1つを設定する
ことを特徴とする方法。 - 前記パルスが、PICVD設備においてマイクロ波パルスまたは無線周波数パルスである請求項18に記載の方法。
- 前記マイクロ波パルスまたは無線周波数パルスが、誘電体窓または誘電体アンテナを介して導入される請求項19に記載の方法。
- 前記マイクロ波パルスが、90MHz〜3000MHz、特に300MHz〜2500MHzの範囲の周波数である請求項19または20に記載の方法。
- 前記無線周波数パルスが、90MHz未満、特に10MHz〜90MHzの範囲の周波数である請求項19または20に記載の方法。
- 前記前駆体ガスが、HMDSN、HMDSO、TMS、N2中のシラン、TiCl4の1つまたは複数からなる請求項18〜22のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ガス雰囲気が、
O2雰囲気、
N2雰囲気、
N2+NH3雰囲気からなる請求項18〜24のいずれか1項に記載の方法。 - パルス長、パルス間周期、マイクロ波電力、酸素流量、および前駆体流量のパラメータの少なくとも1つが連続的または段階的に変更される請求項18〜24のいずれか1項に記載の方法。
- 被覆が、300W〜12kWの範囲の、好ましくは600W〜11kWの範囲のマイクロ波電力を使用して行われる請求項18〜25のいずれか1項に記載の方法。
- 被覆が、0.1ms〜20ms、特に0.5ms〜10.0msのパルス長を使用し、かつ5ms〜400msのパルス間周期、特に10ms〜200msのパルス間周期を使用して行われる請求項18〜26のいずれか1項に記載の方法。
- 前記基体材料が前記被覆反応器に導入された後、かつ前駆体ガスが導入される前に、前記被覆反応器が排気される請求項18〜27のいずれか1項に記載の方法。
- 前記基体材料が中空体からなり、前記被膜を該中空体の内側および/または外側に堆積させる請求項18〜28のいずれか1項に記載の方法。
- 被覆前に、外部圧が200mbar未満、好ましくは10mbar〜100mbarに達するまで、前記中空体を内側と外側で同時に排気し、次いで排気は内側でのみ続けて1mbar未満、好ましくは0.05mbar〜0.3mbarのベース圧力までにする請求項29に記載の方法。
- 請求項1〜17のいずれか1項に記載の複合材料を含み、特に請求項18〜30のいずれか1項に記載の方法を使用して製造される中空体。
- 前記バリヤー被膜が、前記中空体の内側に適用されている請求項31に記載の中空体。
- 前記バリヤー被膜が、前記中空体の内側と外側に適用されている請求項32に記載の中空体。
- 前記中空体により取り囲まれる容量が、10ml〜5000ml、好ましくは50ml〜2000mlである請求項31〜33のいずれか1項に記載の中空体。
- 請求項1〜17のいずれか1項に記載の複合材料からなり、特に請求項18〜34のいずれか1項に記載の方法を使用して製造されるシート状基体、特にフィルム。
- パネル、特にディスプレイカバーからなる請求項35に記載の基体。
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